JPH11195574A - 半導体製造設備管理システムの管理方法 - Google Patents

半導体製造設備管理システムの管理方法

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JPH11195574A
JPH11195574A JP16686498A JP16686498A JPH11195574A JP H11195574 A JPH11195574 A JP H11195574A JP 16686498 A JP16686498 A JP 16686498A JP 16686498 A JP16686498 A JP 16686498A JP H11195574 A JPH11195574 A JP H11195574A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ホストに保存されたユニット状態と実際
の設備のユニット状態との不一致が未然に防止でき、ホ
ストを通して正確に管理でき、設備の全体的な生産実積
が正確に管理でき、ホストを通した間接的な電算作業を
通しても設備ユニットの状態変更が可能な半導体製造設
備の管理方法を提供する。 【解決手段】設備のユニットに所定の状態変更事項が発
生すると設備からユニットの状態に関連した実際のユニ
ット状態のデータ(以下リアルデータ)を受信する段階Ｓ
１０と、データベースに保存されたユニット状態のデー
タの中でユニットに該当する保存データを第１サーチす
る段階Ｓ２０と、リアルデータと保存データとを比較し
て所定の変更事項があるかを判断する段階Ｓ３０と、リ
アルデータに変更事項がないときはリアルデータの受信
を持続的に実行して、リアルデータに変更事項があると
きには保存データの内容をリアルデータの内容に合わせ
て第１アップデートする段階Ｓ４０とで行われる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造設備管理
システムの管理方法に係り、より詳細には、所定ユニッ
ト状態変更監視モジュール(Module)を通して設備のユニ
ット状態のリアルデータ(real unit data)とホスト(hos
t)のユニット状態の保存データとの不一致を未然に防止
することにより、製品の全体的な生産管理効率を向上さ
せるようにした半導体製造設備管理システムの管理方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般的に半導体素子の製造には高精密性
が要求される。そのため、通常の半導体生産ラインでは
精密加工が可能な高機能の設備を配置して大部分の半導
体素子製造工程を実行して、作業者は各設備の動作状況
を半導体製造設備管理システムを通して観察することに
よりライン作業効率の向上を目指している。
【０００３】図６は従来の半導体製造設備管理システム
の配置形状を概略的に示す概念図である。
【０００４】図６に図示されるように、生産ライン内に
は工程を実行する設備３が配置され、その設備３にロッ
ト(lot)１０を投入し適切な半導体製品が製造する。こ
こで、設備３は図示しない設備サーバー(server)を通し
てホスト１とオンライン(online)で連結されて、ホスト
１はO/I PC(operator interface PC)２とオンラインで
連結される。この時、作業者はO/I PC２を通してホスト
１にロット１０の作業時間を知らせる。
【０００５】こうすることによって、ホスト１は保存さ
れた適切な工程条件、例えば工程時間、工程温度等を設
備３に迅速にダウンロード(download)させることにより
設備３がロット１０に良好な半導体製造工程を進行させ
るようにする。この時、設備３は附属されたユニット、
例えば、図示しないローディング・アンローディングポ
ート、チャンバ４等を適切に稼動させることにより上述
した工程条件を実行している。
【０００６】このような従来の半導体製造設備の管理シ
ステムで、上述のチャンバ４の中で、例えば第１チャン
バ４aがダウン状態であり第２チャンバ４bだけがラン(r
un)状態で、第１チャンバ４aをラン状態に変更させる必
