JPH11199597A - 修飾ヌクレオシド等を含有するオリゴデオキシリボヌクレオチド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明は優れた抗エイズウイルス作用を有する
新規な修飾オリゴデオキシヌクレオチドを提供する。 【解決手段】一般式 【化１】 ［式中、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃は、同一または異なって、
Ａ、Ｇ、Ｃ、Ｔ、ａ、ｇ、ｃ、ｔ、Ｍ、Ｘ等であり、ｍ
は０乃至７の整数を示し、Ｓ₁及びＳ₂は、水素、アルキ
ル、アルコキシ又はハロゲン原子を示し、ｚは０乃至９
の整数を示す。ここで、Ｂ₂はｍの繰り返しにおいてそ
れぞれ同一または異なっていてもよい。なお、ａ、ｇ、
ｃ、ｔは３'末端から結合させたＡ、Ｇ、Ｃ、Ｔを示
し、Ｍは2-N-メチル−Ｇを示し、Ｘは2'-メトキシ−Ｇ
を示す。］で表わされる化合物又はその薬理上許容され
る塩。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、優れた抗エイズウ
イルス作用を有する新規な修飾オリゴデオキシリボヌク
レオチドに関する。

【０００２】

【従来の技術】アンチセンスオリゴデオキシリボヌクレ
オチドは、特定の遺伝子またはmRNAに対して相補的な塩
基配列を持つ、およそ１５から３０量体の合成の核酸ま
たはその誘導体である。これらのアンチセンスオリゴデ
オキシリボヌクレオチドは、標的遺伝子またはmRNAに結
合することによって、遺伝子の転写または翻訳を選択的
に抑制するため、この遺伝子から生ずる疾患を治療でき
ることが期待できる。

【０００３】アンチセンスオリゴデオキシリボヌクレオ
チドが薬剤として機能するためには、該ヌクレオチド
が、ヌクレアーゼに対する安定性を有すること、細胞内
又は核内へ移行できること、標的遺伝子またはmRNAとの
塩基対形成能があること等が重要である（Uhlmann, E.
and Peyman, A. Chem. Rev. , 90, 543, (1990))。これ
らのことを満たすために、種々のアンチセンスオリゴデ
オキシリボヌクレオチドの化学修飾がなされている。

【０００４】例えば、該ヌクレオチドのリン酸ジエステ
ル結合中のリン酸基の１つの非架橋酸素原子を硫黄原
子、メチル基又は置換基を有するアミノ基で置換したリ
ン酸修飾体、該ヌクレオチドをアミド結合を有するペプ
チド核酸（peptide nucleic acids）等に変換した修飾
体等が報告されている（Uhlmann, E. and Peyman, A. C
hem. Rev ., 90, 543-584, (1990))。

【０００５】一方、蛋白質に結合するオリゴデオキシリ
ボヌクレオチドは、アプタマーと呼ばれ、現在までに、
トロンビン、HIVの表面蛋白であるgp120等に結合するも
のが見い出されている。また、近年、ランダムな塩基配
列を有するDNAとRT-PCR法を組み合わせたin vitro sele
ctionと呼ばれる手法を用いて、蛋白質結合性の核酸の
検索も行なわれている(Osborne, S.E. and Ellington,
A.D. Chem Rev ., 97,349-370, (1997))。

【０００６】ところで、アンチセンスオリゴデオキシリ
ボヌクレオチドがその作用を発揮するためには、生体内
での標的であるｍＲＮＡ等と安定な塩基対を形成しなく
てはならず、この塩基対形成のためには、該アンチセン
スオリゴデオキシリボヌクレオチドは、少なくとも１５
ヌクレオチド程度以上の長さを持つことが必要と言われ
ていた。

【０００７】しかし、一般に、長さが１５ヌクレオチド
程度以上のものは、合成コストの問題により、その実用
化が困難である。また、これらアンチセンスオリゴデオ
キシリボヌクレオチドによるウイルスの複製または細胞
の増殖阻害活性も十分満足するものとはいえず、さら
に、リン酸ジエステル結合をリン酸基の１つの非架橋酸
素原子を硫黄原子に置換したホスホロチオエート型オリ
ゴデオキシリボヌクレオチドは、宿主の正常細胞に対す
る毒性も比較的高い。

【０００８】これらの欠点を克服する目的で、発明者ら
は、5'末端及び3'末端側に種々の置換基を有する短鎖の
オリゴデオキシリボヌクレオチドを発明し、該オリゴヌ
クレオチドが抗HIV-1活性を示すことを開示している
（特開平７−８７９８２号）。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは，鎖長の
短いオリゴデオキシリボヌクレオチドについて、3'末端
側からの3'-ヌクレアーゼに対する分解を抑制すること
を考慮し、オリゴデオキシリボヌクレオチド内に3',3'-
リン酸ジエステル結合を導入した誘導体、並びに、各種
ヌクレアーゼに対する分解を抑制することを考慮し、塩
基を含まない疑似ヌクレオチドユニットを含有する誘導
体を合成した。なお、これらの誘導体は、新規かつ斬新
なアイディアに基づいて合成されたものである。また、
オリゴデオキシリボヌクレオチド内のヌクレオシドの塩
基部又は糖部を比較的単純な置換基を導入した誘導体も
合成した。その結果、これらの修飾オリゴデオキシリボ
ヌクレオチド誘導体は、高い抗HIV-1活性を有し、宿主
の正常細胞に対する毒性は低く、かつ、合成も比較的容
易で実用性があることを見出し、本発明を完成するに至
った。さらに、化学修飾されたオリゴデオキシリボヌク
レオチドを製造するにあたり、２−Ｎ−メチル−２'−
デオキシグアノシン誘導体が有用な製造中間体であるこ
とを見出し、本発明を完成した。

【００１０】本発明の目的は、高い抗HIV-1活性を有す
るオリゴデオキシリボヌクレオチドを提供すること、エ
イズ疾患の治療又は予防のための組成物を提供すること
及び抗エイズ剤を製造するために該オリゴデオキシヌク
レオチドを使用することである。また、本発明の他の目
的は、該オリゴデオキシリボヌクレオチドの薬理的な有
効量を温血動物に投与するエイズ疾患の治療方法又は予
防方法を提供することである。加えて、本発明の更に他
の目的は、修飾オリゴデオキシリボヌクレオチドを合成
するための有用な製造中間体である２−Ｎ−メチル−
２’−デオキシグアノシン誘導体を提供することであ
る。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明の新規な修飾オリ
ゴデオキシリボヌクレオチドは、一般式

【００１２】

【化４】

【００１３】を有し、また、本発明は、該オリゴデオキ
シリボヌクレオチドの薬理上許容しうる塩も包含する。

【００１４】一般式（１）において、Ｂ₁はＭ，Ｘ、
Ｒ、Ｋｎ、Ａ、Ｇ、ＣまたはＴであり、Ｂ₂及びＢ₃は、
同一または異なって、ａ、ｇ、ｃ、ｔ、Ｍ、Ｘ、Ｒ、Ｋ
ｎ、Ａ、Ｇ、ＣまたはＴであり、ｍは０乃至７の整数を
示し、ｚは０乃至９の整数を示し、Ｓ₁及びＳ₂は、同一
又は異なって、水素原子、炭素数１乃至４個のアルキル
基、炭素数１乃至４個のアルコキシ基又はハロゲン原子
を示す。ここで、Ｂ₂はｍの繰り返しにおいてそれぞれ
同一または異なっていてもよく、ａ、ｇ、ｃ、ｔ、Ｍ、
Ｘ、Ｒ、Ｋｎ、Ａ、Ｇ、Ｃ及びＴは、

【００１５】

【化５】

【００１６】を示す。

【００１７】なお、Ｋｎ自体及びＫｎを表わす式におい
て、ｎは２乃至６の整数である。但し、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ
₃からなる配列がＡ、Ｇ、Ｃ及びＴの組み合わせのみか
らなるもの、並びに、Ｂ₁及びＢ₂からなる配列がＡ、
Ｇ、Ｃ及びＴの組み合わせからなり、かつ、Ｂ₃がＫ₂で
あるものを除く。

【００１８】また、本発明は、上記化合物（１）又はそ
の薬理上許容しうる塩を含有する、医薬、特にエイズ疾
患の治療又は予防のための組成物である。さらに、本発
明は、医薬、特に抗エイズ剤を製造するための、上記化
合物（１）又はその薬理上許容しうる塩の使用である。
またさらに、本発明は、上記化合物（１）又はその薬理
上許容しうる塩の薬理的な有効量を温血動物に投与する
ことを特徴とする、エイズ疾患の治療方法又は予防方法
である。

【００１９】上記式（１）中、Ｓ₁及びＳ₂の炭素数１乃
至４個のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、ｓ−ブチル基、tert−ブチル基があげられ、好
適には、メチル基である。上記式（１）中、Ｓ₁及びＳ₂
の炭素数１乃至４個のアルコキシ基は、前述の「炭素数
１乃至４個のアルキル基」が酸素原子に結合した基をい
い、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、
イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−
ブトキシ基、tert−ブトキシ基があげられ、好適には、
メトキシ基である。上記式（１）中、Ｓ₁及びＳ₂のハロ
ゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は
沃素原子があげられ、好適には、弗素原子、塩素原子で
ある。

【００２０】（Ａ）Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からなる配列が、
ａ、ｇ、ｃ、ｔ、Ｒ又はＫｎを含む場合には、Ｂ₁は、
好適には、Ｔ，Ｒ又はＫｎ、さらに好適には、Ｔ，Ｒ，
Ｋ₃またはＫ₆であり、最も好適には、Ｔ又はＫ₃であ
る。Ｂ₂は、好適には、Ａ、Ｇ、ｇ、Ｍ，Ｘ又はＫｎで
あり、さらに好適には、Ｇ，ｇ又はＭであり、Ｂ₃は、
好適には、Ｇ、ｇ又はＭであり、さらに好適には、ｇで
あり、ｍは、好適には、２乃至４であり、さらに好適に
は、２乃至３であり、最も好適には、３であり、ｚは、
好適には、０乃至４であり、さらに好適には、０又は１
であり、最も好適には、０であり、Ｓ₁及びＳ₂は、好適
には、水素原子であり、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からなる配列
としては、ＴＧＧｇｇ、ＴＧＧＧｇ，Ｋ₃ＧＧＧ，Ｋ₃Ｍ
ＭＭ又はＫ₃ＧＧＧＧが好適であり、さらに好適には、
ＴＧＧＧｇである。

【００２１】（Ｂ）Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からなる配列が、
ａ、ｇ、ｃ、ｔ、Ｒ及びＫｎのいずれをも含まない場合
には、Ｂ₁は、好適には、Ｇ、Ｔ、Ｍ又はＸであり、最
も好適には、Ｔであり、Ｂ₂は、好適には、Ａ，Ｇ，Ｍ
又はＸであり、さらに好適には、Ａ，Ｇ又はＭであり、
Ｂ₃は、好適には、Ｇ，Ｍ又はＸであり、さらに好適に
は、Ｇ又はＭであり、ｍは、好適には、０乃至４であ
り、さらに好適には、２乃至４であり、最も好適には、
４であり、ｚは、好適には、０又は１であり、さらに好
適には、０であり、Ｓ₁及びＳ₂は、好適には、水素原子
であり、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からなる配列中のＡの個数
は、０乃至１個が好適であり、さらに好適には、１個で
あり、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からなる配列としては、ＴＭＭ
Ｍ，ＴＭＧＧＡＧ，ＴＧＭＧＡＧ，ＴＧＧＭＡＧ，ＴＧ
ＧＧＡＭ、ＴＭＭＭＡＧ又はＴＸＸＸＸが好適であり、
さらに好適には、ＴＭＧＧＡＧ，ＴＧＭＧＡＧ，ＴＧＧ
ＭＡＧ，ＴＧＧＧＡＭ又はＴＭＭＭＡＧである。

【００２２】本発明において、一般式（１）を有する化
合物として好適なものは以下の化合物である。 （Ａ−１）Ｂ₁がＴ，Ｒ又はＫｎ（ｎは２乃至６）であ
り、Ｂ₂がＡ，Ｇ，ｇ、Ｍ、Ｘ又はＫｎ（ｎは２乃至
６）であり、Ｂ₃がＧ，ｇ又はＭであり、ｍが２乃至４
であり、ｚが０乃至４である化合物、（Ａ−２）Ｂ₁が
Ｔ，Ｒ又はＫｎ（ｎは３又は６）であり、Ｂ₂がＧ、ｇ
又はＭであり、Ｂ₃がｇであり、ｍが２乃至３であり、
ｚが０又は１であり、Ｓ₁及びＳ₂が水素原子である化合
物、（Ａ−３）Ｂ₁がＴ又はＫｎ（ｎは３又は６）であ
り、Ｂ₂がＧ、ｇ又はＭであり、Ｂ₃がｇであり、ｍが２
乃至３であり、ｚが０であり、Ｓ₁及びＳ₂が水素原子で
ある化合物、（Ａ−４）Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からなる配列
が、ＴＧＧｇｇ、ＴＧＧＧｇ，Ｋ₃ＧＧＧ，Ｋ₃ＭＭＭ又
はＫ₃ＧＧＧＧである化合物、（Ａ−５）Ｂ₁、Ｂ₂及び
Ｂ₃からなる配列が、ＴＧＧＧｇであり、ｍが２乃至３
であり、ｚが０であり、Ｓ₁及びＳ₂が水素原子である化
合物、（Ｂ−１）Ｂ₁がＧ，Ｔ，Ｍ又はＸであり、Ｂ₂が
Ａ，Ｇ，Ｍ又はＸであり、Ｂ₃がＧ，Ｍ又はＸであり、
ｍが０乃至４であり、ｚが０又は１である化合物、（Ｂ
−２）Ｂ₁がＴであり、Ｂ₂がＡ，Ｇ又はＭであり、Ｂ₃
がＧ又はＭであり、ｍが２乃至４であり、ｚが０であ
り、Ｓ₁及びＳ₂が水素原子であり、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃か
らなる配列中のＡの個数が０乃至１個である化合物、
（Ｂ−３）Ｂ₁がＴであり、Ｂ₂がＡ，Ｇ又はＭであり、
Ｂ₃がＧ又はＭであり、ｍが４であり、ｚが０であり、
Ｓ₁及びＳ₂が水素原子であり、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からな
る配列中のＡの個数が１個である化合物、（Ｂ−４）
Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からなる配列が、ＴＭＭＭ，ＴＭＧＧ
ＡＧ，ＴＧＭＧＡＧ，ＴＧＧＭＡＧ，ＴＧＧＧＡＭ、Ｔ
ＭＭＭＡＧ又はＴＸＸＸＸであり、ｍが４であり、ｚが
０であり、Ｓ₁及びＳ₂が水素原子である化合物、（Ｂ−
５） Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からなる配列が、ＴＭＧＧＡ
Ｇ，ＴＧＭＧＡＧ，ＴＧＧＭＡＧ，ＴＧＧＧＡＭ又はＴ
ＭＭＭＡＧであり、ｍが４であり、ｚが０であり、Ｓ₁
及びＳ₂が水素原子である化合物。

【００２３】本発明の前記一般式（１）を有する化合物
は、「薬理上許容される塩」の形で使用することができ
る。そのような塩としては、例えばナトリウム、カリウ
ムのようなアルカリ金属；カルシウムのようなアルカリ
土類金属；アンモニア；リジン、アルギニンのような塩
基性アミノ酸；トリエチルアミンのようなアルキルアミ
ン類；などの無機塩又は有機塩を挙げることができ、好
適にはナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属塩で
ある。また、一般式（１）を有する化合物及びその薬理
上許容される塩は、その製造工程で溶媒和物を形成した
り、保存中に水和物を形成することがあるが、それらの
溶媒和物及び水和物も本発明に含まれる。

【００２４】一方、本発明の、修飾オリゴデオキシリボ
ヌクレオチドを製造するための、有用な製造中間体であ
る、２−Ｎ−メチル−２’−デオキシグアノシン誘導体
は、一般式

【００２５】

【化６】

【００２６】を有する。

【００２７】一般式（２）において、Ｒ₁は、水素原
子、４−モノメトキシトリチル基又は４，４’−ジメト
キシトリチル基を示し、Ｒ₂は、水素原子、式−P(OCH₂C
H₂CN)N(CH(CH₃)₂)₂又は式-P(OCH₃)N(CH(CH₃)₂)₂を示
す。上記式（２）において、Ｒ₁は、好適には、４−モ
ノメトキシトリチル基又は４，４’−ジメトキシトリチ
ル基であり、さらに好適には、４，４’−ジメトキシト
リチル基であり、Ｒ₂は、好適には、式-P(OCH₂CH₂CN)N
(CH(CH₃)₂)₂又は式-(OCH₃)N(CH(CH₃)₂)₂であり、さらに
好適には、式-P(OCH₂CH₂CN)N(CH(CH₃)₂)₂である。

【００２８】本発明の一般式（１）を有する化合物とし
ては、例えば、表１に記載するものを挙げることができ
るが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではな
い。

