JPH11204067A

JPH11204067A - 電界放出型デバイス

Info

Publication number: JPH11204067A
Application number: JP777898A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Tonegawa; 武利根川; Yuji Uchida; 裕治内田; Yuichi Kogure; 雄一小暮; Gentaro Tanaka; 源太郎田中
Original assignee: Futaba Corp
Current assignee: Futaba Corp
Priority date: 1998-01-19
Filing date: 1998-01-19
Publication date: 1999-07-30

Abstract

(57)【要約】【課題】ゲッターボックス４内に形成されるゲッター
ミラー１１の表面積を大きくして、残留ガスの吸着能力
を向上させること。【解決手段】アノード側のガラス基板２とカソード側
のガラス基板３との内部を、真空状態にするためのゲッ
ターボックス４の内部壁面に粒状層６を形成し、この粒
状層６の表面にゲッターミラー１１を形成するようにし
た。また、ゲッター材料が収納されている通電ゲッター
２１の凹部２４をゲッターボックス４の長手方向、やや
上方に向けて配置すると共に、ゲッターボックス４内に
窒素ガス（Ｎ₂ ）を充満させておくことで、ゲッター材
料が粒状層１０の表面の隅々に回り込むように蒸着さ
れ、より表面積の大きいゲッターミラー１１を形成する
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、電界放出型デバイ
スに関わり、特にその内部の残留ガスを吸着させるのに
好適なものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、平面状のコールドカソードとして
知られている電界放出カソードと、この電界放出カソー
ドから放出される電子を捕集する蛍光体の被着されたア
ノードからなる電界放出型電子機器（Field Emission D
evice ：以下、「ＦＥＤ」という）が知られている。こ
のようなＦＥＤにおいては、カソードとアノードとが微
少間隔離隔されて配置されており、その間の空間が真空
気密状態となるようにされている。

【０００３】ところで、上記したようなＦＥＤにおいて
は、カソードとアノードとからなる空間を真空状態にす
るために排気・封止を行った場合においても、その内部
には残留ガスが存在するため、この残留ガスを吸着する
ためのゲッターが収納されたゲッターボックス（ゲッタ
ー室）を設けることが不可欠となる。

【０００４】ここで、図５にゲッターボックスが設けら
れているＦＥＤの一例として電界放出型表示装置の構成
例を示す。この図５（ａ）は、ＦＥＤの真空容器を示す
正面図、同図（ｂ）は背面図、同図（ｃ）は同図（ｂ）
に示すＦＥＤの真空容器をＹ−Ｙ線で切断した時の断面
を示した図である。これら図５（ａ），（ｂ），（ｃ）
に示すＦＥＤにおいて、１０１は正面側とされるアノー
ド側のガラス基板、１０２は背面側とされるカソード側
のガラス基板であり、これらは微少間隔離隔されて対向
させて配置されており、その間がシール部材１０８によ
り封着されて構成されている。アノード側のガラス基板
１０１、およびカソード側のガラス基板１０２は、例え
ば板ガラス基板等からなり、図示しないアノード側のガ
ラス基板１０１には蛍光体の被着されたアノードが形成
されており、カソード側のガラス基板１０２には、その
表面に薄膜技術によってよく知られている電子放出用の
エミッター及びゲートからなる平面状の電界放出カソー
ド群が形成されている。

【０００５】また、アノード側のガラス基板１０１とカ
ソード側のガラス基板１０２とは、例えば長手方向に若
干ずらして配置されており、図示するようにカソード側
のガラス基板１０２の２辺は、アノード側のガラス基板
１０１より外方に突出している。また、残る二辺のうち
の一辺においては、アノード側のガラス基板１０１が突
出するようにされている。

【０００６】そして、この突出しているアノード側のガ
ラス基板１０１の一部を覆うような配置で、その内部に
ゲッター１０６が収納された矩形状のゲッターボックス
１０３が設けられている。このゲッターボックス１０３
の上面には、排気管１０４が溶着されていると共に、排
気管１０４とゲッターボックス１０３の内部とを連通す
る連通孔１０５が設けられている。