要がある場合、作業者は設備３に具備された図示しない
設備画面で直接的な作業を実行して第１チャンバ４aを
正常に復旧させるとともに、O/I PC２を通してホスト１
に保存された第１チャンバ４aの状態データを変更す
る。
【０００７】以後、ホスト１はそのデータベース(data
base)領域に各設備ユニットの変更状態を継続的に保存
することにより半導体生産工程を適切に管理している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の半導体
製造設備管理システムには次のような問題があった。 (１) 通常、設備に附属されたユニットはその状態変更
が頻繁であり、ホストがその状態変更をリアルタイムで
把握できず、ホストのデータベース領域に保存されたユ
ニットの状態とユニットのリアル状態とが一致しないと
いう問題点があった。 (２) ユニット状態の保存データとリアルデータの不一
致によりホストはユニットの可動状況を適切に把握でき
ず、迅速な設備管理が不可能であった。 (３) ユニット状態のリアルデータと一致しない保存デ
ータがホストから取り出されて集計される場合、作業者
はリヤル設備可動率と内容が異なる可動率データを把握
し、これを次の工程に反映することにより設備の全体的
な生産実積を正確に管理できなかった。 (４) 設備のユニット状態を変更させるためには、作業
者が設備画面で直接的な作業を実行しなければならない
ので全体的な設備管理効率が著しく低かった。
【０００９】したがって、本発明はこのような問題点に
着眼して案出されたもので、その第１目的は、ホストに
所定のユニット状態変更監視モジュールを具備し、これ
を通してユニットの状態変更をリアルタイムで把握・管
理することにより、ホストのユニット状態の保存データ
とユニット状態のリアルデータとの間で発生するデータ
の不一致を未然に防止できるようにした半導体製造用設
備の管理方法を提供することにある。
【００１０】本発明の第２目的は、このような状態変更
監視モジュールを通してユニットの状態を正確に把握し
た後、把握された内容に基づいてホストのデータベース
に保存されたユニット状態関連内容が迅速に更新(アッ
プデート)されるようにすることにより、ホストを通じ
た正確な設備管理が行われるようにした半導体製造用設
備の管理方法を提供することにある。
【００１１】本発明の第３目的は、ホストから該当する
ユニット状態と関連したデータを集計する時にユニット
状態のリアルデータと一致するデータが取り出されるこ
とにより、設備の全体的な生産実積が正確に管理される
ようにした半導体製造用設備の管理方法を提供すること
にある。
【００１２】本発明の第４目的は、ホストによる間接的
な電算作業を通しても設備ユニットの状態変更を可能に
することで、全体的な設備管理效率を向上させた半導体
製造設備管理システムの管理方法を提供することにあ
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明による半導体製造設備管理システムの管理方
法は、設備のユニットに所定の状態変更事項が発生する
と前記設備から前記ユニットの状態と関連する現状のユ
ニット状態のリアルデータを受信する段階と、データベ
ースに保存されたユニット状態のデータの中で前記ユニ
ットに該当するユニット状態の保存データを第１検索
(サーチ)する段階と、前記リアルデータと前記保存デー
タとを比較して所定の変更事項があるかを判断する段階
と、前記リアルデータに変更事項がないとき前記リアル
データの受信を持続的に実行し、前記リアルデータに変
更事項があるとき前記保存データの内容を前記リアルデ
ータの内容に合わせて第１アップデートする段階とで行
われる。
【００１４】また、本発明による半導体製造設備管理シ
ステムの管理方法は、前記保存データの内容を第１アッ
プデートする段階の後に、所定の製品投入信号が入力さ
れたかを判断する段階と、前記製品投入信号が入力され
なかった場合は終了し、前記製品投入信号が入力された
場合には前記製品が投入された前記ユニットを把握した
後、前記ユニットに該当するユニット状態の保存データ
を第２サーチし、前記ユニットがダウン状態のユニット
