JPH11194215A - 電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法 - Google Patents
電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法Info
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- JPH11194215A JPH11194215A JP9368733A JP36873397A JPH11194215A JP H11194215 A JPH11194215 A JP H11194215A JP 9368733 A JP9368733 A JP 9368733A JP 36873397 A JP36873397 A JP 36873397A JP H11194215 A JPH11194215 A JP H11194215A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 強力な電磁波シールド性及び近赤外線吸収性
を具備した電磁波シールド付き光学フィルタを提供す
る。 【解決手段】 片面に電磁波シールド層を形成したガラ
ス基板１と、含金属有機系近赤外線吸収剤を含有したプ
ラスチック基板４とを弾力性を有する接着剤にて接着す
ることにより、強力な電磁波シールド性と近赤外線吸収
機能とを具備し、軽量で剛性に優れた電磁波シールド付
き光学フィルタとすることができる。前記電波シールド
層は、ガラス基板１上にＩＴＯ層２を形成し、形成した
該ＩＴＯ層２の上面に金属パターンを形成してなる。ま
た、前記ガラス基板１と前記プラスチック基板４とを接
着する接着剤は、接着前は粘度が５０ｃｐｓ以下であ
り、接着後は弾力性のある接着剤である。
を具備した電磁波シールド付き光学フィルタを提供す
る。 【解決手段】 片面に電磁波シールド層を形成したガラ
ス基板１と、含金属有機系近赤外線吸収剤を含有したプ
ラスチック基板４とを弾力性を有する接着剤にて接着す
ることにより、強力な電磁波シールド性と近赤外線吸収
機能とを具備し、軽量で剛性に優れた電磁波シールド付
き光学フィルタとすることができる。前記電波シールド
層は、ガラス基板１上にＩＴＯ層２を形成し、形成した
該ＩＴＯ層２の上面に金属パターンを形成してなる。ま
た、前記ガラス基板１と前記プラスチック基板４とを接
着する接着剤は、接着前は粘度が５０ｃｐｓ以下であ
り、接着後は弾力性のある接着剤である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、近赤外線及び電磁
波を遮断することができる電磁波シールド付き光学フィ
ルタ及びその製造方法に関する。
波を遮断することができる電磁波シールド付き光学フィ
ルタ及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来よりディスプレイ等に用いられる光
学フィルタに求められる機能として、電磁波シールド
性、近赤外線吸収性等が挙げられる。
学フィルタに求められる機能として、電磁波シールド
性、近赤外線吸収性等が挙げられる。
【０００３】電磁波シールド性を光学フィルタを形成す
る基板に持たせる方法として、 ：基板全面にＩＴＯ膜を形成する ：金属パターンを基板上に形成する ：ワイヤメッシュを基板上に形成する ：基板上に銀の蒸着膜と誘電膜とを交互に重ねる 等の方法が挙げられる。の方法は、基板全面に酸化イ
ンジウム（In2O3)と二酸化錫（SnO2) からなるＩＴＯ膜
を形成して電磁波の漏洩を防止する方法である。の方
法は、基板上に無電解メッキにより形成した金、銀、
銅、ニッケル等の金属層をエッチングでパターン化して
電磁波の漏洩を防止する方法である。の方法は、ワイ
ヤで作ったメッシュパターンを基板上に貼り合わせる方
法である。の方法は、銀を基板上に蒸着し、さらにそ
の上面に誘電膜を形成する。これを幾層にも重ねること
により電磁波の漏洩を防止する方法である。
る基板に持たせる方法として、 ：基板全面にＩＴＯ膜を形成する ：金属パターンを基板上に形成する ：ワイヤメッシュを基板上に形成する ：基板上に銀の蒸着膜と誘電膜とを交互に重ねる 等の方法が挙げられる。の方法は、基板全面に酸化イ
ンジウム（In2O3)と二酸化錫（SnO2) からなるＩＴＯ膜
を形成して電磁波の漏洩を防止する方法である。の方
法は、基板上に無電解メッキにより形成した金、銀、
銅、ニッケル等の金属層をエッチングでパターン化して
電磁波の漏洩を防止する方法である。の方法は、ワイ
ヤで作ったメッシュパターンを基板上に貼り合わせる方
法である。の方法は、銀を基板上に蒸着し、さらにそ
の上面に誘電膜を形成する。これを幾層にも重ねること
により電磁波の漏洩を防止する方法である。
【０００４】また、近赤外線吸収性を光学フィルタを形
成する基板に持たせる方法として、 ：基板に近赤外線吸収剤をコートする ：近赤外線吸収剤をコートしたフィルムを基板両面に
ラミネートする ：基板に近赤外線吸収剤を練り込む ：近赤外線吸収効果を有する無機材料を基板またはフ
