JPH11209685A - 光学物品用コーティング組成物 - Google Patents

光学物品用コーティング組成物

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JPH11209685A
JPH11209685A JP1448998A JP1448998A JPH11209685A JP H11209685 A JPH11209685 A JP H11209685A JP 1448998 A JP1448998 A JP 1448998A JP 1448998 A JP1448998 A JP 1448998A JP H11209685 A JPH11209685 A JP H11209685A
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polymer
antireflection
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郁生 松倉
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】レンズ、ペクリル膜、反射防止フィルタ等の光
学物品に反射防止層などを密着性良く形成しうる光学物
品用コーティング組成物の提供。 【解決手段】官能基を有しかつ主鎖に含フッ素脂肪族環
構造を有する含フッ素重合体(a)、および含フッ素重
合体(a)以外であってかつ数平均分子量1000〜1
5000の含フッ素重合体(b)を含む光学物品用コー
ティング組成物。含フッ素重合体(a)と含フッ素重合
体(b)の溶解性パラメーターの差は2.5cal/c
以内のものが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光学物品に反射防止
層などを密着性良く形成しうる光学物品用コーティング
組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】CRT、液晶ディスプレー、プラズマデ
ィスプレー、プロジェクションテレビ、フィールドエミ
ッションディスプレーなどの各種表示装置の表面あるい
は前面には、表示装置の鮮明性向上や輝度アップを図る
ため、光の干渉を利用した反射防止加工が施されたプラ
スチックフィルム、プラスチックシートおよびガラスな
どの透明な基材が、反射防止フィルタとして用いられて
いる。
【0003】これらの反射防止加工は基材表面に基材と
屈折率の異なる1層以上の薄膜をもうけることでなされ
るが、従来は蒸着法による加工が主流であった。しかし
ながら近年の表示装置の大型化や形状複雑化にともな
い、蒸着法ではそのコストが著しく高価であったり、物
理的に製造できない場合もあり、これらに変わる反射防
止加工技術の開発が望まれていた。
【0004】そのような状況のなかで近年、低屈折率特
性を有する溶剤可溶性フッ素樹脂を適当な溶媒に溶解
し、ディップコートなど汎用の塗工方法により、反射防
止加工を実施する方法が提案されている(特開平2−1
9801)。この方法は大型板にも適用が容易であり、
かつ低コストで加工可能であるため、蒸着法に変わりう
る方法である。
【0005】しかしながら、この方法で得られる反射防
止層は、ふき取りなどの負荷に対して、基材と反射防止
層の密着性が劣ることに起因する剥離や傷が発生し、初
期の性能が損なわれる場合がある。
【0006】この問題を解決するため、基材表面の前処
理を実施したり(特開平4−326965)、自己修復
性と耐擦傷性を有する樹脂層と反射防止層を有する反射
防止フィルムを得て、これを基材または成形体表面に貼
合せて反射防止フィルタを得る方法が提案されている
(特開平7−168005)。これらは、いずれも反射
防止層と基材との密着性を向上させ、ふき取りなどの負
荷に対しての耐久性を持たせることがねらいである。
【0007】また、一方基材に溶剤可溶性フッ素樹脂を
塗布したのち、そのフッ素樹脂層の上層に、潤滑性を有
するシリコンオイルなどからなる極薄膜のオーバーコー
トを施し、フッ素樹脂表面の潤滑性を向上させ耐摩耗性
を向上させる方法(特開平7−70344、特開平8−
142280など)も提案されている。これらの方法は
フッ素樹脂の摩擦抵抗を低下させることにより、ふき取
りなどの負荷を実質的に軽減させることがねらいであ
る。
【0008】しかしながら基材の前処理法では、煩雑な
処理が必要であったり、基材の耐熱温度にかかわらず高
温下で一定時間以上の熱処理を必要とする。したがっ
て、基材によっては変形や割れを招く場合があった。
【0009】一方、自己修復性と耐擦傷性を有する樹脂
層を用いる方法でも、この層の形成が事前に必要であ
り、コスト的に高価になるなどの不利が生ずる。
【0010】また、オーバーコート層をもうける方法で
はオーバーコート塗布の余分な工程が必要となるばかり