であるかを判断する段階と、前記ユニットがダウン状態
のユニットではないときは終了し、前記ユニットがダウ
ン状態のユニットであるときには、所定の警告メッセー
ジをディスプレイした後、工程を保持(hold)する段階と
をさらに含むことが望ましい。
【００１５】また、本発明による半導体製造設備管理シ
ステムの管理方法は、前記保存データの内容を第１アッ
プデートする段階の後に、所定の設備可動率集計信号が
入力されたかを判断する段階と、前記設備可動率集計信
号が入力されなかった場合には終了し、あるいは前記設
備可動率集計信号が入力された場合には、前記保存デー
タを第３サーチして前記保存データを取り合わせた後、
前記保存データを有した所定の設備可動率集計メッセー
ジを出力する段階とをさらに含むことが望ましい。
【００１６】また、本発明による半導体製造設備管理シ
ステムの管理方法は、前記保存データの内容を第１アッ
プデートする段階の後に、所定の設備ユニット状態変更
データが入力されたかを判断する段階と、前記変更デー
タが入力されなかった場合には終了し、あるいは前記変
更データが入力された場合には前記保存データの内容を
前記変更データの内容に合わせて第２アップデートした
後前記変更データを前記設備にダウンロードする段階と
をさらに含むことが望ましい。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、添附図面を参照して本発明
による半導体製造設備管理システムの管理方法について
詳細に説明する。 (第１実施例)図１に示すように、本発明の第１実施例に
よる半導体製造設備管理システムの管理方法は、ホスト
１には設備サーバーを通して設備３からアップロードさ
れるユニットの状態変更を監視・把握した後、これに対
応するようにデータベースに保存された該当するユニッ
ト状態のデータをアップデートするユニット状態変更監
視モジュール２０が具備されることによって、ユニット
状態の保存データは設備３のユニットで変更が発生した
とき、変更をとりこんだ内容に迅速に変更・処理され
る。
【００１８】このような変更・処理後にホスト１は生産
ライン内の設備３に製品が投入される場合、設備３のユ
ニット状況が作業者に迅速に伝達されるようにすること
でダウン状態のユニットに製品が投入される。
【００１９】図２に示すように、本発明の実施例による
半導体製造設備管理システムの管理方法は、設備３のユ
ニットに一定の状態変更事項が発生すると設備３から当
該ユニットの状態と関連する現状のユニット状態のリア
ルデータを受信するS１０段階と、データベースに保存
されたユニット状態のデータの中で当該ユニットに該当
するユニット状態の保存データを第１サーチするS２０
段階と、ユニット状態のリアルデータとユニット状態の
保存データを比較して一定の変更事項があるかを判断す
るS３０段階と、ユニット状態のリアルデータに変更事
項がないときはユニット状態のリアルデータの受信を持
続的に実行し、あるいはユニット状態データの変更事項
があるときは、ユニット状態のリアルデータの内容に合
わせて第１アップデートするS４０段階とで行われる。
【００２０】各段階についてより詳細に説明すると、ま
ず、設備に一定な状態変更事項、例えば作業者によりユ
ニット状態変更等が発生すると、ユニット状態変更監視
モジュール２０は設備３のユニットごとの状態を実時間
で監視するか各設備３から各自のユニット状態変更内容
を実時間で報告を受けることにより当該ユニットの状態
と関連されたユニット状態のリアルデータを受信する
(Ｓ１０に該当する段階で以後単にＳ１０段階と呼
ぶ。)。これによって、設備３のユニットの変更事項は
ユニット状態変更監視モジュール２０によりその内容が
実時間で迅速に把握される。
【００２１】次に、ユニット状態変更監視モジュール２
０はホスト１のデータベース領域に保存されたユニット
状態のデータの中で設備３の当該ユニットに該当するユ
ニット状態の保存データを第１サーチしてその内容と上
述した過程を通して受信されたユニット状態のリアルデ
ータの内容との間で一定の変更事項があるかを判断する
(Ｓ２０、Ｓ３０に該当する段階)。