【０００７】ゲッターボックス１０３内に収納されたゲ
ッター１０６は、製造時において、排気工程後にゲッタ
ーボックス１０３内に残存しているガスを吸着する蒸着
膜を形成するために設けられており、例えばリング状の
金属部材の内部にＢａＡｌ₄合金等のゲッター材料が収
納されている。そして、例えば外部から高周波によりリ
ング状の金属部材を誘導加熱することによって、ゲッタ
ー材料であるＢａＡｌ₄ 合金の内、Ｂａ（バリウム）が
蒸発し、ゲッター１０６と対向するゲッターボックス１
０３の内部壁面に蒸着膜１０７を形成するようにされ
る。この蒸着膜１０７は、鏡のように見えるところか
ら、通常、ゲッターミラーと呼ばれる。以下、本明細書
においては、この蒸着膜１０７をゲッターミラーと表記
することとする。

【０００８】上記したようなＦＥＤにおいて、ゲッター
ミラー１０７を形成する場合は、カソード側のガラス基
板１０２とアノード側のガラス基板１０１とを位置決め
して、シール部材１０８により封着し、排気管１０４か
らその内部を真空に引いて排気管１０４を封止した後、
例えば外部から高周波によりリング状の金属部材を誘導
加熱する。これにより、ゲッター１０６にゲッター材料
として収納されているＢａ（バリウム）が蒸発してゲッ
ター１０６と対向するゲッターボックス８の内部壁面に
蒸着して、ゲッターミラー１０７が形成されることにな
る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記したよ
うなゲッターミラー１０７を形成する場合、ゲッター１
０６とゲッターボックス１０３の内部壁面までの距離が
短いと、ゲッター１０６から蒸発したＢａ（バリウム）
は、その殆どが直進してゲッター１０６と対向するゲッ
ターボックス１０３の内部壁面に蒸着されることにな
る。

【００１０】このため、ゲッター１０６とゲッターボッ
クス１０３の内部壁面での距離を、例えば２ｍｍ程度し
か確保することができないＦＥＤにおいては、ゲッター
ミラー１０７の面積がゲッター１０６とほぼ同一にな
り、ゲッターボックス１０３内の残留ガスを十分吸着す
るには、その面積が小さいという問題点があった。

【００１１】そこで、例えば実開平５−１１５３、また
は特開平５−１８２６０８に見られるように、ゲッター
ミラーとなるガラス面にギザギザの溝を形成し、このギ
ザギザの溝が形成されたガラス面に、ゲッターミラーを
形成するようにしたものが知られている。しかし、この
ような従来の技術では、あらかじめギザギザの溝を成形
加工したガラス板を必要とするため、コストアップを招
くと共に、実際にはゲッターミラーの表面積を増大させ
るためのギザギザの溝を形成するエッチング加工が困難
であるという問題点があった。

【００１２】そこで、本発明はこのような問題点を鑑み
てなされたものであり、ゲッターボックス内に形成され
るゲッターミラーの表面積を容易に増大させ、残留ガス
の吸着能力を向上させることができる電界放出型デバイ
スを提供することを目的としている。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の電界放出型デバイスは、カソード電極が搭
載される第１のガラス基板と、この第１のガラス基板に
対して所定距離離して配置された第２のガラス基板と、
第１のガラス基板と、第２のガラス基板をシール部材に
よって封着して構成される気密容器内の残留ガスを吸着
するゲッター蒸着膜を形成するためのゲッター材料を備
えたゲッター蒸発部が設けられているゲッターボックス
と、このゲッターボックスの内部壁面に形成された粒状
層とから成り、ゲッター蒸発部と対向する粒状層の表面
に、ゲッター蒸着膜を形成するようにした。

