JPH11211790A - 高周波用半導体デバイスの評価装置 - Google Patents

高周波用半導体デバイスの評価装置

Info

Publication number
JPH11211790A
JPH11211790A JP10011177A JP1117798A JPH11211790A JP H11211790 A JPH11211790 A JP H11211790A JP 10011177 A JP10011177 A JP 10011177A JP 1117798 A JP1117798 A JP 1117798A JP H11211790 A JPH11211790 A JP H11211790A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
evaluation
electrode pin
electrode
high frequency
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10011177A
Other languages
English (en)
Inventor
Kunihiro Sato
邦宏 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP10011177A priority Critical patent/JPH11211790A/ja
Publication of JPH11211790A publication Critical patent/JPH11211790A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高周波用半導体デバイスの特性評価に適した
電極ピンを有する評価装置を提供する。 【解決手段】 本発明の高周波用半導体デバイスの評価
装置は、高周波用半導体デバイスの電気特性を評価する
ための装置であって、上記高周波用半導体デバイスの接
点と、上記評価装置の信号源及び評価用の測定回路とを
接続するための電極ピンとして、曲線形状の板バネを用
いることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイスの
評価装置に関し、特に高周波用半導体デバイスを評価す
る際の電極ピンの形状に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスの製造工程は、シリコン
ウェハ上に各素子を形成して集積回路完成させるまでの
前工程と、前工程が終了したウェハを個々のチップに分
割し、分割したチップをリードフレーム上に接着し、ワ
イヤボンディングによりチップの各端子を各リードに接
続した後に樹脂モールドしてパッケージングを終了する
までの後工程に大きく分けられる。
【0003】前工程が終了した段階で、各チップの静的
及び動的電気特性の評価を評価装置を用いて行い、チッ
プの良、不良を判定する。この電気特性の評価実行時に
おける評価装置側の信号源や測定回路と各チップに設け
られている各接点との一時的な接続には、金属製の複数
の針状の電極ピン(プローブ)が使用される。電気特性
の評価は、評価装置側に設けられる上記電極ピンに、チ
ップに設ける各接点を加圧接触させ、チップに評価用の
信号や電圧を供給して行う。
【0004】従来の評価装置は、例えば、特開平7−7
052号公報、特開平9−113537号公報、実開平
3−28465号公報、実開平3−42566号公報、
特開平8−220140号公報等に記載されるように、
先端の尖った電極ピンを使用していた。これらの装置に
おいて先の尖ったピンを使用するのは、主にチップ上に
設けられている各接点と評価装置との接触性を向上させ
るためである。
【0005】また、特開平5−209933号公報、特
開平6−3370号公報、特開平2−136748号公
報等に記載される評価装置は、上記チップ上に設けられ
ている各接点と評価装置との接触性をより向上させる目
的で、電極ピンを評価対象のチップ側に付勢するコイル
状のバネを装着した電極ピンを採用していた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の評価装置で
採用していた電極ピンには、接触性を確保するためチッ
プの接点に接触する箇所や、ピンの途中に折れ曲がり部
分が設けられている。この折れ曲がり部分は、電極ピン
のインダクタンス成分を増加させてしまう。また、コイ
ル状のバネを装着した電極ピンは、当該バネが電極ピン
のインダクタンス成分を更に増加させる。
【0007】上記のように、高いインダクタンスを有す
る電極ピンを用いた評価装置では、高周波用の半導体デ
バイスの評価を行う際に、高周波信号が電極ピンを通過
しにくくなると共に、その強度が変化してしまう。この
ため、従来の評価装置では、高周波用半導体デバイスの
内部信号が正確に測定できないといった問題を有してい
た。
【0008】本発明の目的は、特に高周波用半導体デバ
イスの特性評価に適した電極ピンを有する評価装置を提
供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の評価装置は、半
導体デバイスの電気特性を評価するための装置であっ
て、上記半導体デバイスの接点と、上記評価装置の信号
源及び評価用の測定回路とを接続するための電極ピンと
して、曲線形状の板バネを用いることを特徴とする。
【0010】本発明の評価方法は、高周波用半導体デバ
イスの接点と、当該半導体デバイスの評価装置の入出力
端子とを、滑らかにつなげた形状の板バネをプローブと
して用いて接続して、高周波用半導体デバイスの電気特
性の評価を行うことを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、添付の図面を用いて本発明
の半導体デバイスの評価装置の実施の形態について説明
する。
【0012】(1)実施の形態1 図1は、実施の形態1にかかる半導体デバイスの評価装
置100の構成断面図である。評価装置100は、電極
ピンとして、緩やかなカーブを持って曲線状に形成され
た板バネである電極ピン5及び7を備えたことを特徴と
する。
【0013】評価対象の高周波用半導体デバイスのチッ
プ1は、接点2,4及び接地用の接点3を下に向けた状
