JPH11197622A - 有害塩素化合物の脱塩素化法 - Google Patents
有害塩素化合物の脱塩素化法Info
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- JPH11197622A JPH11197622A JP10004632A JP463298A JPH11197622A JP H11197622 A JPH11197622 A JP H11197622A JP 10004632 A JP10004632 A JP 10004632A JP 463298 A JP463298 A JP 463298A JP H11197622 A JPH11197622 A JP H11197622A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明はダイオキシンに代表される有害塩素
物質の無害化に関するものである。 【解決手段】 芳香族塩素化合物と希薄アルカリ水溶液
との混合液にラネーＮｉ−Ａｌ合金を添加したり、また
は芳香族塩素化合物とラネーＮｉ−Ａｌ合金との混合
物、あるいは芳香族塩素化合物、ラネーＮｉ−Ａｌ合金
及び水との混合液に希薄アルカリ水溶液を撹拌下に添加
することを特徴とする有害塩素化合物の脱塩素化法であ
る。
物質の無害化に関するものである。 【解決手段】 芳香族塩素化合物と希薄アルカリ水溶液
との混合液にラネーＮｉ−Ａｌ合金を添加したり、また
は芳香族塩素化合物とラネーＮｉ−Ａｌ合金との混合
物、あるいは芳香族塩素化合物、ラネーＮｉ−Ａｌ合金
及び水との混合液に希薄アルカリ水溶液を撹拌下に添加
することを特徴とする有害塩素化合物の脱塩素化法であ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ダイオキシン等の
有害塩素化合物の無害化法に関するものである。
有害塩素化合物の無害化法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ダイオキシンに代表される有害塩素化合
物の無害化に関する研究は多くなされているが、実用的
かつ有効な方法は開発されていないのが現状である。例
えば、ＰＣＢを含んだトランスオイルをＮａＯＨやＣａ
Ｏなどのアルカリ類と高温で処理したり、危険なナトリ
ウムを用いて高温に加熱する方法が知られている。しか
し、いずれの場合も操作は容易でない上に、有機化合物
の回収は不可能である。ＰＣＢの除去として焼却法も考
えられていた時期も有ったが、ダイオキシンの発生が認
められたために大きな社会問題となったことは記憶に新
しい。
物の無害化に関する研究は多くなされているが、実用的
かつ有効な方法は開発されていないのが現状である。例
えば、ＰＣＢを含んだトランスオイルをＮａＯＨやＣａ
Ｏなどのアルカリ類と高温で処理したり、危険なナトリ
ウムを用いて高温に加熱する方法が知られている。しか
し、いずれの場合も操作は容易でない上に、有機化合物
の回収は不可能である。ＰＣＢの除去として焼却法も考
えられていた時期も有ったが、ダイオキシンの発生が認
められたために大きな社会問題となったことは記憶に新
しい。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ＰＣＢ、塩
素化ジベンゾフラン、ダイオキシンから塩素原子を容易
な操作で脱離するとともに、それぞれの母化合物である
ビフェニール、ジベンゾフラン、ジベンゾジオキサンを
回収する簡便な方法の開発を目的とする。
素化ジベンゾフラン、ダイオキシンから塩素原子を容易
な操作で脱離するとともに、それぞれの母化合物である
ビフェニール、ジベンゾフラン、ジベンゾジオキサンを
回収する簡便な方法の開発を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の目的をするため本
発明は 芳香族塩素化合物と希薄アルカリ水溶液との混合液にラ
ネーＮｉ−Ａｌ合金を添加することを特徴とする有害塩
素化合物の脱塩素化法 芳香族塩素化合物とラネーＮｉ−Ａｌ合金との混合物に
希薄アルカリ水溶液を撹拌下に添加することを特徴とす
る有害塩素化合物の脱塩素化法 上記混合物に水を混合した後、希薄アルカリ水溶液を撹
拌下に添加する上記第２発明記載の有害塩素化合物の脱
塩素化法 によって構成される。
発明は 芳香族塩素化合物と希薄アルカリ水溶液との混合液にラ
ネーＮｉ−Ａｌ合金を添加することを特徴とする有害塩
素化合物の脱塩素化法 芳香族塩素化合物とラネーＮｉ−Ａｌ合金との混合物に
希薄アルカリ水溶液を撹拌下に添加することを特徴とす
る有害塩素化合物の脱塩素化法 上記混合物に水を混合した後、希薄アルカリ水溶液を撹