【００２９】

【化７】

【００３０】

【表１】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 化合物 m z B₁ B₂ B₃ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 1 3 0 T g g g g 2 3 0 T G g g g 3 3 0 T G G g g 4 3 0 T G G G g 5 3 0 T G G G a 6 3 0 T G G G c 7 3 0 T G G G t 8 4 0 T g g g g t 9 4 0 T G g g g t 10 4 0 T G G g g t 11 4 0 T G G G g t 12 4 0 T G G G G g 13 4 0 T G G G g a 14 4 0 T G G G g c 15 4 0 T G G G g g 16 4 0 T G G G G a 17 4 0 T G G G G c 18 4 0 T G G G G t 19 5 0 T g g g g g g 20 5 0 T G g g g g g 21 5 0 T G G g g g g 22 5 0 T G G G g g g 23 5 0 T G G G G g g 24 5 0 T G G G G g a 25 5 0 T G G G G g c 26 5 0 T G G G G g t 27 5 0 T G G G G a a 28 5 0 T G G G G c c 29 5 0 T G G G G t t 30 5 0 T G G G G G a 31 5 0 T G G G G G c 32 5 0 T G G G G G t 33 6 0 T G G G G t t t 34 6 0 T G G G G G t t 35 6 0 T G G G G G G t 36 7 0 T G G G G G t t t 37 7 0 T G G G G G G t t 38 7 0 T G G G G G G G t 39 3 0 C g g g g 40 3 0 C G g g g 41 3 0 C G G g g 42 3 0 C G G G g 43 3 0 C G G G a 44 3 0 C G G G c 45 3 0 C G G G t 46 4 0 C g g g g g 47 4 0 C G g g g g 48 4 0 C G G g g g 49 4 0 C G G G g g 50 4 0 C G G G G g 51 3 1 T g g g g 52 3 1 T G g g g 53 3 1 T G G g g 54 3 1 T G G G g 55 3 1 T G G G a 56 3 1 T G G G c 57 3 1 T G G G t 58 4 1 T g g g g t 59 4 1 T G g g g t 60 4 1 T G G g g t 61 4 1 T G G G g t 62 4 1 T G G G G g 63 4 1 T G G G g a 64 4 1 T G G G g c 65 4 1 T G G G g g 66 4 1 T G G G G a 67 4 1 T G G G G c 68 4 1 T G G G G t 69 5 1 T g g g g g g 70 5 1 T G g g g g g 71 5 1 T G G g g g g 72 5 1 T G G G g g g 73 5 1 T G G G G g g 74 5 1 T G G G G g a 75 5 1 T G G G G g c 76 5 1 T G G G G g t 77 5 1 T G G G G a a 78 5 1 T G G G G c c 79 5 1 T G G G G t t 80 5 1 T G G G G G a 81 5 1 T G G G G G c 82 5 1 T G G G G G t 83 6 1 T G G G G t t t 84 6 1 T G G G G G t t 85 6 1 T G G G G G G t 86 7 1 T G G G G G t t t 87 7 1 T G G G G G G t t 88 7 1 T G G G G G G G t 89 3 1 C g g g g 90 3 1 C G g g g 91 3 1 C G G g g 92 3 1 C G G G g 93 3 1 C G G G a 94 3 1 C G G G c 95 3 1 C G G G t 96 4 1 C g g g g g 97 4 1 C G g g g g 98 4 1 C G G g g g 99 4 1 C G G G g g 100 4 1 C G G G G g 101 3 2 T g g g g 102 3 2 T G g g g 103 3 2 T G G g g 104 3 2 T G G G g 105 3 2 T G G G a 106 3 2 T G G G c 107 3 2 T G G G t 108 4 2 T g g g g t 109 4 2 T G g g g t 110 4 2 T G G g g t 111 4 2 T G G G g g 112 4 2 T G G G G g 113 3 3 T g g g g 114 3 3 T G g g g 115 3 3 T G G g g 116 3 3 T G G G g 117 3 3 T G G G a 118 3 3 T G G G c 119 3 3 T G G G t 120 4 3 T g g g g t 121 4 3 T G g g g t 122 4 3 T G G g g t 123 4 3 T G G G g g 124 4 3 T G G G G g 125 3 4 T G G G g 126 4 4 T G G G G g 127 3 5 T G G G g 128 4 5 T G G G G g 129 3 6 T G G G g 130 4 6 T G G G G g 131 3 7 T G G G g 132 4 7 T G G G G g 133 3 8 T G G G g 134 4 8 T G G G G g 135 3 9 T G G G g 136 4 9 T G G G g 137 2 0 T M G G 138 2 0 T G M G 139 2 0 T G G M 140 2 0 T M G M 141 2 0 T M M G 142 2 0 T G M M 143 2 0 T M M M 144 2 0 R G G G 145 2 0 R M G G 146 2 0 R G M G 147 2 0 R G G M 148 2 0 R M G M 149 2 0 R M M G 150 2 0 R G M M 151 2 0 R M M M 152 2 0 K2 G G G 153 2 0 K2 M G G 154 2 0 K2 G M G 155 2 0 K2 G G M 156 2 0 K2 M G M 157 2 0 K2 M M G 158 2 0 K2 G M M 159 2 0 K2 M M M 160 2 0 K3 G G G 161 2 0 K3 M G G 162 2 0 K3 G M G 163 2 0 K3 G G M 164 2 0 K3 M G M 165 2 0 K3 M M G 166 2 0 K3 G M M 167 2 0 K3 M M M 168 2 0 K4 G G G 169 2 0 K4 M G G 170 2 0 K4 G M G 171 2 0 K4 G G M 172 2 0 K4 M G M 173 2 0 K4 M M G 174 2 0 K4 G M M 175 2 0 K4 M M M 176 2 0 K5 G G G 177 2 0 K5 M G G 178 2 0 K5 G M G 179 2 0 K5 G G M 180 2 0 K5 M G M 181 2 0 K5 M M G 182 2 0 K5 G M M 183 2 0 K5 M M M 184 2 0 K6 G G G 185 2 0 K6 M G G 186 2 0 K6 G M G 187 2 0 K6 G G M 188 2 0 K6 M G M 189 2 0 K6 M M G 190 2 0 K6 G M M 191 2 0 K6 M M M 192 3 0 T M G G G 193 3 0 T G M G G 194 3 0 T G G M G 195 3 0 T G G G M 196 3 0 T M M G G 197 3 0 T M G M G 198 3 0 T M G G M 199 3 0 T G M M G 200 3 0 T G M G M 201 3 0 T G G M M 202 3 0 T M M M G 203 3 0 T M M G M 204 3 0 T M G M M 205 3 0 T G M M M 206 3 0 T M M M M 207 3 0 R G G G G 208 3 0 R M G G G 209 3 0 R G M G G 210 3 0 R G G M G 211 3 0 R G G G M 212 3 0 R M M G G 213 3 0 R M G M G 214 3 0 R M G G M 215 3 0 R G M M G 216 3 0 R G M G M 217 3 0 R G G M M 218 3 0 R M M M G 219 3 0 R M M G M 220 3 0 R M G M M 221 3 0 R G M M M 222 3 0 R M M M M 223 3 0 K2 G G G G 224 3 0 K2 M G G G 225 3 0 K2 G M G G 226 3 0 K2 G G M G 227 3 0 K2 G G G M 228 3 0 K2 M M G G 229 3 0 K2 M G M G 230 3 0 K2 M G G M 231 3 0 K2 G M M G 232 3 0 K2 G M G M 233 3 0 K2 G G M M 234 3 0 K2 M M M G 235 3 0 K2 M M G M 236 3 0 K2 M G M M 237 3 0 K2 G M M M 238 3 0 K2 M M M M 239 3 0 K3 G G G G 240 3 0 K3 M G G G 241 3 0 K3 G M G G 242 3 0 K3 G G M G 243 3 0 K3 G G G M 244 3 0 K3 M M G G 245 3 0 K3 M G M G 246 3 0 K3 M G G M 247 3 0 K3 G M M G 248 3 0 K3 G M G M 249 3 0 K3 G G M M 250 3 0 K3 M M M G 251 3 0 K3 M M G M 252 3 0 K3 M G M M 253 3 0 K3 G M M M 254 3 0 K3 M M M M 255 3 0 K4 G G G G 256 3 0 K4 M G G G 257 3 0 K4 G M G G 258 3 0 K4 G G M G 259 3 0 K4 G G G M 260 3 0 K4 M M G G 261 3 0 K4 M G M G 262 3 0 K4 M G G M 263 3 0 K4 G M M G 264 3 0 K4 G M G M 265 3 0 K4 G G M M 266 3 0 K4 M M M G 267 3 0 K4 M M G M 268 3 0 K4 M G M M 269 3 0 K4 G M M M 270 3 0 K4 M M M M 271 3 0 K5 G G G G 272 3 0 K5 M G G G 273 3 0 K5 G M G G 274 3 0 K5 G G M G 275 3 0 K5 G G G M 276 3 0 K5 M M G G 277 3 0 K5 M G M G 278 3 0 K5 M G G M 279 3 0 K5 G M M G 280 3 0 K5 G M G M 281 3 0 K5 G G M M 282 3 0 K5 M M M G 283 3 0 K5 M M G M 284 3 0 K5 M G M M 285 3 0 K5 G M M M 286 3 0 K5 M M M M 287 3 0 K6 G G G G 288 3 0 K6 M G G G 289 3 0 K6 G M G G 290 3 0 K6 G G M G 291 3 0 K6 G G G M 292 3 0 K6 M M G G 293 3 0 K6 M G M G 294 3 0 K6 M G G M 295 3 0 K6 G M M G 296 3 0 K6 G M G M 297 3 0 K6 G G M M 298 3 0 K6 M M M G 299 3 0 K6 M M G M 300 3 0 K6 M G M M 301 3 0 K6 G M M M 302 3 0 K6 M M M M 303 4 0 T M G G A G 304 4 0 T G M G A G 305 4 0 T G G M A G 306 4 0 T G G G A M 307 4 0 T M M G A G 308 4 0 T M G M A G 309 4 0 T M G G A M 310 4 0 T G M M A G 311 4 0 T G M G A M 312 4 0 T G G M A M 313 4 0 T M M M A G 314 4 0 T M M G A M 315 4 0 T M G M A M 316 4 0 T G M M A M 317 4 0 T M M M A M 318 4 0 R G G G A G 319 4 0 R M G G A G 320 4 0 R G M G A G 321 4 0 R G G M A G 322 4 0 R G G G A M 323 4 0 R M M G A G 324 4 0 R M G M A G 325 4 0 R M G G A M 326 4 0 R G M M A G 327 4 0 R G M G A M 328 4 0 R G G M A M 329 4 0 R M M M A G 330 4 0 R M M G A M 331 4 0 R M G M A M 332 4 0 R G M M A M 333 4 0 R M M M A M 334 4 0 K2 G G G A G 335 4 0 K2 M G G A G 336 4 0 K2 G M G A G 337 4 0 K2 G G M A G 338 4 0 K2 G G G A M 339 4 0 K2 M M G A G 340 4 0 K2 M G M A G 341 4 0 K2 M G G A M 342 4 0 K2 G M M A G 343 4 0 K2 G M G A M 344 4 0 K2 G G M A M 345 4 0 K2 M M M A G 346 4 0 K2 M M G A M 347 4 0 K2 M G M A M 348 4 0 K2 G M M A M 349 4 0 K2 M M M A M 350 4 0 K3 G G G A G 351 4 0 K3 M G G A G 352 4 0 K3 G M G A G 353 4 0 K3 G G M A G 354 4 0 K3 G G G A M 355 4 0 K3 M M G A G 356 4 0 K3 M G M A G 357 4 0 K3 M G G A M 358 4 0 K3 G M M A G 359 4 0 K3 G M G A M 360 4 0 K3 G G M A M 361 4 0 K3 M M M A G 362 4 0 K3 M M G A M 363 4 0 K3 M G M A M 364 4 0 K3 G M M A M 365 4 0 K3 M M M A M 366 4 0 K4 G G G A G 367 4 0 K4 M G G A G 368 4 0 K4 G M G A G 369 4 0 K4 G G M A G 370 4 0 K4 G G G A M 371 4 0 K4 M M G A G 372 4 0 K4 M G M A G 373 4 0 K4 M G G A M 374 4 0 K4 G M M A G 375 4 0 K4 G M G A M 376 4 0 K4 G G M A M 377 4 0 K4 M M M A G 378 4 0 K4 M M G A M 379 4 0 K4 M G M A M 380 4 0 K4 G M M A M 381 4 0 K4 M M M A M 382 4 0 K5 G G G A G 383 4 0 K5 M G G A G 384 4 0 K5 G M G A G 385 4 0 K5 G G M A G 386 4 0 K5 G G G A M 387 4 0 K5 M M G A G 388 4 0 K5 M G M A G 389 4 0 K5 M G G A M 390 4 0 K5 G M M A G 391 4 0 K5 G M G A M 392 4 0 K5 G G M A M 393 4 0 K5 M M M A G 394 4 0 K5 M M G A M 395 4 0 K5 M G M A M 396 4 0 K5 G M M A M 397 4 0 K5 M M M A M 398 4 0 K6 G G G A G 399 4 0 K6 M G G A G 400 4 0 K6 G M G A G 401 4 0 K6 G G M A G 402 4 0 K6 G G G A M 403 4 0 K6 M M G A G 404 4 0 K6 M G M A G 405 4 0 K6 M G G A M 406 4 0 K6 G M M A G 407 4 0 K6 G M G A M 408 4 0 K6 G G M A M 409 4 0 K6 M M M A G 410 4 0 K6 M M G A M 411 4 0 K6 M G M A M 412 4 0 K6 G M M A M 413 4 0 K6 M M M A M 414 4 0 T G G G K2 G 415 4 0 T M G G K2 G 416 4 0 T G M G K2 G 417 4 0 T G G M K2 G 418 4 0 T G G G K2 M 419 4 0 T M M G K2 G 420 4 0 T M G M K2 G 421 4 0 T M G G K2 M 422 4 0 T G M M K2 G 423 4 0 T G M G K2 M 424 4 0 T G G M K2 M 425 4 0 T M M M K2 G 426 4 0 T M M G K2 M 427 4 0 T M G M K2 M 428 4 0 T G M M K2 M 429 4 0 T M M M K2 M 430 4 0 K3 G G G K2 G 431 4 0 K3 M G G K2 G 432 4 0 K3 G M G K2 G 433 4 0 K3 G G M K2 G 434 4 0 K3 G G G K2 M 435 4 0 K3 M M G K2 G 436 4 0 K3 M G M K2 G 437 4 0 K3 M G G K2 M 438 4 0 K3 G M M K2 G 439 4 0 K3 G M G K2 M 440 4 0 K3 G G M K2 M 441 4 0 K3 M M M K2 G 442 4 0 K3 M M G K2 M 443 4 0 K3 M G M K2 M 444 4 0 K3 G M M K2 M 445 4 0 K3 M M M K2 M 446 4 0 T G G M K3 G 447 4 0 T M M M K3 G 448 4 0 K3 G G G K3 G 449 4 0 K3 M M M K3 G 450 4 0 T G G M K4 G 451 4 0 T M M M K4 G 452 4 0 K3 G G G K4 G 453 4 0 K3 M M M K4 G 454 4 0 T G G M K5 G 455 4 0 T M M M K5 G 456 4 0 K3 G G G K5 G 457 4 0 K3 M M M K5 G 458 4 0 T G G M K6 G 459 4 0 T M M M K6 G 460 4 0 K3 G G G K6 G 461 4 0 K3 M M M K6 G 462 4 0 T G G M R G 463 4 0 T M M M R G 464 4 0 K3 G G G R G 465 4 0 K3 M M M R G 466 4 0 T G G M G G 467 4 0 T M M M G G 468 4 0 K3 G G G G G 469 4 0 K3 M M M G G 470 4 0 T G G M C G 471 4 0 T M M M C G 472 4 0 K3 G G G C G 473 4 0 K3 M M M C G 474 4 0 T G G M T G 475 4 0 T M M M T G 476 4 0 K3 G G G T G 477 4 0 K3 M M M T G 478 4 0 T G G M M G 479 4 0 T M M M M G 480 4 0 K3 G G G M G 481 4 0 K3 M M M M G 482 2 1 T M M M 483 4 1 T G G M A G 484 4 1 T M M M A G 485 2 1 K3 M M M 486 3 1 K3 G G G G 487 4 1 K3 G G G K2 G 488 4 1 K3 M M M K2 G 489 2 2 T M M M 490 4 2 T G G M A G 491 4 2 T M M M A G 492 2 2 K3 M M M 493 3 2 K3 G G G G 494 4 2 K3 G G G K2 G 495 4 2 K3 M M M K2 G 496 2 3 T M M M 497 4 3 T G G M A G 498 4 3 T M M M A G 499 2 3 K3 M M M 500 3 3 K3 G G G G 501 4 3 K3 G G G K2 G 502 4 3 K3 M M M K2 G 503 2 4 T M M M 504 4 4 T G G M A G 505 4 4 T M M M A G 506 2 4 K3 M M M 507 3 4 K3 G G G G 508 4 4 K3 G G G K2 G 509 4 4 K3 M M M K2 G 510 2 5 T M M M 511 4 5 T G G M A G 512 4 5 T M M M A G 513 2 5 K3 M M M 514 3 5 K3 G G G G 515 4 5 K3 G G G K2 G 516 4 5 K3 M M M K2 G 517 4 6 K3 M M M K2 G 518 4 7 K3 M M M K2 G 519 4 8 K3 M M M K2 G 520 4 9 K3 M M M K2 G 521 3 0 T X G G G 522 3 0 T G X G G 523 3 0 T G G X G 524 3 0 T G G G X 525 3 0 T X X G G 526 3 0 T X G X G 527 3 0 T X G G X 528 3 0 T G X X G 529 3 0 T G X G X 530 3 0 T G G X X 531 3 0 T X X X G 532 3 0 T X X G X 533 3 0 T X G X X 534 3 0 T G X X X 535 3 0 T X X X X 536 3 0 C G G G G 537 3 0 C X G G G 538 3 0 C G X G G 539 3 0 C G G X G 540 3 0 C G G G X 541 3 0 C X X G G 542 3 0 C X G X G 543 3 0 C X G G X 544 3 0 C G X X G 545 3 0 C G X G X 546 3 0 C G G X X 547 3 0 C X X X G 548 3 0 C X X G X 549 3 0 C X G X X 550 3 0 C G X X X 551 3 0 C X X X X 552 3 1 T X X X X 553 3 2 T X X X X 554 3 3 T X X X X 555 3 4 T X X X X 556 3 5 T X X X X 557 3 1 C X X X X 558 3 2 C X X X X 559 3 3 C X X X X 560 3 4 C X X X X 561 3 5 C X X X X −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００３１】上記例示化合物のうち、好適な化合物とし
ては、３、４、１４３，１６０，１６７、２３９、３０
３、３０４、３０５、３０６、３１３、５３５の化合物
をあげることができ、さらに、好適な化合物としては、
４、３０３、３０４、３０５、３０６、３１３の化合物
をあげることができる。本発明の一般式（２）を有する
化合物としては、表２に記載する化合物を挙げることが
できる。なお、表中、4,4'-DMTは4,4'-ジメトキシトリ
チル基、4-MMTは4-モノメトキシトリチル基を示す。