態で電極ピン5,7及び接地用の電極ピン6に加圧接触
されている。電極ピン5および7は、板バネであるため
上記加圧接触されるチップ1との良好な接触が得られ
る。
【0014】上記電極ピン5及び7は、評価用の信号源
や測定用回路等の評価用の回路8及び10上の所定の位
置に装着(はんだ付け)される。接地用の接点3に接続
される電極ピン6は、接地用の回路9上の所定の位置に
装着される。回路8,9,10は、絶縁基板11上に設
けられている。絶縁基板11は、設置台12上に設置さ
れている。
【0015】図2の(a)は電極ピン5を上から見た図
である。電極ピン5の幅W1は、評価対象のチップ1の
接点2の幅と同程度が好ましい。また、長さL1は、イ
ンダクタンスの増加を抑える観点から、短い方がよい。
図2の(b)は、電極ピン5の側面図である。図示する
ように、電極ピン5はS字の曲線形状を有し、点aにお
いて回路8にはんだ付けされている。このように、折り
曲げられた箇所を無くすことで、インダクタンス成分の
増加を抑えることができる。当該形状の電極ピン5,7
を採用することで、電極ピンのインダクタンスを低く抑
え、高周波用半導体デバイスのチップ1に流れる高周波
信号を正確に測定することができる。
【0016】(2)実施の形態2 図3は、実施の形態2にかかる評価装置200の構成を
示す図である。評価装置200は、評価装置100が備
える接地用の電極ピン6のかわりに、上記板バネである
電極ピン5及び7と同じ構成の電極ピン20,21を設
けたことを特徴とする。上記構成を採用することで、チ
ップ1の歪みによる接点2,3,4の接触不良をより改
善することができる。
【0017】(3)板バネの変形例 以下、図4〜図8に電極ピン5,7,20,21の変形
例を示す。 <3−1>変形例1 図4の(a)及び(b)は、W字状に波打った板バネで
ある電極ピン25を示す図である。(a)は、電極ピン
25の上面図である。(b)は電極ピン25の側面図で
ある。電極ピン25は、点bにおいて評価用の回路8に
はんだ付けされ固定されている。一方で電極ピン25の
点cは、はんだ付けされておらず、回路8上を左右に摺
動する。電極ピン5の場合と同様、電極ピン25の幅W
2は、評価対象のチップ1の接点2の幅と同程度が好ま
しい。また、長さL2は、インダクタンスの増加を抑え
る観点から短い方がよい。電極ピン25は、上記電極ピ
ン5と同様に曲線形状を採用する。このように、折り曲
げられた箇所を無くすことで、インダクタンス成分の増
加を抑えることができる。当該形状の電極ピン25を採
用することで、評価装置側の電極ピンのインダクタンス
を低く抑え、チップ1に流れる高周波信号を正確に測定
することが可能となる。
【0018】<3−2>変形例2 図5は、固定軸31を中心に矢印方向に回動可能であっ
て、その先端に球状導体32を備える板バネである電極
ピン30を示す図である。当該形状の電極ピン30は、
ハイブリッドIC基板等であって、接点35にビィアホ
ール36を備えているタイプの基板37の評価を行う際
に用いる。
【0019】図6は、上記電極ピン30を拡大した図で
ある。(a)は、電極ピン30を上から見た図であり、
(b)は、電極ピン30の側面図である。図示するよう
に、電極ピン30は、電極ピン5等と同様に、S字の曲
線形状を有する。このように、折り曲げられた箇所を無
くすことで、インダクタンス成分の増加を抑えることが
できる。当該形状の電極ピン30を採用することで、評
価装置側の電極ピンのインダクタンスを低く抑え、チッ
プ1に流れる高周波信号を正確に測定することができ
る。
【0020】また、当該電極ピン30は、固定軸31に
より信号源や評価用の回路33の所定の位置に回動可能
な状態で接続されている。このため、基板37の位置が
ずれても球状導体32がビィアホール36の移動に追随
するため、その接触性を維持することができる。
【0021】<3−3>変形例3 図7は、固定軸42を中心に矢印方向に回動可能であっ
て、その先に鋭端部41を備える板バネである電極ピン
40を示す図である。当該形状の電極ピンは、ハイブリ
ッドIC基板等であって、接点45側部にV字溝46を
有するタイプの基板47の評価を行う際に用いる。
【0022】図8は、上記電極ピン40を拡大した図で
ある。(a)は、電極ピン40を上から見た図であり、
(b)は、電極ピン40の側面図である。図示するよう
に、電極ピン40は、電極ピン5等と同様に、S字の曲
線形状を有する。このように、折り曲げられた箇所を無
くすことで、インダクタンス成分の増加を抑えることが
できる。当該形状の電極ピン40を採用することで、評
価装置側の電極ピンのインダクタンスを低く抑え、チッ
プ1に流れる高周波信号を正確に測定することが可能に
なる。
【0023】また、当該電極ピン40は、固定軸42に
より信号源や評価用の回路43の所定の位置に回動可能
な状態で接続されている。このため、基板47の位置が
ずれても鋭端部41がV字溝46の移動に追随するた
め、その接触性を維持することができる。
【0024】
【発明の効果】本発明の評価装置では、曲線形状の電極
ピンを採用することで、該電極ピンのインダクタンス成
分を低く抑えることができる。これにより、高周波用半
導体デバイスの各接点より出力される評価用の信号を正
確に受け取り、これを評価することが可能となる。
【0025】本発明の評価方法では、曲線形状の電極ピ
ンを用いて電極ピンのインダクタンス成分を低く抑える
ことで、高周波用半導体デバイスの適切な電気特性の評
価を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施の形態1にかかる評価装置の構成を示す
図である。
【図2】 電極ピンの構成を示す図である。
【図3】 実施の形態2にかかる評価装置の構成を示す
図である。
【図4】 電極ピンの変形例を示す図である。
【図5】 電極ピンの変形例の使用形態を示す図であ
る。
【図6】 電極ピンの変形例を示す図である。
【図7】 電極ピンの変形例の使用形態を示す図であ
る。
【図8】 電極ピンの変形例を示す図である。
【符号の説明】
1 チップ、2,3,4,35,45 接点、5,6,
7,20,21,25,30,40 電極ピン、8,
9,10,33,43 評価用回路、11 絶縁基板、
12 設置台

