JPH11199281A - 流動性セメント及びセメント摩砕装置 - Google Patents

流動性セメント及びセメント摩砕装置

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JPH11199281A
JPH11199281A JP1340098A JP1340098A JPH11199281A JP H11199281 A JPH11199281 A JP H11199281A JP 1340098 A JP1340098 A JP 1340098A JP 1340098 A JP1340098 A JP 1340098A JP H11199281 A JPH11199281 A JP H11199281A
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JP
Japan
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cement
grinding
holding gap
plate
raw material
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JP1340098A
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Yozo Yamamoto
洋三 山本
Hideo Arataira
英雄 荒平
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 混和材を用いることなく、セメント単独で流
動性が高いコンクリートの材料として使用できると共
に、廉価で手間の要らない流動性セメント及びこの流動
性セメントを得るためのセメント摩砕技術の提供。 【解決手段】 原料セメントを摩砕加工して流動性セメ
ントを得るもので、上下に対向配置した上側固定円板
(上側摩砕板)1aと下側回転円板(下側摩砕板)1b
とを備え、上側固定円板と下側回転円板の間にセメント
保持間隙3aが形成され、セメント保持間隙に連通する
原料セメントの供給穴10が上側固定円板に形成され、
下側回転円板が回転駆動装置20に連結されている構
成。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、流動性が高いコン
クリートを製造する際に、そのコンクリート材料として
使用される流動性セメント及びこの流動性セメントを得
るために、原料セメントを摩砕するのに用いられるセメ
ント摩砕装置に関する。
【0002】
【従来の技術】流動性が高いコンクリートは、打ち込み
作業に際し、その流動性によって型枠の隅々にまで容易
かつ確実にコンクリートを充填できることから、打ち込
み作業の簡略化、コンクリート構造物の信頼性の向上な
ど多くの利点があり、今後の需要がますます増大すると
予想される。
【0003】従来、流動性が高いコンクリートに使用さ
れるセメントとしては、例えば、通常のセメント(ポル
トランドセメント等)に単独で混和材(フライアッシ
ュ、高炉スラグ微粉末、石灰石微粉末、シリカフューム
等)を混合するか、あるいは始めから混和材が混合され
ている二成分セメントや三成分セメントが知られてい
る。そして、これらの混和材によって流動性が向上する
と共に、高密度、高耐久性のコンクリートが得られてい
る。
【0004】尚、従来、セメントは、その製造に際し、
粉砕加工によって微粉末にされ、その製造工程中に摩砕
加工を行なうことはない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来で
は、流動性が高いコンクリートを製造するには、混和材
を混合することが不可欠であるため、価格面や混合手間
等の面で不利になるという問題があった。
【0006】本発明は、上述のような従来の問題を解決
するためになされたもので、混和材を用いることなく、
セメント単独で流動性が高いコンクリートの材料として
使用できると共に、廉価で手間の要らない流動性セメン
ト及びこの流動性セメントを得るためのセメント摩砕装
置を提供することを課題としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明(請求項1)の流動性セメントは、原料セ
メントを摩砕加工した。
【0008】セメントを摩砕加工すると、セメント粒子
の角が取れて丸みを帯びることになる。又、セメント粒
子の角が取れることによる細粒化によってセメント粒子
の粒径が小さくなると共に、取れた角やセメント粒子の
割れによってさらに細粒化される。従って、この流動性
セメントは、加工前の原料セメントと比較すると、セメ
ント粒子が丸みを帯びると共に、全体的に粉末度が高く
(セメント粒子が細かく)なる。
【0009】このように、本発明の流動性セメントで