【００３２】

【化８】

【００３３】

【表２】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 化合物 R₁ R₂ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 2-1 H H 2-2 H P(OCH₂CH₂CN)N(iPr)₂ 2-3 H P(OCH₃)N(iPr)₂ 2-4 4,4'-DMT H 2-5 4,4'-DMT P(OCH₂CH₂CN)N(iPr)₂ 2-6 4,4'-DMT P(OCH₃)N(iPr)₂ 2-7 4-MMT H 2-8 4-MMT P(OCH₂CH₂CN)N(iPr)₂ 2-9 4-MMT P(OCH₃)N(iPr)₂ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【００３４】上記例示化合物のうち、好適な化合物とし
ては、２−４から２−９の化合物をあげることができ
る。さらに、好適な化合物としては、２−シアノエチル
＝2-N-メチル-6-O-ジフェニルカルバミル-2'-デオキシ-
5'-O-（4,4'-ジメトキシトリチル）グアノシン-3'-O-イ
ル−N,N-ジイソプロピルホスホロアミダイト（例示番号
２−５）、メチル＝2-N-メチル-6-O-ジフェニルカルバ
ミル-2'-デオキシ-5'-O-（4,4'-ジメトキシトリチル）
グアノシン-3'-O-イル−N,N-ジイソプロピルホスホロア
ミダイト、（例示番号２−６） 2−シアノエチル＝2-N-メチル-6-O-ジフェニルカルバミ
ル-2'-デオキシ-5'-O-（4-モノメトキシトリチル）グア
ノシン-3'-O-イル−N,N-ジイソプロピルホスホロアミダ
イト（例示番号２−８）及びメチル＝2-N-メチル-6-O-
ジフェニルカルバミル-2'-デオキシ-5'-O-（4-モノメト
キシトリチル）グアノシン-3'-O-イル−N,N-ジイソプロ
ピルホスホロアミダイトの化合物（例示番号２−９）を
あげることができる。最も好適な化合物としては、２−
５の化合物をあげることができる。

【００３５】

【発明の実施の形態】本発明の一般式（１）の化合物
は、まず、下記Ｂ−１、Ｂ−２、Ｂ−３、Ｂ−４又はＢ
−５法により製造される化合物（５）、（６）、
（７）、（８）若しくは（９）又はＤＮＡ合成機上で、
通常使用される市販のＤＮＡ合成用ヌクレオチド試薬
（以下、ヌクレオチドユニットという）を原料として用
いて下記Ｃ法により製造される化合物（１０ａ）、（１
０ｂ）又は（１０ｃ）の脱ジメトキシトリチル（ＤＭ
Ｔ）化した化合物と、下記Ａ−１、Ａ−２法又はＡ−３
法により製造される化合物（３）又は（４）とを、下記
Ｄ−１、Ｄ−２、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−５又はＤ−６法
により、結合することにより製造することができる。ま
た、本発明の一般式（２）の化合物は、Ｂ−５法によ
り、製造することができる。

【００３６】

【化９】

【００３７】

【化１０】

【００３８】

【化１１】

【００３９】

【化１２】

【００４０】

【化１３】

【００４１】

【化１４】

【００４２】

【化１５】

【００４３】

【化１６】

【００４４】

【化１７】

【００４５】

【化１８】

【００４６】

【化１９】

【００４７】

【化２０】

【００４８】

【化２１】

【００４９】

【化２２】

【００５０】

【化２３】

【００５１】上記Ａ−１、Ａ−２、Ａ−３、Ｂ−１、Ｂ
−２、Ｂ−３、Ｂ−４、Ｂ−５、Ｃ、Ｄ−１、Ｄ−２、
Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−５及びＤ−６法中、 Ｂ₁、Ｂ₂、
Ｂ₃、Ｋｎ、ｍ、ｎ、ｚ、Ｓ₁、Ｓ₂、Ｒ１及びＲ２は、
前述のものと同意義を示し；Ａ₁は、一般にヌクレオシ
ドの一級の水酸基を特異的に保護するために使用される
トリチル基（Ｔｒ）、４−モノメトキシトリチル（ＭＭ
Ｔ）基、４，４’−ジメトキシトリチル（ＤＭＴ）基等
を示し、Ａ₂は、三級ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭ
Ｓ）基やトリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基のよう
な３置換シリル基；トリクロロエトキシカルボニル（Ｔ
ｒｏｃ）基のようなトリハロゲノエトキシカルボニル
基；ベンジルオキシカルボニル（Ｚ）基のようなアラル
キルオキシカルボニル基等を示し、Ａ₃は、一般に水酸
基を保護するために用いられるテトライソプロピルジシ
ロキサン（ＴＩＰＤＳ）基のようなアルキルジシロキサ
ン基等を示し、Ｄ’は、水素原子、チミン、又はアミノ
基がアシル基（例えば、アセチル基）で保護されたアデ
ニン、グアニン若しくはシトシンを示し；Ｈａｌは、ハ
ロゲン原子（好適には、塩素又は臭素原子）を示し、Ｖ
は、リン酸部分の保護基（特に、メトキシ基等の低級ア
ルキルオキシ基、シアノエチルオキシ基等のシアノアル
キルオキシ基、第４１又は４７工程においては、特にオ
ルトクロロフェノキシ基）を示し、Ｕは、アミダイト部
分のアミノ基（特に、ジメチルアミノ基、ジイソプロピ
ルアミノ基等のジアルキルアミノ基；モルホリノ基等の
１又は２個の酸素原子及び／又は窒素原子を環内に有す
る複素環基）を示し、Ｐｈは、フェニル基を示し、ＤＭ
Ｔは、４，４’−ジメトキシトリチル基を示し、Ｂ₂’
及びＢ₃’は、それぞれ、前述のＢ₂及びＢ₃のアミノ基
及びリン酸基部分が保護基で保護されたものを示し、Ｗ
₁、Ｗ₂及びＷ₃は、それぞれ、Ｃ法により得られる化合
物（１０−７）、（１０−９）及び（１０−１０）にお
いて末端の水酸基の水素原子を含まない部分を示す。

【００５２】Ａ−１及びＡ−２法は、化合物（３−１）
の５'位の水酸基のみを、置換基を有していてもよい3,4
-ジベンジルオキシベンジル基で修飾し、化合物（３）
を製造する方法であり、また、Ａ−３法は、化合物（４
−１）の一方の水酸基のみを置換基を有していてもよい
3,4-ジベンジルオキシベンジル基で修飾して化合物
（４）を製造する方法である。

【００５３】Ｂ−１、Ｂ−２、Ｂ−３、Ｂ−４及びＢ−
５法は、Ｃ法で用いる化合物（５）、（６）、（７）、
（８）又は（９）を製造する方法である。

【００５４】Ｃ法は、ジオール化合物（１０−１）の一
方の水酸基をＤＭＴ化して得られる化合物（１０−２）
の水酸基にアミダイト化試薬（５−４）を反応し、化合
物（１０−３）を得る方法であり、また、前述の化合物
（１０−２）を、Ｂ−３の方法と同様に、ジカルボン酸
を介して、ＣＰＧと結合し、ＣＰＧ担体（１０−６）を
得、さらに、ＤＭＴ基を除去して得られるＣＰＧ担体
（１０−７）を原料として、ＤＮＡ合成機上、前述のヌ
クレオチドユニットを用いて、通常の方法で、順次ヌク
レオチドを伸長し、所望のオリゴヌクレオチドより１つ
少ないオリゴヌクレオチド前まで結合させた化合物（１
０ａ）を製造する方法であり、またさらに、ＤＮＡ合成
機上、ＣＰＧ担体（１０−７）に、化合物（１０−３）
を反応し、次いで、脱メチル化し、所望により、これら
の２工程を繰り返して、得られる化合物（１０−９）等
を原料として、ヌクレオチドユニットを用いて、通常の
方法で、順次ヌクレオチドを伸長し、所望のオリゴヌク
レオチドより１つ少ないオリゴヌクレオチド前まで結合
した化合物（１０ｂ）又は（１０ｃ）を製造する方法で
ある。

【００５５】Ｄ−１及びＤ−４法は、化合物（３）又は
（４）に、亜リン酸化剤を反応して、調製した３’−亜
リン酸誘導体（１１）又は（１４）と、Ｃ法で合成した
化合物（１０ａ）、（１０ｂ）又は（１０ｃ）のＤＭＴ
基を除去した対応化合物とを、それぞれ、ＤＮＡ合成機
上で縮合し、次いで、酸化し、さらに、ＣＰＧとの結合
を切断し、最後に、保護基を除去して、本発明の化合物
（１）を製造する方法である。Ｄ−２及びＤ−５法は、
化合物（３）又は（４）に、リン酸化剤を反応して調製
した３’−リン酸誘導体（１２）又は（１５）と、Ｃ法
で合成した化合物（１０ａ）、（１０ｂ）又は（１０
ｃ）のＤＭＴ基を除去した対応化合物とを、それぞれ、
ＤＮＡ合成機上で縮合し、ＣＰＧとの結合を切断し、最
後に、保護基を除去して、本発明の化合物（１）を製造
する方法である。Ｄ−３及びＤ−６法は、化合物（３）
又は（４）の３’位にホスホン酸基を導入した化合物
（１３）又は（１６）と、Ｃ法で合成した化合物（１０
ａ）、（１０ｂ）又は（１０ｃ）のＤＭＴ基を除去した
対応化合物とを、それぞれ、縮合し、次いで、酸化し
て、リン酸ジエステル結合を形成し、さらに、ＣＰＧと
の結合を切断し、最後に、保護基を除去して、本発明の
化合物（１）を得る方法である。

【００５６】以下に、Ａ−１法乃至Ｄ−６法における各
工程につき詳しく説明する。なお、同様にして行うこと
ができる工程については、最先の工程を代表として説明
する。

【００５７】（第１、８、１１、１８、２０、２６、２
８工程）本工程は、不活性溶剤中、化合物（３−１）等
＜但し、塩基部分がＡ、Ｇ、Ｃの場合は、存在するアミ
ノ基のアシル化保護工程を前段階に含む。該保護工程
は、公知の方法（ J. Am. Chem.Soc.,104,1316,(1982))
により容易に実施することができる。アミノ基の保護基
としては、一般に、低級脂肪族アシル又は芳香族アシル
が用いられる。使用される低級脂肪族アシルとしては、
例えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリ
ル、イソバレリル基などがあげられ、使用される芳香族
アシルとしては、例えば、ベンゾイル、４−アセトキシ
ベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、４−メチルベン
ゾイル、１−ナフトイルなどがあげられ、好適には、塩
基部分がＡ又はＣの場合はベンゾイル基、Ｇの場合はイ
ソブチリル基である。＞に、水酸基の保護化試薬を反応
し、選択的に５’位の水酸基のみを保護した化合物（３
−２）等を製造する工程である。使用される溶剤として
は、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような
芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、
四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチ
ル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエ
チルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、ジイソプ
ロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ルのようなエ−テル類；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼ
ンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチ
ロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、ヘ
キサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメ
チルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類；トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチル
モルホリン等の脂肪族三級アミン類；ピリジン、ピコリ
ンのような芳香族アミンなどがあげられ、さらに好適に
は、ハロゲン化炭化水素類（特にメチレンクロリド）、
アミド類（特にＤＭＦ）である。使用される保護化試薬
としては、５’位のみを選択的に保護でき、酸性、中性
の条件下、除去できるものであれば、特に制限はない
が、好適には、トリチルクロリド、モノメトキシトリチ
ルクロリド、ジメトキシトリチルクロリドのようなトリ
アリールメチルハライド類である。保護化試薬としてト
リアリールメチルハライド類を用いる場合には、通常、
塩基を用いる。その場合において、使用される塩基とし
ては、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、ピロリジノ
ピリジン等の複素環アミン類、トリメチルアミン、トリ
エチルアミン等の脂肪族三級アミン類があげられ、好適
には、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、ピロリジノ
ピリジンである。溶剤として、液状の塩基を用いる場合
には、該塩基自体が脱酸剤として働くので、改めて塩基
を加える必要はない。反応温度は、使用される原料、試
薬、溶剤などにより通常０乃至１５０℃であり、好適に
は２０乃至１００℃である。また、反応時間は使用され
る原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１乃
至１００時間であり、好適には、２乃至２４時間であ
る。反応終了後、反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶
剤、たとえば、ベンゼン、エ−テル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって、目的
物（３−２）等は得られ、通常、そのまま次の工程に用
いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。

【００５８】（第２、１２工程）本工程は、不活性溶剤
中、化合物（３−２）等に水酸基の保護化試薬を反応し
て、化合物（３−３）等を製造する工程である。使用さ
れる溶剤としては、好適には、ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、
クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素
類；蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチ
ル、炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテルのようなエ−テル類；アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、
シクロヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニ
トロベンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリ
ル、イソブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムア
ミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジ
メチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド
類があげられ、さらに好適には、エーテル類（特に、テ
トラヒドロフラン）、ハロゲン化炭化水素類（特に、塩
化メチレン）、芳香族炭化水素類（特に、トルエン）、
アミド類（特に、ジメチルホルムアミド）があげられ
る。使用される保護化試薬としては、通常、５’位の保
護基と区別して脱保護できるものであれば、特に制限は
ないが、好適には、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド
あるいはトリイソプロピルシリルクロリドのようなシリ
ルハライド類、トリクロロエトキシカルボニルクロリド
のようなハロアルコキシカルボニルハライド類、ベンジ
ルオキシカルボニルクロリドのようなアラルキルオキシ
カルボニルハライド類があげられる。保護化試薬とし
て、シリルハライド類、ハロアルコキシカルボニルハラ
イド類やアラルキルオキシカルボニルハライド類を用い
る場合には、通常、塩基を用いる。その場合において、
使用される塩基としては、好適には、有機塩基類（特に
トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、
ＤＢＵ及びイミダゾールなど）である。反応温度は、使
用される試薬、原料、溶剤などにより通常−２０乃至１
５０℃であり、好適には、−１０乃至５０℃である。ま
た、反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度などに
より異なるが、通常１乃至１００時間であり、好適に
は、１乃至２４時間である。反応終了後、たとえば、反
応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって、目的物（３−３）等は得ら
れ、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各
種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製すること
もできる。

【００５９】（第３、１０、１３、３２、３５工程）本
工程は、不活性溶剤中、化合物（３−３）等に脱保護化
試薬を反応させて、５’位の水酸基の保護基を選択的に
除去して、化合物（３−４）等を製造する工程である。
使用される溶剤としては、反応を阻害しなければ、特に
限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレ
ンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼ
ン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；
蟻酸エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
炭酸ジエチルのようなエステル類；ジエチルエ−テル、
ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルエーテルのようなエ−テル類；メタノ−ル、エタノ−
ル、n-プロパノ−ル、イソプロパノ−ル、n-ブタノ−
ル、イソブタノ−ル、t-ブタノ−ル、イソアミルアルコ
−ル、ジエチレングリコール、グリセリン、オクタノー
ル、シクロヘキサノール、メチルセロソルブ、のような
アルコ−ル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよ
うなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのような
ニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリル
のようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、ス
ルホランのようなスルホキシド類があげられ、さらに好
適には、アルコ−ル類（特にメタノール、エタノール）
や塩化メチレン及び脱保護化試薬として酢酸を用いる場
合は酢酸と水の混液があげられる。使用される脱保護化
試薬としては、通常用いられるものであれば、特に制限
はないが、保護基がトリアリールメチル基の場合には、
例えば酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸、
及び臭化亜鉛のようなルイス酸があげられ、好適には酢
酸、ジクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸である。反応温度
は、使用される試薬、原料、溶剤などにより異なるが、
通常−１０乃至１００℃であり、好適には０乃至５０℃
である。反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度な
どにより異なるが、通常１分間乃至５０時間であり、好
適には、１分間乃至２４時間である。反応終了後、たと
えば、反応液をピリジン等の塩基を用いて中和し、水に
注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エ−テ
ル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去す
ることによって、目的物（３−４）は得られ、通常、そ
のまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトあ
るいは再結晶法により、単離精製することもできる。な
お、第３２及び３５工程においては、目的物（１０−
７）及び（１０−９）は濾取することができ、メチレン
クロリドのような有機溶剤で洗浄後、そのまま、次の工
程に用いる。

【００６０】（第４、６、７、９工程）本工程は、不活
性溶剤中、塩基の存在下、化合物（３−４）等に、化合
物（３−５）を反応させ、化合物（３−６）等を製造す
る工程である。使用される溶剤としては、好適には、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素
類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素、ジ
クロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンのよ
うなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのようなエス
テル類；ジエチルエ−テル、ジイソプロピルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、
ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエ−テ
ル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケト
ン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化
合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのような
ニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホラン
のようなスルホキシド類があげられ、さらに好適には、
エ−テル類（特に、テトラヒドロフラン）、ケトン類
（特に、アセトン）、ハロゲン化炭化水素類（特に、メ
チレンクロリド）、アミド類（特に、ジメチルホルムア
ミド）及び芳香族アミン類（特に、ピリジン）である。
使用される塩基としては、好適には、有機塩基類（特に
トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、
ＤＢＵなど）、アルカリ金属水素化物（特に、水素化ナ
トリウム）及びアルカリ金属炭酸塩（特に、炭酸ナトリ
ウム、炭酸リチウム）である。反応温度は、特に限定は
ないが、通常０℃から100 ℃であり、好適に、２０乃至
６０℃で実施する。反応時間は、通常５分から３０時間
であるが、反応を５０℃で実施したときには、１０時間
で反応は終了する。例えば、反応終了後、反応混合物を
適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により
除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶
媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、
無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去すること
によって、目的物(３−６）は得られる。得られた目的
化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又は
クロマトグラフィ−等によって更に精製できる。