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高周波用半導体デバイスの電気特性を評
    価するための装置であって、 上記半導体デバイスの接点に接する接点部と、上記評価
    装置の入出力端子に接続される接続部とを有し、接点部
    と接続部とを滑らかにつなげた形状の板バネをプローブ
    として設けたことを特徴とする高周波用半導体デバイス
    の評価装置。
  2. 【請求項2】 高周波用半導体デバイスの接点と、当該
    半導体デバイスの評価装置の入出力端子とを、滑らかに
    つなげた形状の板バネをプローブとして用いて接続し
    て、高周波用半導体デバイスの電気特性の評価を行うこ
    とを特徴とする高周波半導体デバイスの評価方法。
JP10011177A 1998-01-23 1998-01-23 高周波用半導体デバイスの評価装置 Pending JPH11211790A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10011177A JPH11211790A (ja) 1998-01-23 1998-01-23 高周波用半導体デバイスの評価装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10011177A JPH11211790A (ja) 1998-01-23 1998-01-23 高周波用半導体デバイスの評価装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11211790A true JPH11211790A (ja) 1999-08-06

Family

ID=11770788

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10011177A Pending JPH11211790A (ja) 1998-01-23 1998-01-23 高周波用半導体デバイスの評価装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11211790A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004505281A (ja) * 2000-07-28 2004-02-19 ヘイ,インコーポレイテッド ワイヤレス通信装置用試験システム
JP2016161418A (ja) * 2015-03-02 2016-09-05 株式会社東芝 電子部品測定装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004505281A (ja) * 2000-07-28 2004-02-19 ヘイ,インコーポレイテッド ワイヤレス通信装置用試験システム
JP2016161418A (ja) * 2015-03-02 2016-09-05 株式会社東芝 電子部品測定装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100190540B1 (ko) 전자 프로브_테스트 장치_
JP3343549B2 (ja) シリコン・フィンガ・コンタクタを有するコンタクトストラクチャおよびそれを用いた総合組立構造
JP3414593B2 (ja) 導電性接触子
JPH09184852A (ja) 導電性接触子
JPH1019930A (ja) 導電性接触子
JP2005010147A (ja) 検査機能付きモジュール及びその検査方法。
Leslie et al. Membrane Probe Card Technology (the Future for High Performance Wafer Test).
JP3342789B2 (ja) 導電性接触子
JP3878578B2 (ja) コンタクトプローブ、これを用いた半導体及び電気検査装置
JP2001013208A (ja) 半導体テスト治工具
JPH11273819A (ja) 電子部品用接触子
JP2734412B2 (ja) 半導体装置のソケット
JPH11211790A (ja) 高周波用半導体デバイスの評価装置
JP2007093232A (ja) 電子デバイスの検査及び/又は調整方法、プローブピンの接触構造
JP3249865B2 (ja) 半導体集積回路装置の製造方法
JP2001242195A (ja) コンタクトストラクチャ
JPH09102521A (ja) プローブカード
JP3172305B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JPH05240877A (ja) 半導体集積回路測定用プローバ
JPH076840A (ja) Ic試験用コンタクト
KR101691192B1 (ko) 반도체 디바이스 테스트용 소켓
JPH08226934A (ja) プローブ
JP2563156Y2 (ja) プローブボード
JP2000241446A (ja) 基板・ic用検査機のワイヤープローブ装置
JP3039807B2 (ja) キャパシタバイパス構造を有する集積回路プローブ装置