JPH11211687A - 窒素酸化物検知素子の製造方法 - Google Patents

窒素酸化物検知素子の製造方法

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JPH11211687A
JPH11211687A JP10022766A JP2276698A JPH11211687A JP H11211687 A JPH11211687 A JP H11211687A JP 10022766 A JP10022766 A JP 10022766A JP 2276698 A JP2276698 A JP 2276698A JP H11211687 A JPH11211687 A JP H11211687A
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oxide
film
gas
titanium
atmosphere
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JP10022766A
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Yoshiki Senoo
与志木 妹尾
Yasushi Yamada
靖 山田
Katsuji Yamashita
勝次 山下
Masayoshi Masuoka
優美 増岡
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Original Assignee
Toyota Central R&D Labs Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 自動車の排気管中のような、高温且つ強い酸
化性又は還元性の雰囲気となる非常に厳しい環境におい
ても耐久性を有し、しかもNOx を充分な感度で検知す
ることができるNOx 検知素子を提供する。 【解決手段】 チタンにニオブ及び/又はタンタルを原
子数比で4〜25%添加した合金により0.4〜3μm
の厚さを有する合金膜を作製し、該合金膜を大気より酸
素濃度の低い雰囲気中で900〜1000℃で熱処理し
て、酸化チタンを主成分とする膜状の検知部(窒素酸化
物検知膜3)からなる窒素酸化物検知素子を得る。この
結果、酸化チタンの酸化物としての安定性を保ちなが
ら、絶縁体という酸化チタンの電気的性質を改良し、抵
抗変化型のNOx検知素子として適当な酸化物膜を得る
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被検ガス中の窒素
酸化物(NOx ガス)を検知する検知器において用いる
ことができる、耐久性及び感度が高い窒素酸化物検知素
子の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、環境問題が重要な懸案事項となっ
ている。このため、自動車やボイラーなどから排出され
る燃焼排ガス中に含まれるNOx やCOなどの有害ガス
を簡便且つ高感度に検知することが必要となっており、
特にNOx ガスを検知する必要性が高まっている。これ
ら有害ガスに対する測定法は、(a)高精度ではあるが
高価で大型の測定装置を必要とする方法と、(b)酸化
物半導体,固体電解質,水晶振動子等を用いた小型の素
子を備えたセンサによる安価な方法(簡便法)に大別さ
れる。環境を常時モニタリングする目的のためには、安
価な後者の方法を用いることが有利である。
【0003】前記簡便法でしばしば指摘される問題点は
前記素子の耐久性である。NOx はしばしば燃焼排ガ
ス、すなわち高温の酸化性ガス又は還元性ガスに含まれ
ており、それ故、NOx を検知するためには、このよう
な厳しい環境の中で変質しないだけの耐久性が検知素子
に要求される。前記検知素子について考察すると、水晶
振動子を用いた素子には被測定ガスを吸収させるための
有機物が必要であり、この有機物の耐久性が小さいこと
から、素子にもほとんど耐久性を期待することができな
い。酸化物半導体を用い、その抵抗変化を検知する方式
の素子(米国特許第4358950 号)には酸化錫(Sn
2)(特開平2-28823 号公報),酸化インジウム(I