ィルム上へスパッタあるいは蒸着する 等の方法が挙げられる。の方法は基板上に直接近赤外
線吸収剤をコートする方法である。の方法はフィルム
に近赤外線吸収剤をコートし、基板の両面に貼り合わせ
る方法である。の方法は基板形成時に近赤外線吸収剤
を一緒に練り込む方法である。の方法は基板またはフ
ィルム上に近赤外線吸収効果を有する無機材料をスパッ
タ法あるいは蒸着法により設ける方法である。
成する基板に持たせる方法として、 ：基板に近赤外線吸収剤をコートする ：近赤外線吸収剤をコートしたフィルムを基板両面に
ラミネートする ：基板に近赤外線吸収剤を練り込む ：近赤外線吸収効果を有する無機材料を基板またはフ
ィルム上へスパッタあるいは蒸着する 等の方法が挙げられる。の方法は基板上に直接近赤外
線吸収剤をコートする方法である。の方法はフィルム
に近赤外線吸収剤をコートし、基板の両面に貼り合わせ
る方法である。の方法は基板形成時に近赤外線吸収剤
を一緒に練り込む方法である。の方法は基板またはフ
ィルム上に近赤外線吸収効果を有する無機材料をスパッ
タ法あるいは蒸着法により設ける方法である。
【０００５】尚、近赤外線吸収剤には有機系近赤外線吸
収剤と含金属有機系近赤外線吸収剤とがあり、有機系近
赤外線吸収剤は酸素に侵されやすく、酸素に侵されると
近赤外線の吸収率が低下するという問題を伴う。また含
金属有機系近赤外線吸収剤は酸素には侵されにくいがシ
ールド基板への塗工が困難であるという問題を伴う。
尚、ここで用いた有機系近赤外線吸収剤とは近赤外線を
吸収する有機化合物を含むもので、含金属有機系近赤外
線吸収剤とは近赤外線を吸収する金属イオン、金属錯
塩、金属塩、その他無機化合物を含む有機系近赤外線吸
収剤をいう。
収剤と含金属有機系近赤外線吸収剤とがあり、有機系近
赤外線吸収剤は酸素に侵されやすく、酸素に侵されると
近赤外線の吸収率が低下するという問題を伴う。また含
金属有機系近赤外線吸収剤は酸素には侵されにくいがシ
ールド基板への塗工が困難であるという問題を伴う。
尚、ここで用いた有機系近赤外線吸収剤とは近赤外線を
吸収する有機化合物を含むもので、含金属有機系近赤外
線吸収剤とは近赤外線を吸収する金属イオン、金属錯
塩、金属塩、その他無機化合物を含む有機系近赤外線吸
収剤をいう。
【０００６】本発明と技術分野が類似する従来例１とし
て、特開平９−１４５９１８号公報には基板に外光の反
射、発光色の補正、近赤外線の放出、電磁波の漏洩を防
止するための層を設けたフィルタ装置が記載されてい
る。
て、特開平９−１４５９１８号公報には基板に外光の反
射、発光色の補正、近赤外線の放出、電磁波の漏洩を防
止するための層を設けたフィルタ装置が記載されてい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
何れの方法においても１つの基板上に電磁波の漏洩を防
止するための部材、近赤外線を吸収するための部材を設
けており、製造上不具合を生じていた。例えば、プラス
チック基板を用いた場合、プラスチック基板上に金属パ
ターンなどを形成することは製造上有利とはいえない。
またガラス基板を用いた場合、ガラス基板に近赤外線吸
収剤を練り込むことは、プラスチック基板に近赤外線吸
収剤を練り込むより製造上手間のかかるものとなる。
何れの方法においても１つの基板上に電磁波の漏洩を防
止するための部材、近赤外線を吸収するための部材を設
けており、製造上不具合を生じていた。例えば、プラス
チック基板を用いた場合、プラスチック基板上に金属パ
ターンなどを形成することは製造上有利とはいえない。
またガラス基板を用いた場合、ガラス基板に近赤外線吸
収剤を練り込むことは、プラスチック基板に近赤外線吸
収剤を練り込むより製造上手間のかかるものとなる。
【０００８】本発明は、電磁波シールド性を付加された
ガラス基板と含金属有機系近赤外線吸収剤を練り込んだ
プラスチック基板とを貼り合わせることにより強力な電
磁波シールド性と長期間持続する近赤外線吸収性とを具
備し、ガラスとプラスチックの両基板の特性を生かすこ
とにより製造が容易となる電磁波シールド付き光学フィ
ルタ及びその製造方法を提供することを目的とする。
ガラス基板と含金属有機系近赤外線吸収剤を練り込んだ
プラスチック基板とを貼り合わせることにより強力な電
磁波シールド性と長期間持続する近赤外線吸収性とを具
備し、ガラスとプラスチックの両基板の特性を生かすこ
とにより製造が容易となる電磁波シールド付き光学フィ
ルタ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに本発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、片面
に電磁波シールド層を設けたガラス基板と、含金属有機
系近赤外線吸収剤を練り込んだプラスチック基板とを透
明な接着剤を介して電磁波シールド層を挟む形で貼り合
わせたことを特徴としている。
めに本発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、片面
に電磁波シールド層を設けたガラス基板と、含金属有機
系近赤外線吸収剤を練り込んだプラスチック基板とを透