でなく、オーバーコート処理剤やオーバーコート処理法
を誤れば反射防止の効果を著しく阻害する場合がある。
【0011】これらの改良法として、シリコーンオイル
を溶剤可溶性フッ素樹脂中に配合する方法が提案されて
いる(特開平8−176493)。この方法は特殊な前
処理や工程増がなく非常に合理的な手法であるが、本質
的に非相溶なシリコーンオイルを混合するため混合助剤
を必要とするだけでなく、塗膜にした場合は相分離によ
り白濁が発生し反射防止性能が損なわれる。それらを防
ぐために、フッ素樹脂の官能基とシリコンオイルを反応
させ固定する手法もとられているが、その場合にはフッ
素樹脂と基材との反応部位がなくなるため基材との密着
性が低下したり、場合によってはゲル化などを起こし塗
工液の保存安定性を低下させるという欠点を有する。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術が有する前述の欠点を解消しようとするものであ
る。すなわち、本発明は安価で加工性に優れた反射防止
層などを密着性良く光学物品に形成しうる光学物品用コ
ーティング組成物を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明は、官能基を有し
かつ主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合
体(a)、および含フッ素重合体(a)以外であってか
つ数平均分子量1000〜15000の含フッ素重合体
(b)を含み、含フッ素重合体(a)100重量部に対
する含フッ素重合体(b)の割合が0.1〜50重量部
であることを特徴とする光学物品用コーティング組成物
である。
【0014】本発明において、含フッ素重合体(a)
は、溶剤可溶性、塗布性、加工性、機械的強度などの観
点から、フッ素含有量が40〜75重量%、特には50
〜70重量%であるものが好ましい。
【0015】含フッ素重合体(a)としては、含フッ素
脂肪族環構造を有するモノマーを重合して得られる重合
体や2つ以上の重合性2重結合を有する含フッ素モノマ
ーを環化重合して得られる重合体に官能基を導入したも
のなどが挙げられる。
【0016】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有すると
は、脂肪族環を構成する炭素原子の1以上が主鎖を構成
する炭素連鎖中の炭素原子であり、かつ脂肪族環を構成
する炭素原子の少なくとも一部にフッ素原子またはフッ
素含有基が結合している構造を有していることを意味す
る。
【0017】含フッ素脂肪族環構造を有するモノマーを
重合して得られる、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有す
る重合体は、特公昭63−18964などにより知られ
ている。すなわち、パーフルオロ(2,2−ジメチル−
1,3−ジオキソール)などの含フッ素脂肪族環構造を
有するモノマーを単独重合することにより、またこのモ
ノマーをテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロ
エチレン、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)など
のラジカル重合性モノマーと共重合することにより、主
鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が得られる。
【0018】また、2つ以上の重合性二重結合を有する
含フッ素モノマーを環化重合して得られる、主鎖に含フ
ッ素脂肪族環構造を有する重合体は、特開昭63−23
8111や特開昭63−238115などにより知られ
ている。すなわち、パーフルオロ(アリルビニルエーテ
ル)やパーフルオロ(ブテニルビニルエーテル)などの
モノマーを環化重合することにより、またはこのような
モノマーをテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオ
ロエチレン、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)な
どのラジカル重合性モノマーと共重合することにより、
主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が得られ
る。
【0019】また、パーフルオロ(2,2−ジメチル−
1,3−ジオキソール)などの含フッ素脂肪族環構造を
有するモノマーとパーフルオロ(アリルビニルエーテ
ル)やパーフルオロ(ブテニルビニルエーテル)などの
2つ以上の重合性二重結合を有する含フッ素モノマーと
を共重合することによっても、主鎖に含フッ素脂肪族環
構造を有する重合体が得られる。
【0020】含フッ素脂肪族環構造含有重合体は、含フ
ッ素脂肪族環構造含有重合体の全重合単位に対して含フ