2 3 )(特開昭60-155956 号公報),酸化タングス
テン(WO3 )(特開平4-65662 号公報)等の材料が用
いられるのが通常であるが、これらは何れも高温還元雰
囲気で極めて変質しやすい。固体電解質を用いて起電力
や限界電流を検知する方式の素子に着目すると、酸化ジ
ルコニウム(ZrO2 )のような固体電解質そのものは
耐久性の面で非常に優れているが、ガスとの反応を担う
副電極相にLa2-x MCuO4-y (M:Ba,Sr,C
a)やBa(NO3 2 ,Ca(NO3 2 等の高温安
定性の低い物質や水分に弱い物質が用いられているため
(特開平7-198671号公報,特開平7-209249号公報,特開
平7-270358号公報)、やはり耐久性が劣る。また、NASI
CON のような固体電解質〔Proceedings of the East As
ia Conference on Chimical Sensor (the 17th Chemica
l Sensor Symposium), p165 〕は、そのもの自体が高温
や水分に極めて弱い。
【0004】最近になって、酸化ジルコニウムを用いた
固体電解質型のガス検知素子には、その副電極相にC
r,Ti,V等の窒化物や酸窒化物のような安定性の高
い物質が用いられるようになり(特開平7-306178号公
報)、ようやく耐久性の充分な燃焼排ガス用の検知素子
が得られるようになった。しかし、固体電解質型の素子
と抵抗変化を検知する酸化物半導体型の素子とを比較し
た場合、次の二つの理由から酸化物半導体型の素子の方
がモニタリングによりわずかなNOx ガスを検知するの
に有利である。 (1)固体電解質型の素子は比較的広い濃度領域でほぼ
線形にガス濃度に対応する信号を出すことができる反
面、低濃度のガスに対してあまり敏感ではないのに比
べ、酸化物半導体型の素子は特に低濃度のガスに敏感に
反応する。 (2)固体電解質型の素子に比べて、酸化物半導体型の
素子は構造が簡単であり、より小型のものをより安価に
得ることができる。
【0005】酸化物半導体型のガス検知素子で耐久性の
高いものとしては、最近では酸化物としての安定性が高
いと考えられるZn2 SnO4 スピネル結晶を用いた素
子(Chemical Sensor 1994 Vol.10 Supplement A, p5)
が報告されているが、これも電気抵抗値が非常に高く感
度も極めて低い。更に、Zn2 SnO4 に酸化アンチモ
ン(Sb2 3 )を0.01〜3.0mol%添加して
性能向上を図った例もある(特開平8-105855号公報)。
しかしながら燃焼排気モニター用のガス検知素子の使用
環境においては、例えば自動車の排気管の中のようにZ
2 SnO4 では耐久性が不足する場合がしばしばあ
る。更に高い耐久性を有する材料としては酸化チタン
(TiO2 )〔Sensors and Actuators B 15-16 (199
3), p245〕があるが、酸化チタンそのものは絶縁体であ
り、電気抵抗値が高く、またガスに対する感度も低い。
酸化チタンのこのような電気的特性を改善するために5
価のニオブやタンタルの酸化物を添加しても、特性改善
が図れない場合が多く、その理由は現在まだ明らかでは
ない。
【0006】酸化チタンの電気的特性を改善した素子と
して、特開平3-13854 号公報には、非化学量論性パラメ
ーター(δ)が0.01<δ<0.5の酸素欠損を有す
る、(a)TiO2 、(b)TiO2 と固溶する金属と
チタンとの複合酸化物、及び(c)チタンとプロブスカ
イト型構造の酸化物を形成する金属とチタンとの複合酸
化物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の金属酸化
物よりなるNOxガス検知素子が記載されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
3-13854 号公報の実施例に具体的に記載されているもの
はチップ状焼結体からなる素子であり、小型のNOxガ
ス検知素子として有用な数μ程度の極めて薄い膜状の検
知部からなる窒素酸化物検知素子やその製造方法に関す
る詳細な記載はない。本発明は前記の如き実状に鑑み、
従来技術の問題点を解決するためになされたものであ