明な接着剤を介して電磁波シールド層を挟む形で貼り合
わせたことを特徴としている。
【００１０】上記の電磁波シールド層は、ガラス基板上
にＩＴＯ層を形成し、形成したＩＴＯ層の上面に金属パ
ターンを形成してなるとよい。
にＩＴＯ層を形成し、形成したＩＴＯ層の上面に金属パ
ターンを形成してなるとよい。
【００１１】上記のガラス基板とプラスチック基板とを
接着する透明な接着剤は、接着前は粘度が５０ｃｐｓ以
下であり、接着後は弾力性のある接着剤であるとよい。
接着する透明な接着剤は、接着前は粘度が５０ｃｐｓ以
下であり、接着後は弾力性のある接着剤であるとよい。
【００１２】上記の透明な接着剤に、色バランスを補正
するための着色剤及び近赤外線を吸収するための含金属
有機系近赤外線吸収剤を含ませるとよい。
するための着色剤及び近赤外線を吸収するための含金属
有機系近赤外線吸収剤を含ませるとよい。
【００１３】上記のプラスチック基板の成型時に、色バ
ランスを補正するための着色剤及び近赤外線を吸収する
ための含金属有機系近赤外線吸収剤を練り込むとよい。
ランスを補正するための着色剤及び近赤外線を吸収する
ための含金属有機系近赤外線吸収剤を練り込むとよい。
【００１４】本発明の電磁波シールド付き光学フィルタ
の製造方法は、ガラス基板の一方の面上にＩＴＯ層を形
成し、さらに形成したＩＴＯ層の上面に金属パターンを
形成し、金属パターンの上面に金属パターンを被う透明
な接着剤を塗布して含金属有機系近赤外線吸収剤を含有
したプラスチック基板と接着することを特徴としてい
る。
の製造方法は、ガラス基板の一方の面上にＩＴＯ層を形
成し、さらに形成したＩＴＯ層の上面に金属パターンを
形成し、金属パターンの上面に金属パターンを被う透明
な接着剤を塗布して含金属有機系近赤外線吸収剤を含有
したプラスチック基板と接着することを特徴としてい
る。
【００１５】上記の電磁波シールド付き光学フィルタの
製造方法は、ＩＴＯ層と金属パターンとを設けたガラス
基板の面の周囲に求める接着層の厚さと同じ厚さのスペ
ーサを貼り付け、透明な接着剤をスペーサで囲まれたガ
ラス基板上に垂らし、プラスチック基板と接着するとよ
い。
製造方法は、ＩＴＯ層と金属パターンとを設けたガラス
基板の面の周囲に求める接着層の厚さと同じ厚さのスペ
ーサを貼り付け、透明な接着剤をスペーサで囲まれたガ
ラス基板上に垂らし、プラスチック基板と接着するとよ
い。
【００１６】
【発明の実施の形態】次に添付図面を参照して本発明の
電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法の実
施の形態を詳細に説明する。図１及び図２を参照すると
本発明の電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造
方法の一実施形態が示されている。尚、図１は本発明の
電磁波シールド付き光学フィルタの実施形態または電磁
波シールド付き光学フィルタの製造方法に基づき製造さ
れた実施形態の構成を表す断面図、図２は製造工程を説
明するためのフローチャートである。
電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法の実
施の形態を詳細に説明する。図１及び図２を参照すると
本発明の電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造
方法の一実施形態が示されている。尚、図１は本発明の
電磁波シールド付き光学フィルタの実施形態または電磁
波シールド付き光学フィルタの製造方法に基づき製造さ
れた実施形態の構成を表す断面図、図２は製造工程を説
明するためのフローチャートである。
【００１７】まず図１を用いて本実施形態の構成を説明
する。図１に示された本実施形態は透明なガラス基板
１、電磁波の外部への漏洩を防止するためのＩＴＯ層
〔酸化インジウム（In2O3)と二酸化錫（SnO2）の固溶
体〕２、前記ＩＴＯ層２と同様の目的で設けられた金属
パターン３、近赤外線を吸収する近赤外線吸収剤を含有
したプラスチック基板４、ＩＴＯ層及び金属パターンを
形成したガラス基板とプラスチック基板とを貼り合わせ
るための透明な接着剤による接着層５、前記透明な接着
剤を求める厚さとするためのスペーサ６、フィルタに入
射した外光の反射による画質の低下を防止する反射防止
層（または反射防止フィルム）７により構成されてい
る。
する。図１に示された本実施形態は透明なガラス基板
１、電磁波の外部への漏洩を防止するためのＩＴＯ層
〔酸化インジウム（In2O3)と二酸化錫（SnO2）の固溶
体〕２、前記ＩＴＯ層２と同様の目的で設けられた金属
パターン３、近赤外線を吸収する近赤外線吸収剤を含有
したプラスチック基板４、ＩＴＯ層及び金属パターンを
形成したガラス基板とプラスチック基板とを貼り合わせ
るための透明な接着剤による接着層５、前記透明な接着
剤を求める厚さとするためのスペーサ６、フィルタに入
射した外光の反射による画質の低下を防止する反射防止
層（または反射防止フィルム）７により構成されてい
る。
【００１８】ガラス基板１の片面上にはＩＴＯ層２が設
