JPH11217354A - (+)−トランス−第一菊酸の製造方法 - Google Patents
(+)−トランス−第一菊酸の製造方法Info
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- JPH11217354A JPH11217354A JP1678998A JP1678998A JPH11217354A JP H11217354 A JPH11217354 A JP H11217354A JP 1678998 A JP1678998 A JP 1678998A JP 1678998 A JP1678998 A JP 1678998A JP H11217354 A JPH11217354 A JP H11217354A
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Abstract
法を提供すること。 【解決手段】 (+)−トランス−第一菊酸の製造にお
いて、(±)−トランス−第一菊酸または(±)−シス
/トランス−混合第一菊酸と光学活性ナフチルアミンと
の反応工程、および一方の光学活性なトランス−第一菊
酸と該アミンとの塩を晶出させ、これを母液から分離す
る晶析分離工程を、疎水性有機溶媒を用いて行なうこと
を特徴とする(+)−トランス−第一菊酸の製造方法。
Description
第一菊酸の製造方法に関する。更に詳しくは光学分割剤
として光学活性ナフチルアミンを用い、かつ、光学分割
溶媒として疎水性有機溶媒を用いる(+)−トランス−
第一菊酸の製造方法に関する。
(エステル)の酸性分を構成するものである。一般に殺
虫効力はシス体のエステルよりトランス体のエステルの
方が強く、また(−)体のエステルよりも(+)体のエ
ステルが強いことが知られていることから、工業的によ
り有利な(+)−トランス−第一菊酸の製造法の開発が
望まれている。従来、(+)−トランス−第一菊酸の代
表的製造法としては、(−)−α−(1−ナフチル)−
エチルアミンを分割剤として用いる方法(特公昭51-234
97号公報)および(−)−α−(2−ナフチル)−エチ
ルアミンを分割剤として用いる方法(特開昭49-109344
号公報)が知られている。
方法では分割溶媒としてアルコール類、アセトン、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン等の親水性溶媒を用いるこ
とから、目的の光学活性な第一菊酸を単離または回収す
るために、新たに疎水性溶媒を使用しなければならな
い。また、晶析分離された塩は、通常これに鉱酸、苛性
アルカリなどの水溶液を作用させることにより、目的の
光学活性な第一菊酸を取得することから、使用した親水
性溶媒を水から回収する操作も必要となり、特に工業的
規模での実施の際には煩雑な操作を要することになる。
なナフチルアミンを用いた光学分割法について上述の問
題点を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、分割溶媒とし
て疎水性有機溶媒をもちいることにより、高い光学純度
の第一菊酸が容易に得られることを見出し本発明に至っ
た。即ち本発明は、(+)−トランス−第一菊酸の製造
において、(±)−トランス−第一菊酸または(±)−
シス/トランス−混合第一菊酸と光学活性ナフチルアミ
ンとの反応工程、および一方の光学活性なトランス−第
一菊酸と該アミンとの塩を晶出させ、これを母液から分
離する晶析分離工程を、疎水性有機溶媒を用いて行なう
ことを特徴とする(+)−トランス−第一菊酸の製造方
法を提供するものである。本発明方法によれば得られる
第一菊酸の光学純度が高いことに加え、使用した溶媒の
回収が容易でしかも得られる第一菊酸のナフチルアミン
塩の結晶の濾過性が良好であることから、工業的規模で
の製造において有利である。
する。本発明において用いられる疎水性有機溶媒として
は、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化
水素などが挙げられる。かかる溶媒の使用量について
は、多すぎると生産効率が低下し、一方、溶媒量が少な
すぎると反応溶液の濃度が高くなることで攪拌が不充分
になり、また生成する結晶の濾過性も悪くなり、ひいて
は得られる(+)−トランス−第一菊酸の光学純度が低
下することなどから、溶媒量は用いる(±)−トランス
−第一菊酸または(±)−シス/トランス−混合第一菊
酸に対して通常2〜15重量倍、好ましくは4〜8重量倍の
範囲である。また、濾過性を向上させるために水を添加
することができる。水の添加効果は、溶媒量が少ない場
合にその効果が顕著に発揮される。添加する水の量は用
いる(±)−トランス−第一菊酸または(±)−シス/
トランス−混合第一菊酸に対して通常1〜15重量%、好
ましくは4〜8重量%の範囲である。また、光学分割剤で
ある光学活性ナフチルアミンとしては、例えば一般式
(1) (式中、R1、R2はそれぞれ水素原子、アルキル基、アラ
ルキル基またはアリール基を示し、R3は炭素数1−6のア
ルキル基を示す。*は不斉炭素を表す。)で示される光
学活性ナフチルアミンが挙げられる。
アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル等の低級アルキル基が挙げられ、アラルキ
ル基としては、ベンジル、フェネチル等が挙げられ、ア
リール基としては、フェニル等が挙げられる。具体例と
しては、例えばα−(1−ナフチル)エチルアミン、α
−(2−ナフチル)エチルアミン、N−メチル−α−
(1−ナフチル)エチルアミン、N,N−ジメチル−α
−(1−ナフチル)エチルアミン等が挙げられる。
は、(±)−トランス−第一菊酸または(±)−シス/
トランス−混合第一菊酸に対して通常0.2〜1.5モル倍、
好ましくは0.3〜1.3モル倍である。分割操作は、通常、
上記溶媒中で菊酸と分割剤とを混合溶解し、その後、静
置もしくは攪拌することにより行われる。このときの温
度は、通常−20℃〜150℃、好ましくは−10℃〜100℃の
範囲である。上記の処理において、処理温度が高いとき
にはその後冷却し、また、温度が低い場合にはそのま
ま、あるいは結晶が析出したのち昇温して析出結晶の一
部または全部を溶解させたのち冷却して結晶を析出させ
るなどの適宜の方法により結晶を析出させたのち、析出
結晶を濾過等により分離する。かかる処理によって得ら
れたジアステレオマー塩を結晶として分離し、該塩を酸
またはアルカリで分解処理し、その後抽出処理を行なう
ことによって光学活性な菊酸が得られ、また、使用した
分割剤である光学活性ナフチルアミンが回収される。
テレオマー塩を塩酸、硫酸などで分解し、分解処理後有
機溶媒によって抽出することにより光学活性な菊酸が得
られ、また、このときの水層を弱アルカリ性としたのち
抽出処理を行なうことにより分割剤である光学活性ナフ
チルアミンが回収される。
オマー塩を水酸化ナトリウムなどの塩基で分解し、次い
で弱アルカリ性下に有機溶媒で抽出処理を行なうことに
より分割剤である光学活性ナフチルアミンが回収され、
その後、水層を酸性にしたのち抽出処理を行なうことに
より、光学活性な菊酸を得ることができる。これらの処
理によって回収された分割剤である光学活性ナフチルア
ミンは再使用することができる。
菊酸または(±)−シス/トランス−混合第一菊酸を光
学活性ナフチルアミンを用いて光学分割し(+)−トラ
ンス−第一菊酸を製造する方法において、疎水性有機溶
媒を用いることにより、使用した溶媒の回収が容易で、
しかも得られる第一菊酸のナフチルアミンの塩の結晶の
濾過性が良好であることから、工業的規模での製造にお
いて有利である。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 (実施例1)(±)−シス/トランス混合菊酸(シス/
トランス=9.5/90.5)16.4gにトルエン65.7g、水1.35g
を加えて攪拌溶解した。次いでこれに(−)−α−(1
−ナフチル)エチルアミン12.8gを加えて攪拌した。塩
が析出し始めてから66℃まで昇温し、この温度で1時間
保温した。次いで20℃まで9時間で攪拌冷却し、さらに2
0℃で1時間攪拌した。次に、析出した結晶を濾取し、該
結晶を16gのトルエンで3回洗浄後、5%苛性苛性ソーダ
水溶液に溶解し、トルエンで分割剤を抽出後、水層を5%
硫酸水で酸性にした後、トルエンで抽出し、トルエンを
留去して、光学純度98.8%、シス/トランス=0.5/99.5
の(+)−トランス−第一菊酸5.1g(収率31%)を得
た。
菊酸(シス/トランス=20.1/79.9)8.8gにトルエン5
2.5gを加えて攪拌溶解した。次いでこれに(−)−α−
(1−ナフチル)エチルアミン9.0gを加えて攪拌した。
塩が析出し始めてから65℃まで昇温し、この温度で1時
間保温した。次いで20℃まで10時間で攪拌冷却し、さら
に20℃で1時間攪拌した。次に、析出した結晶を濾取
し、該結晶を8gのトルエンで3回洗浄後、5%苛性苛性ソ
ーダ水溶液に溶解し、トルエンで分割剤を抽出後、水層
を5%硫酸水で酸性にした後、トルエンで抽出し、トルエ
ンを留去して、光学純度97.2%、シス/トランス=2/98
の(+)−トランス−第一菊酸2.6g(収率30%)を得
た。
菊酸(シス/トランス=20.1/79.9)8.8gにトルエン4
4.3g、水0.67gを加えて攪拌溶解した。次いでこれに
(−)−α−(1−ナフチル)エチルアミン8.2gをトル
エン8.2gに溶かした液を15分を要し攪拌下に滴下した。
塩が析出し始めてから65℃まで昇温し、この温度で1時
間保温した。次いで20℃まで10時間で攪拌冷却し、さら
に20℃で1時間攪拌した。次に、析出した結晶を濾取
し、該結晶を8gのトルエンで3回洗浄後、5%苛性苛性ソ
ーダ水溶液に溶解し、トルエンで分割剤を抽出後、水層
を5%硫酸水で酸性にした後、トルエンで抽出し、トルエ
ンを留去して、光学純度97.5%、シス/トランス=2/98
の(+)−トランス−第一菊酸2.5g(収率28%)を得
た。
菊酸(シス/トランス=20.1/79.9)8.8gにトルエン2
6.3g、水0.67gを加えて攪拌溶解した。次いでこれに
(−)−α−(1−ナフチル)エチルアミン6.5gを加え
て攪拌した。塩が析出し始めてから68℃まで昇温し、こ
の温度で1時間保温した。次いで20℃まで5時間で攪拌冷
却し、さらに20℃で1時間攪拌した。次に、析出した結