り、その目的とするところは、(I)酸化物半導体型で
あり、(II)被検ガスに対する応答性の良い薄膜の形状
を有し、且つ(III )自動車の排気管の中のような厳し
い測定環境に置かれた場合にも高い耐久性を有する窒素
酸化物検知素子の製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、5価金属
のニオブ及び/又はタンタルを所定量添加した4価金属
のチタンの酸化物である酸化チタンの膜においては、大
気中で1000℃程度の高温で熱処理する場合には酸化
チタンの絶縁体としての性質を改善することはできない
が、それよりやや酸化性の弱い雰囲気中で熱処理するこ
とにより充分に改善することができ、また同時に、熱処
理後の前記酸化チタンの膜はNOxに対して充分な感度
を有し、且つ酸化チタン自身の持つ高温の酸化雰囲気又
は還元雰囲気に対する耐久性も充分残ることを見出し、
本発明を成すに至った。すなわち、本発明の窒素酸化物
検知素子の製造方法は、チタンにニオブ及び/又はタン
タルを原子数比で4〜25%添加した合金により0.4
〜3μmの厚さを有する合金膜を作製し、該合金膜を大
気より酸素濃度の低い雰囲気中で900〜1000℃で
熱処理して、酸化チタンを主成分とする膜状の検知部か
らなる窒素酸化物検知素子を得ることを特徴とする。
【0009】前記の酸化チタンを主成分とする膜状の検
知部の組成は、分子数比にして酸化チタン(TiO2
中に2〜14%の五酸化ニオブ(Nb2 5 )及び/又
は五酸化タンタル(Ta2 5 )を含むことになり、膜
厚も0.6〜4μmとなる。本発明の方法においてニオ
ブやタンタルの代わりに3価のアルミニウムやイットリ
ウム、又は同じ5価でもバナジウムを使用する場合は、
熱処理後に得られる窒素酸化物検知素子(ガス検知膜)
は充分な性能を有しない。なお、前述の原子数、分子数
とは、窒素酸化物検知素子に含まれる原子の数及び分子
の数のことである。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の方法を用いると、例えば
適する基板上に、チタンにニオブ及び/又はタンタルを
原子数比で4〜25%添加した合金により0.4〜3μ
mの厚さを有する合金膜を作製し、それを大気より酸素
濃度の低い雰囲気中で900〜1000℃で熱処理し
て、酸化チタンを主成分とする膜状の検知部からなる窒
素酸化物検知素子を得ることができる。合金膜は熱処理
により酸化され、酸化後の組成において、分子数比にし
て酸化チタン中に2〜14%の五酸化ニオブ及び/又は
五酸化タンタルを含むことになり、膜厚も0.6〜4μ
mとなる。熱処理は大気より酸素濃度の低い雰囲気中で
行なうので、得られる金属酸化物は、大気中で熱処理し
て得られる金属酸化物よりも酸素含有率の低い、いわゆ
る酸素欠損酸化物を含む。このようにして得た素子を以
下、本発明の窒素酸化物検知素子と称する。
【0011】本発明の窒素酸化物検知素子は、適する基
板上に作製することが好ましい。前記基板の材料は特に
限定されるものではないが、高温の酸化性又は還元性雰
囲気下において、検知部材料と反応せず且つ経時変化を
起こさない材料を用いることが望ましく、このような材
料としては、例えばアルミナ,ステアタイト,スピネル
(MgAl2 4 ),ジルコニア等を挙げることができ
る。中でもアルミナは、安価で機械的強度に優れ、また
表面粗さの小さいものが市販されており、入手しやすい
ので好ましい材料である。基板の大きさや形状は適宜選
択する。前記膜状の検知部の基となる合金膜の形成方法
としては、チタン,ニオブ及びタンタルの局部的な不均
一性が生じない方法であれば特に限定されるものではな
く、慣用の薄膜形成方法、例えばスパッタリング法,真
空蒸着法,イオンプレーティング法などの物理蒸着法や
化学蒸着法等を用いて形成することができる。中でも金
属ターゲットを用いるスパッタリング法によると、チタ
ン,ニオブ及びタンタルが極めて均一に分散した形態の
膜状の検知部を容易に作製することができる。例えば、
スパッタリング法を用いて前記合金膜を作製する場合に
は、予めアルミナ等からなる基板を用意し、その表面に
電極を設け、その上に合金膜を成膜する。この成膜にお
いては、スパッタリング用のチャンバーの中を高真空、