は、摩砕加工によってセメント粒子が丸みを帯びている
ため、流動性の向上を図ることができる。又、全体的に
セメント粒子の粒径が小さくなるために粒子間空隙が小
さくなり、実積率が向上する。この結果、単位水量を減
少することができ、コンクリートのワーカビリティーが
向上すると共に、高密度できめが細かく、高耐久性のコ
ンクリートが得られる。
【0010】ここで、原料セメントとしては、ポルトラ
ンドセメント系(普通ポルトランドセメント、早強ポル
トランドセメント、超早強ポルトランドセメント、中庸
熱ポルトランドセメント、耐硫酸塩ポルトランドセメン
ト)、混合セメント系(高炉セメント、フライアッシュ
セメント、シリカセメント)、特殊セメント系(アルミ
ナセメント、超速硬セメント)等を使用することができ
る。又、原料セメントを一度摩砕加工したものを単独
で、あるいは前記した各セメントに混合したものを再び
原料セメントとし、これを再度摩砕加工して流動性セメ
ントとしてもよい。
【0011】次に、本発明(請求項2)のセメント摩砕
装置は、上下に対向配置した上側摩砕板と下側摩砕板と
を備え、この上側摩砕板と下側摩砕板の間にセメント保
持間隙が形成され、このセメント保持間隙に連通する原
料セメントの供給穴が前記上側摩砕板に形成され、前記
上側摩砕板と下側摩砕板のうち少なくとも一方が回転駆
動装置に連結されている構成とした。
【0012】前記セメント摩砕装置において、セメント
保持間隙が中央部から外周部に向けて次第に狭幅に形成
されている態様(請求項3)と、上側摩砕板と下側摩砕
板のうち少なくとも一方の対向面に突出部が設けられて
いる態様(請求項4)がある。
【0013】従って、このセメント摩砕装置を使用する
に際しては、上側摩砕板あるいは下側摩砕板のうち少な
くとも一方を回転駆動装置によって回転させながら、上
側摩砕板に形成された供給穴から原料セメントを投入す
る。この原料セメントはセメント保持間隙に流入し、こ
こで摩砕板の回転により円周方向へ移動すると共に遠心
力によって外周方向に移動しながら、摩砕板の回転によ
る粒子同士の擦れ合いによって摩砕加工される。そし
て、この摩砕加工された原料セメントは、流動性セメン
トとなってセメント保持間隙の外周から排出される。
【0014】この場合、セメント保持間隙を中央部から
外周部に向けて次第に狭幅に形成すると、原料セメント
を効率的かつ効果的に摩砕加工することができる。即
ち、回転している摩砕板の周速及び遠心力は外周側ほど
大きいため、セメント保持間隙に流入した原料セメント
は、外周側に移動するにつれ移動速度が速くなり、それ
だけ原料セメントが疎になって粒子同士の擦れ合いが薄
くなる。
【0015】これに対し、セメント保持間隙を摩砕板の
中央部から外周部に向けて次第に狭幅に形成すると、セ
メントの出口が次第に狭くなるためセメントの排出量が
抑制される。これにより原料セメントがセメント保持間
隙を密な状態で移動することになるし、セメント保持間
隙に滞留する時間が長くなる。従って、粒子同士の擦れ
合いが厚くなると共に、擦れ合いの時間が長くなり、こ
の結果、原料セメントを効率的かつ効果的に摩砕加工す
ることができる。
【0016】又、上側摩砕板と下側摩砕板のうち少なく
とも一方の対向面に突出部が設けられていると、セメン
ト保持間隙に流入した原料セメントに対し、突出部によ
って摩砕板の回転力が確実に作用し、摩砕板の回転によ
る粒子同士の擦れ合いが増進する。
【0017】
【実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面により
詳述する。図1は実施の第1形態であるセメント摩砕装
置の概略を示す断面図である。
【0018】このセメント摩砕装置は、上下に対向配置
した上側固定円板(上側摩砕板)1aと、下側回転円板
(下側摩砕板)2aとを備え、この上側固定円板1aと
下側回転円板2aの間にセメント保持間隙3aが形成さ
れている。
【0019】前記上側固定円板1aは、金属(鉄、鋳
鉄、ステンレス等)で円形に形成され、その中央部に前
記セメント保持間隙3aに連通する原料セメントの供給
穴10が形成されている。尚、この上側固定円板1aは
ケーシング4に固定されている。尚、前記ケーシング4
は、ステンレスによって円筒状に形成され、その上端に
前記供給穴10に連通する投入ホッパ40が形成され、
その下端に流動性セメントの排出口41が形成されてい
る。
【0020】前記下側回転円板2aは、上側固定円板1
aと同様の金属で円形に形成され、その下面中央部に回
転駆動装置20が連結されている。この回転駆動装置2
0は、ケーシング4に軸支された回転軸21が下側回転
円板2aの下面中央部に連結され、この回転軸21にプ
ーリ22が取り付けられ、このプーリ22にベルト23
が掛け回され、駆動モータ(図示せず)からの回転力が