けられている。またＩＴＯ層の上面には金属パターン３
が設けられている。ＩＴＯ層２及び金属パターン３は電
磁波の外部への漏洩を防止するために設けられている。
またＩＴＯ層及び金属パターンの２つの部材を重ねて設
けることにより、より強力な電磁波シールド性を基板に
持たせることができる。尚、本実施形態では、ＩＴＯ層
及び金属パターンを設けて電磁波の漏洩を防止している
が、これ以外にもガラス基板上に銅のパターンのみから
なるシールド層を設ける等、一般的に行われている方法
を用いることも可能である。
けられている。またＩＴＯ層の上面には金属パターン３
が設けられている。ＩＴＯ層２及び金属パターン３は電
磁波の外部への漏洩を防止するために設けられている。
またＩＴＯ層及び金属パターンの２つの部材を重ねて設
けることにより、より強力な電磁波シールド性を基板に
持たせることができる。尚、本実施形態では、ＩＴＯ層
及び金属パターンを設けて電磁波の漏洩を防止している
が、これ以外にもガラス基板上に銅のパターンのみから
なるシールド層を設ける等、一般的に行われている方法
を用いることも可能である。
【００１９】ＩＴＯ層２と金属パターン３の上面には、
求められる接着層の厚さに相当した厚さのスペーサ６が
張られている。またスペーサ６の内側には、スペーサに
より求められる厚さとされた接着層５が設けられてい
る。さらにスペーサ６及び接着層５の上面にはプラスチ
ック基板４が設けられている。接着層５は上面にＩＴＯ
層２と金属パターン３を形成したガラス基板１とプラス
チック基板４とを接着する透明な接着剤の層である。透
明な接着剤は、接着前は粘度が５０ｃｐｓ以下であり、
接着後には弾力性が有るものが望ましい。これは、ガラ
ス基板とプラスチック基板とを接着剤にて貼り合わせる
と、ガラス基板上に形成された金属パターンに空気が入
り込んで気泡が発生し、透明性を低下させるという不具
合が発生する。この不具合を防止するために低粘度の接
着剤を用いている。また、接着後に接着層に弾力性が必
要となるのは、接着層にクッション性を持たせて、ガラ
ス基板とプラスチック基板とを貼り合わせた基板の熱耐
久性を強化するためである。尚、接着剤の粘度は、５０
ｃｐｓ以下のものが適当である。本実施形態では、上述
の必要条件を満たす透明な接着剤として熱硬化性アクリ
ル系樹脂を用いている。この他、紫外線硬化性樹脂等を
用いてもよい。また透明な接着剤に含金属有機系近赤外
線吸収剤や着色剤を混ぜ合わせることにより、近赤外線
吸収機能や色バランスの補正機能を持たせることも可能
となる。着色剤や含金属有機系近赤外線吸収剤を含んだ
透明な接着剤により、ガラス基板とプラスチック基板と
を貼り合わせる。貼り合わせ方法は、スペーサにより接
着層の厚さを求める厚さとし、ガラス基板とプラスチッ
ク基板を接着する。スペーサを用いることにより、低粘
度の接着剤が流れだすという不具合を生じることなく、
接着層の厚さを調節することができる。貼り合わせたプ
ラスチック基板４にも、含金属有機系近赤外線吸収剤や
着色剤を練り込んでいる。含金属有機系近赤外線吸収剤
には基板への塗工が困難であるという問題がある。本実
施形態ではプラスチック基板の成型時に含金属有機系近
赤外線吸収剤を練り込むことにより、この問題を解決し
ている。接着層のみならずプラスチック基板にも含金属
有機系近赤外線吸収剤や着色剤を含ませることにより、
近赤外線吸収性や色バランスの補正機能をさらに高める
ことができる。
求められる接着層の厚さに相当した厚さのスペーサ６が
張られている。またスペーサ６の内側には、スペーサに
より求められる厚さとされた接着層５が設けられてい
る。さらにスペーサ６及び接着層５の上面にはプラスチ
ック基板４が設けられている。接着層５は上面にＩＴＯ
層２と金属パターン３を形成したガラス基板１とプラス
チック基板４とを接着する透明な接着剤の層である。透
明な接着剤は、接着前は粘度が５０ｃｐｓ以下であり、
接着後には弾力性が有るものが望ましい。これは、ガラ
ス基板とプラスチック基板とを接着剤にて貼り合わせる
と、ガラス基板上に形成された金属パターンに空気が入
り込んで気泡が発生し、透明性を低下させるという不具
合が発生する。この不具合を防止するために低粘度の接
着剤を用いている。また、接着後に接着層に弾力性が必
要となるのは、接着層にクッション性を持たせて、ガラ
ス基板とプラスチック基板とを貼り合わせた基板の熱耐
久性を強化するためである。尚、接着剤の粘度は、５０
ｃｐｓ以下のものが適当である。本実施形態では、上述
の必要条件を満たす透明な接着剤として熱硬化性アクリ
ル系樹脂を用いている。この他、紫外線硬化性樹脂等を
用いてもよい。また透明な接着剤に含金属有機系近赤外
線吸収剤や着色剤を混ぜ合わせることにより、近赤外線
吸収機能や色バランスの補正機能を持たせることも可能
となる。着色剤や含金属有機系近赤外線吸収剤を含んだ
透明な接着剤により、ガラス基板とプラスチック基板と
を貼り合わせる。貼り合わせ方法は、スペーサにより接
着層の厚さを求める厚さとし、ガラス基板とプラスチッ
ク基板を接着する。スペーサを用いることにより、低粘
度の接着剤が流れだすという不具合を生じることなく、