【００２２】この時、ユニット状態の保存データとユニ
ット状態のリアルデータとの内容中に一定の変更事項が
ないとき、ユニット状態変更監視モジュール２０はフロ
ー(flow)を上述したＳ１０段階に戻してユニット状態の
リアルデータの受信を継続させる。
【００２３】一方、ユニット状態の保存データとユニッ
ト状態のリアルデータとの内容が一致せず変更事項があ
るとき、ユニット状態変更監視モジュール２０はユニッ
ト状態の保存データの内容をユニット状態のリアルデー
タの内容に合わせて第１アップデートする(Ｓ４０に該
当する段階)。
【００２４】これによって、ユニット状態の保存データ
の内容はユニット状態のリアルデータの内容に合わせて
適切に変更される。例えば、ユニット状態のリアルデー
タの内容が“設備３の第１チャンバ４ａはラン状態、設
備３の第２チャンバ４ｂはダウン状態”であり、ユニッ
ト状態の保存データの内容が“設備３の第１チャンバ４
ａと設備３の第２チャンバ４ｂが全てラン状態”で異な
るとき、ユニット状態変更監視モジュール２０はユニッ
ト状態の保存データの内容をユニット状態のリアルデー
タの内容に合わせて“設備３の第１チャンバ４ａはラン
状態、設備３の第２チャンバ４ｂはダウン状態”に適切
にアップデートすることにより、二つのデータの内容を
一致させる。したがって、ホスト１に保存されたユニッ
ト状態のデータの内容と設備３のユニット状態のリアル
データの内容との間での不一致は修復され、以後ホスト
１は正確で迅速な設備管理を遂行することができる。
【００２５】このように、本発明による第１実施例では
ホスト１が設備３のユニット状態変更を実時間で把握
し、ホスト１のデータベース領域の保存内容を迅速に自
らアップデートすることにより、設備３の実際のユニッ
ト状態とホスト１の保存されたユニット状態のデータ間
での不一致が発生しないようになる。
【００２６】(第２実施例)図３に示すように、本発明の
第２実施例による半導体製造設備管理システムの管理方
法は、第１実施例のユニット状態の保存データの内容を
第１アップデートする段階（Ｓ４０）の後に、Ｏ／Ｉ
ＰＣ２(図１の２)に製品投入信号が入力されたかを判断
するＳ５１段階と、Ｏ／Ｉ ＰＣ２に製品投入信号が入
力されなかった場合には終了し、あるいはＯ／Ｉ ＰＣ
２に製品投入信号が入力された場合には、製品が投入さ
れたユニットを把握した後、該当するユニット状態の保
存データを第２サーチして当該ユニットがダウン状態の
ユニットであるかを判断するＳ５２、Ｓ５３、Ｓ５４段
階と、ユニットがダウン状態のユニットではないと終了
し、ユニットがダウン状態のユニットであると適切な警
告メッセージを表示した後、工程を保持(ホールド)する
Ｓ５５、Ｓ５６段階とをさらに含む。
【００２７】以下、本発明の第２実施例による各段階に
ついてより詳細に説明する。まず、上述したＳ４０段階
の後にホスト１はＯ／Ｉ ＰＣ２にロット１０の投入信
号が入力されたかを判断する（Ｓ５１段階）。この時、
Ｏ／Ｉ ＰＣ２にロット投入信号が入力されなかった場
合にはホスト１は当該フローを終了し、あるいはＯ／Ｉ
ＰＣ２にロット投入信号が入力された場合にはホスト
１はロット１０が投入される設備３のユニットを把握す
る（Ｓ５２段階）。次に、ホスト１はデータベースに保
存された当該ユニットに該当するユニット状態の保存デ
ータを第２サーチした後、当該ユニットがダウン状態の
ユニットであるかを判断する(Ｓ５３、Ｓ５４段階)。こ
の時、当該ユニットがダウン状態のユニットではないと
ホスト１はフローを終了し、ロット１０が当該ユニット
を通して半導体製品に製造されるようにして、あるいは
当該ユニットがダウン状態のユニットであるとホスト１
はＯ／Ｉ ＰＣ２に適切な内容の警告メッセージが表示
されるようにした後、全体システムを制御して工程をホ
ールドする(Ｓ５５、Ｓ５６段階)。
【００２８】このような本発明の第２実施例によって、
ダウン状態のユニットにロット１０が投入される問題を
解決する。即ち、作業者がダウン状態の第２チャンバ４
ｂにロット１０を投入するためＯ／Ｉ ＰＣ２でロット
１０の投入信号を入力する場合、ホスト１はデータベー