【００１４】また、本発明の電界放出型デバイスは、カ
ソード電極が搭載される第１のガラス基板と、この第１
のガラス基板に対して所定距離離して配置された第２の
ガラス基板と、第１のガラス基板と、第２のガラス基板
をシール部材によって封着して構成される気密容器内の
残留ガスを吸着するゲッター蒸着膜を形成するためのゲ
ッター材料を備えたゲッター蒸発部が設けられているゲ
ッターボックスと、そのゲッターボックスの内部壁面に
形成された粒状層とから成り、ゲッター蒸発部をゲッタ
ー材料が、ゲッターボックスの長手方向、且つ、上方向
に蒸発するように、ゲッター材料が収納された凹部を傾
斜させた状態で、少なくとも前記ゲッターボックスの一
端部に配置され、粒状層の表面に、ゲッター蒸着膜を形
成するようにした。

【００１５】また、ゲッター蒸着膜を形成する時は、ゲ
ッターボックス内に、窒素ガスを混入させることによ
り、より広いゲッターミラーが形成されるようにした。
また、粒状層は多数の孔が形成されている多孔粒子によ
って形成してもよい。

【００１６】本発明によれば、ゲッターボックスの内部
壁面に、その表面が凸凹状とされる粒状層を形成し、こ
の粒状層の表面にゲッター蒸着膜を形成することで、ゲ
ッター蒸着膜の表面積を大きくすることができる。

【００１７】また、ゲッター蒸発部は、ゲッター材料
が、ゲッターボックスの長手方向、且つ、上方向に蒸発
するように、ゲッター材料が収納された凹部を傾斜させ
た状態で、少なくとも前記ゲッターボックスの一端部に
配置すると共に、ゲッターボックス内に窒素ガスを混入
させておくことで、ゲッター蒸発部から蒸発したゲッタ
ー材料が、粒状層の表面の隅々にまで回り込みゲッター
蒸着膜を形成するため、ゲッター蒸着膜の表面積をより
大きくすることができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の電界放出型デバイ
ス（ＦＥＤ）の実施の形態として電界放出型表示装置を
例にとって説明する。図１は、本実施の形態とされるゲ
ッターボックスを備えたＦＥＤの一構成例を示したもの
である。この図（ａ）は、本実施の形態とされるＦＥＤ
の背面図、同図（ｂ）は、同図（ａ）に示したＦＥＤの
破線で囲った部分をＡ−Ａ線で切断したときの断面を拡
大して示した図である。

【００１９】これら図１（ａ），（ｂ）に示す本実施の
形態とされるＦＥＤ１は、表示面とされるアノード側の
ガラス基板（第２のガラス基板）２と、背面とされるカ
ソード側のガラス基板（第１のガラス基板）３とが微少
間隔離隔されて対向させて配置されており、その間が図
示しないシール部材により封着されて、その内部が気密
状態となるように構成されている。

【００２０】アノード側のガラス基板２およびカソード
側のガラス基板３は、例えばガラス基板等からなり、ア
ノード側のガラス基板２には図示しない蛍光体の被着さ
れたアノードが形成されており、カソード側のガラス基
板３には図示しない平面状の電界放出カソード群が形成
されている。また、アノード側のガラス基板２とカソー
ド側のガラス基板３との間隔は、約２００μｍ〜５００
μｍとされている。

【００２１】また、アノード側のガラス基板２とカソー
ド側のガラス基板３とは長手方向に若干ずらして配置さ
れており、図示するようにカソード側のガラス基板３の
二辺は、アノード側のガラス基板２より外方に突出して
いる。また、残る二辺のうちの一辺は、アノード側のガ
ラス基板２が外方に突出している。

【００２２】なお、カソード側のガラス基板３の突出部
分には、図示していないが走査されたゲート電圧信号が
供給されるゲート引出電極や、カソードに供給される画
像信号等が供給されるカソード引出電極が形成されてい
る。また、アノード側のガラス基板２の突出部分には、
図示しないがアノード電圧等が供給されるアノード引出
電極が形成されている。

【００２３】そして、この突出しているアノード側のガ
ラス基板２の一部を覆うような配置で、その内部にリン
グ状ゲッター８が収納された例えば矩形状のゲッターボ
ックス４がシール部材１２により固着されている。