ッ素脂肪族環構造を有する重合単位を20モル%以上、
好ましくは40モル%以上含有するものが透明性、機械
的特性などの面から好ましい。
【0021】上記の含フッ素脂肪族環構造含有重合体と
しては、具体的には下記一般式(1)〜(4)から選ば
れる繰り返し単位を有するものが例示される。これらの
含フッ素脂肪族環構造含有重合体中のフッ素原子は、屈
折率を高めるために一部塩素原子で置換されていてもよ
い。
【0022】
【化1】
【0023】[一般式(1)〜(4)において、hは0
〜5の整数、iは0〜4の整数、jは0または1、h+
i+jは1〜6、sは0〜5の整数、tは0〜4の整
数、uは0または1、s+t+uは1〜6、p、q、r
はそれぞれ独立に0〜5の整数、p+q+rは1〜6、
R、R1 、R2 、X1 、X2 はそれぞれ独立にF、C
l、またはCF3 である。]
【0024】本発明における含フッ素脂肪族環構造を有
するモノマーとしては、下記一般式(5)〜(7)で表
される化合物から選ばれるモノマーが好ましい。
【0025】
【化2】
【0026】[一般式(5)〜(7)において、X3
8 、R3 〜R8 はそれぞれ独立にF、ClまたはCF
3 であり、R3 とR4 、R5 とR6 およびR7 とR8
連結して環を形成してもよい。]
【0027】一般式(5)〜(7)で表される化合物の
具体例としては、式(11)〜(18)で表される化合
物などが挙げられる。
【0028】
【化3】
【0029】2つ以上の重合性二重結合を有する含フッ
素モノマーとしては、下記一般式(8)〜(10)で表
される化合物が好ましい。
【0030】
【化4】 CY12 =CY3 OCY45 CY67 CY8 =CY910 (8) CZ12 =CZ3 OCZ45 CZ6 =CZ78 (9) CW12 =CW3 OCW45 OCW6 =CW78 (10)
【0031】[一般式(8)〜(10)において、Y1
〜Y10、Z1 〜Z8 およびW1 〜W8は、それぞれ独立
にF、Cl およびCF3 から選ばれる。]
【0032】一般式(8)〜(10)で表される化合物
の具体例としては、以下の化合物などが挙げられる。
【0033】
【化5】CF2 =CFOCF2 CF2 CF=CF2 、C
2 =CFOCCl2 CF2 CF=CF2 、CF2 =C
FOCF2 CF2 CCl=CF2 、CF2 =CFOCF
2 CFDCF=CF2 、CF2 =CFOCF2 CFCl
CF=CF2 、CF2 =CFOCF2 CF2 CF=CF
Cl、CF2 =CFOCF2 CF(CF3 )CF=CF
2 、CF2 =CFOCF2 CF(CF3 )CCl=CF
2 、CF2 =CFOCF2 CF=CF2 、CF2 =CF
OCF(CF3 )CF=CF2 、CF2 =CFOCF2
OCF=CF2 、CF2 =CClOCF2 OCCl=C
2 、CF2 =CFOCCl2 OCF=CF2 、CF2
=CFOC(CF32 OCF=CF2
【0034】含フッ素重合体(a)の官能基としては、
カルボキシル基、スルホン酸基、エステル結合を有する
基、加水分解性シリル基、ニトリル基、イソシアナート
基などが挙げられる。含フッ素重合体(a)中の官能基
の数は含フッ素重合体(a)の数平均分子量1万〜50
0万当たり、1〜10個が好ましく、1〜5個がより好
ましく、1〜2個がさらに好ましい。含フッ素重合体
(a)とともに、官能基を有さずかつ主鎖に含フッ素脂
肪族環構造を有する含フッ素重合体を併用してもよい。
【0035】含フッ素重合体(a)に官能基を導入する
方法としては、以下の方法などが挙げられる。 1)分子内にカルボキシル基、スルホン酸基などの官能
基、またはこれらの前駆体基(例えばカルボキシル基の
場合ではアシル基)を有する開始剤または連鎖移動剤の
存在下で重合を行うことにより、含フッ素重合体の末端
基にカルボキシル基、スルホン酸基などを導入する方
法。 2)酸素存在下にて含フッ素重合体を高温処理すること
により、含フッ素重合体の側鎖または末端を酸化分解せ
しめ、次いでこれを、水もしくはアルコール処理してカ
ルボキシル基またはエステル結合を有する基を導入する
方法。
【0036】3)メチル パーフルオロ(5−オキサ−
6−ヘプテノエート)などのカルボン酸誘導体基を有す
るモノマー、もしくはスルホン酸基、スルホン酸誘導体
基を有するモノマーを共重合させて含フッ素重合体の側
鎖に官能基を導入する方法。 4)1)〜3)の方法にて導入した官能基を公知ないし
周知の方法により他の官能基に変換する方法。
【0037】含フッ素重合体(a)の数平均分子量は1
万〜500万が好ましく、4万〜100万がより好まし
い。
【0038】含フッ素重合体(b)は、含フッ素重合体
(a)以外であってかつ数平均分子量1000〜150
00の含フッ素重合体であり、含フッ素重合体(a)と
の相溶性が良好でありるものが好ましい。この相溶性は