スをサーチして第２チャンバ４ｂの状態を迅速に把握し
てその状態がダウン状態であることを認知した後OＯ／
Ｉ ＰＣ２に“現在第２チャンバはダウン状態です”等
の警告メッセージをダウンロードする。以後、ホスト１
は全体システムを制御して工程をホールドすることによ
り第２チャンバ４ｂを通す半導体製造工程が適切に停止
され、作業者はダウン状態を克復するための追後工程処
理を迅速に実行することが可能である。
【００２９】このように本発明の第２実施例では、設備
３のユニット状態のリアルデータと一致するユニット状
態の保存データを参考することにより、ダウン状態のユ
ニットにロット１０が投入される問題が解決されて不意
の工程事故の発生を未然に防止することが可能である。
【００３０】(第３実施例)図４に示すように、本発明の
第３実施例による半導体製造設備管理システムの管理方
法は、第１実施例においてユニット状態の保存データの
内容を第１アップデートするＳ４０段階の後に、Ｏ／Ｉ
ＰＣ２に設備可動率集計信号が入力されたかを判断す
るＳ６１段階と、Ｏ／Ｉ ＰＣ２に設備可動率集計信号
が入力されなかった場合は終了し、あるいはＯ／Ｉ Ｐ
Ｃ２に設備可動率集計信号が入力された場合には、ユニ
ット状態の保存データを第３サーチしてユニット状態の
保存データを取り合わせた後、ユニット状態の保存デー
タを有した所定の設備可動率集計メッセージを出力する
Ｓ６２、Ｓ６３段階とをさらに含む。
【００３１】本発明の第３実施例による各段階について
より詳細に説明すると次のようである。まず、上述した
Ｓ４０段階の後にホスト１はＯ／Ｉ ＰＣ２に設備可動
率集計信号が入力されたかを判断する（Ｓ６１段階）。
この時、Ｏ／Ｉ ＰＣ２に設備可動率集計信号が入力さ
れなかった場合にはホスト１は当該フローを終了し、あ
るいはＯ／Ｉ ＰＣ２に設備可動率集計信号が入力され
た場合には、ホスト１は作業者が設備可動率を把握しよ
うとする状態と判断し、自分のデータベース領域に保存
されたユニット状態の保存データを第３サーチしてユニ
ット状態の保存データを取り合わせた後、ユニット状態
の保存データを保存した所定の設備可動率集計メッセー
ジをＯ／Ｉ ＰＣ２に出力する（Ｓ６２、Ｓ６３段
階）。これによって、作業者は設備３の可動率を正確に
把握できる。
【００３２】従来の場合、設備３のユニット状態のリア
ルデータと一致しないユニット状態の保存データをホス
ト１から取り出して集計され、作業者はこの集計結果を
次の工程に反映していた為設備３の全体的な生産実積を
正確に管理できなかった。例えば、設備３の第２チャン
バ４ｂがダウン状態であるにもかかわらずホスト１はそ
の状態がラン状態であると把握することにより、上述の
設備可動率集計信号が入力されるホストは設備３の１０
０％に相当するチャンバ４から５０％の数量の製品だけ
が完成されたと把握して設備３の可動率を５０％と集計
する誤診を生じた。
【００３３】しかし、本発明の第３実施例による場合、
上述のようにホスト１は設備３のユニット状態のリアル
データと一致するユニット状態の保存データを正確に把
握・保存して、次に作業者の設備可動率出力要求がある
と既把握された正確なデータを取り合わせ・出力してこ
のような設備可動率が作業者により次の工程に適切に反
映されるようにすることにより設備３の正確な生産実積
管理が達成される。例えば、設備３の第２チャンバ４ｂ
がダウン状態であるとホスト１はその状態をダウン状態
と正確に把握して、上述の設備可動率集計信号が入力さ
れると設備３の５０％に相当するチャンバから５０％の
数量の製品が完成されたと把握して設備３の可動率を１
００％と正確に集計する。したがって、作業者は正確な
内容のデータに基づいて次の工程に反映できることによ
り設備の全体的な生産実積が適切に管理される。
【００３４】(第４実施例)図５に示されるように、本発
明の第４実施例による半導体製造設備管理システムの管
理方法は、第１実施例においてユニット状態の保存デー
タの内容を第１アップデートするＳ４０段階の後に、Ｏ
／Ｉ ＰＣ２から設備ユニット状態の変更データが入力
されたかを判断するＳ７１段階と、Ｏ／Ｉ ＰＣ２から
変更データが入力されなかった場合は終了し、あるいは