拌下に添加する上記第２発明記載の有害塩素化合物の脱
塩素化法 によって構成される。
【０００５】
【発明の実施の形態】アルカリ水溶液中ラネーＮｉ−Ａ
ｌ合金で処理する還元法は、芳香族塩素化合物から還元
的に塩素原子を除去することができる。上記反応に際し
希薄なアルカリ水溶液を用いることにより、強い還元力
を発現でき有害塩素化合物の脱塩素化を行うことができ
ることを初めて見出した。すなわち、芳香族塩素化合物
と希薄アルカリ水溶液との混合液にラネーＮｉ−Ａｌ合
金を添加したり、または芳香族塩素化合物とラネーＮｉ
−Ａｌ合金との混合物、あるいは芳香族塩素化合物、ラ
ネーＮｉ−Ａｌ合金及び水との混合液に希薄アルカリ水
溶液を撹拌下に添加することにより強い還元力を発現
し、これらの有害塩素化合物の無害化反応がスムースに
進行する。特に、後者の場合、希薄アルカリ水溶液を滴
下するのみなので、操作が非常に簡単であるため工業化
の際に有効である。尚、従来の脱塩素化法にない特徴と
して、高温に加熱する必要がなく、９０℃程度の温度で
反応が進行することがあげられる。更に、通常のラネー
Ｎｉ−Ａｌ合金を用いる方法に比べ希薄アルカリ水溶液
中では水素の発生が非常に穏やかであり、Ａｌ展開に伴
う急激な温度上昇も見られないため、危険性もなく又、
操作性も良い。アルカリ水溶液の濃度は一般には０．１
〜１０％の範囲で選ばれるが、好ましくは０．１〜１％
である。反応はアルカリ水溶液中で行われる。この際、
ジオキサンの溶媒としての使用は必ずしも必要としな
い。
ｌ合金で処理する還元法は、芳香族塩素化合物から還元
的に塩素原子を除去することができる。上記反応に際し
希薄なアルカリ水溶液を用いることにより、強い還元力
を発現でき有害塩素化合物の脱塩素化を行うことができ
ることを初めて見出した。すなわち、芳香族塩素化合物
と希薄アルカリ水溶液との混合液にラネーＮｉ−Ａｌ合
金を添加したり、または芳香族塩素化合物とラネーＮｉ
−Ａｌ合金との混合物、あるいは芳香族塩素化合物、ラ
ネーＮｉ−Ａｌ合金及び水との混合液に希薄アルカリ水
溶液を撹拌下に添加することにより強い還元力を発現
し、これらの有害塩素化合物の無害化反応がスムースに
進行する。特に、後者の場合、希薄アルカリ水溶液を滴
下するのみなので、操作が非常に簡単であるため工業化
の際に有効である。尚、従来の脱塩素化法にない特徴と
して、高温に加熱する必要がなく、９０℃程度の温度で
反応が進行することがあげられる。更に、通常のラネー
Ｎｉ−Ａｌ合金を用いる方法に比べ希薄アルカリ水溶液
中では水素の発生が非常に穏やかであり、Ａｌ展開に伴
う急激な温度上昇も見られないため、危険性もなく又、
操作性も良い。アルカリ水溶液の濃度は一般には０．１
〜１０％の範囲で選ばれるが、好ましくは０．１〜１％
である。反応はアルカリ水溶液中で行われる。この際、
ジオキサンの溶媒としての使用は必ずしも必要としな
い。
【０００６】芳香族塩素化合物、ラネーＮｉ−Ａｌ合金
との混合物に水を混合することにより、希薄なアルカリ
水溶液を添加した場合、アルカリ濃度がさらに希薄とな
り強い還元力を発現することができることは上述のとお
りである。
との混合物に水を混合することにより、希薄なアルカリ
水溶液を添加した場合、アルカリ濃度がさらに希薄とな
り強い還元力を発現することができることは上述のとお
りである。
【０００７】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明は、これらの実施例に限定されるものでは
ない。
るが、本発明は、これらの実施例に限定されるものでは
ない。
【０００８】実施例１ ４−クロロジフェニール（５ｍｍｏｌ，０．９４ｇ）、
ジオキサン（５ｍｌ）ラネーＮｉ−Ａｌ合金（１０ｇ）
の混合物に、室温で撹拌しながら３０分間で１０％Ｎａ
ＯＨ（８０ｍｌ）を滴下した。滴下後９０℃で６時間撹
拌した後、不溶物を濾別し、水層をジクロロメタンで抽
出した。抽出液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧下に溜去したところ、６８９ｍｇ（８９
％）のジフェニールを得た。ガスクロマトグラム測定で
はジフェニールの収率はほぼ定量的であった。
ジオキサン（５ｍｌ）ラネーＮｉ−Ａｌ合金（１０ｇ）
の混合物に、室温で撹拌しながら３０分間で１０％Ｎａ
ＯＨ（８０ｍｌ）を滴下した。滴下後９０℃で６時間撹
拌した後、不溶物を濾別し、水層をジクロロメタンで抽
出した。抽出液を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を減圧下に溜去したところ、６８９ｍｇ（８９
％）のジフェニールを得た。ガスクロマトグラム測定で
はジフェニールの収率はほぼ定量的であった。