溶解性パラメータ(δ)を一つの尺度として評価でき、
含フッ素重合体(a)と含フッ素重合体(b)との溶解
性パラメーターの差が2.5(cal/cm31/2
内であることが好ましい。より好ましい溶解性パラメー
ターの差は2.0(cal/cm31/2 以内である。
含フッ素重合体(b)の分子量を低くすることにより、
また含フッ素重合体(b)のフッ素含有量を高くするこ
とにより、溶解性パラメーターの差を小さくできる。
【0039】この範囲を越えると、含フッ素重合体
(a)との混合時に相分離を起こし、重合体混合物が白
濁し、ヘイズや散乱の原因となり高透明性を要求される
光学用途向けには好ましくない。ここで溶解性パラメー
ター(δ)とは、物質の凝集エネルギーをE、分子容を
Vとして、式δ=(E/V)1/2 で表される。含フッ素
重合体(a)は、その溶解性パラメーターが6〜7(c
al/cm31/2 の範囲となるものから選定すること
が好ましい。
【0040】含フッ素重合体(a)の低屈折率性を生か
すためには、含フッ素重合体(b)はより低分子量、た
とえば数平均分子量1000〜5000であることが好
ましく、また含フッ素重合体(b)のフッ素含量が45
%重量以上であることが含フッ素重合体(a)との相溶
性が高まるため好ましい。
【0041】また、含フッ素重合体(b)としては含フ
ッ素重合体(a)のガラス転移点を低下させるものが好
ましい(以下、ガラス転移点をTg と略す)。この場合
において、本発明の光学物品用コーティング組成物によ
り形成された塗膜のTg が1点で有ることが好ましい。
g が2点以上あることは、含フッ素重合体(a)と
(b)の相分離が発生していることを意味するため、好
ましくない。
【0042】Tg の低下は、含フッ素重合体(a)の溶
融温度を大幅に低下させるため、同一温度で比較した場
合、含フッ素重合体(a)単独で塗膜を形成する場合に
比較して、基材への密着性が大幅に向上する。
【0043】形成された塗膜の好ましいTg の範囲とし
ては、含フッ素重合体(a)のTg未満から含フッ素重
合体(a)のTg −30℃である。より好ましくは、上
記の条件を満足するTg が70〜130℃の範囲に入る
ものである。ガラス転移温度が70℃未満になる場合は
実用上、塗膜の耐熱性や耐久性に悪影響を与え、屋外や
自動車内などの高温下での使用において長時間の使用に
耐えないものとなる。一方その温度が130℃を超える
場合は、アクリル樹脂などの熱変形温度の低い基材に形
成される塗膜としては好ましくない。
【0044】含フッ素重合体(b)としては、例えばテ
トラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、
パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)などから選ば
れる1種以上のモノマーからなるオリゴマー、またはパ
ーフルオロポリエーテルが挙げられる。
【0045】含フッ素重合体(b)の末端基としては、
含フッ素重合体(a)の官能基と反応性が無いかまたは
少ないものが好ましい。
【0046】含フッ素重合体(a)との相溶性に優れ、
g 低下の効果が大きく、基材への密着性が良好となる
ことからパーフルオロポリエーテルが好ましい。
【0047】パーフルオロポリエーテルとしては、下記
一般式(1)〜(4)にて表されるものが好ましい。
【0048】
【化6】 (ただし、X1 、X3 は独立にCF3 、C25 または
37 、X2 はFまたはCF3 、n1、n2、n3お
よびm1は1〜10の整数) X4 (OCF2 CF2 CF2n4OX5 ・・・(2) (ただし、X4 、X5 は独立にCF3 、C25 または
37 、n4は1〜10の整数) (ただし、X6 はCF2 またはC=O、n6は1〜30
の整数、m2、m3、m4は独立に2〜4の整数)
【0049】含フッ素重合体(b)の数平均分子量は1
000〜15000であり、好ましくは2000〜10
000である。1000未満であると熱安定性が不充分
であったり、成膜後加熱処理を実施する際に揮発した
り、ブリードアウトを引き起こすなどのため好ましくな
い。一方15000を超えると含フッ素重合体(a)へ
の溶解性が低下し、相分離を起こしやすくなるため、光
の散乱などを招いたり、塗膜の強度を低下させるなどし
て好ましくない。
【0050】含フッ素重合体(a)に対する含フッ素重
合体(b)の割合は、含フッ素重合体(a)100重量
部に対し、含フッ素重合体(b)が0.1〜50重量部
である。塗膜の機械的強度の観点から含フッ素重合体
(a)100重量部に対し、含フッ素重合体(b)が1
〜15重量部であることが好ましく、5〜10重量部で
あることがさらに好ましい。
【0051】含フッ素重合体(a)と含フッ素重合体
(b)を同時に溶解させかつ本発明のコーティング組成