【００２４】ゲッターボックス４の上面には、さらに排
気管５がシール部材６により溶着されていると共に、排
気管５とゲッターボックス４内とを連通させる連通孔７
が形成されている。また、連通孔７が形成されているゲ
ッターボックス４の内部壁面には、ゲッターミラー１１
の面積を増大するための粒状層１０が形成されている。
粒状層１０は、例えばカーボン粉末やＳｉＮ粉末等とい
った粒状のセラミック系の粉末によって形成されてお
り、その表面が凸凹状（ポーラス状）とされている。

【００２５】リング状ゲッター８は、当該ＦＥＤ１の製
造時において、排気工程後にゲッターボックス４内に残
存する残留ガスを吸着するゲッターミラー（ゲッター蒸
着膜）を形成するためのゲッター材料が収納されてお
り、このリング状ゲッター８は、例えばリング状の金属
部材の内部に、ＢａＡｌ₄ 合金等のゲッター材料が収納
された蒸発型ゲッターとされている。

【００２６】そして、例えば外部から高周波によりリン
グ状ゲッター８の金属部材を誘導加熱することによっ
て、ゲッター材料であるＢａＡｌ₄ 合金の内、Ｂａ（バ
リウム）が蒸発し、リング状ゲッター８と対向するゲッ
ターボックス４の内部壁面に形成された粒状層１０の表
面に、Ｂａが蒸着されてゲッターミラー１１が形成され
る。

【００２７】なお、リング状ゲッター８は、ゲッター支
持部材９によってゲッターボックス４内のカソード側の
ガラス基板３と非接触状態で支持されている。このよう
にリング状ゲッター８をカソード側のガラス基板３と非
接触状態となるように配置した場合は、リング状ゲッタ
ー８を加熱した際に、リング状ゲッター８の熱がカソー
ド側のガラス基板３を介して放熱されるといったことが
ないため、リング状ゲッター８のみを効率的に加熱する
ことができる。

【００２８】このように、本実施の形態とされるＦＥＤ
１においては、ゲッター材料が蒸着されるゲッターボッ
クス４の内部壁面に、予めその表面が凸凹状とされる粒
状層１０を形成し、この粒状層１０の表面にゲッターミ
ラー１１を形成するようにしている。この場合は、凸凹
状とされる粒状層１０の表面にゲッターミラー１１が形
成されるため、例えばリング状ゲッター８からゲッター
ボックス４の内部壁面までの距離を長くすることなく、
ゲッターミラー１１の表面積を大きくすることができ、
従来に比べてゲッターボックス４内の残留ガスをより吸
着することができ、ＦＥＤ１内を十分高真空とすること
ができるようになる。

【００２９】ここで、上記図１に示したようなゲッター
ボックス４の作製手順について図２を参照しながら説明
する。上記図１に示したようなＦＥＤ１のゲッターボッ
クス４を作製する場合は、先ず連通孔７が形成されてい
るゲッターボックス４に排気管５を溶着するため、ゲッ
ターボックス４と排気管５との溶着面に、例えばシール
ガラス等のペースト状のシール部材６を塗布して（Ｓ
１）、焼成（例えば約５００℃）する（Ｓ２）。

【００３０】次に、例えばカソード側のガラス基板３の
上にゲッター支持部材９で支持されたリング状ゲッター
８を配置すると共に、位置決めしたアノード側のガラス
基板２及びカソード側のガラス基板３に、ゲッターボッ
クス４を取り付けるため、ゲッターボックス４とアノー
ド側のガラス基板２及びカソード側のガラス基板３との
溶着面に例えばシールガラス等のシール部材１２を塗布
する（Ｓ３）。また、同時にゲッターミラー１１が形成
されるゲッターボックス４の内部壁面に、ゲッターミラ
ー１１の面積増大用の粉末ペーストを塗布する（Ｓ
４）。