接着層の厚さを調節することができる。貼り合わせたプ
ラスチック基板４にも、含金属有機系近赤外線吸収剤や
着色剤を練り込んでいる。含金属有機系近赤外線吸収剤
には基板への塗工が困難であるという問題がある。本実
施形態ではプラスチック基板の成型時に含金属有機系近
赤外線吸収剤を練り込むことにより、この問題を解決し
ている。接着層のみならずプラスチック基板にも含金属
有機系近赤外線吸収剤や着色剤を含ませることにより、
近赤外線吸収性や色バランスの補正機能をさらに高める
ことができる。
【００２０】本実施形態では、ガラス基板の厚さを２mm
〜５mm、プラスチック基板の厚さを２mm〜３mm、接着層
の厚さを０．５mm〜２．０mmの範囲内で設けている。ま
たプラスチック基板の厚さをガラス基板の厚さの１／１
０〜１０／１０としている（最適な厚さ比率としては１
／３程度が望ましい）。ガラス基板とプラスチック基板
とを何の厚さ寸法の設定もせずに貼り合わせ、例えば、
ＰＤＰ等の熱を発する表示画面の前面に設けた場合、Ｐ
ＤＰの発する熱により両基板にソリが発生し、ガラス基
板が割れてしまうという不具合が生じる。これはガラス
とプラスチックの熱膨張係数が異なるためである。本実
施形態では、ガラス基板とプラスチック基板との厚さを
上記のように調節し、さらに接着層を適宜厚さにしてク
ッション性を持たせることにより上記の不具合を防止し
ている。
〜５mm、プラスチック基板の厚さを２mm〜３mm、接着層
の厚さを０．５mm〜２．０mmの範囲内で設けている。ま
たプラスチック基板の厚さをガラス基板の厚さの１／１
０〜１０／１０としている（最適な厚さ比率としては１
／３程度が望ましい）。ガラス基板とプラスチック基板
とを何の厚さ寸法の設定もせずに貼り合わせ、例えば、
ＰＤＰ等の熱を発する表示画面の前面に設けた場合、Ｐ
ＤＰの発する熱により両基板にソリが発生し、ガラス基
板が割れてしまうという不具合が生じる。これはガラス
とプラスチックの熱膨張係数が異なるためである。本実
施形態では、ガラス基板とプラスチック基板との厚さを
上記のように調節し、さらに接着層を適宜厚さにしてク
ッション性を持たせることにより上記の不具合を防止し
ている。
【００２１】ガラス基板とプラスチック基板を貼り合わ
せた基板の両外側には反射防止層６を設けている。反射
防止層は外光の反射による画質の低下を防止する層であ
る。
せた基板の両外側には反射防止層６を設けている。反射
防止層は外光の反射による画質の低下を防止する層であ
る。
【００２２】上記構成の電磁波シールド付き光学フィル
タを、例えばＰＤＰの前面に設けた場合、ＰＤＰの画面
に差し込んだ外光は反射防止層で複雑に屈折され、外光
の反射によるＰＤＰの画質の低下を防止することができ
る。さらにＰＤＰにより放出される近赤外線は、プラス
チック基板または接着層に練り込んだ近赤外線吸収剤に
より吸収されることとなる。またＰＤＰの駆動により発
生する電磁波はガラス基板上に設けたＩＴＯ層及び金属
パターンにより遮断されるので外部への電磁波漏洩量を
低下させることができる。
タを、例えばＰＤＰの前面に設けた場合、ＰＤＰの画面
に差し込んだ外光は反射防止層で複雑に屈折され、外光
の反射によるＰＤＰの画質の低下を防止することができ
る。さらにＰＤＰにより放出される近赤外線は、プラス
チック基板または接着層に練り込んだ近赤外線吸収剤に
より吸収されることとなる。またＰＤＰの駆動により発
生する電磁波はガラス基板上に設けたＩＴＯ層及び金属
パターンにより遮断されるので外部への電磁波漏洩量を
低下させることができる。
【００２３】またガラス基板とプラスチック基板とを貼
り合わせたことにより剛性、強靱性に優れた基板とする
ことができる。さらにガラス基板だけを用いたものに比
べ軽量化を図ることができる。
り合わせたことにより剛性、強靱性に優れた基板とする
ことができる。さらにガラス基板だけを用いたものに比
べ軽量化を図ることができる。
【００２４】次に図２のフローチャートに基づき、製造
工程の一例を以下に説明する。ステップＳ１において、
ガラス基板１の片面全面に電磁波シールドのためのＩＴ
Ｏ層を形成する。本工程ではＩＴＯ層のガラス基板への
形成方法については特に言及しない。
工程の一例を以下に説明する。ステップＳ１において、
ガラス基板１の片面全面に電磁波シールドのためのＩＴ
Ｏ層を形成する。本工程ではＩＴＯ層のガラス基板への
形成方法については特に言及しない。
【００２５】次にステップＳ２にて、ＩＴＯ層の上面に
金属のメッシュパターンを形成する。本工程では、ニッ
ケルのメッシュパターンを形成している。メッシュパタ
ーンの形成方法はＩＴＯ層の上面に無電解メッキにより
形成したニッケル層をエッチングでパターン化してい
る。ＩＴＯ層を形成したガラス基板上に金属パターンパ
ターンを形成することにより、強力な電磁波シールド性
を持たせることができる。
金属のメッシュパターンを形成する。本工程では、ニッ
ケルのメッシュパターンを形成している。メッシュパタ
ーンの形成方法はＩＴＯ層の上面に無電解メッキにより
形成したニッケル層をエッチングでパターン化してい
る。ＩＴＯ層を形成したガラス基板上に金属パターンパ
