JPH11200032A5 - - Google Patents

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GB2346155B (en) * 1999-01-06 2003-06-25 Trikon Holdings Ltd Sputtering apparatus
JP4497660B2 (ja) * 2000-06-01 2010-07-07 キヤノン株式会社 光起電力素子の製造方法
JP5658170B2 (ja) * 2009-12-25 2015-01-21 キヤノンアネルバ株式会社 スパッタリング方法およびスパッタリング装置
US20140083841A1 (en) * 2011-05-13 2014-03-27 Sharp Kabushiki Kaisha Thin film-forming method
WO2017154774A1 (ja) 2016-03-08 2017-09-14 学校法人 芝浦工業大学 窒化アルミニウム膜、窒化アルミニウム膜の製造方法、および高耐圧部品

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