【００３１】ゲッターミラー１１の面積増大用の粉末ペ
ーストとしては、例えば上述したようなカーボン粉末や
ＳｉＮ粉末等のセラミック系の粉末に、ペースト用溶剤
を混合することによって形成される。ペースト用溶剤と
しては、例えば水ガラス溶剤（例えば、水に数％〜数十
％のＮａ₂ ＳｉＯ₄ や、Ｋ₂ ＳｉＯ₄ 等を混合した溶
剤）や、有機金属溶剤（例えば、ブチルカルビトールに
数％〜数十％の有機チタン等を混合した溶剤）、有機溶
剤（例えば、テレピネオールに数％〜数十％のアクリル
樹脂等を混合した溶剤）等がある。

【００３２】そして、このようにゲッターボックス４と
アノード側のガラス基板２及びカソード側のガラス基板
３との溶着面にシールガラス等のシール部材１２を塗布
すると共に、ゲッターボックス４の内部壁面に粉末ペー
ストを塗布した状態で、再び焼成（例えば約５００℃）
する（Ｓ５）。

【００３３】これにより、ゲッターボックス４がアノー
ド側のガラス基板２及びカソード側のガラス基板３に固
着され、その内部が気密状態になると共に、ゲッターボ
ックス４の内部壁面に塗布した粉末ペーストに含まれる
ペースト用溶剤が気化して、ゲッターボックス４にはカ
ーボン粉末やＳｉＮ粉末等のセラミック系の粉末からな
る粒状層１０が形成されることになる。

【００３４】その後、排気管５からＦＥＤ１内のガス出
しを行いながら真空に引いて、排気管５を封止する（Ｓ
６）。そして、例えば外部から高周波によりリング状ゲ
ッター８を加熱することにより（Ｓ７）、リング状ゲッ
ター８に収納されているＢａが蒸発し、この蒸発したＢ
ａが、リング状ゲッター８と対向するゲッターボックス
４の内部壁面に形成された粒状層１０の表面に蒸着し
て、上記図１に示すようなゲッターボックス４が作製さ
れることになる。

【００３５】次に、図３〜図４は、本実施の形態とされ
るゲッターボックスを備えたＦＥＤの他の構成例を示し
た図であり、図３（ａ）は他の構成とされるＦＥＤの背
面図、図３（ｂ）は同図（ａ）に示したＦＥＤ２０の破
線で囲ったゲッターボックスを、Ｂ−Ｂ線で切断したと
きの断面を拡大して示した図、図４は図３（ａ）に示し
たＦＥＤ２０の破線で囲ったゲッターボックスを、Ｃ−
Ｃ線で切断したときの断面を拡大して示した図である。
なお、図１に示したＦＥＤ１と同一部品には、同一番号
を付し、説明は省略する。

【００３６】これら図３〜図４に示すＦＥＤ２０におい
ては、ゲッターボックス４内に通電ゲッター２１が設け
られている。この通電ゲッター２１は、例えば略コの字
形（凹形）とされ、その両端から引き出されているリー
ド２２，２２は、ゲッターボックス４の長手方向の側面
から、それぞれゲッターボックス４の外部に引き出され
ている。なお、ＦＥＤ２０の表示面が５インチとされる
場合は、ゲッターボックス４の長手方向の長さは、例え
ば約６０ｍｍとされる。

【００３７】通電ゲッター２１は、図３（ａ）に示すよ
うにゲッターボックス４の長手方向の一端側に配置する
と共に、その向きは図４に示すように凹部２４が内側や
や上方を向くように傾斜させて配置されている。通電ゲ
ッター２１の凹部２４には、ゲッター材料として上記し
たようなＢａＡｌ₄ 合金に、窒素（Ｎ）をドープしたも
のが収納されている。

【００３８】このようなＦＥＤ２０は、製造工程時にお
いてゲッターボックス４内のガス出しを行いながら真空
に引いて、排気管５を封止した後、リード２２を通電し
て、通電ゲッター２１に設けられている図示しない抵抗
加熱体を加熱する。この場合は、先ず、通電ゲッター２
１の凹部２４に収納されているＢａＡｌ₄ 合金にドープ
した窒素（Ｎ）が気化して、ゲッターボックス４内に窒
素ガス（Ｎ₂ ）が充満し、その後、ゲッター材料である
Ｂａがゲッターボックス４の長手方向に、やや上方に向
かって蒸発することになる。