Ｏ／Ｉ ＰＣ２から変更データが入力された場合には、
ユニット状態の保存データの内容を設備ユニット状態変
更データの内容に合わせて第２アップデートした後、設
備ユニット状態変更データを設備にダウンロードするＳ
７２、Ｓ７３段階とをさらに含む。
【００３５】以下、本発明の第４実施例による各段階に
ついて詳細に説明する。まず、上述のS４０段階の後に
ホスト１はＯ／Ｉ ＰＣ２から設備ユニット状態変更デ
ータが入力されたかを判断する(Ｓ７１段階)。この時、
Ｏ／Ｉ ＰＣ２から設備ユニット状態変更データが入力
されなかった場合に、ホスト１は作業者が設備３を遠隔
操作しないと判定してフローを終了し、あるいはＯ／Ｉ
ＰＣ２から設備ユニット状態変更データが入力された
場合には、ホスト１は作業者が設備３を遠隔操作すると
判定し設備ユニット状態変更データの入力を受けた後、
自分のデータベース領域に保存されたユニット状態の保
存データの内容を設備ユニット状態変更データの内容に
合わせて第２アップデートする(Ｓ７２段階)。これによ
って、ユニット状態の保存データの内容は作業者が入力
した設備ユニット状態変更データの内容に合わせて変更
される。次に、ホスト１は設備ユニット状態の変更デー
タを設備３にダウンロードする(Ｓ７３段階)。これによ
って設備３のユニット状態は作業者によりＯ／Ｉ ＰＣ
２に入力された設備ユニット状態変更データに合わせて
変更される。
【００３６】例えば、作業者からＯ／Ｉ ＰＣ２に入力
された設備ユニット状態の変更データの内容が“ラン状
態であった第１チャンバ４ａをダウンさせること”であ
る場合、設備３はこのようなデータをホスト１を通して
ダウンロードされ自分の第１チャンバ４ａをダウンさせ
る。これによって、ラン状態であった第１チャンバ４ａ
はダウン状態に迅速に変更される。
【００３７】従来の場合、作業者が設備のユニット状態
を変更させるためには設備画面を通して直接的な作業を
実行しなければならないため全体的な設備管理効率が低
減する問題があった。しかし、本実施例の場合、上述の
ように作業者はホスト１とオンラインで連結されたＯ／
Ｉ ＰＣ２を通して設備３のユニット状態を遠隔操作で
変更することにより全体的な設備管理効率を向上させる
ことができる。
【００３８】また、本実施例の場合、ホスト１は自分の
データベース領域に保存されたユニット状態の保存デー
タを作業者により入力された設備ユニット状態変更デー
タの内容に合わせて適切に変更することで上述の可動率
集計過程が実行される場合には、設備ユニット状態の変
更データによって変更された現設備のリアルタイムのユ
ニット状況と一致するユニット状態の保存データが取り
出され・集計されるようにする。例えば、作業者のＯ／
Ｉ ＰＣ２を通した遠隔操作により設備３の第１チャン
バ４ａがダウン状態に変更される場合、ホスト１は上述
のようにその状況に合わせて自分のデータベースに保存
された第１チャンバ４ａのユニット状態データをダウン
状態に変更し、上述の可動率集計過程が実行される時に
正確なデータ内容が取り出され・集計されるようにする
ことで従来のような設備の生産施設管理誤診を未然に防
止する。
【００３９】以後、本発明の各実施例による半導体製造
設備管理システムの管理方法のホスト１は、ユニット状
態変更監視モジュール２０を通して各段階を持続的に反
復することにより全体的な設備管理が效率的に行われ
る。
【００４０】このように本発明の各実施例による半導体
製造設備管理システムの管理方法では、ユニット状態変
更監視モジュールを通して設備のユニット状態のリアル
データとホストのユニット状態の保存データとの不一致
を未然に防止することにより製品の全体的な生産管理效
率を向上させ、生産ライン内に配置された一定の管理を
必要とする多様な半導体製造設備において幅広く有用な
効果を示す。
【００４１】以上、本発明の好ましい実施形態について
詳細に記述したが、本発明の技術範囲内において各実施
例を多様に変化させて実施することが可能である。
【００４２】
【発明の效果】以上のように本発明による半導体製造設
備管理システムの管理方法によると、ホストに所定のユ
ニット状態監視モジュールを具備し、これを通して状態