【００６１】（第５、２５工程）本工程は、不活性溶剤
中、化合物（３−６）等に脱保護剤を反応させ、化合物
（３）等を製造する工程である。本工程は、化合物（３
−６）等の保護基の種類により、その方法が異なる。
１）３’位の保護基として、シリル原子を有する基を使
用した場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウム
のような弗化物イオンを生成する化合物で処理すること
により除去される。使用される溶剤としては、反応を阻
害しないものであれば特に限定はないが、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエ−テル類が好適である。
反応温度は、特に限定はないが、通常−３０℃から１０
０℃であり、好適に、０℃乃至３０℃で実施する。反応
時間は、通常５分から３０時間であるが、反応を２０℃
で実施したときには、１０時間で反応は終了する。例え
ば、反応終了後、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物
が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エ
チルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的
化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等
で乾燥後、溶剤を留去することによって、目的物（３）
等が得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常
法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等に
よって更に精製できる。２）３’位の保護基としてハロ
アルコキシカルボニル基を使用した場合には、通常、亜
鉛末を用いる。使用される溶剤としては、反応を阻害し
ないものであれば特に限定はないが、酢酸、アルコール
又はこれらと水との混合溶剤が好適である。反応温度
は、特に限定はないが、通常０℃から100 ℃であり、好
適には、室温で実施する。反応時間は、通常５分から３
０時間であるが、反応を室温で実施したときには、１０
時間で反応は終了する。例えば、反応終了後、反応混合
物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過に
より除去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離
し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去する
ことによって、目的物（３）は得られる。得られた目的
化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又は
クロマトグラフィ−等によって更に精製できる。３）
３’位の脱保護としてアラルキルオキシカルボニル基類
を使用した場合には、接触還元又は酸化によって行なう
ことができる。接触還元を行なう場合に使用される還元
触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるもので
あれば、特に限定はないが、好適には、パラジウム炭
素、ラネ−ニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム−酸
化アルミニウム、トリフェニルホスフィン−塩化ロジウ
ム、パラジウム−硫酸バリウムが用いられる。圧力は、
特に限定はないが、通常１乃至１０気圧で行なわれる。
反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種
類等により異なるが、通常、０乃至１００℃で、５分乃
至２４時間実施される。酸化による除去において使用さ
れる溶剤としては、本反応に関与しないものであれば特
に限定はないが、好適には、含水有機溶剤である。該有
機溶剤としては、好適には、アセトンのようなケトン
類、メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素のよ
うなハロゲン化炭化水素類、アセトニトリルのようなニ
トリル類、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエ−テル類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類及びジメチルスルホキシドのような
スルホキシド類をあげることができる。使用される酸化
剤としては、酸化に使用される化合物であれば、特に限
定はないが、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリ
ウム、アンモニウムセリウムナイトレイト(CAN) 、2,3-
ジクロロ-5,6- ジシアノ-p- ベンゾキノン(DDQ) が用い
られる。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び
触媒の種類等により異なるが、通常、０乃至１５０℃
で、１０分乃至２４時間実施される。又、液体アンモニ
ア中若しくはメタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ−
ル中において、−７８乃至−２０℃で、金属リチウム、
金属ナトリウムのようなアルカリ金属類を作用させるこ
とによっても除去できる。更に、不活性溶剤中、塩化ア
ルミニウム−沃化ナトリウム、又はトリメチルシリルイ
オダイドのようなアルキルシリルハライド類を用いても
除去することができる。この場合に、使用される溶剤と
しては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
いが、好適には、アセトニトリルのようなニトリル類、
メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭
化水素類又はこれらの混合溶剤が使用される。反応温度
及び反応時間は、出発物質、溶媒等により異なるが、通
常は０乃至５０℃で、５分乃至３日間実施される。尚、
反応基質が硫黄原子を有する場合は、好適には、塩化ア
ルミニウム−沃化ナトリウムが用いられる。反応終了
後、例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存
在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸エチル
のような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合
物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾
燥後、溶剤を留去することによって、目的物（３）等は
得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例
えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって
更に精製できる。

【００６２】（第１４、１７、１９、２１、２７、２
９、３９、４５工程）本工程は、不活性溶剤中、脱酸剤
の存在下、化合物（５−３）等に、亜リン酸化剤（５−
４）を反応させて、３’亜リン酸誘導体（５）等を製造
する工程である。亜リン酸化剤（５−４）としては、ク
ロロモルホリノメトキシホスフィン、クロロモルホリノ
シアノエトキシホスフィン、クロロジメチルアミノメト
キシホスフィン、クロロジメチルアミノシアノエトキシ
ホスフィン、クロロジイソプロピルアミノメトキシホス
フィン、クロロジイソプロピルアミノシアノエトキシホ
スフィンのようなホスフィン類があげられ、好適には、
クロロモルホリノメトキシホスフィン、クロロモルホリ
ノシアノエトキシホスフィン、クロロジイソプロピルア
ミノメトキシホスフィン、クロロジイソプロピルアミノ
シアノエトキシホスフィンである。使用される溶剤とし
ては、反応に影響を与えないものであれば、特に限定は
ないが、好適には、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジオキサンのようなエーテル類である。使用され
る脱酸剤としては、ピリジン、ジメチルアミノピリジン
のような複素環アミン類、トリメチルアミン、トリエチ
ルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような脂肪族
アミン類があげられるが、好適には、脂肪族アミン類
（特にジイソプロピルエチルアミン）である。反応温度
は、特に限定はないが、通常−５０乃至５０℃であり、
好適には、室温である。反応時間は、使用する原料、試
薬、温度等により異なるが、通常、５分から３０時間で
あり、好適には、室温で反応した場合、３０分である。
反応終了後、目的化合物は、例えば、反応混合物を適宜
中和し、又、不溶物が存在する場合には、濾過により除
去した後、水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒
を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無
水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することに
よって得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常
法、例えば、再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等
によって更に精製できる。

【００６３】（第１５工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（３−１）に、水酸基の保護化試薬を反応して、
５'位及び３'位の水酸基を保護した化合物（６−１）を
製造する工程である。使用される溶剤としては、好適に
は、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類；メチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチルのよう
なエステル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのような
エーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのよう
なケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニ
トロ化合物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルの
ようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホ
スホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキ
シド、スルホランのようなスルホキシド類；トリメチル
アミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の
脂肪族三級アミン類；ピリジン、ピコリンのような芳香
族アミンなどがあげられ、さらに好適には、ハロゲン化
炭化水素類（特にメチレンクロリド）、アミド類（特に
ＤＭＦ）である。使用される保護化試薬としては、５'
位及び３'位の水酸基を保護した後、第１６工程で５'位
水酸基のみを選択的に除去できるものであれば、特に制
限はないが、好適には、トリチルクロリド、４−モノメ
トキシトリチルクロリド、４、４’−ジメトキシトリチ
ルクロリドのようなトリアリールメチルハライド類であ
る。保護化試薬として、トリアリールメチルハライド類
を用いる場合には、通常、塩基を用いる。使用される塩
基としては、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、ピロ
リジノピリジン等の複素環アミン類、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン等の脂肪族三級アミン類があげら
れ、好適には、有機塩基類（特にピリジン、ジメチルア
ミノピリジン、ピロリジノピリジン）である。溶剤とし
て有機アミン類を用いる場合には、有機アミン類自体が
脱酸剤として働くので、改めて他の脱酸剤を加える必要
はない。反応温度は使用される原料、試薬、溶剤などに
より通常０乃至１５０℃であり、好適には２０乃至１０
０℃である。反応時間は使用される原料、溶剤、反応温
度などにより異なるが、第１工程より長時間を必要と
し、通常１乃至１００時間であり、好適には、２乃至２
４時間である。反応終了後、たとえば、反応液を水に注
ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテ
ル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去す
ることによって得られるものを、通常、そのまま次の工
程に用いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶
法により、単離精製することもできる。

【００６４】（第１６工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（６−１）に脱保護化試薬を反応して、５’位の
水酸基の保護基（Ａ₁）を選択的に除去して、化合物
（６−２）を製造する工程である。使用される溶剤とし
ては、好適には、メチレンクロリド、クロロホルム、四
塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジエチル
のようなエステル類；メタノール、エタノール、n-プロ
パノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタ
ノール、t-ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチ
レングリコール、グリセリン、オクタノール、シクロヘ
キサノール、メチルセロソルブ、のようなアルコール
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、イソホロン、シクロヘキサノンのようなケトン
類；ニトロエタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合
物類；アセトニトリル、イソブチロニトリルのようなニ
トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドの
ようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランの
ようなスルホキシド類があげられ、さらに好適には、ア
ルコール類（特にイソプロパノール）、塩化メチレン、
及びアルコール類（特にイソプロパノール）と塩化メチ
レン混液があげられる。使用される脱保護化試薬として
は、臭化亜鉛のようなルイス酸があげられ、好適には臭
化亜鉛である。反応温度は使用される試薬、原料、溶剤
などにより異なるが、通常−１０乃至１００℃であり、
好適には０乃至５０℃である。反応時間は使用される原
料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常１分間乃
至５０時間であり、好適には、１分間乃至２４時間であ
る。反応終了後、たとえば、水に注ぎ、水と混和しない
溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで
抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって得られ
るものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望によ
り、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製す
ることもできる。

【００６５】（第２２工程）本工程は、不活性溶剤中、
２'−デオキシグアノシン（９−１）に水酸基の保護化
試薬を反応して、選択的に３'及び５'位の水酸基のみを
保護した化合物（９−２）を製造する工程である。保護
基としては、シリルハライド類があげられ、３'、５'位
の水酸基を１つの保護基で保護できる保護基として、ト
リイソプロピルシリルクロリドやジクロロテトライソプ
ロピルジロキサンなどがあげられ、３'、５'位の水酸基
をそれぞれ保護する保護基として、t−ブチルジメチル
シシリルクロリドなどがあげられる。使用される溶剤と
しては、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのよ
うな芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸エ
チル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジ
エチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエー
テルのようなエーテル類；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロヘキ
サノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベンゼ
ンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソブチ
ロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホ
キシド、スルホランのようなスルホキシド類があげら
れ、さらに好適には、エーテル類（特にテトラヒドロフ
ラン）、ハロゲン化炭化水素類（特に塩化メチレン）、
芳香族炭化水素類（特にトルエン）、アミド類（特にDM
F）があげられる。使用される塩基としては、好適に
は、有機塩基類（特にトリエチルアミン、ピリジン、Ｎ
−メチルモルホリン、ＤＢＵ及びイミダゾールなど）で
ある。反応温度は使用される試薬、原料、溶剤などによ
り通常−２０乃至１５０℃であり、好適には−１０乃至
５０℃である。反応時間は使用される原料、溶剤、反応
温度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であ
り、好適には、１乃至２４時間である。反応終了後、た
とえば、反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たと
えばベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで抽出し、抽
出液より溶剤を留去することによって得られるものを、
通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各種ク
ロマトあるいは再結晶法により、単離精製することもで
きる。

【００６６】（第２３工程）本工程は、不活性溶剤中、
化合物（９−２）のアミノ基をモノメチル化し、化合物
（９−３）を製造する工程である。すなわち、化合物
（９−２）を溶剤中、酸、ホルムアルデヒド及びアルキ
ル置換フェニルチオールを加え、反応して、２−N−ア
ルキル置換フェニルチオメチル体を得た後、還元を行
い、２−N−メチル体である化合物（９−３）を製造す
る工程である。アルキル置換フェニルチオメチル化に使
用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をあ
る程度溶解するものであれば特に限定はないが、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メ
チレンクロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化
水素類；エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロ
トリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドの
ようなスルホキシド類；メタノール、エタノール、n-プ
ロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブ
タノール、イソアミルアルコールのようなアルコール
類；硫酸水のような希釈酸；水；アセトン；メチルエチ
ルケトンのようなケトン類；ピリジンのような複素環ア
ミン類又はアセトニトリルのようなニトリル類をあげる
ことができ、好適には、メタノール、エタノール、n-プ
ロパノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブ
タノール、イソアミルアルコールのようなアルコール類
である。アルキル置換フェニルチオメチル化に使用され
る酸としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶
解するものであれば特に限定はないが、硫酸水のような
希釈酸；酢酸のようなアルキルカルボン酸類があげら
れ、好適には、酢酸である。アルキル置換フェニルチオ
メチル化に使用されるアルキル置換フェニルチオールと
しては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解する
ものであれば特に限定はないが、チオフェノールやトル
エンチオールなどがあげられ、好適には、トルエンチオ
ールである。アルキル置換フェニルチオメチル化の反応
温度は使用される試薬、原料、溶剤などにより通常−２
０乃至１５０℃であり、好適には−１０乃至５０℃であ
る。アルキル置換フェニルチオメチル化の反応時間は使
用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通
常１乃至１００時間であり、好適には、１乃至２４時間
である。アルキル置換フェニルチオメチル化の反応終了
後、たとえば、反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶
剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで抽
出し、抽出液より溶剤を留去することによって得られる
ものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望によ
り、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製す
ることもできる。引き続く還元の反応時に使用される溶
剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解
するものであれば特に限定はないが、ベンゼン、トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロ
リド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類；エ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシ
エタンのようなエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミド
のようなアミド類；ジメチルスルホキシドのようなスル
ホキシド類；メタノール、エタノール、n-プロパノー
ル、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノー
ル、イソアミルアルコールのようなアルコール類；硫酸
水のような希釈酸；水；ピリジンのような複素環アミン
類又はアセトニトリルのようなニトリル類をあげること
ができ、好適には、メタノール、エタノール、n-プロパ
ノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノ
ール、イソアミルアルコールのようなアルコール類、ジ
メチルスルホキシドのようなスルホキシド類である。還
元反応剤としては、反応を阻害ないものであれば、特に
限定はないが、水素化ほう素ナトリウム、ラネーニッケ
ルなどがあげられ、好適には、水素化ほう素ナトリウム
である。反応温度は使用される試薬、原料、溶剤などに
より通常−２０乃至１５０℃であり、好適には−１０乃
至５０℃である。反応時間は使用される原料、溶剤、反
応温度などにより異なるが、通常１乃至１００時間であ
り、好適には、１乃至２４時間である。反応終了後、た
とえば、反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たと
えばベンゼン、エーテル、酢酸エチルなどで抽出し、抽
出液より溶剤を留去することによって得られるものを、
通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各種ク
ロマトあるいは再結晶法により、単離精製することもで
きる。

【００６７】（第２４工程）本工程は、化合物（９−
３）に、ジフェニルカルバミルクロリドを反応して、化
合物（９−４）を製造する工程である。使用される溶剤
としては、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンの
ような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸
エチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸
ジエチルのようなエステル類；ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチル
エーテルのようなエーテル類；アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロ
ヘキサノンのようなケトン類；ニトロエタン、ニトロベ
ンゼンのようなニトロ化合物類；アセトニトリル、イソ
ブチロニトリルのようなニトリル類；ホルムアミド、ジ
メチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホ
キシド類；トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−
メチルモルホリン等の脂肪族三級アミン類；ピリジン、
ピコリンのような芳香族アミンなどがあげられ、さらに
好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にメチレンクロリ
ド）、アミド類（特にＤＭＦ）である。保護化反応に
は、通常、塩基を用いる。使用される塩基としては、ピ
リジン、ジメチルアミノピリジン、ピロリジノピリジン
等の複素環アミン類、トリメチルアミン、トリエチルア
ミン等の脂肪族三級アミン類があげられ、好適には、有
機塩基類（特にピリジン、ジメチルアミノピリジン、ピ
ロリジノピリジン）である。溶剤として有機アミン類を
用いる場合には、有機アミン類自体が脱酸剤として働く
ので、改めて他の脱酸剤を加える必要はない。反応温度
は使用される原料、試薬、溶剤などにより通常０乃至１
５０℃であり、好適には２０乃至１００℃である。反応
時間は使用される原料、溶剤、反応温度などにより異な
るが、通常１乃至１００時間であり、好適には、２乃至
２４時間である。反応終了後、たとえば、反応液を水に
注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテ
ル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去す
ることによって得られるものを、通常、そのまま次の工
程に用いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶
法により、単離精製することもできる。

【００６８】（第３０工程）本工程は、化合物（１０−
２）に、塩基性触媒の存在下、ジカルボン酸の無水物を
反応させ、ジカルボン酸ハーフエステル（１０−４）を
製造する工程である。なお、工程のスキームでは、代表
としてコハク酸で記載するが、他のジカルボン酸につい
ても同様に行うことができる。使用されるジカルボン酸
としては特に限定はないが、好適には、炭素数２乃至１
０のものであり、最も好適には、コハク酸又はグルター
ル酸である。使用される塩基性触媒としては、ジメチル
アミノピリジンやピロリジノピリジンのようなアミノピ
リジン類、トリメチルアミンやトリエチルアミンのよう
な三級アミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属の炭酸塩などが好ましいが、ジメチル
アミノピリジン、ピロリジノピリジンが最も好ましい。
使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類；メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類；エーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類；ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルス
ルホキシドのようなスルホキシド類；メタノール、エタ
ノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノ
ール、イソブタノール、イソアミルアルコールのような
アルコール類；硫酸水のような希釈酸；水酸化ナトリウ
ム水のような希釈塩基；水；アセトン；メチルエチルケ
トンのようなケトン類；ピリジンのような複素環アミン
類又はアセトニトリルのようなニトリル類をあげること
ができ、好適には、ニトリル類（特にアセトニトリ
ル）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン）、ハロゲ
ン化炭化水素類（特にメチレンクロリド）である。反応
温度は、−５０乃至１００℃で行なわれ、反応時間は、
主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類に
よって異なるが、通常３０分乃至１５時間である。反応
終了後、例えば、反応混合物を適宜中和し、また、不溶
物が存在する場合には濾過により除去したのち、水と酢
酸エチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗
後、目的化合物を含む有機層を分取し、無水硫酸マグネ
シウム等で乾燥後、溶剤を留去することにより、目的物
（１０−４）を得ることができる。