【００３９】この場合、通電ゲッター２１の前方、やや
上方に向かって蒸発するＢａは、ゲッターボックス４の
長手方向の長さが、上記したように約６０ｍｍと長く、
ゲッター材料が収納されている通電ゲッター２１の凹部
２４から粒状層１０までの距離が十分得られるため、図
４に示すように充満した窒素ガス（Ｎ₂ ）と衝突して弾
性散乱しながら粒状層１０の表面に蒸着されることにな
る。すなわち、この場合は通電ゲッタ２１より前方に位
置する粒状層１０の表面の隅々に、Ｂａが回り込んで蒸
着され、ゲッターミラー１１を形成することになる。

【００４０】従って、この場合は粒状層１０の広い範囲
に、しかも粒状層１０の隅々にゲッターミラー１１を形
成することができるため、ゲッターミラー１１の表面積
を非常に大きくすることができ、ゲッターボックス４内
の残留ガスを、より吸着することができ、ＦＥＤ２０内
を十分高真空とすることができるようになる。

【００４１】なお、ＦＥＤ２０に充満した窒素ガス（Ｎ
₂ ）は、最終的にはゲッターミラー１１によって吸着さ
れるため、ＦＥＤ２０内に窒素ガス（Ｎ₂ ）が残留する
といったことはない。

【００４２】また、上記図３〜図４に示したＦＥＤ２０
おいては、通電ゲッター２１をゲッターボックス４内の
長手方向の一端側だけに設けた場合について説明した
が、例えばゲッターボックス４内の長手方向の両端に、
通電ゲッター２１を設けるようにしてもよく、その場合
は粒状層１０の表面全体の隅々に、より均一にゲッター
ミラー１１を形成することができる。

【００４３】また、上記図３〜図４に示したＦＥＤ２０
においては、ゲッター材料であるＢａＡｌ₄ 合金に、窒
素（Ｎ）をドープしたものを用いるようにしているが、
通電ゲッター２１の凹部２４がゲッターボックス４の長
手方向、やや上方に向けられているため、特にゲッター
材料に窒素（Ｎ）をドープしなくても、凹部２４から蒸
発したＢａは、粒状層１０の広い範囲に蒸着され、ゲッ
ターミラー１１を形成することになる。つまり、通電ゲ
ッター２１の凹部２４をゲッターボックス４の長手やや
上方に向けるように傾斜させて配置するだけでも、その
効果を十分に期待することができる。

【００４４】なお、本実施の形態においては、粒状層１
０としてセラミック系の粉末を用いるようにしている
が、セラミック系の粉末はあくまでも一例であり、これ
に限定されるものでない。また、粒状層１０を形成する
粉末の粒子形状は、例えば球状等といった特定の形状に
限定されるものでなく、如何なる形状のものであっても
良い。特に、粒状層１０を多数の孔が形成された多孔質
の粒子を用いて形成すれば、粒子に形成された孔の内部
にもゲッター材料が付着することになるため、粒状層１
０の表面積をさらに大きくすることができ、より好適と
される。

【００４５】また、本実施の形態においては、粒状層１
０を連通孔７が形成されたゲッターボックス４の上方の
内部壁面だけに形成する場合について説明したが、例え
ばゲッターボックス４の側面にも形成することが可能で
ある。

【００４６】また、本実施の形態においては、電界放出
型電子機器（電子機器）として表示装置を例とって説明
したが、これに限定されるものでなく、電界放出を利用
した各種電子機器に適用可能である。