例えば5×10-6Torr以下の圧力にした上で不活性ガ
ス、例えばアルゴンガスのみ用いてスパッタリングを行
なう。更に、成膜後に、大気より酸素濃度の低い雰囲気
中で、例えば窒素中に1%程度酸素を配合した雰囲気中
で1000℃程度の温度で所定時間の熱処理を行うこと
により合金膜を酸化して酸化物膜とする。この様にして
得られた酸化物膜は非常に耐久性が優れ且つ電気抵抗が
低く、窒素酸化物に対する感度も良好な好ましい窒素酸
化物検知素子となる。膜状の検知部の大きさや形状は適
宜選択してよく、また膜状の検知部を設ける位置は前記
基板の一部又は全部であってよい。
【0012】膜状の検知部を成膜する前に前記基板上に
予め設ける電極は、白金,金,ニッケル等の高い電気伝
導度を持つ電極材料を用いて、適する大きさ及び形状に
形成することが好ましい。この電極は検知部の成膜前に
予め熱処理しておく方がよい。また、前記膜状の検知部
及び電極を所定の温度に加熱することができるヒーター
を基板に設けてもよい。ヒーターにより、前記検知素子
の検知能を高めることができる。前記ヒーターは、例え
ば白金,金,ニッケル等の膜を基板の裏側にスパッタリ
ング法や印刷法などにより成膜して設けることができ
る。
【0013】本発明の方法により得られる窒素酸化物検
知素子は、NOx を含まないガス中での電気抵抗値(ベ
ース抵抗値)が低く、またNOx ガスに対する感度が高
い。更に本素子は、燃焼空燃比λが0.86の燃焼排気
の還元雰囲気では900℃以下、λが1.5の燃焼排気
の酸化雰囲気では750℃以下の温度に対して変質しな
いだけの耐久性を有している。なお、ここで燃焼空燃比
λとは、その雰囲気の[空気]/[燃料]比の、完全燃
焼に対する[空気]/[燃料]比に対する比を表す(SA
E Paper770401 )。また、本素子は窒素酸化物以外に
も、例えばO3 のような酸化性の強いガス又はC4 10
などの炭化水素のような還元性の強いガスの検知にも有
効である。
【0014】
【実施例】以下、実施例及び比較例により本発明を更に
具体的に説明する。 I.ニオブの添加量の検討実施例1 <本発明の方法により得られる窒素酸化物検知素子の構
造>図1に、本発明の実施例1の方法で得られた窒素酸
化物検知素子の上面図を、図2に図1のA−A線に沿っ
た断面図を各々示す。図1の素子は、直方体形状の基板
1、基板1の表面に長手方向にそれぞれ形成された一対
の電極2,2、電極2,2の一端側に形成された窒素酸
化物を検知するための窒素酸化物検知膜3、及び基板1
の裏面に形成された窒素酸化物検知膜3を加熱するため
のヒーター4からなる。基板1はアルミナで形成されて
おり、その寸法は16mm×3mm×0.6mmであ
る。また、基板1の表面粗さはRa=0.075μm程
度である。電極2,2は白金により形成されており、そ
れらの一端側、すなわち窒素酸化物検知膜3が形成され
る部分には、相対向する側に櫛歯状に突出する3本の枝
部2aがそれぞれ設けられている。この枝部2aは、電
極を長くすることで測定時の電気抵抗値を低くするよう
に工夫したものである。これらの電極2,2は、互いの
枝部2aの間隔が0.2mmになるようにそれぞれ配置
されており、電源及び電流計にそれぞれ直列に接続され
ている。窒素酸化物検知膜3は、基板上に、チタンにニ
オブを原子数比で4〜25%添加した合金により0.5
μm程度の厚さを有する合金膜を作製し、それを窒素中
に1%酸素を混合した雰囲気中で1000℃で熱処理し
て得ることができる。合金膜の成膜においては、スパッ
タリング用のチャンバーの中を5×10-6Torr以下の圧
力にし、ここに圧力が5×10-3TorrになるまでArガ
スを導入して、R.F.スパッタリングを行う。ヒーター4
は白金より形成され、基板1を介して窒素酸化物検知膜
3を加熱することができる。次の一連のスパッタリング
法及び熱処理法を採用し、酸化チタン中の五酸化ニオブ
が分子数比にして2.2〜13.3%となる前記構成を
持つ窒素酸化物検知膜3を有する素子を作製した。
【0015】<スパッタリング法による試験例1〜4の
素子の作製>基板1を用意し、その表面上に白金をD.C.
スパッタ蒸着し電極2,2を形成した。また、基板1の
裏面にも、電極2,2の裏側にあたる位置に白金をD.C.