ターンを形成することにより、強力な電磁波シールド性
を持たせることができる。
【００２６】次にステップＳ３にて、ＩＴＯ層とニッケ
ルの金属パターン上面に、成型時に含金属有機系近赤外
線吸収剤及び着色剤を練り込んだプラスチック基板を貼
り合わせる。尚、アースを取りやすくするため、プラス
チック基板の寸法はガラス基板の寸法よりも各片とも１
０mm程度小さいもの用いている。貼り合わせる前に、ア
ースを取るための引き出し線を取り付けた場合には、両
基板とも同じ大きさであってもよい。貼り合わせ方は、
ガラス基板の周囲に求める接着層の厚さと同じ厚さのス
ペーサを貼り、スペーサで囲まれた中に透明な接着剤を
垂らす。そして、この接着面にプラスチック基板を乗せ
て、ガラス基板とプラスチック基板を貼り合わせる。こ
の接着方法によるとスペーサの厚さを適宜変更すること
により、接着層を所望の厚さとすることができる。尚、
本工程ではプラスチック基板に練り込む含金属有機系近
赤外線吸収剤に住友化学（株）製、商品名スミパルスＨ
Ａを用いている。
ルの金属パターン上面に、成型時に含金属有機系近赤外
線吸収剤及び着色剤を練り込んだプラスチック基板を貼
り合わせる。尚、アースを取りやすくするため、プラス
チック基板の寸法はガラス基板の寸法よりも各片とも１
０mm程度小さいもの用いている。貼り合わせる前に、ア
ースを取るための引き出し線を取り付けた場合には、両
基板とも同じ大きさであってもよい。貼り合わせ方は、
ガラス基板の周囲に求める接着層の厚さと同じ厚さのス
ペーサを貼り、スペーサで囲まれた中に透明な接着剤を
垂らす。そして、この接着面にプラスチック基板を乗せ
て、ガラス基板とプラスチック基板を貼り合わせる。こ
の接着方法によるとスペーサの厚さを適宜変更すること
により、接着層を所望の厚さとすることができる。尚、
本工程ではプラスチック基板に練り込む含金属有機系近
赤外線吸収剤に住友化学（株）製、商品名スミパルスＨ
Ａを用いている。
【００２７】ＰＤＰなどの熱を発生する表示画面の前面
にガラス基板やプラスチック基板を設けると、画面から
の熱により基板に熱伸縮が生じる。本実施形態のように
ガラス基板とプラスチック基板とを貼り合わせて画面の
前面に設けると、ガラス基板とプラスチック基板の熱膨
張係数の違いによりソリが発生し、ガラス基板が割れて
しまう恐れがある。本工程においては、ガラス基板の厚
さ寸法を２mm〜５mmの範囲内、プラスチック基板の厚さ
寸法を２mm〜３mmの範囲内とし、プラスチック基板の厚
さ寸法がガラス基板の厚さ寸法の1/10〜10/10 （最適な
厚さ比率としては１／３程度が望ましい）となるように
設けている。さらに両基板を接着するための透明な接着
剤による接着層に０．５mm〜２．０mm程度の厚みを持た
せてクッション層とすることにより上記の不具合を防止
している。
にガラス基板やプラスチック基板を設けると、画面から
の熱により基板に熱伸縮が生じる。本実施形態のように
ガラス基板とプラスチック基板とを貼り合わせて画面の
前面に設けると、ガラス基板とプラスチック基板の熱膨
張係数の違いによりソリが発生し、ガラス基板が割れて
しまう恐れがある。本工程においては、ガラス基板の厚
さ寸法を２mm〜５mmの範囲内、プラスチック基板の厚さ
寸法を２mm〜３mmの範囲内とし、プラスチック基板の厚
さ寸法がガラス基板の厚さ寸法の1/10〜10/10 （最適な
厚さ比率としては１／３程度が望ましい）となるように
設けている。さらに両基板を接着するための透明な接着
剤による接着層に０．５mm〜２．０mm程度の厚みを持た
せてクッション層とすることにより上記の不具合を防止
している。
【００２８】また、本工程では、透明な接着剤として三
井化学（株）製、商品名アルマテックスＤＣ１００を用
いている。この透明な接着剤は、接着前は粘度が低く
（５０ｃｐｓ以下）、接着後には弾力性がある。これ
は、ガラス基板とプラスチック基板とを接着剤にて貼り
合わせた場合、ガラス基板上に形成された金属パターン
に空気が入り込んで気泡が発生し、透明性を低下させる
という不具合を生じる。この不具合を防止するために低
粘度の接着剤を用いている。また接着後に弾力性が必要
となるのは、上述のように接着層にクッション性を持た
せるためである。また、接着層には、透明な接着剤と共
に含金属有機系近赤外線吸収剤及び着色剤を含ませてい
る。プラスチック基板と接着層の両方に含金属有機系近
赤外線吸収剤と着色剤を含ませることにより、強力な近
赤外線吸収効果と色バランスの補正機能を持たせること
ができる。尚、接着剤に含ませる含金属有機系近赤外線
吸収剤も住友化学（株）製、商品名スミパルスＨＡを用
いている。
井化学（株）製、商品名アルマテックスＤＣ１００を用
いている。この透明な接着剤は、接着前は粘度が低く
（５０ｃｐｓ以下）、接着後には弾力性がある。これ
は、ガラス基板とプラスチック基板とを接着剤にて貼り
合わせた場合、ガラス基板上に形成された金属パターン
に空気が入り込んで気泡が発生し、透明性を低下させる
という不具合を生じる。この不具合を防止するために低
粘度の接着剤を用いている。また接着後に弾力性が必要
となるのは、上述のように接着層にクッション性を持た