【００４７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の電界放出
型デバイスによれば、ゲッターボックスの内部壁面に粒
状層を形成し、ゲッター蒸発部と対向する粒状層の表面
に、ゲッター蒸着膜を形成するようにしているため、ゲ
ッター蒸着膜の表面積を大きくすることができる。ま
た、ゲッター蒸発部をゲッター材料がゲッターボックス
の長手方向に、やや上方向に蒸発するように傾斜させて
配置すると共に、ゲッターボックス内に窒素ガスを混入
させておくことで、粒状層の表面の隅々まで回り込むよ
うにゲッター蒸着膜を形成することができるため、ゲッ
ター蒸着膜の表面積をより大きく、しかも均一に形成す
ることができる。

【００４８】また、粒状層は、ゲッターボックスを第１
のガラス基板及び第２のガラス基板に取り付ける際に、
ゲッターボックスの内部壁面に粉末ペーストを塗布して
おくことで簡単に形成することができるため、ゲッター
蒸着膜の表面積を容易に増大することができるという利
点がある。

【００４９】このように本発明の電界放出型デバイスに
よれば、ゲッター蒸着膜の表面積を容易に増大させるこ
とができるため、ゲッター蒸着膜による残留ガスの吸着
能力をより大幅に向上させることができ、装置内を十分
高真空とすることができるようになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態とされるＦＥＤの構成例を
示した図である。

【図２】本実施の形態とされるＦＥＤのゲッターボック
スの作製手順の一例を説明するための図である。

【図３】本実施の形態とされるＦＥＤの他の構成例を示
した背面図、及びＢ−Ｂ線の断面を拡大して示した図で
ある。

【図４】図３に示したＦＥＤのＣ−Ｃ線の断面を拡大し
て示した図である。

【図５】従来のゲッターボックスが設けられているＦＥ
Ｄの構成を示した図である。

【符号の説明】

１ＦＥＤ、２アノード側のガラス基板、３カソー
ド側のガラス基板、４ゲッターボックス、５排気管、
６１２シール部材、７連通孔、８リング状ゲッ
ター、９ゲッター支持材、１０粒状層、１１ゲッ
ターミラー、通電ゲッター、２２リード、２３窒素
ガス、２４ゲッター材料

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者田中源太郎千葉県茂原市大芝629 双葉電子工業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】カソード電極が搭載される第１のガラス
基板と、該第１のガラス基板に対して所定距離離して配置された
第２のガラス基板と、前記第１のガラス基板と、前記第２のガラス基板をシー
ル部材によって封着して構成される気密容器内の残留ガ
スを吸着するゲッター蒸着膜を形成するためのゲッター
材料を備えたゲッター蒸発部が設けられているゲッター
ボックスと、該ゲッターボックスの内部壁面に形成された粒状層とか
ら成り、前記ゲッター蒸発部と対向する前記粒状層の表面に、前
記ゲッター蒸着膜を形成するようにしたことを特徴とす
る電界放出型デバイス。
【請求項２】カソード電極が搭載される第１のガラス
基板と、該第１のガラス基板に対して所定距離離して配置された
第２のガラス基板と、前記第１のガラス基板と、前記第２のガラス基板をシー
ル部材によって封着して構成される気密容器内の残留ガ
スを吸着するゲッター蒸着膜を形成するためのゲッター
材料を備えたゲッター蒸発部が設けられているゲッター
ボックスと、該ゲッターボックスの内部壁面に形成された粒状層とか
ら成り、前記ゲッター蒸発部を、前記ゲッター材料が前記ゲッタ
ーボックスの長手方向、且つ、上方向に蒸発するよう
に、前記ゲッター材料を収納した凹部を傾斜させた状態
で、少なくとも前記ゲッターボックスの一端部に配置
し、前記粒状層の表面に、前記ゲッター蒸着膜を形成するよ
うにしたことを特徴とする電界放出型デバイス。
【請求項３】前記ゲッター蒸着膜を形成する時は、前
記ゲッターボックス内に、窒素ガスを混入させるように
したことを特徴とする請求項２に記載の電界放出型デバ
イス。
【請求項４】前記粒状層は、多数の孔が形成されてい
る多孔粒子によって形成されていることを特徴とする請
求項１乃至請求項３に記載の電界放出型デバイス。