回転軸21を介して下側回転円板2aに伝達される構造
となっている。
【0021】前記セメント保持間隙3aは、中央部から
外周部に向けて次第に狭幅に形成されている。この場
合、上側固定円板1aの対向面11は平坦面に形成さ
れ、下側回転円板2aの対向面24が外周部から中央部
に向けて次第に深く窪むような傾斜面に形成されてい
る。
【0022】又、前記上側固定円板1aの対向面11は
粗面に形成され、他方の下側回転円板2aの対向面24
には突出部としての金網24aが張設されている。
【0023】従って、このセメント摩砕装置を使用する
に際しては、下側回転円板2aを回転駆動装置20によ
って回転させながら、ケーシング4の投入ポッパ40か
ら上側固定円板1aに形成された供給穴10に原料セメ
ントを投入する。この原料セメントは供給穴10からセ
メント保持間隙3aに流入し、ここで下側回転円板2a
の回転により円周方向へ移動すると共に遠心力によって
外周方向に移動しながら、下側回転円板2aの回転によ
る粒子同士の擦れ合いによって摩砕加工される。この摩
砕加工された原料セメントは、流動性セメントとなって
下側回転円板2aの回転による遠心力でセメント保持間
隙3aの外周から排出され、ケーシング4の排出口41
から取り出される。
【0024】このように、供給穴10から投入された原
料セメントがセメント保持間隙3aに流入し、ここで摩
砕加工されたのちセメント保持間隙3aの外周から排出
されるため、原料セメントを連続して投入すれば、摩砕
加工された流動性セメントを連続して製造することがで
きる。
【0025】又、セメント保持間隙3aが中央部から外
周部に向けて次第に狭幅に形成されているため、セメン
トの出口が次第に狭くなり、セメントの排出量が抑制さ
れる。これにより原料セメントがセメント保持間隙3a
を密な状態で移動することになるし、セメント保持間隙
3aに滞留する時間が長くなる。従って、粒子同士の擦
れ合いが厚くなると共に、擦れ合いの時間が長くなり、
この結果、原料セメントを効率的かつ効果的に摩砕加工
することができる。
【0026】又、下側回転円板2aの対向面24に突出
部としての金網24aが張設されているため、セメント
保持間隙3aに流入した原料セメントに対し、金網24
aによって下側回転円板2aの回転力を確実に作用させ
ることができ、下側回転円板2aの回転による粒子同士
の擦れ合いを増進させることができる。
【0027】尚、本出願人において、このセメント摩砕
装置を用いて流動性セメントを製造したときの試験結果
の一例を以下に示す。原料セメントとして普通ポルトラ
ンドセメントを用い、上側固定円板1aと下側回転円板
2aの直径を80cmとし、下側回転円板2aを300
0rpmで回転させて流動性セメントを製造した。この
原料セメントと流動性セメントを用いて製造したコンク
リートのスランプ値を測定したところ、原料セメントを
用いたコンクリートが15.5cmであるのに対し、流
動性セメントを用いたコンクリートは19.5cmであ
った。この試験結果で明らかなように、原料セメントを
摩砕加工することによって流動性セメントを得ることが
できる。
【0028】次に、図2は実施の第2形態であるセメン
ト摩砕装置の要部を示す断面図である。このセメント摩
砕装置では、上下に対向配置した上側回転円板(上側摩
砕板)1bと、下側固定円板(下側摩砕板)2bとを備
え、この上側回転円板1bの対向面12が外周部から中
央部に向けて次第に深く窪むような傾斜面に形成され、
これによって、セメント保持間隙3bが中央部から外周
部に向けて次第に狭幅に形成されている。尚、前記上側
回転円板1bは、外周面に形成された歯車13にピニオ
ン14を噛みあわせた回転駆動装置15によって回転す
る。又、上側回転円板1bの対向面12には、突出部と
しての多数の突起12aが設けられている。
【0029】次に、図3は実施の第3形態であるセメン
ト摩砕装置の要部を示す断面図である。このセメント摩
砕装置では、上下に対向配置した上側回転円板(上側摩
砕板)1bと、下側回転円板(下側摩砕板)2aとを備
え、この上側回転円板1bの対向面12及び下側回転円
板2aの対向面24が共に外周部から中央部に向けて次
第に深く窪むような傾斜面に形成され、これによって、
セメント保持間隙3cが中央部から外周部に向けて次第
に狭幅に形成されている。尚、前記上側回転円板1bの
回転駆動装置15は実施の第2形態と同様に形成され、
下側回転円板2aの回転駆動装置20は実施の第1形態
と同様に形成されている。この場合、上側回転円板1b
と下側回転円板2aの回転方向は逆になっている。又、
上側回転円板1bの対向面12及び下側回転円板2aの
対向面24には、それぞれ突出部としての多数の突条1
2b,24bが筋状に突設されている。
【0030】以上、本発明の実施の形態を図面により説
明したが、具体的な構成は、これに限定されることはな