せるためである。また、接着層には、透明な接着剤と共
に含金属有機系近赤外線吸収剤及び着色剤を含ませてい
る。プラスチック基板と接着層の両方に含金属有機系近
赤外線吸収剤と着色剤を含ませることにより、強力な近
赤外線吸収効果と色バランスの補正機能を持たせること
ができる。尚、接着剤に含ませる含金属有機系近赤外線
吸収剤も住友化学（株）製、商品名スミパルスＨＡを用
いている。
【００２９】ステップＳ４にて、反射防止フィルムをガ
ラス基板とプラスチック基板とを貼り合わせた基板の両
面にラミネート、または反射防止材に基板を浸しディッ
プコートする。以上の工程により本発明の電磁波シール
ド付きフィルタが完成する。反射防止材を基板両面にラ
ミネートしたことにより、外光の反射による視認性の低
下を防ぐことができる。
ラス基板とプラスチック基板とを貼り合わせた基板の両
面にラミネート、または反射防止材に基板を浸しディッ
プコートする。以上の工程により本発明の電磁波シール
ド付きフィルタが完成する。反射防止材を基板両面にラ
ミネートしたことにより、外光の反射による視認性の低
下を防ぐことができる。
【００３０】尚、上述の実施形態は本発明の好適な実施
の一例である。但し、これに限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施
が可能である。
の一例である。但し、これに限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施
が可能である。
【００３１】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように請求項１
記載の本発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、片
面に電磁波シールド層を設けたガラス基板と、含金属有
機系近赤外線吸収剤を練り込んだプラスチック基板とを
透明な接着剤を介して電磁波シールド層を貼り合わせた
ことにより、例えばＰＤＰの前面に設けた場合、ＰＤＰ
により放出される近赤外線はプラスチック基板に練り込
んだ含金属有機系近赤外線吸収剤により吸収されるので
外部への漏洩量を低下させることができ、またＰＤＰよ
り漏洩する電磁波はＩＴＯ層及び金属パターンにより遮
断されるので外部への漏洩量を低く押させることができ
る。またガラス基板とプラスチック基板とを透明な接着
剤を介して電磁波シールド層を貼り合わせたことによ
り、軽量で剛性に優れた基板とすることができる。
記載の本発明の電磁波シールド付き光学フィルタは、片
面に電磁波シールド層を設けたガラス基板と、含金属有
機系近赤外線吸収剤を練り込んだプラスチック基板とを
透明な接着剤を介して電磁波シールド層を貼り合わせた
ことにより、例えばＰＤＰの前面に設けた場合、ＰＤＰ
により放出される近赤外線はプラスチック基板に練り込
んだ含金属有機系近赤外線吸収剤により吸収されるので
外部への漏洩量を低下させることができ、またＰＤＰよ
り漏洩する電磁波はＩＴＯ層及び金属パターンにより遮
断されるので外部への漏洩量を低く押させることができ
る。またガラス基板とプラスチック基板とを透明な接着
剤を介して電磁波シールド層を貼り合わせたことによ
り、軽量で剛性に優れた基板とすることができる。
【００３２】請求項２記載の電磁波シールド付き光学フ
ィルタは、電磁波シールド層がガラス基板上にＩＴＯ層
を形成し、形成したＩＴＯ層の上面に金属パターンを形
成してなることにより、強力な電磁波シールド性を光学
フィルタに持たせることができる。
ィルタは、電磁波シールド層がガラス基板上にＩＴＯ層
を形成し、形成したＩＴＯ層の上面に金属パターンを形
成してなることにより、強力な電磁波シールド性を光学
フィルタに持たせることができる。
【００３３】請求項３記載の電磁波シールド付き光学フ
ィルタは、ガラス基板とプラスチック基板とを、接着前
の粘度が５０ｃｐｓ以下の接着剤により接着したことに
より、ガラス基板とプラスチック基板とを接着するとき
にガラス基板上に形成された金属パターンに空気が入り
込んで気泡が発生し、透明性を低下させるという不具合
を防止することができる。またこの接着剤は、接着後は
弾力性のある接着剤であることにより、例えば、ＰＤＰ
などの熱を発する表示画面の前面に設けた場合に、接着
剤がクッションの役割を果たし、ＰＤＰなどの発する熱
により両基板に発生するソリによりガラス基板が割れて
しまうという不具合を防止することができる。
ィルタは、ガラス基板とプラスチック基板とを、接着前
の粘度が５０ｃｐｓ以下の接着剤により接着したことに
より、ガラス基板とプラスチック基板とを接着するとき
にガラス基板上に形成された金属パターンに空気が入り
込んで気泡が発生し、透明性を低下させるという不具合
を防止することができる。またこの接着剤は、接着後は
弾力性のある接着剤であることにより、例えば、ＰＤＰ
などの熱を発する表示画面の前面に設けた場合に、接着
剤がクッションの役割を果たし、ＰＤＰなどの発する熱
により両基板に発生するソリによりガラス基板が割れて
しまうという不具合を防止することができる。