【００６９】（第３１工程）本工程は、縮合剤の存在
下、第３０工程で得られるジカルボン酸のハーフエステ
ル（１０−４）に、ペンタクロルフェノールのようなフ
ェノール類を反応させ、活性エステルとし、次いで、塩
基の存在下、この活性エステルと、アミノ−ＣＰＧ（１
０−５）とを反応させ、目的物（１０−６）を得る工程
である。使用されるフェノール類としては、カルボン酸
と反応して活性エステルを形成するものであれば特に限
定はないが、ペンタクロロフェノールや４−ニトロフェ
ノールが好適である。使用される塩基としては、通常の
反応において塩基として使用されるものであれば、特に
限定はないが、好適には、トリエチルアミン、トリブチ
ルアミン、ジイソプロピルアミンである。使用される溶
剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解
するものであれば特に限定はないが、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロト
リアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドのよ
うなスルホキシド類；アセトン；メチルエチルケトンの
ようなケトン類；ピリジンのような複素環アミン又はア
セトニトリルのようなニトリル類をあげることができ、
好適には、ジメチルホルムアミドのようなアミド類であ
る。使用される塩基としては、通常の反応において塩基
として使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソ
プロピルアミンエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンピ
リジン、４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン、
Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリ
ン、１、５−ジアザビシクロ［４，３，０］ノナ−５−
エン、１、４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン
（ＤＡＢＣＯ）、１，８−ジアザビシクロ［５，４，
０］ウンデク−７−エン（ＤＢＵ）のような有機塩基類
があげられ、好適には、トリエチルアミン、ピリジン、
Ｎ−メチルモルホリン、ＤＢＵである。反応温度は−５
０乃至１００℃で行われ、反応時間は、主に反応温度、
原料化合物又は使用される溶媒の種類によって異なる
が、通常、反応を室温で行う場合には、３０乃至５０時
間である。反応終了後、目的物は濾取され、メチレンク
ロリドのような有機溶剤で洗浄された後、そのまま、次
の工程に用いられる。

【００７０】（第３３，３６，３８工程）本工程は、目
的のオリゴヌクレオチドの３’末端側のヌクレオチドと
なる、ヌクレオシドを担持したＣＰＧ（１０−７）等を
原料として、ＤＮＡ合成機上、通常ＤＮＡ鎖の伸長反応
に用いられる操作を繰り返し、目的のオリゴヌクレオチ
ドの５’末端以外のヌクレオチドを除いたオリゴヌクレ
オチドまで伸長し、ＣＰＧに担持された状態でのオリゴ
デオキシリボヌクレオチド（１０ａ）等を得る工程であ
る。以下、ＤＮＡ合成機上でのＤＮＡ鎖の伸長反応に関
し、ホスホロアミダイド法について述べるが、本方法に
特に限定されるわけではない。第３３工程において、Ｃ
ＰＧ担体（１０−７）等を、ＤＮＡ合成機上、脱ＤＭＴ
化試薬を用いて、ＤＭＴを除去した後、ヌクレオチドユ
ニットを縮合して生成した亜リン酸トリエステル結合
を、酸化剤を用いて、リン酸トリエステルに酸化する。
上記の操作を繰り返し、目的のオリゴヌクレオチドの
５’末端以外のヌクレオチドを除いたオリゴヌクレオチ
ドまで伸長し、ＤＭＴ基を５’末端に有するＣＰＧに担
持されたオリゴデオキシヌクレオチド（１０ａ）（以
下、オリゴデオキシヌクレオチドはＯＤＮと略記する）
を得ることができる。５’末端がＤＭＴ基で保護され
た、所望のヌクレオチド配列のＯＤＮを担持したＣＰＧ
は、ＤＮＡ合成機（たとえば、アプライドバイオシステ
ムズ社のホスホロアミダイト法によるモデル３８０Ｂ
や、ミリジエン／バイオサーチのホスホロアミダイト法
によるサイクロンプラス）を用いて、Ｎｕｃｌｅｉｃ
ＡｃｉｄｓＲｅｓ，１２ ４５３９（１９８４）におけ
る方法又はその変法によって合成できる。また、オリゴ
ヌクレオチドの合成に用いるヌクレオチドユニットの塩
基部としては、脂肪族又は芳香族アシル基で保護された
ものを用いる。該アシル基としては、塩基部がＡ又はＣ
の場合にはベンゾイル基が、Ｇの場合にはイソブチリル
基が、好適に用いられる。本工程の縮合反応において、
使用される溶剤としては、反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はしないが、アセトニトリル及びテトラヒド
ロフランが好適であり、触媒として使用される酸性物質
としては、テトラゾールが、好適である。反応温度は、
−３０乃至５０℃までのいずれでもよいが、通常は、室
温で実施する。反応時間は、１分乃至２０時間まで反応
温度によって異なるが、室温で反応を実施した場合は、
反応は１０分間で終了する。本工程の酸化反応におい
て、使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適には、複素環アミン類（特に、ピリジン）、ニトリ
ル類（特に、アセトニトリル）、エーテル類（特に、テ
トラヒドロフラン）、ハロゲン化炭化水素類（特に、メ
チレンクロリド）であり、使用される酸化剤としては、
通常、酸化反応に使用されるものであれば特に限定はな
いが、好適には、ｍ−クロロ過安息香酸のような過酸
類；t-ブチルヒドロパーオキシドのようなパーオキシド
類；よう素―ピリジン−水である。反応温度は−５０乃
至100 ℃で行なわれ、反応時間は、主に反応温度、原料
化合物又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通
常３０分乃至１５時間である。尚、上記酸化反応におい
ては、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、ト
リブチルベンジルアンモニウムブロミドのような層間移
動触媒を加えることによって反応が加速される。反応終
了後、目的物（１０ａ）等は濾取され、メチレンクロリ
ドのような有機溶剤で洗浄され、そのまま次の工程に用
いられる。第３６及び３８工程においても、上記に示し
た方法と同様にして行うことができる。

【００７１】（第３４工程）本工程は、第３３工程にお
いてＤＮＡ合成機用のヌクレオチドユニットであるヌク
レオシドホスホロアミダイト体のかわりに化合物（１０
−３）を反応する以外は同様に行って、リン酸トリエス
テル結合を有するＣＰＧ担体（１０−８）を製造する工
程である。

【００７２】（第３７工程）本工程は、第３５工程で得
られるＣＰＧ担体（１０−９）を、第３４及び３５工程
をｚ−１回（ｚは前述と同意義を示す）繰り返して、Ｃ
ＰＧ担体（１０−１０）を製造する工程である。

【００７３】（第４０、４５工程）本工程は、第３９工
程等で得られる化合物（１１）等と、化合物（１０ａ）
等の５’位末端のＤＭＴ基を除去して得られる化合物と
を、酸触媒の存在下、縮合し、次いで、酸化し、さら
に、ＣＰＧを切断し、最後に、保護基を除去して、精製
操作を経て、本発明の目的化合物（１）を得る工程であ
る。縮合反応において、使用される酸触媒としては、好
適には、テトラゾールである。酸化反応において、使用
される酸化剤としては、通常、酸化反応に使用されるも
のであれば特に限定はないが、好適には、ｍ−クロロ過
安息香酸のような過酸類；t-ブチルヒドロパーオキシド
のようなパーオキシド類；よう素―ピリジン−水であ
る。使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物
質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、
好適には、複素環アミン類（特に、ピリジン）、ニトリ
ル類（特に、アセトニトリル）、エーテル類（特に、テ
トラヒドロフラン）、ハロゲン化炭化水素類（特に、メ
チレンクロリド）である。反応温度は、−５０乃至１０
０ ℃で行なわれ、反応時間は、主に、反応温度、原料
化合物又は使用される溶剤の種類によって異なるが、通
常３０分乃至１５時間である。尚、上記酸化反応におい
ては、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、トリ
ブチルベンジルアンモニウムブロミドのような層間移動
触媒を加えることによって反応が加速される。ＣＰＧの
切断、及び、最終段階における保護基の除去は、公知の
方法(J.Am. Chem.Soc.,103,3185, (1981))によって行な
うことができる。このようにして得られる、一般式
（１）の化合物を含む反応混合物を、逆相およびイオン
交換クロマトグラフィー（高速液体クロマトグラフィー
を含む。）等の各種クロマトグラフィーを用いて、通常
のオリゴヌクレオチド精製で行なわれる操作で精製する
ことにより、目的化合物を得ることができる。

【００７４】（第４１、４７工程）本工程は、不活性溶
剤中で、化合物（３）等に、リン酸化試薬（例えば、Ｖ
置換ホスホロビストリアゾリド（Ｖが２−クロロフェニ
ル基の場合、２−クロロフェニルホスホロビストリアゾ
リド））を反応させ、中間体であるモノヌクレオチド
（１２）等を得る工程である。用いられる溶剤として
は、反応を阻害しないものであれば、特に限定はない
が、通常は、ピリジンのような芳香族アミンが用いられ
る。反応温度は、−２０乃至１００℃まで特に限定はな
いが、通常は、室温で実施する。反応時間は、溶剤、反
応温度によって異なるが、反応溶剤として、ピリジンを
用い、室温で実施した場合は１時間である。反応終了
後、目的化合物は、例えば、反応混合物を適宜中和し、
又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、
水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水
洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグ
ネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得ら
れる。得られた目的化合物は、必要ならば、常法、例え
ば、再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等によって
更に精製できる。

【００７５】（第４２、４８工程）本工程は、第４１工
程等で得られる化合物（１２）等と、化合物（１０
ａ）、（１０ｂ）又は（１０ｃ）の５’末端のＤＭＴ基
のみを除去した化合物とを、それぞれ縮合し、次いで、
ＣＰＧを切断し、最後に、保護基を除去して、本発明の
化合物（１）を得る工程である。用いられる溶媒は、反
応を阻害しないものであれば、特に限定はないが、好適
には、ピリジンのような芳香族アミンが用いられる。縮
合に用いられる縮合剤としては、ジシクロカルボジイミ
ド（ＤＣＣ）、メシチレンスルホン酸クロリド（Ｍｓ−
Ｃｌ）、トリイソプロピルベンゼンスルホン酸クロリ
ド、メシチレンスルホン酸トリアゾリド（ＭＳＴ）、メ
シチレンスルホン酸−３−ニトロトリアゾリド（ＭＳＮ
Ｔ）、トリイソプロピルベンゼンスルホン酸テトラゾリ
ド（ＴＰＳ−Ｔｅ）、トリイソプロピルベンゼンスルホ
ン酸ニトロイミダゾリド（ＴＰＳ−ＮＩ）、及びトリイ
ソプロピルベンゼンスルホン酸ピリジルテトラゾリドな
どをあげることができるが、好適には、ＭＳＮＴやＴＰ
Ｓ−Ｔｅ及びＴＰＳ−ＮＩが用いられる。反応温度は、
−１０乃至１００℃まで、特に限定はないが、通常、室
温で実施する。反応時間は使用する溶剤、反応温度によ
って異なるが、反応溶剤としてピリジンを使用し、室温
で実施した場合は、３０分である。ＣＰＧの切断、及
び、最終段階における保護基の除去は、公知の方法(J.A
m. Chem.Soc.,103,3185, (1981))によって行なうことが
できる。このようにして得られる、一般式（１）の化合
物を含む反応混合物を、逆相およびイオン交換クロマト
グラフィー（高速液体クロマトグラフィーを含む。）等
の各種クロマトグラフィーを用いて、通常のオリゴヌク
レオチド精製で行なわれる操作で精製することにより、
目的化合物を得ることができる。

【００７６】（第４３、４９工程）本工程は、不活性溶
剤中、化合物（３）に、例えば、文献 (B.C. Freohler,
P.G.Ng and MD.Matteucci,NucleicAcids Res.,14 5399
(1986)) に従って三塩化リン及び１，２，４−トリア
ゾールから調製したトリス−（１，２，４−トリアゾリ
ル）ホスファイトを反応させ、ヌクレオシド３´Ｈ−ホ
スホネート（１３）を得る工程である。用いられる溶剤
としては、反応を阻害しないものであれば、特に限定は
ないが、好適には、塩化メチレンのようなハロゲン化炭
化水素である。反応温度は−２０乃至１００℃まで、特
に限定はないが、通常は、室温で実施する。反応時間
は、溶剤、反応時間によって異なるが、塩化メチレン中
で、室温で反応した場合は、３０分である。反応終了
後、目的化合物は、例えば、反応混合物を適宜中和し、
又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、
水と酢酸エチルのような混和しない有機溶媒を加え、水
洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグ
ネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得ら
れる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば
再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ−等によって更に
精製できる。

【００７７】（第４４、５０工程）本工程は、第４３工
程等で得られる化合物（１３）等と、化合物（１０
ａ）、（１０ｂ）又は（１０ｃ）の５′末端のＤＭＴ基
を除去した化合物を、縮合剤と脱酸剤の存在下、縮合さ
せ、次いで、酸化し、最後に、塩基性条件下、ＣＰＧを
切断し、同時に、保護基を除去して、本発明の化合物
（１）を得る工程である。用いられる溶剤としては、反
応を阻害しないものであれば、特に限定はないが、好適
には、無水のアセトニトリルが使用される。用いられる
縮合剤としては、カルボン酸やリン酸の酸塩化物が用い
られるが、好適には、ピバロイルクロリドが用いられ
る。用いられる酸化剤としては、通常、酸化反応に使用
されるものであれば特に限定はないが、好適には、ｍ−
クロロ過安息香酸のような過酸類；t-ブチルヒドロパー
オキシドのようなパーオキシド類；よう素―ピリジン−
水である。使用される脱酸剤としては、ピリジン、ジメ
チルアミノピリジンのような複素環アミン類、トリメチ
ルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルア
ミンのような脂肪族アミン類があげられるが好適には脂
肪族アミン類（特にジイソプロピルエチルアミン）であ
る。反応温度は、特に限定はないが、通常−５０乃至５
０℃であり、好適には、室温である。反応時間は、使用
する原料、試薬、温度等により異なるが、通常、５分か
ら３０時間であり、好適には、室温で反応した場合、３
０分である。ＣＰＧの切断、及び、最終段階における保
護基の除去は、公知の方法(J.Am. Chem.Soc.,103, 318
5, (1981))によって行なうことができる。このようにし
て得られる、一般式（１）の化合物を含む反応混合物
を、逆相およびイオン交換クロマトグラフィー（高速液
体クロマトグラフィーを含む。）等の各種クロマトグラ
フィーなど、通常の核酸の精製に用いる操作で精製する
ことにより、前記一般式（１）を有する化合物を得るこ
とができる。本発明の化合物（１）およびその薬理上許
容される塩は、優れた抗ＨＩＶ−１活性を示し、化合物
（１）およびその薬理上許容される塩を抗エイズ剤とし
て使用する場合には、それ自体あるいは適宜の薬理学的
に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合し、錠剤、カプ
セル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経口
的又は注射剤等による非経口的に投与することができ
る。これらの製剤は、賦形剤（例えば、乳糖、白糖、ブ
ドウ糖、マンニット、ソルビットのような糖誘導体；ト
ウモロコシデンプン、馬鈴薯デンプン、α−デンプン、
デキストリン、カルボキシメチルデンプンのようなデン
プン誘導体；結晶セルロース、低置換度ヒドロキシプロ
ピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロースカルシウム、内部架橋カルボキシメチルセルロ
ースナトリウムのようなセルロース誘導体；アラビアゴ
ム；デキストラン；プルラン；軽質無水珪酸、合成珪酸
アルミニウム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのよう
な珪酸塩類；リン酸カルシウムのようなリン酸塩類；炭
酸カルシウムのような炭酸塩類；硫酸カルシウムのよう
な硫酸塩類等）、結合剤（例えば、前記の賦形剤；ゼラ
チン；ポリビニルピロリドン；マクロゴール等）、崩壊
剤（例えば、前記の賦形剤；クロスカルメロースナトリ
ウム、カルボキシメチルスターチナトリウム、架橋ポリ
ビニルピロリドンのような化学修飾された、デンプン、
セルロース誘導体等）、滑沢剤（例えば、タルク；ステ
アリン酸；ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグ
ネシウムのようなステアリン酸金属塩；コロイドシリ
カ；ビーガム、ゲイロウのようなワックス類；硼酸；グ
リココール；フマル酸；アジピン酸のようなカルボン酸
類：安息香酸ナトリウムのようなカルボン酸ナトリウム
塩；硫酸ナトリウムのような硫酸類塩；ロイシン；ラウ
リル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシウムのよう
なラウリル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸
類；前記の賦形剤におけるデンプン誘導体等）、安定剤
（例えば、メチルパラペン、プロピルパラペンのような
パラオキシ安息香酸エステル類；クロロブタノール、ベ
ンジルアルコール、フェニルエチルアルコールのような
アルコール類；塩化ベンザルコニウム；フェノール；ク
レゾールのようなフェノール類；チメロサール；無水酢
酸；ソルビン酸等）、矯味矯臭剤（例えば、通常使用さ
れる、甘味料、酸味料、香料等）、懸濁化剤（例えば、
ポリソルベート８０、カルボキシメチルセルロースナト
リウム等）、希釈剤、製剤用溶剤（例えば、水、エタノ
ール、グリセリン等）等の添加物を用いて周知の方法で
製造される。その使用量は症状、年齢等により異なる
が、成人に対して、経口投与の場合には、１日当たり１
乃至２０００mg（好適には、１０乃至１０００mg）を、
静脈内投与の場合には、一日当たり１乃至２０００mg
（好適には、１０乃至１０００mg）を、１乃至６回症状
に応じて投与することが望ましい。また、有効な治療に
必要な化合物（１）の濃度を維持するために、連続的に
投与することもできる。

【００７８】

【実施例】以下に、実施例、参考例、製剤例および試験
例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。なお、以下に
示す化学式中の塩基配列（例えば、Tgggg）は、特に断
りがない場合は、一般式（１）と同意義を表し、またそ
の塩の形はトリエチルアミン塩とする。また、目的化合
物を示すのに、適宜、化学名又は構造式を用いた。

【００７９】（実施例１）（表１の例示化合物１）

【００８０】

【化２４】

【００８１】パーキンエルマー社製の ３９２DNA/RNA
シンセサイザーに、付属する合成用試薬類を接続し、プ
ログラムとして10μmolDNA合成を使用した。ただしこの
とき、#5のボトルに、およそ0.1 Mに調製した5′-0-
[(3,4- ジベンジルオキシ）ベンジル］チミジン-3′-０
-（２−シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホス
ホロアミダイト（特開平７−８７９８２の実施例７bに
記載）のアセトニトリル溶液、#6のボトルに3'-O-(4,4'
-ジメトキシトリチル)-N-イソブチリル-2'-デオキシグ
アノシン-5'-0-（２−シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプ
ロピル）ホスホロアミダイト（Glen Research社製）を
用い、固相担体としては、修飾されたコントロールドポ
アグラス(CPG)