物を基材に塗布するための溶媒としては、含フッ素重合
体(a)と(b)を溶解させるものであれば特に限定さ
れない。
【0052】例えば、パーフルオロオクタン、パーフル
オロヘキサンなどのパーフルオロアルカン類、CF3
(CF2n CH=CH2 (n=5〜11の整数)など
のパーフルオロアルキル置換エチレン類、CF3 (CF
2n CH2 CH3 (n=5〜11)などのパーフルオ
ロアルキル置換エタン類、パーフルオロベンゼン類、パ
ーフルオロトリアルキルアミン類、パーフルオロ(アル
キルヒドロフラン)類、Cn2n+1OCm2m+1(n=
3〜12の整数、m=1〜3の整数、n>m)で表され
るハイドロフルオロエーテル類、Cn2n+1H(n=4
〜12の整数)で表されるハイドロフルオロカーボンな
どを挙げることができ、これらは1種単独でまたは2種
以上の混合物として使用できる。
【0053】本発明のコーティング組成物を基材に塗布
する方法には通常の塗布方法が使用できる。例えばスプ
レー、刷毛塗り、ディップ、グラビア、コンマ、ダイコ
ート法などが可能である。また、これらの塗工法は連続
塗工が可能で、生産性の高い塗膜形成が可能であり好ま
しい方法である。塗膜の膜厚はおよそ0.01〜1μm
が好ましく、0.05〜0.2μmがより好ましい。
【0054】前記の方法で塗布した後は、溶媒を完全に
蒸発させかつ、塗膜の密着性を挙げるため、塗膜を熱処
理したり、遠赤外線照射、電子ビームなどの熱エネルギ
ーを塗膜に与えるとよい。熱処理温度は基材の耐熱温度
以下または含フッ素重合体(a)と含フッ素重合体
(b)の混合物のTg 以上が好ましい。
【0055】本発明のコーティング組成物は直接塗布に
て基材と強固に密着可能であるが、接着性改良用のプラ
イマー層が基材上に塗布された場合でもなんら塗工にお
いて差し支えない。プライマーとしては、例えばアミノ
シラン、エポキシシランなどのカップリング剤、アミノ
基またはエポキシ基含有のシリコーンオリゴマーを主成
分とするプライマーなどが挙げられる。
【0056】また、反射防止効果を高めるための高屈折
率膜、例えばTiO2 、Sb25などの金属酸化物膜
を有する基材上に本発明のコーティング組成物を塗布し
てもよい。また、本発明のコーティング組成物を塗布す
る前に塗布面(基材、プライマー層面または高屈折率膜
面)に、コロナ放電処理、紫外線処理、オゾン処理など
の活性エネルギー線処理を施してもよい。基材上には、
自己修復性と耐擦傷性を有するポリウレタン樹脂層をさ
らに有していてもよい。
【0057】本発明のコーティング組成物により形成さ
れる反射防止層を有する光学物品としては、CRT、液
晶ディスプレー、プラズマディスプレー、プロジェクシ
ョンテレビなどの表示装置の反射防止フィルタ、球面レ
ンズ、非球面レンズ、フレネルレンズ、レンチキュラー
レンズなどのレンズ部品などが挙げられる。
【0058】本発明のコーティング組成物により形成さ
れる塗膜は紫外線による劣化がないために、ペリクル膜
などの光学物品を他の物品に接着するための接着剤とし
ても利用できる。また、この塗膜は紫外線領域の光線透
過率も高く、塗膜自身を自立膜として用いることもでき
る。自立膜としては、ペリクル膜などの紫外線領域の光
学薄膜、反射防止自立膜などとして有用である。自立膜
の膜厚は0.1〜10μmが好ましく、0.2〜2μm
がより好ましい。
【0059】本発明における光学物品の材質は限定され
ないが、光学物品としての性質上、波長400〜700
nmの可視光線を少なくとも85%以上透過する材質が
好ましい。代表的なものとしてはアクリル系樹脂、ポリ
カーボネート系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系
樹脂などが挙げられる。無機系材質としてはTiO2
被覆膜、ガラスなどが挙げられる。
【0060】これらの材質中には、公知の添加剤、例え
ば耐熱安定剤、耐酸化安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収
剤、顔料、染料などを配合してもよい。さらに、樹脂表
面、無機物表面にアルコキシシラン化合物、金属酸化物
などの帯電防止層を設け、その上に本発明における反射
防止膜を設けると、帯電防止と反射防止を兼ね備えた光
学物品が得られる。
【0061】本発明の反射防止層を有する光学物品とし
ては、密着性、耐摩耗性、耐擦傷性などと同時に反射防
止性能が重要であることは言うまでもないが、反射防止
層の特性としては、低反射であると同時に映像の鮮明性
を向上させるために、反射防止層中で光が散乱しないこ
とが重要である。この反射防止層中での散乱について
は、曇価が一つの指標となる。曇価については日本工業
規格にて定められたC光源を用いて、全透過光に対する
散乱光の割合で決定される数値である。本発明の反射防
止層は、この曇価を、1%以下とすることができる。