【０００９】実施例２ ４−クロロジフェニール（５ｍｍｏｌ，０．９４ｇ）、
ジオキサン（５ｍｌ）、ラネーＮｉ−Ａｌ合金（２．５
ｇ）の混合物に、室温で撹拌しながら３０分間で１％Ｎ
ａＯＨ（２００ｍｌ）を滴下した。滴下後９０℃で４時
間撹拌した。反応終了後、実施例１と同様な処理をし
て、７０５ｍｇ（９１％）のジフェニールを得た。ガス
クロマトグラム測定ではジフェニールの収率はほぼ定量
的であった。
ジオキサン（５ｍｌ）、ラネーＮｉ−Ａｌ合金（２．５
ｇ）の混合物に、室温で撹拌しながら３０分間で１％Ｎ
ａＯＨ（２００ｍｌ）を滴下した。滴下後９０℃で４時
間撹拌した。反応終了後、実施例１と同様な処理をし
て、７０５ｍｇ（９１％）のジフェニールを得た。ガス
クロマトグラム測定ではジフェニールの収率はほぼ定量
的であった。
【００１０】実施例３ ４−クロロジフェニール（５ｍｍｏｌ，０．９４ｇ）と
ラネーＮｉ−Ａｌ合金（２．５ｇ）との混合物に、室温
で撹拌しながら３０分間で１％ＮａＯＨ（２００ｍｌ）
を滴下した。滴下後９０℃で６時間撹拌した。反応終了
後、実施例１と同様な処理をして、６７４ｍｇ（８７
％）のジフェニールを得た。ガスクロマトグラム測定で
はジフェニールの収率はほぼ定量的であった。
ラネーＮｉ−Ａｌ合金（２．５ｇ）との混合物に、室温
で撹拌しながら３０分間で１％ＮａＯＨ（２００ｍｌ）
を滴下した。滴下後９０℃で６時間撹拌した。反応終了
後、実施例１と同様な処理をして、６７４ｍｇ（８７
％）のジフェニールを得た。ガスクロマトグラム測定で
はジフェニールの収率はほぼ定量的であった。
【００１１】実施例４ ４−クロロジフェニール（５ｍｍｏｌ，０．９４ｇ）と
１％ＮａＯＨ（４００ｍｌ）との混合液に、９０℃で撹
拌しながら３０分間でラネーＮｉ−Ａｌ合金（５ｇ）を
３０分間で添加した。添加後同条件下で３時間撹拌後、
実施例１と同様な処理をして、ジフェニールとフェニル
シクロヘキサンとの混合物（ガスクロマトグラフィーよ
り生成比：ジフェニール／フェニルシクロヘキサン＝３
５／６５）を得た。シリカゲルカラム（展開溶媒：ヘキ
サン）に付し、２１６ｍｇ（２７％）のジフェニールと
４３６ｍｇ（５５％）のフェニルシクロヘキサンを得
た。
１％ＮａＯＨ（４００ｍｌ）との混合液に、９０℃で撹
拌しながら３０分間でラネーＮｉ−Ａｌ合金（５ｇ）を
３０分間で添加した。添加後同条件下で３時間撹拌後、
実施例１と同様な処理をして、ジフェニールとフェニル
シクロヘキサンとの混合物（ガスクロマトグラフィーよ
り生成比：ジフェニール／フェニルシクロヘキサン＝３
５／６５）を得た。シリカゲルカラム（展開溶媒：ヘキ
サン）に付し、２１６ｍｇ（２７％）のジフェニールと
４３６ｍｇ（５５％）のフェニルシクロヘキサンを得
た。
【００１２】
【発明の効果】ＰＣＢを含んだトランスオイルやコンデ
ンサー、また未処理のＰＣＢなどの処理について、本発
明方法が経済的で操作も容易で極めて有効であることが
確認できる。またごみ焼却に伴うダイオキシンの発生に
関連した飛灰中含まれたダイオキシンの無害化に威力を
発揮することが期待できる。また、先に述べた母化合物
がほぼ定量的に回収できるので資源の再利用にも貢献で
きる。さらに、本反応の過程で生成する、ＮｉとＡｌ
（ＯＨ）3 の混合物は加熱によりＮｉ−Ａｌ2 Ｏ3とな
り触媒として活用できるし、水素は燃料として、また還
元剤として用いられる。このように、本発明方法は経済
的で社会生活に大きな貢献をすることが期待できる。
ンサー、また未処理のＰＣＢなどの処理について、本発
明方法が経済的で操作も容易で極めて有効であることが
確認できる。またごみ焼却に伴うダイオキシンの発生に
関連した飛灰中含まれたダイオキシンの無害化に威力を
発揮することが期待できる。また、先に述べた母化合物
がほぼ定量的に回収できるので資源の再利用にも貢献で
きる。さらに、本反応の過程で生成する、ＮｉとＡｌ
（ＯＨ）3 の混合物は加熱によりＮｉ−Ａｌ2 Ｏ3とな
り触媒として活用できるし、水素は燃料として、また還
元剤として用いられる。このように、本発明方法は経済
的で社会生活に大きな貢献をすることが期待できる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年３月４日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の目的をするため本
発明は 芳香族塩素化合物と希薄アルカリ水溶液との混合液にラ
ネーＮｉ−Ａｌ合金を添加し、上記アルカリ水溶液中で
反応させることを特徴とする有害塩素化合物の脱塩素化
法 芳香族塩素化合物とラネーＮｉ−Ａｌ合金との混合物に
希薄アルカリ水溶液を撹拌下に添加し、該アルカリ水溶
液中で反応させることを特徴とする有害塩素化合物の脱