スパッタ蒸着しヒーター4を形成した。その後電気加熱
炉を用い、大気雰囲気中でこれらを1200℃で1時間
加熱して白金の安定化を図った。続いてチタン,ニオブ
の金属ターゲットを準備し、次の成膜条件でR.F.スパッ
タリングにより窒素酸化物検知膜3の基となる合金膜を
形成した。スパッタリング雰囲気ガスとしてはアルゴン
ガスを用い、ガス圧は5×10-3Torrとした。チタンの
スパッタリング速度は非常に遅いので、二つのチタンタ
ーゲットを用い、これに一つのニオブターゲットを加え
た三元の同時スパッタリングで成膜を行った。検知膜の
基となる合金膜のニオブの原子数比が4.3%(試験例
1),10.2%(試験例2),16.5%(試験例
3),23.5%(試験例4)となるようにターゲット
への投入電力を定め、膜厚が0.5〜0.6μmになる
ようにスパッタ時間を調整してそれぞれの合金膜を作製
した。これらを、窒素中に1%酸素を混合させた雰囲気
中で1000℃で1時間熱処理してそれぞれの窒素酸化
物検知膜3を作製した。最終的な熱処理後の検知膜は、
酸化チタン中の五酸化ニオブが分子数比にして2.2%
(試験例1),5.4%(試験例2),9.0%(試験
例3),13.3%(試験例4)、膜厚が0.75〜
0.85μmとなった。なお、本実施例では、ターゲッ
トへの特定の投入電力に対するそれぞれの金属膜の成膜
速度を予め求めておき、これらの成膜速度に基づいて各
金属ターゲットに対する投入電力の大きさを決定した。
【0016】比較例1 <スパッタリング法による試験例5〜8の素子の作製>
窒素酸化物検知膜3の基となる合金膜のニオブの原子数
比が0%(試験例5),1.0%(試験例6),1.8
%(試験例7),26.8%(試験例8)となるように
ターゲットへの投入電力を定めたこと以外は実施例1と
同様にして、4種類の比較例1の窒素酸化物検知素子を
作製した。最終的な熱処理後の検知膜は酸化チタン中の
五酸化ニオブが分子数比にして0%,0.5%,0.9
%,15.5%、膜厚が0.75〜0.85μmとなっ
た。
【0017】性能評価試験1 試験例1〜4及び試験例5〜8の各素子について窒素酸
化物検知膜3の組成をX線マイクロアナライザー(EP
MA)を用いて測定した。それぞれの五酸化ニオブの原
子数比の値、並びにそれらの膜厚を表1に示す。また、
表2に示す燃焼排気のモデルガスを用い、この中にNO
2 ガスを順次100ppm,200ppm,300pp
mの3段階的に濃度を変えて加えた場合の、ヒーター4
により600℃に加熱した状態での各素子の電気抵抗変
化を図3に示す。各素子のNO2 が0ppmの時の電気
抵抗値(ベース抵抗値,Rb )とNO2 が300ppm
の時の電気抵抗値(R300 )のベース抵抗値に対する比
(R300 /Rb ,以下これを感度と称する)を表1に示
す。
【表1】
【表2】
【0018】試験例1〜8で示されるNb2 5 濃度の
変化に対するベース抵抗値の変化及び感度の変化を図4
に示す。図4において、ベース抵抗値は表2のモデルガ
スにNO2 ガスを導入しない場合の電気抵抗値を表し、
また感度は表2のモデルガスにNO2 ガスを300pp
m導入した場合の電気抵抗値のベース抵抗値に対する比
を表す。表1及び図4によれば、Nb濃度の低い比較例
である試験例5〜7ではベース抵抗値が107 Ω台で非
常に高く、ガス検知素子としての測定が困難である。更
に感度が1より低い値になっており、このことから、試
験例5〜7では酸化チタンが通常言われているのとは逆
にp型半導体的な性質を有していることが示唆される。
またNb濃度の高い比較例である試験例8では、感度は
1より大きいが、その値は4程度に止まっている。これ
に対し、実施例1である試験例1〜4では全てベース抵
抗値が2×106 Ω以下、感度が5以上であり、窒素酸