【0062】
【実施例】以下の例において、例1は合成例、例2〜3
および例6〜9は実施例、例4〜5は処方例、例2〜3
および例10〜11は比較例である。
【0063】「例1」パーフルオロ(ブテニルビニルエ
ーテル)の35g、イオン交換水の150gおよび重合
開始剤として((CH32 CHOCOO))2 の90
mgを、内容積200mlの耐圧ガラス製オートクレー
ブに入れた。これを3回窒素で置換した後、40℃で2
2時間懸濁重合を行った。
【0064】その結果、環化重合体(以下、重合体Aと
いう)を28g得た。重合体Aの固有粘度[η]は、パ
ーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)中30℃
で0.2dl/gであった。重合体AのTg は108℃
であり、室温ではタフで透明なガラス状の重合体であっ
た。また、10%熱分解温度は460℃であり、屈折率
は1.34と低く、光線透過率は95%以上と高かっ
た。
【0065】重合体Aを300℃にて3時間熱処理し、
次にイオン交換水中に浸漬し、130℃にて12時間処
理した。その後、イオン交換水と重合体を分離し、重合
体を真空下にて減圧乾燥し重合体(以下、重合体Bとい
う)を得た。重合体Bの数平均分子量4万であった。
【0066】重合体Bの赤外線吸収スペクトルを測定し
たところ−COOH基に帰属されるピークが確認され
た。重合体Bをパーフルオロオクタンに1.5重量%で
溶解した溶液(以下、溶液Cという)を調製した。
【0067】「例2」溶液Cに、重合体Bとの溶解性パ
ラメーターの差が1.0(cal/cm31/2 である
パーフルオロポリエーテル「CF3 [(OCF2 CF
23 −(OCF210OCF3 」を重合体B100重
量部に対して11重量部添加した溶液(以下、溶液Dと
いう)を得た。重合体Bと前記パーフルオロポリエーテ
ルの混合物のTg は80℃であった。一方、溶液Dの外
観は溶液Cと変わらず透明でゲル化、白濁などの異変は
無かった。
【0068】「例3」溶液Cに、重合体Bとの溶解性パ
ラメーターの差が1.4(cal/cm31/2 であ
る、数平均分子量2000で両末端CF3 −のクロロト
リフルオロエチレンオリゴマーを重合体B100重量部
に対して11重量部添加した溶液(以下、溶液Eとい
う)を得た。重合体Bと前記パーフルオロポリエーテル
の混合物のTg は80℃であった。一方、溶液Eの外観
は溶液Cと変わらず透明でゲル化、白濁などの異変は無
かった。
【0069】「例4」シリコーンプライマーPCー7A
(信越化学工業社製商品名)1重量部をジクロロペンタ
フルオロプロパン100重量部に溶かし、プライマー
(以下、プライマーAという)を得た。
【0070】「例5」縦10cm×横10cm×厚さ3
mmのデラグラス(旭化成社製アクリル樹脂製板の商品
名、以下アクリル板Aという)をプライマーAに浸漬
後、垂直に200mm/分の速度で引き上げ、60℃で
10分加熱してアクリル板Aの両面にプライマーAをコ
ートしてアクリル板(以下、アクリル板Bという)を得
た。このときのプライマーの膜厚は10nmであった。
【0071】「例6」アクリル板Aを中性洗剤DKビー
クリア(第一製薬社製商品名)にて洗浄した後、イオン
交換水でリンス洗浄し乾燥させた。このアクリル板Aを
溶液Dに浸漬後、垂直に180mm/分の速度で引き上
げ、80℃で30分加熱して厚さ104nmの反射防止
層を有するアクリル板Aを得た。波長400〜700n
mの可視光線の平均反射率(以下、平均反射率と略す)
は、この反射防止層有するアクリル板Aの場合1.0%
であり、アクリル板Aの場合4.0%であった。
【0072】「例7」例7と同様に洗浄乾燥したアクリ
ル板Aを溶液Eに浸漬後、垂直に180mm/分の速度
で引き上げ、80℃で30分加熱して厚さ103nmの
反射防止層を有するアクリル板Aを得た。この反射防止
層有するアクリル板Aの平均反射率は1.0%であっ
た。
【0073】「例8」アクリル板Bを溶液Dに浸漬後、
垂直に180mm/分の速度で引き上げ、80℃で30
分加熱して厚さ103nmの反射防止層を有するアクリ
ル板Bを得た。この反射防止層を有するアクリル板Bの
平均反射率は1.0%であった。
【0074】「例9」アクリル板Aを例6と同様に洗浄
乾燥し、それを表面処理を施した酸化錫[SnO2
(触媒化成社品)のコロイド状エタノール分散液中に浸
漬後、垂直に180mm/分の速度で引き上げ、次に溶
液Eに浸漬後、垂直に180mm/分の速度で引き上
げ、80℃で30分加熱して反射防止層を有するアクリ
ル板Aを得た。このときの酸化錫層の膜厚は150n
m、溶液Eにより形成された塗膜層の膜厚は100nm
であった。反射防止層を有するアクリル板Aの平均反射
率は0.4%であった。
【0075】「例10」アクリル板Aを例6と同様に洗
浄乾燥し、溶液Cに浸漬後、垂直に180mm/分の速