晶を減圧下で濾取した。その時の濾過時間は30秒であっ
た。該結晶を8gのトルエンで3回洗浄後、5%苛性苛性ソ
ーダ水溶液に溶解し、トルエンで分割剤を抽出後、水層
を5%硫酸水で酸性にした後、トルエンで抽出し、トルエ
ンを留去して、光学純度98.0%、シス/トランス=2/98
の(+)−トランス−第一菊酸2.3g(収率26%)を得
た。
施例4と同様な操作を実施して得られた結晶を減圧下で
濾取したところ、濾過時間は300秒であった。該結晶を8
gのトルエンで3回洗浄後、5%苛性苛性ソーダ水溶液に
溶解し、トルエンで分割剤を抽出後、水層を5%硫酸水で
酸性にした後、トルエンで抽出し、トルエンを留去し
て、光学純度98.0%、シス/トランス=2/98の(+)−
トランス−第一菊酸2.4g(収率27%)を得た。
において、得られたジアステレオマー塩を含む溶液を、
グラスフィルター(17G2)を用いアスピレータ(1
5mmHg)で減圧下に濾過し濾過にかかる時間を測定
した。 実験NO. 濾過時間(秒) 実施例1 28 実施例2 32 実施例3 26 実施例4 30 比較例1 300
Claims (3)
- 【請求項1】(+)−トランス−第一菊酸の製造におい
て、(±)−トランス−第一菊酸または(±)−シス/
トランス−混合第一菊酸と光学活性ナフチルアミンとの
反応工程、および一方の光学活性なトランス−第一菊酸
と該アミンとの塩を晶出させ、これを母液から分離する
晶析分離工程を、疎水性有機溶媒を用いて行なうことを
特徴とする(+)−トランス−第一菊酸の製造方法。 - 【請求項2】光学活性ナフチルアミンが一般式(1) (式中、R1、R2はそれぞれ水素原子、アルキル基、アラ
ルキル基またはアリール基を示し、R3は炭素数1−6のア
ルキル基を示す。*は不斉炭素を表す。)で示される化
合物である請求項1に記載の(+)−トランス−第一菊
酸の製造方法。 - 【請求項3】疎水性有機溶媒が芳香族炭化水素または脂
肪族炭化水素である請求項1に記載の(+)−トランス
−第一菊酸の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1678998A JPH11217354A (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | (+)−トランス−第一菊酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1678998A JPH11217354A (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | (+)−トランス−第一菊酸の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11217354A true JPH11217354A (ja) | 1999-08-10 |
Family
ID=11925953
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1678998A Pending JPH11217354A (ja) | 1998-01-29 | 1998-01-29 | (+)−トランス−第一菊酸の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11217354A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004115510A (ja) * | 2002-09-05 | 2004-04-15 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | ピペラジン誘導体の製造方法 |
WO2007086162A1 (ja) | 2006-01-24 | 2007-08-02 | Kinsei Seishi Co., Ltd. | 洗浄作用を有する不織布シート |
JP2008530180A (ja) * | 2005-02-17 | 2008-08-07 | エンデュラ ソシエタ ペル アチオニ | 菊酸のエナンチオマーの取得方法 |
-
1998
- 1998-01-29 JP JP1678998A patent/JPH11217354A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004115510A (ja) * | 2002-09-05 | 2004-04-15 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | ピペラジン誘導体の製造方法 |
JP2008530180A (ja) * | 2005-02-17 | 2008-08-07 | エンデュラ ソシエタ ペル アチオニ | 菊酸のエナンチオマーの取得方法 |
WO2007086162A1 (ja) | 2006-01-24 | 2007-08-02 | Kinsei Seishi Co., Ltd. | 洗浄作用を有する不織布シート |
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