変更を実時間で把握・管理することにより、ホストに保
存されたユニット状態と設備の実際のユニット状態との
間で発生する不一致が未然に防止でき、ホストを通した
正確な設備管理と設備の全体的な生産実積が正確に管理
でき、ホストを通した間接的な電算作業を通しても設備
ユニットの状態変更を可能にすることにより全体的な設
備管理効率を向上させる效果がある。
【図面の簡単な説明】
【図 １】本発明の実施例による半導体製造設備管理シ
ステムの配置形状を概略的に示す概念図である。
【図 ２】本発明の実施例による半導体製造設備管理シ
ステムの管理方法のフローチャートである。
【図 ３】本発明の第１実施例のフローチャートであ
る。
【図 ４】本発明の第２実施例のフローチャートであ
る。
【図 ５】本発明の第３実施例のフローチャートであ
る。
【図 ６】従来の半導体製造設備管理システムの配置形
状を概略的に示す概念図である。
【符号の説明】
１ ホスト ２ Ｏ／Ｉ ＰＣ ３ 設備 ４a 第１チャンバ ４b 第２チャンバ １０ ロット ２０ ユニット状態変更監視モジュール

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項 １】 設備のユニットに所定の状態変更事項
    が発生すると、前記設備から前記ユニットの状態と関連
    したユニットの現状を表すリアルデータを受信する段階
    と、 データベースに保存されたユニット状態のデータの中で
    前記ユニットに該当する保存データを第１検索する段階
    と、 前記リアルデータと前記保存データとを比較して所定の
    変更事項があるかを判断する段階と、 前記リアルデータに変更事項がないときは前記リアルデ
    ータ受信を持続的に実行し、前記リアルデータに変更事
    項があるときには前記保存データの内容を前記リアルデ
    ータの内容に合わせて第１更新する段階と、 を含むことを特徴とする半導体製造設備管理システムの
    管理方法。
  2. 【請求項 ２】 前記保存データの内容を第１更新する
    段階の後に、 所定の製品投入信号が入力されたかを判断する段階と、 前記製品投入信号が入力されなかった場合は終了し、前
    記製品投入信号が入力された場合には前記製品が投入さ
    れた前記ユニットを把握した後、前記ユニットに該当す
    るユニット状態の保存データを第２検索して前記ユニッ
    トがダウン状態のユニットであるかを判断する段階と、 前記ユニットがダウン状態のユニットでない場合は終了
    し、前記ユニットがダウン状態のユニットである場合
    は、所定の警告メッセージを表示した後工程を保持する
    段階と、 を含むことを特徴とする請求項１記載の半導体製造設備
    管理システムの管理方法。
  3. 【請求項 ３】 前記保存データの内容を第１更新する
    段階の後に、 所定の設備可動率集計信号が入力されたかを判断する段
    階と、 前記設備可動率集計信号が入力されなかった場合は終了
    し、前記設備可動率集計信号が入力された場合には前記
    保存データを第３検索して前記保存データを取り出した
    後、前記保存データに基づいた所定の設備可動率集計メ
    ッセージを出力する段階と、 を含むことを特徴とする請求項１記載の半導体製造設備
    管理システムの管理方法。
  4. 【請求項 ４】 前記保存データの内容を第１更新する
    段階の後に、 所定の設備ユニットの状態変更データが入力されたかを
    判断する段階と、 前記設備ユニットの状態変更データが入力されなかった
    場合に終了し、前記設備ユニット状態変更データが入力
    された場合には、前記保存データの内容を前記設備ユニ
    ット状態の変更データの内容に合わせて第２更新した
    後、前記設備ユニットの状態変更データを前記設備にダ
    ウンロードする段階と、 を含むことを特徴とする請求項１記載の半導体製造設備
    管理システムの管理方法。
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