化物検知素子として非常に使用し易い性能を有してい
る。
【0019】II.膜厚の検討実施例2 検知膜の基となる合金膜のニオブの原子数比が9〜11
%となるようにターゲットへの投入電力を設定した上
で、膜厚が0.4〜1.2μmとなるようにスパッタリ
ング時間を設定した他は実施例1と同様にして、試験例
9〜13の窒素酸化物検知素子を作製した。最終的な熱
処理後の酸化チタン中の五酸化ニオブの分子数比は5〜
6%、膜厚は0.65〜1.5μmとなった。
【0020】比較例2 検知膜の基となる合金膜の膜厚が0.18〜0.34μ
mとなるようにスパッタリング時間を設定した他は実施
例2と同様にして、試験例14〜16の窒素酸化物検知
素子を作製した。最終的な熱処理後の膜厚は0.3〜
0.5μmとなった。
【0021】性能評価試験2 実施例2,比較例2の素子(試験例9〜16)につい
て、性能評価試験1の場合と同様な評価を行った。その
結果を表3に、またNO2 ガスを加えたときの電気抵抗
変化を図5に、更に膜厚に対するベース抵抗値と感度と
の変化を図6にそれぞれ示す。
【表3】 膜厚の薄い試験例14〜16はベース抵抗値が高く、感
度も小さいのに対し、膜厚の厚い試験例9〜13では、
ベース抵抗値は常に105 Ω台、感度も6以上を保って
いることが判る。また、図5において、膜厚が厚くなる
に従ってNO2ガス遮断後の素子の電気抵抗値の回復が
徐々に遅くなっているのが判る。実際には実施例にはな
いものの、熱処理後の検知膜の膜厚が4μm以上になる
と、薄膜としての効果が薄れ、ガス遮断後の電気抵抗値
の回復が遅くなり、窒素酸化物検知素子としては不適当
になるものと推測される。
【0022】III .耐久性の評価実施例3 実施例2の試験例10の素子を用い、燃焼排気に対する
耐久試験を行った。電気加熱炉の炉心管中に、検知素子
の電気抵抗値が炉の外から計れるように電極2,2から
端子を長く取り出した状態にした試験例10の素子を設
置し、イソブタンガス(i-C4H10 )を空気と所定の割合
で混合し燃焼させた後の排ガスを試験例10の素子を設
置した炉心管中に流すとともに、電気加熱炉にて試験例
10の素子を加熱し、高温排気に晒された素子の電気抵
抗値の変化を追跡した。用いた燃焼条件は、強い還元雰
囲気である燃焼空燃比λ=0.86と強い酸化雰囲気で
あるλ=1.5の二つである。800℃での結果を図7
に、また、900℃での結果を図8にそれぞれ示す。8
00℃の条件の図7によれば、λ=0.86の還元雰囲
気では試験例10の素子の電気抵抗の変化は全く見られ
ない。λ=1.5の酸化雰囲気では、試験例10の素子
の電気抵抗は僅かに上昇している。この雰囲気に晒され
る時間の合計が10時間程度であればこの素子の変化は
ほとんど問題にならないが、充分な耐久性の観点から
は、この窒素酸化物検知素子の耐久性はλ=1.5の雰
囲気でほぼ750℃までと推測できる。900℃の条件
の図8によれば、λ=1.5の酸化雰囲気では試験例1
0の素子の電気抵抗は大きく変化しているが、λ=0.
86の還元雰囲気では試験例10の素子の電気抵抗はほ
とんど変化していない。すなわち、この窒素酸化物検知
素子の耐久性はλ=1.5の酸化雰囲気では750℃ま
で、λ=0.86の還元雰囲気では900℃までと判断
することができる。これは、試験例10の素子に対する
結果であるが、酸化チタンがベースの材料であり、且つ
同じ条件で熱処理されている本発明の方法で得た窒素酸
化物検知素子は、全て同等の耐久性を有すると判断する
ことができる。
【0023】IV.添加元素の種類の検討実施例4 検知膜の基となる合金膜の合金元素にタンタルを用い、
タンタルの原子数比が8.6%,17.9%となるよう
にターゲットへの投入電力を設定した上で、膜厚が0.