【００８２】

【化２５】

【００８３】（特開平７−８７９８２の実施例１２bに
記載）を7μmol 分はかりとり、10μmol 用エンプティ
ーカラムにつめて使用した。56666Tという塩基配列を入
力し、最後の#5のボトルの試薬を結合させた後には酸処
理を行わない設定のプログラムを作動させることによっ
て、CPG上に保護されたオリゴヌクレオチドが構築され
た誘導体を得た。これを減圧下乾燥したのちにカラムか
らとり出し、約１０mLの２９％アンモニア水にひたして
密閉し、室温で約２日間反応した。CPG をろ過により除
き、１０mLの水で２回洗浄した。ろ液と洗浄液を合わせ
て、減圧下に水溶液を約4mLに濃縮した。これを90℃で
５分間加熱し、氷冷した後、逆相シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（Cosmosil 75C18-OPN、ナカライテス
ク、1.5ｘ15ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ重炭酸トリエチルアミ
ン水溶液（ＴＥＡＢ）、ｐＨ7.5，Ｂ：アセトニトリ
ル；５−４０％Ｂ／linear gradient；２５４nm）に供
与した。約３０％アセトニトリルで溶出する分画を集
め、減圧下に溶媒を留去したのちに、約１０mLの水にと
かしてから再度溶媒を留去を繰り返して、アモルファス
状の目的化合物を１０６ ＯＤ（２６０nm）得た。本化
合物は、逆相ＨＰＬＣ（WakosilWS-DNA、4.6ｘ150ｍ
ｍ；Ａ：５％アセトニトリル、0.1Ｍ 酢酸トリエチル
アミン水溶液(ＴＥＡＡ)、ｐＨ7.0，Ｂ：アセトニトリ
ル；１０−６０％Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；
１ml/min；２６０nm）で分析すると１４.６３ｍｉｎに
溶出された。 UVmax(H₂O):254 nm。

【００８４】（実施例２）（表１の例示化合物２）

【００８５】

【化２６】

【００８６】5G666Tという塩基配列に変更して入力し、
但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ Cosmosil 75C18-OPN、1.5x15ｃｍ；Ａ：
５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ7.5，Ｂ：アセトニトリル；
１０−５０％Ｂ；linear gradient；２５４nm）を用い
た。実施例１と同様にして合成した。実施例１と同様の
後処理を行い、アモルファス状の目的化合物を４９ Ｏ
Ｄ（２６０nm）得た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wako
sil WS-DNA、4.6ｘ１５０ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリ
ル、０．１Ｍ ＴＥＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニト
リル； １０−６０％Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradien
t；１ml/min；２６０nm）で分析すると１５.４５ｍｉｎ
に溶出された。 UVmax(H₂O):253nm。

【００８７】（実施例３）（表１の例示化合物３）

【００８８】

【化２７】

【００８９】5GG66Tという塩基配列に変更して入力し、
修飾されたCPG 7.5 μmolを用いて、実施例１と同様に
して合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（ Cosmosil 75C18-OPN、
１．５ ｘ １５ ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐ
Ｈ７．５，Ｂ：アセトニトリル；１０−５０％Ｂ；line
ar gradient； ２５４nm）を用いた。実施例１と同様
の後処理を行い、アモルファス状の目的化合物を３９
ＯＤ（２６０nm）得た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wa
kosil WS-DNA、4.6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリ
ル、０．１Ｍ ＴＥＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニト
リル； １０−６０％Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradien
t；１ml/min；２６０nm）で分析すると１３.９８ｍｉｎ
に溶出された。 UVmax(H₂O):254 nm。

【００９０】（実施例４）（表１の例示化合物４）

【００９１】

【化２８】

【００９２】5GGG6Tという塩基配列に変更して入力し、
修飾されたCPG 7μmolを用いて、実施例１と同様にし
て合成した。実施例１と同様の後処理を行い、アモルフ
ァス状の目的化合物を１７３ ＯＤ（２６０nm）得た。
本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.6ｘ1
50ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥＡ
Ａ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル； １０−６０％
Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/min；２６０n
m）で分析すると１４.０１ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):254nm。

【００９３】（実施例５）（表１の例示化合物１０）

【００９４】

【化２９】

【００９５】#７のボトルに、およそ0.1 Mに調製した3'
-O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-チミジン-5'-0-（２−
シアノエチル Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル）ホスホロアミ
ダイト （Glen Research社製）のアセトニトリル溶液
を用い、5GG667Tという塩基配列に変更して入力し、実
施例１と同様にして合成した。実施例１と同様の後処理
を行い、アモルファス状の目的化合物を８４ ＯＤ（２
６０nm）得た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS
-DNA、 4.6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．
１Ｍ ＴＥＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル；
１０−６０％Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/
min；２６０nm）で分析すると１５.２９ｍｉｎに溶出さ
れた。 UVmax(H₂O):255nm。

【００９６】（実施例６）（表１の例示化合物５３５）

【００９７】

【化３０】

【００９８】#2のボトルに、およそ0.1 Mに調製した5'-
O-(4,4'-ジメトキシトリチル)-N-イソブチリル-2'-O-メ
チルグアノシン-3'-0-（２−シアノエチル N,N-ジイソ
プロピル）ホスホロアミダイト （ファルマシア社製）
のアセトニトリル溶液を用い、5GGGGTという塩基配列に
変更して入力し、実施例１と同様にして合成した。実施
例１と同様の後処理を行い、アモルファス状の目的化合
物を64 ＯＤ（２６０nm）得た。本化合物は、逆相ＨＰ
ＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセ
トニトリル、０．１Ｍ ＴＥＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：ア
セトニトリル；１０−６０％Ｂ／２０ｍｉｎ；linear g
radient；１ml/min；２６０nm）で分析すると１３.８０
ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):257nm。

【００９９】（実施例７）（表１の例示化合物３０３） （７a）2-N-メチルフェニルチオメチル−2'-デオキシ−
3',5'-O-（1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン-
1,3-ジイル）グアノシン 2'-デオキシ−3',5'-O-（1,1,3,3-テトライソプロピル
ジシロキサン-1,3-ジイル）グアノシン（ Tetrahedron
Lett. 35, 3045-3048 (1994)）6.63g（13 mmol）をエタ
ノール100mlに懸濁し、35% ホルムアルデヒド水溶液3.7
ml (46.2 mmol)、p−チオクレゾール6.5g (52 mmol)、
酢酸3.25 mlを順に加え、油浴を用いて、還流した。７
時間後、室温に戻し、析出した結晶をろ取し、これを冷
エタノールで洗浄し、目的物を得た（5.86 g, 70 %）。¹ H-NMR(360MHz、CDCl₃、TMS)δppm: 12.18(brs, 1H, NH),
8.68(brs, 1H,NH), 7.39(s, 1H, H8), 7.35(d, 2H, P
h, J=8.0Hz), 6.96(d, 2H, Ph, J=8.0Hz), 6.09-6.06(d
d, 1H, H1'), 4.93-4.80(m, 2H, NHCH₂), 4.71-4.65(m,
1H, H3'), 4.12-4.00(m, 2H, H5') 3.91-3.87(m, 1H,
H4'), 2.73-2.49(m, 2H, H2'), 2.22(S,3H, Ph-CH₃),
1.10-0.98(m, 28H, CH(CH₃))。

【０１００】（７b）2-N-メチル-6-O-ジフェニルカルバ
ミル-2'-デオキシ−3',5'-O-（1,1,3,3-テトライソプロ
ピルジシロキサン-1,3-ジイル）グアノシン 実施例７aの化合物5.8g（8.98 mmol）をジメチルスルホ
キシド90 mlに懸濁し、ほう素化水素ナトリウム0.68 g
(18 mmol)を加え、100度で加温した。1時間後、室温に
戻し、1M リン酸カリウム水溶液１０００mL中に反応液
を滴下した。得られた沈殿をろ取し、沈殿をクロロホル
ム（400 ml）に溶解し、水洗後、有機層を１ＰＳ濾紙
（商標ワットマン社製）を用いて濾過後、減圧下溶媒を
留去した。残渣をピリジンに溶解し、留去して、乾燥し
た。そこへピリジン（50ｍｌ）を加え、溶解し、さら
に、ジイソプロピルエチルアミン 2.4ｍｌ（13ｍｍｏ
ｌ）とジフェニルカルバミルクロライド4.17g (18 mmo
l)を加え、室温で２時間撹拌した。減圧下溶媒を留去
し、塩化メチレン（400ｍｌ）を加え溶解後、有機層を
飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を１ＰＳ濾
紙（商標ワットマン社製）を用いて濾過後、減圧下溶媒
を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（７０−２３０ｍｅｓｈ、３００ｇ、溶出液：ヘキサ
ン：酢酸エチル＝７：３）を行い精製し、あわ状物質と
して3.17g（49％）の目的化合物を得た。¹ H-NMR(360MHz、CDCl₃、TMS)δppm: 8.00(s, 1H, H8), 7.
47-7.22(m, 10H,Ph),6.27-6.24(dd, 1H, H1'), 5.88(br
s, 1H, NH), 4.76-4.69(m, 1H, H3'), 4.13-3.98(m, 2
H, H5') 3.91-3.88(m, 1H, H4'), 3.04(s, 3H, NHCH₃),
2.68-2.58(m,2H, H2'), 1.10-1.02(m, 28H, CH(C
H₃))。

【０１０１】（７c）2-N-メチル-6-O-ジフェニルカルバ
ミル-2'-デオキシ−5'-O-（4,4'-ジメトキシトリチル）
グアノシン（表２の例示化合物２−４） 実施例７bの化合物3.16g（4.36 mmol）をテトラヒドロ
フラン17.4 mlに溶解し、1M テトラブチルアンモニウム
フルオリド/テトラヒドロフラン溶液17.4 ml (17.4 mmo
l)を加え、室温で撹拌した。1時間後、ピリジン：水：
メタノール（3:1:1 v/v/v）混液150 ml を反応液に加
え、さらにDOWEX 50 （ピリジニウム型）約30mlを加え
た。樹脂をろ過して除き、同混液150 mlで樹脂を洗浄し
た。ろ液と洗液を合わせて、減圧下溶媒を留去した。残
渣を塩化メチレン（300 ml）に溶解し、水洗した。水層
を塩化メチレン（200 ml）で逆抽出し、有機層を合わせ
て、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機層を減
圧下溶媒を留去し、残渣を塩化メチレン（約10 ml）に
溶解し、この溶液をn-ヘキサン中に滴下し、沈殿とし
た。この沈殿をろ取した後、塩化メチレンに溶解し、減
圧下溶媒を留去し、粗精製物3',5'OH体（2.7 g）を得
た。このものをピリジンに溶解し、留去して、乾燥し
た。そこへピリジン（30ｍｌ）を加え、溶解し、さら
に、4,4'-ジメトキシトリチルクロライド1.48g （4.36m
mol)を加え、室温で３時間撹拌した。さらに、4,4'-ジ
メトキシトリチルクロライド0.14g （0.43 mmol)を加
え、室温で１時間撹拌した。5 mlのメタノールを加えた
後、減圧下溶媒を留去し、塩化メチレン（200ｍｌ）を
加え溶解後、有機層を５％重曹水、水の順に洗浄した。
有機層を無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した後、減圧
下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（７０−２３０ｍｅｓｈ、１００ｇ、溶出液：
ヘキサン：酢酸エチル＝１：４）を行い精製し、あわ状
物質として2.6g（77％）の目的化合物を得た。¹ H-NMR(360MHz,Acetone-d₆,TMS)δppm: 8.01(s, 1H, H
8), 7.51-6.74 (m,23H,Ph), 6.40(t, 1H, H1'), 6.22(b
rs, 1H, NH), 4.74-4.71(m, 1H, H3'), 4.50(d,1H, O
H), 4.15-4.11(m, 1H, H4'), 3.74, 3.72(ss, 6H, -OCH
₃,), 3.41-3.29(m, 2H, H5'), 3.03-2.96(m, 1H, H2'),
2.85 (d, 1H, NHCH₃, J=4.79 Hz), 2.49-2.42(m, 1H,
H2')。

【０１０２】（７d）２−シアノエチル＝2-N-メチル-6-
O-ジフェニルカルバミル-2'-デオキシ-5'-O-（4,4'-ジ
メトキシトリチル）グアノシン-3'-O-イル−ホスホロア
ミダイト（表２の例示化合物２−５） 実施例7cの化合物0.78g（1ｍｍｏｌ）をピリジンに溶解
し、留去して、乾燥した。そこへ塩化メチレン（5ｍ
ｌ）を加え、溶解し、さらに、N,N-ジイソプロピルアン
モニウム テトラゾリド 86 mg（0.5ｍｍｏｌ）を加
え、窒素置換を行った。そこへ、２−シアノエチル＝
N,N,N',N'-テトライソプロピルホスホロジアミダイト
0.38ｍｌ（1.2ｍｍｏｌ）を２分かけて滴下した。室温
で5.5時間攪拌し、原料が消失したことをＴＬＣで確認
後、酢酸エチル（５０ｍｌ）を加え、有機層を５％重曹
水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を１ＰＳ濾紙（商標
ワットマン社製）を用いて濾過後、溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（７０−２３０
ｍｅｓｈ、30ｇ、溶出液：ヘキサン：酢酸エチル＝３：
７）を行い精製し、あわ状物質として0.89 g（91％）の
目的化合物を得た。¹ H-NMR(360MHz、Acetone-d₆、TMS)δppm: 8.03(s, 1H, H
8), 7.51-6.77 (m, 23H, Ph), 6.43-6.39(m, 1H, H1'),
6.21(brs, 1H, NH), 4.93(m, 1H, H3'),4.26-4.21(m,
1H, H4'), 3.94-3.37(m, 12H, H5', -OCH₃, POCH₂ and
PNCH), 3.18-2.55(m, 7H, H2', CH₂CN and NHCH₃), 1.2
1-1.12(m, 12H, CH(CH₃))。

【０１０３】（7e）

【０１０４】

【化３１】

【０１０５】ボトル#7におよそ0.1 Mの実施例7dの化合
物のアセトニトリル溶液を用い、57GGAGTという塩基配
列に変更して入力し、実施例１と同様にして合成した。
但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（Preparative C18,Waters, １．５ ｘ １１
ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，Ｂ：ア
セトニトリル；15−50％Ｂ；linear gradient； ２５
４nm）を用いた。実施例１と同様の後処理を行い、アモ
ルファス状の目的化合物を２６９ ＯＤ（２６０nm）得
た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.
6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥ
ＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル；１０−６０％
Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/min；２６０n
m）で分析すると１４.３９ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):255nm。

【０１０６】（実施例８）（表１の例示化合物３０４）

【０１０７】

【化３２】

【０１０８】ボトル#7におよそ0.1 Mの実施例7dの化合
物のアセトニトリル溶液を用い、5G7GAGTという塩基配
列に変更して入力し、実施例１と同様にして合成した。
但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（Preparative C18,Waters, １．５ ｘ １１
ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，Ｂ：ア
セトニトリル；15−50％Ｂ；linear gradient； ２５
４nm）を用いた。実施例１と同様の後処理を行い、アモ
ルファス状の目的化合物を２７５ ＯＤ（２６０nm）得
た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.
6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥ
ＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル；１０−６０％
Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/min；２６０n
m）で分析すると１４.４９ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):255nm。

【０１０９】（実施例９）（表１の例示化合物３０５）

【０１１０】

【化３３】

【０１１１】ボトル#7におよそ0.1 Mの実施例7dの化合
物のアセトニトリル溶液を用い、5GG7AGTという塩基配
列に変更して入力し、実施例１と同様にして合成した。
但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（Preparative C18,Waters, １．５ ｘ １１
ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，Ｂ：ア
セトニトリル；15−50％Ｂ；linear gradient； ２５
４nm）を用いた。実施例１と同様の後処理を行い、アモ
ルファス状の目的化合物を２２５ ＯＤ（２６０nm）得
た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.
6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥ
ＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル；１０−６０％
Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/min；２６０n
m）で分析すると１４.５２ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):254nm。

【０１１２】（実施例１０）（表１の例示化合物３０
６）

【０１１３】

【化３４】

【０１１４】ボトル#7におよそ0.1 Mの実施例7dの化合
物のアセトニトリル溶液を用い、5GGGA7Tという塩基配
列に変更して入力し、実施例１と同様にして合成した。
但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（Preparative C18,Waters, １．５ ｘ １１
ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，Ｂ：ア
セトニトリル；15−50％Ｂ；linear gradient； ２５
４nm）を用いた。実施例１と同様の後処理を行い、アモ
ルファス状の目的化合物を２８８ ＯＤ（２６０nm）得
た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.
6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥ
ＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル；１０−６０％
Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/min；２６０n
m）で分析すると１４.５２ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):254nm。

【０１１５】（実施例１１）（表１の例示化合物３１
３）

【０１１６】

【化３５】

【０１１７】ボトル#7におよそ0.1 Mの実施例7dの化合
物のアセトニトリル溶液を用い、5777AGTという塩基配
列に変更して入力し、実施例１と同様にして合成した。
但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（Preparative C18,Waters, １．５ ｘ １１
ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，Ｂ：ア
セトニトリル；15−50％Ｂ；linear gradient； ２５
４nm）を用いた。実施例１と同様の後処理を行い、アモ
ルファス状の目的化合物を１９６ ＯＤ（２６０nm）得
た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.
6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥ
ＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル；１０−６０％
Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/min；２６０n
m）で分析すると１４.３９ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):256nm。

【０１１８】（実施例１２）（表１の例示化合物３５
０） （１２a）3-［(3,4- ジベンジルオキシ）ベンジルオキ
シ］-プロパン-1-オール1,3-プロパンジオール0.72ml
（10 mmol）を20 mLのテトラヒドロフランにとかし、窒
素雰囲気下で、400 mg（10 mmol）の60％NaH を加え
て、６０℃で２時間撹拌した。室温にもどしたのちに、
3,4-（ジベンジルオキシ）ベンジルクロライド 1.69g
（5 mmol）を2.5mLのテトラヒドロフランに溶解したも
のを滴下し、ヨウ化ナトリウム374mg （2.5 mmol）を加
えて室温で撹拌した。20時間後に減圧下溶媒を留去し、
残渣を５０mLの塩化エチレンにとかし、100mLの0.01N
塩化アンモニウム水溶液で２回洗浄してから無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣を２
５ｇ（２３０−４００mesh）のシリカゲルカラムにアプ
ライして、ヘキサン：酢酸エチル＝４：６の溶液で溶出
することにより目的化合物を0.68g（36 %）得た。¹ H-NMR(360MHz、CDCl₃、TMS)δppm: 7.47-6.81(m, 13H, P
h), 5.16(s, 2H, -CH₂-Ph), 5.15(s, 2H, -CH₂-Ph), 4.
40(s, 2H,(BnO)₂PhCH₂), 3.75(m, 2H, CH2OH),3.58(t,
2H, (BnO)₂PhCH₂OCH₂, J=5.8Hz), 2.16(t, 1H, OH, J=
5.5Hz), 1.85-1.79(m, 2H, CH₂CH₂CH₂)。