塩素化法 上記混合物に水を混合した後、希薄アルカリ水溶液を撹
拌下に添加する上記第２発明記載の有害塩素化合物の脱
塩素化法 によって構成される。
発明は 芳香族塩素化合物と希薄アルカリ水溶液との混合液にラ
ネーＮｉ−Ａｌ合金を添加し、上記アルカリ水溶液中で
反応させることを特徴とする有害塩素化合物の脱塩素化
法 芳香族塩素化合物とラネーＮｉ−Ａｌ合金との混合物に
希薄アルカリ水溶液を撹拌下に添加し、該アルカリ水溶
液中で反応させることを特徴とする有害塩素化合物の脱
塩素化法 上記混合物に水を混合した後、希薄アルカリ水溶液を撹
拌下に添加する上記第２発明記載の有害塩素化合物の脱
塩素化法 によって構成される。
Claims (3)
- 【請求項１】 芳香族塩素化合物と希薄アルカリ水溶液
との混合液にラネーＮｉ−Ａｌ合金を添加することを特
徴とする有害塩素化合物の脱塩素化法。 - 【請求項２】 芳香族塩素化合物とラネーＮｉ−Ａｌ合
金との混合物に希薄アルカリ水溶液を撹拌下に添加する
ことを特徴とする有害塩素化合物の脱塩素化法。 - 【請求項３】 上記混合物に水を混合した後、希薄アル
カリ水溶液を撹拌下に添加する請求項２記載の有害塩素
化合物の脱塩素化法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10004632A JPH11197622A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 有害塩素化合物の脱塩素化法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10004632A JPH11197622A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 有害塩素化合物の脱塩素化法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11197622A true JPH11197622A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11589399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10004632A Pending JPH11197622A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 有害塩素化合物の脱塩素化法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11197622A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000048968A1 (fr) * | 1999-02-16 | 2000-08-24 | Hitachi Zosen Corporation | Procede de decomposition d'un compose organochlore |
| JP2002336835A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-26 | Tosoh Corp | 有機ハロゲン化合物で汚染された被処理物用無害化処理剤及びそれを用いた処理方法 |
-
1998
- 1998-01-13 JP JP10004632A patent/JPH11197622A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000048968A1 (fr) * | 1999-02-16 | 2000-08-24 | Hitachi Zosen Corporation | Procede de decomposition d'un compose organochlore |
| US6483006B1 (en) | 1999-02-16 | 2002-11-19 | Hitachi Zosen Corporation | Method of decomposing organochlorine compound |
| JP2002336835A (ja) * | 2001-05-17 | 2002-11-26 | Tosoh Corp | 有機ハロゲン化合物で汚染された被処理物用無害化処理剤及びそれを用いた処理方法 |
| JP4622154B2 (ja) * | 2001-05-17 | 2011-02-02 | 東ソー株式会社 | 有機ハロゲン化合物で汚染された被処理物用無害化処理剤及びそれを用いた処理方法 |
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