い。例えば、流動性セメント(請求項1)について、そ
の製造装置は、実施の形態で示したセメント摩砕装置を
必ずしも使用する必要はなく、要は原料セメントを摩砕
できればよし、その摩砕の度合についても必要なスラン
プ値に応じて決定する。
【0031】又、セメント摩砕装置(請求項2)につい
て、摩砕板の材質、摩砕板の直径、回転速度、セメント
保持間隙のクリアランス等は、摩砕の度合や処理量等に
応じて適宜に決定することができる。又、回転駆動装置
についても、駆動源からの回転力をベルト、チエン、歯
車等の伝達手段で摩砕板に伝達することができる構造で
あればよいし、又、突出部についても、対向面自体に突
起や突条や凹凸を加工したものでもよいし、あるいは対
向面に金網や凸部材を取り付けるようにしてもよい。
【0032】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明の流動
性セメント(請求項1)では、原料セメントを摩砕加工
したものであるため、セメント粒子が丸みを帯び、流動
性の向上を図ることができる。又、全体的にセメント粒
子の粒径が小さくなるために粒子間空隙が小さくなり、
実績率が向上する。この結果、単位水量を減少すること
ができ、コンクリートのワーカビリティーが向上すると
共に、高密度できめが細かく、高耐久性のコンクリート
が得られる。
【0033】又、本発明のセメント摩砕装置(請求項
2)にあっては、供給穴から投入された原料セメントが
セメント保持間隙に流入し、ここで摩砕加工されたのち
セメント保持間隙の外周から排出されるため、原料セメ
ントを摩砕加工した流動性セメントを連続して製造する
ことができる。
【0034】又、セメント保持間隙を中央部から外周部
に向けて次第に狭幅に形成すると(請求項3)、原料セ
メントがセメント保持間隙を密な状態で移動することに
なるし、セメント保持間隙に滞留する時間が長くなる。
従って、粒子同士の擦れ合いが厚くなると共に、擦れ合
いの時間が長くなり、この結果、原料セメントを効率的
かつ効果的に摩砕加工することができる。
【0035】又、上側摩砕板と下側摩砕板のうち少なく
とも一方の対向面に突出部が設けられていると(請求項
4)、セメント保持間隙に流入した原料セメントに対
し、突出部によって摩砕板の回転力が確実に作用し、摩
砕板の回転による粒子同士の擦れ合いが増進する。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の第1形態であるセメント摩砕装置の概略
を示す断面図である。
【図2】実施の第2形態であるセメント摩砕装置の要部
を示す断面図である。
【図3】実施の第3形態であるセメント摩砕装置の要部
を示す断面図である。
【符号の説明】
1a 上側固定円板(上側摩砕板) 10 供給穴 2a 下側回転円板(下側摩砕板) 20 回転駆動装置 24 対向面 24a 金網(突出部) 3a セメント保持間隙

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原料セメントを摩砕加工したことを特徴
    とする流動性セメント。
  2. 【請求項2】 上下に対向配置した上側摩砕板と下側摩
    砕板とを備え、 この上側摩砕板と下側摩砕板の間にセメント保持間隙が
    形成され、 このセメント保持間隙に連通する原料セメントの供給穴
    が前記上側摩砕板に形成され、 前記上側摩砕板と下側摩砕板のうち少なくとも一方が回
    転駆動装置に連結されていることを特徴としたセメント
    摩砕装置。
  3. 【請求項3】 請求項2記載のセメント摩砕装置におい
    て、セメント保持間隙が中央部から外周部に向けて次第
    に狭幅に形成されているセメント摩砕装置。
  4. 【請求項4】 請求項2記載のセメント摩砕装置におい
    て、上側摩砕板と下側摩砕板のうち少なくとも一方の対
    向面に突出部が設けられているセメント摩砕装置。
JP1340098A 1998-01-06 1998-01-06 流動性セメント及びセメント摩砕装置 Pending JPH11199281A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020003602A1 (ja) * 2018-06-25 2020-01-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 電極処理方法

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WO2020003602A1 (ja) * 2018-06-25 2020-01-02 パナソニックIpマネジメント株式会社 電極処理方法
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