【０１１９】（１２b）3−O-［(3,4- ジベンジルオキ
シ）ベンジル］-プロパンジオール-1-O-（２−シアノエ
チル N、N−ジイソプロピル）ホスホロアミダイト 実施例12aの化合物0.189g（0.5ｍｍｏｌ）をピリジンに
溶解し、留去して、乾燥した。そこへ塩化メチレン（2.
5ｍｌ）を加え、溶解し、さらに、Ｎ，Ｎ−ジイソプロ
ピルアンモニウム テトラゾリド 43 mg（0.25ｍｍｏ
ｌ）を加え、窒素置換を行った。そこへ、２−シアノエ
チル N,N,N',N'-テトライソプロピルホスホロジアミダ
イト 0.248ｍｌ（0.75ｍｍｏｌ）を２分かけて滴下し
た。室温で5時間攪拌し、原料が消失したことをＴＬＣ
で確認後、酢酸エチル（５０ｍｌ）を加え、有機層を５
％重曹水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を１ＰＳ濾紙
（商標ワットマン社製）を用いて濾過後、溶媒を留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（７０
−２３０ｍｅｓｈ、１６ｇ、溶出液：ヘキサン：酢酸エ
チル＝７：３）を行い精製し、油状物質として165 mg
（57％）の目的化合物を得た。¹ H-NMR(360MHz、CDCl₃、TMS)δppm: 7.46-6.82(m, 13H, P
h), 5.16(s, 2H, -CH₂-Ph), 5.15(s, 2H, -CH₂-Ph), 4.
39(s, 2H,(BnO)₂PhCH₂), 3.86-3.50(m, 8H, DBP-OCH₂,
CH₂OP, and PNCH), 2.61-2.57(t, 2H, CH₂CN), 1.92-1.
85(m, 2H, CH₂CH₂CH₂), 1.19-1.15(m, 12H, CH₃)。

【０１２０】（１２c）

【０１２１】

【化３６】

【０１２２】ボトル#5におよそ0.1 Mの実施例12bの化合
物のアセトニトリル溶液を用い、5GGGAGTという配列に
変更して入力し、実施例１と同様にして合成した。但
し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（Preparative C18, Waters, １．５ ｘ １１
ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，Ｂ：アセ
トニトリル；15−50％Ｂ；linear gradient； ２５４n
m）を用いた。実施例１と同様の後処理を行い、アモル
ファス状の目的化合物を２５１ ＯＤ（２６０nm）得
た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.
6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥ
ＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル；１０−６０％
Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/min；２６０n
m）で分析すると１４.９７ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):253nm。

【０１２３】（実施例１３）（表１の例示化合物３９
８） （１３a）6−［(3,4- ジベンジルオキシ）ベンジルオキ
シ］-ヘキサン-1-オール1,6-ヘキサンジオール1.18g（1
0 mmol）を20 mLのテトラヒドロフランにとかし、窒素
雰囲気下で、200 mg（5 mmol）の60％NaH を加えて、６
０℃で２時間撹拌した。室温にもどしたのちに、3,4-
（ジベンジルオキシ）ベンジルクロライド1.69g（5 mmo
l）を2.5mLのテトラヒドロフランに溶解したものを滴下
し、ヨウ化ナトリウム374mg （2.5 mmol）を加えて室温
で撹拌した。20時間後に減圧下溶媒を留去し、残渣を20
0mLの塩化エチレンにとかし、150mLの0.01N 塩化アンモ
ニウム水溶液で２回洗浄してから無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣を６５ｇ（２３
０−４００mesh）のシリカゲルカラムにアプライして、
ヘキサン：酢酸エチル＝４：６の溶液で溶出することに
より目的化合物を得て、再び同カラム（１５g、同溶
液）で精製することにより、目的化合物を0.19g（10
%） 得た。¹ H-NMR(360MHz、CDCl₃、TMS)δppm: 7.46-6.62(m, 13H, P
h), 5.16(s, 2H,-CH₂-Ph), 5.15(s, 2H, -CH₂-Ph), 4.3
8(s, 2H,(BnO)₂PhCH₂), 3.66-3.61(t,2H, CH₂OH), 3.40
(t, 2H, (BnO)₂PhCH₂OCH₂, J=6.6Hz), 1.58-1.10(m, 9
H,CH₂(CH₂)₄CH₂, OH)。

【０１２４】（１３b）6-O-［(3,4- ジベンジルオキ
シ）ベンジル］-ヘキサンジオール-1-O-（２−シアノエ
チル N、N−ジイソプロピル）ホスホロアミダイト 実施例13aの化合物0.19g（0.45mmol）をピリジンに溶解
し、留去して、乾燥した。そこへ塩化メチレン（2ml）
を加え、溶解し、さらに、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアン
モニウム テトラゾリド 39 mg（0.225mmol）を加え、
窒素置換を行った。そこへ、２ーシアノエチル N,N,N',
N'-テトライソプロピルホスホロジアミダイト 0.21ml
（0.68mmol）を２分かけて滴下した。室温で3.5時間攪
拌し、原料が消失したことをＴＬＣで確認後、酢酸エチ
ル（５０ml）を加え、有機層を5%重曹水、飽和食塩水で
洗浄した。有機層を１ＰＳ濾紙（商標ワットマン社製）
を用いて濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（７０−２３０ｍｅｓｈ、１６
ｇ、溶出液：ヘキサン：酢酸エチル＝７：３）を行い精
製し、油状物質として165 mg（59％）の目的化合物を得
た。¹ H-NMR(360MHz、CDCl₃、TMS)δppm: 7.46-6.81(m, 13H, P
h), 5.16(s, 2H,-CH₂-Ph), 5.15(s, 2H, -CH₂-Ph), 4.3
8(s, 2H,(BnO)₂PhCH₂), 3.89-3.53(m, 6H,POCH ₂, PNC
H), 3.39(t, 2H, (BnO)₂PhCH₂OCH₂), 2.62(t, 2H, CH₂C
N), 1.68-1.35(m,8H, CH₂(CH₂)₄CH₂), 1.19-1.16(m, 12
H, CH₃)。

【０１２５】（１３c）

【０１２６】

【化３７】

【０１２７】ボトル#5におよそ0.1 Mの実施例13bの化合
物のアセトニトリル溶液を用い、5GGGAGTという配列に
変更して入力し、実施例１と同様にして合成した。但
し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（Preparative C18, Waters, １．５ ｘ １１
ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，Ｂ：アセ
トニトリル；15−50％Ｂ；linear gradient； ２５４n
m）を用いた。実施例１と同様の後処理を行い、アモル
ファス状の目的化合物を１７０ ＯＤ（２６０nm）得
た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.
6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥ
ＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル；１０−６０％
Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/min；２６０n
m）で分析すると１７.０３ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):253nm。

【０１２８】（実施例１４）（表１の例示化合物３１
８） （１４a）1,2-ジデオキシ-3-O-トリイソプロピルシリル
-D-リボフラノース 5-O-(4-モノメトキシトリチル）-1,2-ジデオキシ-D-リ
ボフラノース（J. Am.Chem. Soc. 115, 9734-9746, (19
93)）3.9g （10 mmol）をピリジンに溶解し、留去し
て、乾燥した。そこへジメチルホルムアミド（100ｍ
ｌ）を加え、溶解し、さらに、イミダゾール 2.38 g (3
5 mmol)、トリイソプロピルシリルクロライド3.2 ml
（15 mmol)を加え、室温で２日間撹拌した。5 mlのメタ
ノールを加えた後、減圧下溶媒を留去し、酢酸エチル
（100ｍｌ）を加え溶解後、有機層を５％重曹水で洗浄
した。有機層を無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した
後、減圧下溶媒を留去した。残渣をクロロホルム（50 m
l）に溶解し、トリクロロ酢酸 1 mlを氷冷下加えた。
室温に戻し、２時間撹拌した。５％重曹水で中和し、分
液して、有機層を集めた。クロロホルムで水層を逆抽出
し、有機層を合わせて、無水硫酸ナトリウムを加えて乾
燥した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（７０−２３０ｍｅｓｈ、１０
０ｇ、溶出液：ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）を行い
精製し、油状物質として2.2g（80％）の目的化合物を得
た。¹ H-NMR(360MHz、CDCl₃、TMS)δppm: 4.35-4.32(m, 1H, H
3), 3.99-3.96(dd,2H,H1, J=5.0 Hz), 3.84-3.81(m, 1
H, H4), 3.76-3.72, 3.58-3.53(m, 2H,H5), 2.08-1.84
(m, 2H, H2), 1.07-1.04(m, 21H, Si(iPr)₃)。

【０１２９】（１４b）1,2-ジデオキシ-3-O-トリイソプ
ロピルシリル-5-O-［(3,4- ジベンジルオキシ）ベンジ
ル］-D-リボフラノース 実施例14ａの化合物1.1g（4 mmol）を8 mLのテトラヒド
ロフランにとかし、窒素雰囲気下で、230 mg（8 mmol）
の60％NaH を加えて、６０℃で２時間撹拌した。室温に
もどしたのちに、3,4-（ジベンジルオキシ）ベンジルク
ロライド 1.69g（5 mmol）を2.5mLのテトラヒドロフラ
ンに溶解したものを滴下し、ヨウ化ナトリウム374mg
（2.5 mmol）を加えて室温で撹拌した。20時間後に減圧
下溶媒を留去し、残渣を２００mLの塩化エチレンにとか
し、100mLの0.01N 塩化アンモニウム水溶液で２回洗浄
してから無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
下留去し、残渣を100ｇ（２３０−４００mesh）のシリ
カゲルカラムにアプライして、15%酢酸エチルを含むヘ
キサン溶液で溶出することにより目的化合物を2.0g（87
%） 得た。¹H-NMR(360MHz、CDCl₃、TMS)δppm: 7.46-6.8
1(m, 13H, Ph), 5.14(s, 4H, -CH₂-Ph), 4.44(s, 2H,(B
nO)₂PhCH₂), 4.33-4.29(m, 1H, H3), 3.97-3.93(m, 2H,
H1), 3.90-3.87(m, 1H, H4), 3.44(d, 2H,H5, J=4.8H
z), 2.03-1.81(m, 2H, H2), 1.07-1.00(m, 21H, Si(iP
r)₃)。

【０１３０】（１４c）1,2-ジデオキシ-5-O-［(3,4- ジ
ベンジルオキシ）ベンジル］-D-リボフラノース 実施例14ｂの化合物2.0g（3.47 mmol）を3.47mLのテト
ラヒドロフランにとかし、テトラブチルアンモニウムフ
ロリドのテトラヒドロフラン溶液（１Ｍ）を3.47mL加え
て室温で撹拌した。３０分後に減圧下溶媒を留去し、残
渣を100 mLの酢酸エチルにとかして、５０mLの飽和食塩
水で２回洗浄し、有機層を１ＰＳ濾紙（商標ワットマン
社製）を用いて濾過後、減圧下に溶媒を留去した。残渣
を８０ｇ（２３０−４００mesh）のシリカゲルカラムに
アプライし、１５％酢酸エチル−ヘキサンで溶出するこ
とにより1.21g (83%) の目的化合物を得た。¹ H-NMR(360MHz、CDCl₃、TMS)δppm: 7.46-6.80(m, 13H, P
h), 5.17(s, 4H, -CH2-Ph), 5.15(s, 4H, -CH₂-Ph), 4.
44(s, 2H,(BnO)₂PhCH₂), 4.21-4.19(m, 1H, H3), 3.96-
3.92(m, 2H,H1), 3.84-3.80(m, 1H, H4), 3.52-3.36(d,
2H,H5, J=4.8Hz), 2.16-1.82(m, 2H, H2), 1.71(d, 1
H, OH)。

【０１３１】（１４d）1,2-ジデオキシ-5-O-［(3,4- ジ
ベンジルオキシ）ベンジル］-D-リボフラノース-3-O-
（２−シアノエチル N、N−ジイソプロピル）ホスホロ
アミダイト 実施例14cの化合物0.21g（0.5mmol）をピリジンに溶解
し、留去して、乾燥した。そこへ塩化メチレン（2.5m
l）を加え、溶解し、さらに、N,N-ジイソプロピルアン
モニウム テトラゾリド 43 mg（0.25mmol）を加え、窒
素置換を行った。そこへ、２−シアノエチル N,N,N',N'
-テトライソプロピルホスホロジアミダイト 0.19ｍｌ
（0.6mmol）を２分かけて滴下した。室温で一晩攪拌
し、原料がほぼ消失したことをＴＬＣで確認後、酢酸エ
チル（５０ml）を加え、有機層を5%重曹水、飽和食塩水
で洗浄した。有機層を１ＰＳ濾紙（商標ワットマン社
製）を用いて濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（７０−２３０ｍｅｓｈ、１
２ｇ、溶出液：ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）を行い
精製し、油状物質として0.26g（84％）の目的化合物を
得た。¹ H-NMR(360MHz、CDCl₃、TMS)δppm: 7.47-6.81(m, 13H, P
h), 5.16(s, 4H,-CH₂-Ph), 5.15(s, 4H, -CH₂-Ph), 4.4
5, 4.44(s, 2H,(BnO)₂PhCH₂), 4.37-4.28(m, 1H, H3),
4.01-3.42(m, 9H,H1, H4,H5, POCH₂ and PNCH), 2.61-
2.46(m, 2H, CH₂CN), 2.11-1.92(m, 2H, H2), 1.18-1.1
1(m, 12H, CH₃)。

【０１３２】（１４e）

【０１３３】

【化３８】

【０１３４】ボトル#5におよそ0.1 Mの実施例14dの化合
物のアセトニトリル溶液を用い、5GGGAGTという配列に
変更して入力し、実施例１と同様にして合成した。但
し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（Preparative C18, Waters, １．５ ｘ １１
ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，Ｂ：アセ
トニトリル；15−50％Ｂ；linear gradient；２５４n
m）を用いた。実施例１と同様の後処理を行い、アモル
ファス状の目的化合物を２６３ ＯＤ（２６０nm）得
た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.
6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥ
ＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル； １０−６０
％Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/min；２６
０nm）で分析すると１４.９２ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):253nm。

【０１３５】（実施例１５）（表１の例示化合物２３
９）

【０１３６】

【化３９】

【０１３７】ボトル#5におよそ0.1 Mの実施例12bの化合
物のアセトニトリル溶液を用い、5GGGGTという塩基配列
に変更し、実施例１と同様にして合成した。但し、精製
においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（Preparative C18, Waters,１．５ ｘ １１ ｃｍ；
Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，Ｂ：アセトニト
リル；15−50％Ｂ；linear gradient； ２５４nm）を用
いた。実施例１と同様の後処理を行い、アモルファス状
の目的化合物を２４８ ＯＤ（２６０nm）得た。本化合
物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.6ｘ150ｍ
ｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥＡＡ、ｐ
Ｈ７．０，Ｂ：アセトニトリル； １０−６０％Ｂ／２
０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/min；２６０nm）で
分析すると１５.５９ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):254nm

【０１３８】（実施例１６）（表１の例示化合物４８
６） （１６a）O-（4,4'-ジメトキシトリチル）エチレングリ
コール−O-（2-シアノエチル N、N-ジイソプロピル）ホ
スホロアミダイト O-（4,4'-ジメトキシトリチル）エチレングリコール
（特開平７−８７９８２の実施例１２a記載） 317mg
（0.84ｍｍｏｌ）をピリジンに溶解し、留去して、乾燥
した。そこへ塩化メチレン（3ｍｌ）を加え、溶解し、
さらに、ジイソプロピルエチルアミン 0.61ｍｌ（3.48
ｍｍｏｌ）を加え、窒素置換を行った。そこへ、２−シ
アノエチル N,N-ジイソプロピルクロロホスホロアミダ
イト 0.23ｍｌ（1.04mmol）を２分かけて滴下した。室
温で６０分攪拌し、原料が消失したことをＴＬＣで確認
後、酢酸エチル（３０ml）を加え、有機層を飽和重曹
水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を１ＰＳ濾紙（商標
ワットマン社製）を用いて濾過後、溶媒を留去し、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（７０−２３０
ｍｅｓｈ、１６ｇ、溶出液：ヘキサン：酢酸エチル＝
３：１）を行い精製し、油状物質として270mg（55％）
の目的化合物を得た。¹ H-NMR(270MHz、CDCl₃、TMS)δppm: 7.48-7.19(9H,m,P
h)、 6.84-6.80(4H,m,Ph)、3.87-3.58(12H、m, -OCH₃, POC
H₂ and PNCH)、 3.26-3.21(2H,m,DMTr-O-CH₂)、2.62-2.58
(2H,m,CH₂CN),1.26-1.17 (12H,m,CH₃)。

【０１３９】（１６b）

【０１４０】

【化４０】

【０１４１】ボトル#5におよそ0.1 Mの実施例12bの化合
物のアセトニトリル溶液、ボトル#6におよそ0.1 Mの実
施例16aの化合物のアセトニトリル溶液、を用い、5GGGG
6Tという塩基配列に変更し、実施例１と同様にして合成
した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（Preparative C18, Waters, １．５
ｘ １１ ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，
Ｂ：アセトニトリル；15−50％Ｂ；linear gradient；
２５４nm）を用いた。実施例１と同様の後処理を行
い、アモルファス状の目的化合物を１８７ ＯＤ（２６
０nm）得た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-D
NA、 4.6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１
Ｍ ＴＥＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル； １
０−６０％Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/mi
n；２６０nm）で分析すると１５.４３ｍｉｎに溶出され
た。 UVmax(H₂O):253nm。