5μmとなるようにスパッタリング時間を設定した他は
実施例1と同様にして、試験例17,18の窒素酸化物
検知素子を作製した。最終的な熱処理後の酸化チタン中
の五酸化タンタルの分子数比は4.5%,9.8%、膜
厚は0.7〜0.8μmとなった。
【0024】比較例3 検知膜の基となる合金膜の合金元素にバナジウムを用
い、バナジウムの原子数比が6.2%,7.7%となる
ようにターゲットへの投入電力を設定した上で、膜厚が
0.5μmとなるようにスパッタリング時間を設定した
他は実施例1と同様にして、試験例19,20の窒素酸
化物検知素子を作製した。最終的な熱処理後の酸化チタ
ン中の五酸化タンタルの分子数比は3.2%,4.0
%、膜厚は0.7〜0.8μmとなった。
【0025】比較例4 検知膜の基となる合金膜の合金元素にアルミニウムを用
い、アルミニウムの原子数比が6.4%となるようにタ
ーゲットへの投入電力を設定した上で、膜厚が0.5μ
mとなるようにスパッタリング時間を設定した他は実施
例1と同様にして、試験例21の窒素酸化物検知素子を
作製した。最終的な熱処理後の酸化チタン中の酸化アル
ミニウムの分子数比は3.3%、膜厚は0.8μmとな
った。
【0026】比較例5 検知膜の基となる合金膜の合金元素にイットリウムを用
い、イットリウムの原子数比が12.4%となるように
ターゲットへの投入電力を設定した上で、膜厚が0.5
μmとなるようにスパッタリング時間を設定した他は実
施例1と同様にして、試験例22の窒素酸化物検知素子
を作製した。最終的な熱処理後の酸化チタン中の酸化イ
ットリウムの分子数比は6.6%、膜厚は0.7μmと
なった。
【0027】性能評価試験3 実施例2,3の場合と同様な評価を行った。その結果を
表4に、またNO2 ガスを加えたときの電気抵抗変化を
図9,図10にそれぞれ示す。
【表4】 本発明の方法の考え方は、4価の金属酸化物である酸化
チタン(二酸化チタン)に対し、原子価数の異なる金属
酸化物を添加してその電気的性質を改善しようとするも
のである。何も添加しない酸化チタンのガス検知素子と
しての性能は比較例1の試験例5に示すとおりである。
実施例1,2より、添加物質として5価の金属酸化物で
ある酸化ニオブが有効であることが確認できた。そこ
で、他に原子価数の一つ異なる金属酸化物、すなわち5
価の金属酸化物である酸化タンタル(Ta2 5 ),酸
化バナジウム(V2 5 )及び3価の金属酸化物である
酸化アルミニウム(Al2 3 ),酸化イットリウム
(Y2 3 )の効果を調べたものが表4及び図9,図1
0の結果である。
【0028】表4及び図9,図10によれば、5価の金
属酸化物である五酸化タンタルの場合、五酸化ニオブの
場合よりベース抵抗値は高いものの、同様な電気的性質
改善の効果が認められる。しかしながら同じ5価の金属
酸化物である五酸化バナジウムの場合、ベース抵抗値は
非常に低くなるが感度がほとんどない状態となり、窒素
酸化物検知素子を製造するための添加物質としては有効
ではない。また、3価の金属酸化物である酸化アルミニ
ウム、酸化イットリウムでは酸化チタンの電気的性質が
まったく改善されず、これも有効とは言えないことが判
る。
【0029】比較例6 基板には実施例1と同様のものを用いる。金属ターゲッ
トではなく、酸化チタン,五酸化ニオブの酸化物ターゲ
ットを準備し、次の成膜条件でR.F.スパッタリングによ
り窒素酸化物検知膜3である酸化物膜を形成した。スパ
ッタリング用のチャンバーは予め5×10-6Torr以下の
圧力とした。スパッタリング雰囲気ガスとしてはアルゴ
ンと酸素がほぼ1:1の混合ガスを用い、ガス圧は4×
10-3Torrとした。酸化チタンのスパッタリング速度は
非常に遅いので、二つ酸化チタンターゲットを用い、こ
れに一つの五酸化ニオブターゲットを加えた三元の同時
スパッタで成膜を行った。スパッタリングの際、基板は
300℃に加熱した。検知膜の五酸化ニオブの分子数比
が0%,2%,5%となるようにターゲットへの投入電
力を定め、膜厚が0.4μmになるようにスパッタ時間
を調整して酸化物膜を作製した。これらを大気中100
0℃の雰囲気で1時間熱処理して試験例23〜25の窒
素酸化物検知素子を作製した。
【0030】比較例7 五酸化ニオブの酸化物ターゲットの代わりに五酸化タン
タルの酸化物ターゲットを用い、検知膜の酸化タンタル
の分子数比が2%,5%になるようにターゲットへの投
入電力を定め、膜厚が0.4μmになるようにスパッタ
時間を調整する以外は比較例6と同様にして、試験例2
6,27の窒素酸化物検知素子を作製した。
【0031】比較例8 五酸化ニオブの酸化物ターゲットの代わりに五酸化バナ
ジウムの酸化物ターゲットを用い、ガス検知膜の酸化バ
ナジウムの分子数比が2%,5%になるようにターゲッ
トへの投入電力を定め、膜厚が0.4μmになるように
スパッタ時間を調整する以外は比較例6と同様にして、
試験例28,29の窒素酸化物検知素子を作製した。
【0032】性能評価試験4 実施例1の場合と同様な評価を行った。ただし、添加物
の濃度はX線マイクロアナライザーによる分析を行って