度で引き上げ、80℃で30分加熱して反射防止層を有
するアクリル板Aを得た。反射防止層の膜厚は103n
mであった。反射防止層を有するアクリル板Aの平均反
射率は1.0%であった。
【0076】「例11」溶液C1000重量部にシリコ
ンオイル(信越化学工業社製商品名 KF868)1重
量部と溶媒のジクロロペンタフルオロプロパン200重
量部とを添加して充分に混合した。得られた混合溶液
は、油状物質の分離はないものの、白濁していた。それ
を3日間放置しても白濁は消えなかった。
【0077】この混合溶液中に例6と同様に洗浄乾燥し
たアクリル板Aを浸漬した後、垂直に180mm/分の
速度で引き上げ、80℃で30分加熱して反射防止層を
有するアクリル板Aを得た。反射防止層の膜厚は103
nmであった。反射防止層を有するアクリル板Aの平均
反射率は3.0%であった。例6〜11で作成した反射
防止層を有するアクリル板の反射防止層の密着性、耐摩
耗性、曇価を評価した結果を表1に示す。
【0078】なお、密着性試験については碁盤目(1m
m×1mm)にカットした後、セロハンテープによる剥
離試験を実施し、摩耗試験についてはオズ社製のクリー
ニングペーパー(商品名ダスパー紙)を用いて摩耗試験
機にかけた。曇価については、日本工業規格に記される
C光源を使用した、ヘイズメーターを用いて測定した。
【0079】
【表1】
【0080】
【発明の効果】本発明のコーティング組成物は、光学物
品に反射防止層などを密着性良くかつ光学的特性を損な
うことなく形成できる。光学物品の大型化や形状複雑化
に対しても工程増や基材変形を招くことなく対応でき
る。加工温度を自由に調節できるため光学物品の設計に
大きな自由度を持たせることができる。
【0081】また、本発明における反射防止層はふき取
りなどの負荷に対しての耐久性が高いなど、耐擦傷性、
耐摩耗性に優れるものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09D 171:00) (C09D 145/00 127:12) (C09D 145/00 129:10)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】官能基を有しかつ主鎖に含フッ素脂肪族環
    構造を有する含フッ素重合体(a)、および含フッ素重
    合体(a)以外であってかつ数平均分子量1000〜1
    5000の含フッ素重合体(b)を含み、含フッ素重合
    体(a)100重量部に対する含フッ素重合体(b)の
    割合が0.1〜50重量部であることを特徴とする光学
    物品用コーティング組成物。
  2. 【請求項2】含フッ素重合体(a)と含フッ素重合体
    (b)との溶解性パラメーターの差が2.5cal/c
    3 以内である請求項1記載のコーティング組成物。
  3. 【請求項3】請求項1または2記載のコーティング組成
    物により形成された塗膜層を有する光学物品。
  4. 【請求項4】塗膜層が反射防止層または接着層である請
    求項3記載の光学物品。
  5. 【請求項5】光学物品が、レンズ、ペリクル膜または反
    射防止フィルタである請求項3または4記載の光学物
    品。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002092670A2 (en) * 2001-05-14 2002-11-21 E.I. Du Pont De Nemours And Company Fluoropolymer compositions comprising a fluor-containing liquid
WO2005054336A1 (ja) * 2003-12-03 2005-06-16 Asahi Glass Company, Limited ペリクルおよび新規な含フッ素重合体
US7129009B2 (en) 2002-05-14 2006-10-31 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymer-liquid compositions useful in ultraviolet and vacuum ultraviolet uses
WO2007086384A1 (ja) * 2006-01-26 2007-08-02 Asahi Glass Company, Limited 塗布液および塗膜形成方法
US7270883B2 (en) 2003-09-03 2007-09-18 Fujifilm Corporation Film-forming composition, anti-reflection film, polarizing plate, image display apparatus, anti-pollution coating composition and anti-pollution article