【０１４２】（実施例１７）（表１の例示化合物４３
０）

【０１４３】

【化４１】

【０１４４】ボトル#5におよそ0.1 Mの実施例12bの化合
物のアセトニトリル溶液、ボトル#6におよそ0.1 Mの実
施例16aの化合物のアセトニトリル溶液、を用い、5GGG6
GTという塩基配列に変更し、実施例１と同様にして合成
した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（Preparative C18, Waters, １．５
ｘ １１ ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，
Ｂ：アセトニトリル；15−50％Ｂ；linear gradient；
２５４nm）を用いた。実施例１と同様の後処理を行
い、アモルファス状の目的化合物を２５３ ＯＤ（２６
０nm）得た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-D
NA、 4.6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１
Ｍ ＴＥＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル； １
０−６０％Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/mi
n；２６０nm）で分析すると１５.４１ｍｉｎに溶出され
た。 UVmax(H₂O):252nm。

【０１４５】（実施例１８）（表１の例示化合物４４
１）

【０１４６】

【化４２】

【０１４７】ボトル#5におよそ0.1 Mの実施例12bの化合
物のアセトニトリル溶液、ボトル#6におよそ0.1 Mの実
施例16aの化合物のアセトニトリル溶液、ボトル#7にお
よそ0.1 Mの実施例7dの化合物のアセトニトリル溶液を
用い、57776GTという塩基配列に変更し、実施例１と同
様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（Preparative C18, Wat
ers, １．５ ｘ １１ ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、
ｐＨ７．５，Ｂ：アセトニトリル；15−50％Ｂ；linear
gradient； ２５４nm）を用いた。実施例１と同様の
後処理を行い、アモルファス状の目的化合物を１７０
ＯＤ（２６０nm）得た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wa
kosil WS-DNA、 4.6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリ
ル、０．１ＭＴＥＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリ
ル； １０−６０％Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradien
t；１ml/min；２６０nm）で分析すると１５.４５ｍｉｎ
に溶出された。 UVmax(H₂O):254nm。

【０１４８】（実施例１９）（表１の例示化合物１６
７）

【０１４９】

【化４３】

【０１５０】ボトル#5におよそ0.1 Mの実施例12bの化合
物のアセトニトリル溶液、ボトル#7におよそ0.1 Mの実
施例7dの化合物のアセトニトリル溶液を用い、5777Tと
いう塩基配列に変更し、実施例１と同様にして合成し
た。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（Preparative C18, Waters, １．５ ｘ
１１ ｃｍ；Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，
Ｂ：アセトニトリル；15−50％Ｂ；linear gradient；
２５４nm）を用いた。実施例１と同様の後処理を行い、
アモルファス状の目的化合物を１２７ ＯＤ（２６０n
m）得た。本化合物は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DN
A、 4.6ｘ150ｍｍ；Ａ：５％アセトニトリル、０．１
Ｍ ＴＥＡＡ、ｐＨ７．０，Ｂ：アセトニトリル； １
０−６０％Ｂ／２０ｍｉｎ；linear gradient；１ml/mi
n；２６０nm）で分析すると１５.８１ｍｉｎに溶出され
た。 UVmax(H₂O):255nm。

【０１５１】（実施例２０）（表１の例示化合物１６
０）

【０１５２】

【化４４】

【０１５３】ボトル#5におよそ0.1 Mの実施例12bの化合
物のアセトニトリル溶液、5GGGTという塩基配列に変更
し、実施例１と同様にして合成した。但し、精製におい
ては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Prep
arative C18, Waters, １．５ ｘ １１ ｃｍ；Ａ：５０
ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，Ｂ：アセトニトリル；15
−50％Ｂ；linear gradient； ２５４nm）を用いた。実
施例１と同様の後処理を行い、アモルファス状の目的化
合物を２０１ ＯＤ（２６０nm）得た。本化合物は、逆
相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.6ｘ150ｍｍ；Ａ：５
％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥＡＡ、ｐＨ７．０，
Ｂ：アセトニトリル； １０−６０％Ｂ／２０ｍｉｎ；
linear gradient；１ml/min；２６０nm）で分析すると
１５.７６ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):252nm。

【０１５４】（実施例２１）（表１の例示化合物１４
３）

【０１５５】

【化４５】

【０１５６】ボトル#7におよそ0.1 Mの実施例7dの化合
物のアセトニトリル溶液を用い、5777Tという塩基配列
に変更し、実施例１と同様にして合成した。但し、精製
においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（Preparative C18, Waters,１．５ ｘ １１ ｃｍ；
Ａ：５０ｍＭ ＴＥＡＢ、ｐＨ７．５，Ｂ：アセトニト
リル；15−50％Ｂ；linear gradient；２５４nm）を用
いた。実施例１と同様の後処理を行い、アモルファス状
の目的化合物を９８ ＯＤ（２６０nm）得た。本化合物
は、逆相ＨＰＬＣ（Wakosil WS-DNA、 4.6ｘ150ｍｍ；
Ａ：５％アセトニトリル、０．１Ｍ ＴＥＡＡ、ｐＨ
７．０，Ｂ：アセトニトリル； １０−６０％Ｂ／２０
ｍｉｎ；linear gradient；１ml/min；２６０nm）で分
析すると１５.２０ｍｉｎに溶出された。 UVmax(H₂O):256nm。

【０１５７】（製剤例１）注射剤 1.5 重量％の実施例11の化合物を、10容量％のプロピレ
ングリコ−ル中で撹拌し、次いで、注射用水で一定容量
にした後、滅菌して製造する。

【０１５８】 上記のうち５）〜８）を混合し造粒した予製顆粒に、
１）〜４）を混合し粉砕したものを添加し、次いで打錠
機により打錠して１錠１００ｍｇの錠剤とする。

【０１５９】 上記の１）〜５）を混合粉砕し，さらにふるいを通し、
よく混合したのち，常法に従いカプセル２００ｍｇのカ
プセル剤とする。

【０１６０】（製剤例４）ハードカプセル剤 標準二分式ハードゼラチンカプセルの各々に、100 mgの
粉末状の実施例１１の化合物、150 mgのラクトース、50
mg のセルロース及び6 mgのステアリン酸マグネシウム
を充填することにより、単位カプセルを製造し、洗浄
後、乾燥する。

【０１６１】（製剤例５）ソフトカプセル剤 消化性油状物、例えば、大豆油、綿実油又はオリ−ブ油
中に入れた実施例１１の化合物の混合物を調製し、正置
換ポンプでゼラチン中に注入して、100 mgの活性成分を
含有するソフトカプセルを得、洗浄後、乾燥する。

【０１６２】（製剤例６）錠剤２ 常法に従って、100 mgの実施例１１の化合物、0.2 mgの
コロイド性二酸化珪素、5 mgのステアリン酸マグネシウ
ム、275 mgの微結晶性セルロ−ス、11 mg のデンプン及
び98.8 mg のラクトースを用いて製造する。

【０１６３】（試験例１）修飾オリゴデオキシリボヌク
レオチドの抗HIV-1 活性の測定 抗HIV-1 活性はパウエルらの方法によって測定した（R.
Pauel et al., J. Virological Methods 20, 309-321(1
988)) 。すなわち, 対数増殖期にあるＭＴ−４細胞を15
0 × gで5 分間遠心し，得られた細胞沈澱を培地にて懸
濁したのちHIV-1 (IIIB 型) を10 CCID５０ の濃度で37
℃で１時間感染させた。その後、牛胎児血清10％を含む
RPMI-1640 培地( 以下「血清培地」と称する) で遠心
し、洗浄することによりHIV-1 感染MT-4細胞を得た。HI
V-1 感染MT-4細胞およびHIV-1 非感染MT-4細胞をそれぞ
れ4 ×10⁵ 細胞/ mlになるように血清培地に懸濁した。
96穴プラスチックマイクロタイタープレート中にあらか
じめ段階希釈した検体化合物溶液( 血清培地に溶解した
もの) を各穴に100 μl づつ入れ, 次いでこの各穴に上
記細胞懸濁液を各々100 μl づつ添加し、５％の炭酸ガ
ス存在下で6 日間静置培養した。同様に, 検体化合物添
加のHIV-1 感染MT-4細胞および検体化合物無添加のHIV-
1 非感染MT-4細胞を培養した。培養終了後，MTT(3-(4,5
-dimethylthiazole-2-yl)-2,5-diphenyl tetrazoliumbr
omide)法に基づき, 生細胞数を測定し(L.M.Green et a
l., J. Immunol. Methods, 70, 257-268(1984)), HIV-1
による細胞障害活性を求めた。検体化合物無添加のHIV
-1 感染MT-4細胞の細胞障害活性を100%とし、検体化合
物無添加のHIV-1 (IIIB 型) 非感染MT-4細胞の細胞障害
活性を０％として、HIV-1 感染MT-4細胞の細胞障害活性
を５０％抑制しうる検体の濃度（ＩＣ₅₀) を求めた。ま
た、検体化合物の細胞毒性活性として、HIV-1 非感染MT
-4細胞の増殖を５０％抑制する濃度（ＣＣ₅₀）を求め
た。これらの測定結果を表３または表４に示す。この試
験は、用いた細胞の状態によって、 ＩＣ₅₀が変動する
ことがあるので、試験ごとに、特願平７−８７９８２の
実施例９４の化合物［本発明の一般式（１）において、
Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からなる配列がＴＧＧＧＡＧであり、
ｚが０である化合物に相当する。］を比較対照化合物と
して用い、そのＩＣ₅₀値で実施例化合物のＩＣ₅₀値を除
した値をＩＣ₅₀相対値とした。

【０１６４】

【表３】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例 ＩＣ₅₀ ＩＣ₅₀ ＣＣ₅₀ (μg/ml) 相対値 (μg/ml) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− １ 2.5 5.0 >50 ２ 1.1 2.2 >50 ３ 1.0 2.0 >50 ４ 0.23 0.46 >50 ５ 4.2 8.4 >50 ６ 1.7 3.4 >50 対照 0.5 1.0 >50 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【０１６５】

【表４】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例 ＩＣ₅₀ ＩＣ₅₀ ＣＣ₅₀ (μg/ml) 相対値 (μg/ml) −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− ７ 1.0 0.63 >50 ８ 1.0 0.63 >50 ９ 0.72 0.45 >50 １０ 1.0 0.63 >50 １１ 0.74 0.46 >50 １２ 2.8 1.8 >50 １３ 5.6 3.5 >50 １４ 2.4 1.5 >50 対照 1.6 1.0 >50 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−

【０１６６】その結果、表３及び表４にあげた修飾オリ
ゴデオキシリボヌクレオチドは、高い抗HIV-1 活性を有
することが明かとなった。これらの化合物は、いずれも
１０μｇ／ｍｌ以下の濃度で抗HIV-1 活性を示した。

【発明の効果】本発明の一般式（１）を有する化合物
は、エイズウイルス（ＨＩＶ−１）に対して特異的な障
害活性を有し、感染細胞における本ウイルスの増殖を特
異的に抑制した。したがって、一般式（１）を有する化
合物はエイズ疾患の治療および予防薬として有用であ
る。また、本発明の一般式（２）で表わされる2-N-メチ
ル-2'-デオキシグアノシン誘導体は、２−Ｎ−メチルグ
アノシンを含有するヌクレオチドを合成するにあたり有
用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｆ 9/6561 Ｃ０７Ｆ 9/6561 Ｚ Ｃ０７Ｈ 19/173 Ｃ０７Ｈ 19/173 Ｃ１２Ｎ 15/09 Ｃ１２Ｎ 15/00 Ａ (72)発明者 古川 秀比古 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内 (72)発明者 西垣 隆 東京都中央区日本橋本町３丁目５番１号 三共株式会社内三共株式会社内

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１） 【化１】 （式中、Ｂ₁はＭ，Ｘ、Ｒ、Ｋｎ、Ａ、Ｇ、ＣまたはＴ
   であり、Ｂ₂及びＢ₃は、同一または異なって、ａ、ｇ、
   ｃ、ｔ、Ｍ、Ｘ、Ｒ、Ｋｎ、Ａ、Ｇ、ＣまたはＴであ
   り、ｍは０乃至７の整数を示し、ｚは０乃至９の整数を
   示し、Ｓ₁及びＳ₂は、同一又は異なって、水素原子、炭
   素数１乃至４個のアルキル基、炭素数１乃至４個のアル
   コキシ基又はハロゲン原子を示す。ここで、Ｂ₂はｍの
   繰り返しにおいてそれぞれ同一または異なっていてもよ
   く、ａ、ｇ、ｃ、ｔ、Ｍ、Ｘ、Ｒ、Ｋｎ、Ａ、Ｇ、Ｃ及
   びＴは、 【化２】 を示し、Ｋｎ自体及びＫｎを表わす式において、ｎは２
   乃至６の整数である。但し、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からなる
   配列がＡ、Ｇ、Ｃ及びＴの組みあわせのみからなるも
   の、並びに、Ｂ₁及びＢ₂からなる配列がＡ、Ｇ、Ｃ及び
   Ｔの組み合わせからなり、かつ、Ｂ₃がＫ₂であるものを
   除く。）を有するオリゴデオキシリボヌクレオチド及び
   その薬理上許容しうる塩。
2. 【請求項２】請求項１において、Ｂ₁がＴ，Ｒ又はＫｎ
   （ｎは２乃至６）であり、Ｂ₂がＡ，Ｇ，ｇ、Ｍ、Ｘ又
   はＫｎ（ｎは２乃至６）であり、Ｂ₃がＧ，ｇ又はＭで
   あり、ｍが２乃至４であり、ｚが０乃至４である化合
   物。
3. 【請求項３】請求項１において、Ｂ₁がＴ，Ｒ又はＫｎ
   （ｎは３又は６）であり、Ｂ₂がＧ、ｇ又はＭであり、
   Ｂ₃がｇであり、ｍが２乃至３であり、ｚが０又は１で
   あり、Ｓ₁及びＳ₂が水素原子である化合物。
4. 【請求項４】請求項１において、Ｂ₁がＴ又はＫｎ（ｎ
   は３又は６）であり、Ｂ₂がＧ、ｇ又はＭであり、Ｂ₃が
   ｇであり、ｍが２乃至３であり、ｚが０であり、Ｓ₁及
   びＳ₂が水素原子である化合物。
5. 【請求項５】請求項１において、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃から
   なる配列が、ＴＧＧｇｇ、ＴＧＧＧｇ，Ｋ₃ＧＧＧ，Ｋ₃
   ＭＭＭ又はＫ₃ＧＧＧＧである化合物。
6. 【請求項６】請求項１において、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃から
   なる配列が、ＴＧＧＧｇであり、ｍが２乃至３であり、
   ｚが０であり、Ｓ₁及びＳ₂が水素原子である化合物。
7. 【請求項７】請求項１において、Ｂ₁がＧ，Ｔ，Ｍ又は
   Ｘであり、Ｂ₂がＡ，Ｇ，Ｍ又はＸであり、Ｂ₃がＧ，Ｍ
   又はＸであり、ｍが０乃至４であり、ｚが０又は１であ
   る化合物。
8. 【請求項８】請求項１において、Ｂ₁がＴであり、Ｂ₂が
   Ａ，Ｇ又はＭであり、Ｂ₃がＧ又はＭであり、ｍが２乃
   至４であり、ｚが０であり、Ｓ₁及びＳ₂が水素原子であ
   り、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃からなる配列中のＡの個数が０乃
   至１個である化合物。
9. 【請求項９】請求項１において、Ｂ₁がＴであり、Ｂ₂が
   Ａ，Ｇ又はＭであり、Ｂ₃がＧ又はＭであり、ｍが₄であ
   り、ｚが０であり、Ｓ₁及びＳ₂が水素原子であり、
   Ｂ₁、Ｂ ₂及びＢ₃からなる配列中のＡの個数が１個であ
   る化合物。
10. 【請求項１０】請求項１において、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃か
    らなる配列が、ＴＭＭＭ，ＴＭＧＧＡＧ，ＴＧＭＧＡ
    Ｇ，ＴＧＧＭＡＧ，ＴＧＧＧＡＭ、ＴＭＭＭＡＧ又はＴ
    ＸＸＸＸであり、ｍが４であり、ｚが０であり、Ｓ₁及
    びＳ₂が水素原子である化合物。
11. 【請求項１１】請求項１において、Ｂ₁、Ｂ₂及びＢ₃か
    らなる配列が、ＴＭＧＧＡＧ，ＴＧＭＧＡＧ，ＴＧＧＭ
    ＡＧ，ＴＧＧＧＡＭ又はＴＭＭＭＡＧであり、ｍが４で
    あり、ｚが０であり、Ｓ₁及びＳ₂が水素原子である化合
    物。
12. 【請求項１２】請求の範囲第１項に記載の化合物又はそ
    の薬理上許容される塩を有効成分とする、医薬組成物。
13. 【請求項１３】医薬を製造するための請求の範囲第１項
    に記載の化合物又はその薬理上許容される塩の使用。
14. 【請求項１４】一般式 【化３】 ［式中、Ｒ₁は、水素原子、4,4'-ジメトキシトリチル基
    又は4-モノメトキシトリチル基を示し、Ｒ₂は、水素原
    子、式-P(OCH₂CH₂CN)N(CH(CH₃)₂)₂、または、式-P(OC
    H₃)N(CH(CH₃)₂)₂である。］で表わされる化合物。
15. 【請求項１５】下記群から選択される、請求項１５に記
    載の化合物：２−シアノエチル＝2-N-メチル-6-O-ジフ
    ェニルカルバミル-2'-デオキシ-5'-O-（4,4'-ジメトキ
    シトリチル）グアノシン-3'-O-イル−N,N-ジイソプロピ
    ルホスホロアミダイト、メチル＝2-N-メチル-6-O-ジフ
    ェニルカルバミル-2'-デオキシ-5'-O-（4,4'-ジメトキ
    シトリチル）グアノシン-3'-O-イル−N,N-ジイソプロピ
    ルホスホロアミダイト、2−シアノエチル＝2-N-メチル-
    6-O-ジフェニルカルバミル-2'-デオキシ-5'-O-（4-モノ
    メトキシトリチル）グアノシン-3'-O-イル−N,N-ジイソ
    プロピルホスホロアミダイト及びメチル＝2-N-メチル-6
    -O-ジフェニルカルバミル-2'-デオキシ-5'-O-（4-モノ
    メトキシトリチル）グアノシン-3'-O-イル−N,N-ジイソ
    プロピルホスホロアミダイトの化合物。