いない。結果を表5に示す。添加物濃度はスパッタリン
グの際の設定値である。
【表5】 これらの比較例では、何れもベース抵抗値が高く、感度
も極めて不充分である。試験例24〜27の素子は膜厚
が少し薄いものの、組成的には実施例1,2,4の素子
と同等であり、これらとの相違は、成膜時、熱処理時と
もに実施例より強い酸化条件になっていることである。
すなわち、本発明の製造方法の最大の因子は酸化物膜を
大気中での酸化に比べてやや還元気味の条件におくこと
にある。還元の度合いが強すぎれば、当然実施例3で示
したような高い耐久性は得られない。両者のかねあいが
取れるような条件になっていることが本発明の大きな因
子の一つである。
【0033】
【発明の効果】本発明の窒素酸化物検知素子の製造方法
により得られる素子は窒素酸化物に対して高い感度を有
し、酸化性又は還元性の強い高温排ガスの環境中でも変
質することがなく、電気抵抗が小さいため素子の周辺回
路の作製が容易である。また、本発明の素子は、窒素酸
化物以外にもO3 のような酸化性の強いガス又はC4
10などの炭化水素のような還元性の強いガスの検知にも
有効であり、しかも高感度であるため、窒素酸化物等の
有害又は毒性の被検ガスの濃度を簡便迅速且つ正確に測
定することが可能である。更に、本発明の方法により得
られる素子は小型・軽量で作製が容易であり、使用目的
や使用場所に応じて種々の大きさや形状のものを容易に
得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の方法により得られた窒素酸
化物検知素子を模式的に示す上面図である。
【図2】図1のA−A線に沿った断面図である。
【図3】実施例1及び比較例1において、表2のモデル
ガスにNO2 ガスを100ppm,200ppm,30
0ppmと順次段階的に導入していった際の、600℃
に加熱した各素子の電気抵抗値の変化を表す図である。
【図4】実施例1及び比較例1において、五酸化ニオブ
濃度の変化に対するベース抵抗値の変化及び感度の変化
を表す図である。
【図5】実施例2及び比較例2において、表2のモデル
ガスにNO2 ガスを100ppm,200ppm,30
0ppmと順次段階的に導入していった際の、600℃
に加熱した各素子の電気抵抗値の変化を表す図である。
【図6】実施例2及び比較例2において、膜厚の変化に
対するベース抵抗値の変化及び感度の変化を表す図であ
る。
【図7】実施例3において、試験例10の素子を800
℃の高温燃焼排気の環境に放置したときの素子の電気抵
抗変化(素子の劣化の様子)を表す図である。
【図8】実施例3において、試験例10の素子を900
℃の高温燃焼排気の環境に放置したときの素子の電気抵
抗変化(素子の劣化の様子)を表す図である。
【図9】実施例4及び比較例3において表2のモデルガ
スにNO2 ガスを100ppm,200ppm,300
ppmと順次段階的に導入していった際の、600℃に
加熱した各素子の電気抵抗値の変化を表す図である。
【図10】比較例4,5において表2のモデルガスにN
2 ガスを100ppm,200ppm,300ppm
と順次段階的に導入していった際の、600℃に加熱し
た各素子の電気抵抗値の変化を表す図である。
【符号の説明】
1:基板 2:電極 2a:枝部 3:窒素酸化物検知膜 4:ヒーター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山下 勝次 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1 株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者 増岡 優美 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1 株式会社豊田中央研究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チタンにニオブ及び/又はタンタルを原
    子数比で4〜25%添加した合金により0.4〜3μm
    の厚さを有する合金膜を作製し、該合金膜を大気より酸
    素濃度の低い雰囲気中で900〜1000℃で熱処理し
    て、酸化チタンを主成分とする膜状の検知部からなる窒
    素酸化物検知素子を得ることを特徴とする窒素酸化物検
    知素子の製造方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005179129A (ja) * 2003-12-19 2005-07-07 Kyocera Corp 導電性酸化チタン焼結体、スパッタリングターゲット、透光性部材、および画像表示装置
KR20200077047A (ko) * 2018-12-20 2020-06-30 세종공업 주식회사 백금 검지체 센서의 고온 환경 안정화 공정 방법

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