JP2008519132A (ja) * 2004-11-02 2008-06-05 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー テロマー含有フルオロポリマーコーティング
JP2009009138A (ja) * 2000-08-29 2009-01-15 Daikin Ind Ltd 反射防止処理物品の製造方法
USRE42406E1 (en) 1998-06-18 2011-05-31 Sugarloaf Acquisitions, Llc Multi-resolution geometry
JP2013205656A (ja) * 2012-03-28 2013-10-07 Asahi Kasei E-Materials Corp ペリクル枠体
JP2019214181A (ja) * 2018-06-13 2019-12-19 Agc株式会社 加飾フィルムの製造方法、加飾フィルム付き3次元成形品の製造方法

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
USRE42406E1 (en) 1998-06-18 2011-05-31 Sugarloaf Acquisitions, Llc Multi-resolution geometry
JP2009009138A (ja) * 2000-08-29 2009-01-15 Daikin Ind Ltd 反射防止処理物品の製造方法
WO2002092670A3 (en) * 2001-05-14 2003-11-13 Du Pont Fluoropolymer compositions comprising a fluor-containing liquid
WO2002092670A2 (en) * 2001-05-14 2002-11-21 E.I. Du Pont De Nemours And Company Fluoropolymer compositions comprising a fluor-containing liquid
US7129009B2 (en) 2002-05-14 2006-10-31 E. I. Du Pont De Nemours And Company Polymer-liquid compositions useful in ultraviolet and vacuum ultraviolet uses
KR101032287B1 (ko) * 2003-09-03 2011-05-06 후지필름 가부시키가이샤 필름 형성용 조성물, 반사 방지 필름, 편광판, 이미지디스플레이 장치, 오염 방지용 코팅 조성물 및 오염방지성 물품
US7270883B2 (en) 2003-09-03 2007-09-18 Fujifilm Corporation Film-forming composition, anti-reflection film, polarizing plate, image display apparatus, anti-pollution coating composition and anti-pollution article
US7790811B2 (en) * 2003-12-03 2010-09-07 Asahi Glass Company, Limited Pellicle and novel fluoropolymer
WO2005054336A1 (ja) * 2003-12-03 2005-06-16 Asahi Glass Company, Limited ペリクルおよび新規な含フッ素重合体
KR101141570B1 (ko) * 2003-12-03 2012-05-03 아사히 가라스 가부시키가이샤 펠리클 및 신규 함불소 중합체
JP2008519132A (ja) * 2004-11-02 2008-06-05 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー テロマー含有フルオロポリマーコーティング
WO2007086384A1 (ja) * 2006-01-26 2007-08-02 Asahi Glass Company, Limited 塗布液および塗膜形成方法
JP2013205656A (ja) * 2012-03-28 2013-10-07 Asahi Kasei E-Materials Corp ペリクル枠体
JP2019214181A (ja) * 2018-06-13 2019-12-19 Agc株式会社 加飾フィルムの製造方法、加飾フィルム付き3次元成形品の製造方法

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