【００３４】請求項４記載の電磁波シールド付き光学フ
ィルタは、透明な接着剤に着色剤及び含金属有機系近赤
外線吸収剤を含ませたことにより、光学フィルタに色バ
ランスの補正機能及び近赤外線吸収機能を持たせること
ができる。
ィルタは、透明な接着剤に着色剤及び含金属有機系近赤
外線吸収剤を含ませたことにより、光学フィルタに色バ
ランスの補正機能及び近赤外線吸収機能を持たせること
ができる。
【００３５】請求項５記載の電磁波シールド付き光学フ
ィルタは、プラスチック基板の成型時に含金属有機系近
赤外線吸収剤と着色剤を練り込むことにより、含金属有
機系近赤外線吸収剤が有する基板への塗工が困難である
という問題を解決し、プラスチック基板に含金属有機系
近赤外線吸収剤を容易に含ませることができる。またプ
ラスチック基板に着色剤を練り込んだことにより、光学
フィルタに色バランスの補正機能を持たせることができ
る。
ィルタは、プラスチック基板の成型時に含金属有機系近
赤外線吸収剤と着色剤を練り込むことにより、含金属有
機系近赤外線吸収剤が有する基板への塗工が困難である
という問題を解決し、プラスチック基板に含金属有機系
近赤外線吸収剤を容易に含ませることができる。またプ
ラスチック基板に着色剤を練り込んだことにより、光学
フィルタに色バランスの補正機能を持たせることができ
る。
【００３６】請求項６記載の電磁波シールド付き光学フ
ィルタの製造方法は、ガラス基板の一方の面上にＩＴＯ
層を形成し、さらにＩＴＯ層の上面に金属パターンを形
成し、金属パターンの上面に金属パターンを被う透明な
接着剤を塗布し、含金属有機系近赤外線吸収剤を含有し
たプラスチック基板と接着することにより強力な電磁波
シールド性と近赤外線吸収機能を具備した電磁波シール
ド付き光学フィルタを製造することができる。
ィルタの製造方法は、ガラス基板の一方の面上にＩＴＯ
層を形成し、さらにＩＴＯ層の上面に金属パターンを形
成し、金属パターンの上面に金属パターンを被う透明な
接着剤を塗布し、含金属有機系近赤外線吸収剤を含有し
たプラスチック基板と接着することにより強力な電磁波
シールド性と近赤外線吸収機能を具備した電磁波シール
ド付き光学フィルタを製造することができる。
【００３７】請求項７記載の電磁波シールド付き光学フ
ィルタの製造方法によれば、ＩＴＯ層と金属パターンと
を設けたガラス基板の面の周囲に求める接着層の厚さと
同じ厚さのスペーサを貼り付け、透明な接着剤をスペー
サで囲まれたガラス基板上に垂らし、プラスチック基板
と接着することにより、接着層を求める厚さとすること
ができる。
ィルタの製造方法によれば、ＩＴＯ層と金属パターンと
を設けたガラス基板の面の周囲に求める接着層の厚さと
同じ厚さのスペーサを貼り付け、透明な接着剤をスペー
サで囲まれたガラス基板上に垂らし、プラスチック基板
と接着することにより、接着層を求める厚さとすること
ができる。
【図１】本発明の電磁波シールド付き光学フィルタの実
施形態を表す断面図である。
施形態を表す断面図である。
【図２】製造工程を表すフローチャートである。
１ ガラス基板 ２ ＩＴＯ層 ３ 金属パターン ４ プラスチック基板 ５ 接着層（接着剤） ６ スペーサ ７ 反射防止層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３１８ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｖ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ
Claims (7)
- 【請求項１】 片面に電磁波シールド層を設けたガラス
基板と、含金属有機系近赤外線吸収剤を練り込んだプラ
スチック基板とを透明な接着剤を介して前記電磁波シー
ルド層を挟む形で貼り合わせたことを特徴とする電磁波
シールド付き光学フィルタ。 - 【請求項２】 前記電磁波シールド層は、 前記ガラス基板上にＩＴＯ層を形成し、形成した該ＩＴ
Ｏ層の上面に金属パターンを形成してなることを特徴と
する請求項１記載の電磁波シールド付き光学フィルタ。 - 【請求項３】 前記ガラス基板と前記プラスチック基板
とを接着する前記透明な接着剤は、接着前は粘度が５０
ｃｐｓ以下であり、接着後は弾力性のある接着剤である
ことを特徴とする請求項１記載の電磁波シールド付き光
学フィルタ。 - 【請求項４】 前記透明な接着剤に、色バランスを補正
するための着色剤及び近赤外線を吸収するための含金属
有機系近赤外線吸収剤を含ませたことを特徴とする請求
項１または３記載の電磁波シールド付き光学フィルタ。 - 【請求項５】 前記プラスチック基板の成型時に、色バ
ランスを補正するための着色剤及び近赤外線を吸収する
ための含金属有機系近赤外線吸収剤を練り込んだことを
特徴とする請求項１記載の電磁波シールド付き光学フィ
ルタ。 - 【請求項６】 ガラス基板の一方の面上にＩＴＯ層を形
成し、さらに形成した該ＩＴＯ層の上面に金属パターン
を形成し、該金属パターンの上面に該金属パターンを被
う透明な接着剤を塗布して含金属有機系近赤外線吸収剤
を含有したプラスチック基板と接着することを特徴とす
る電磁波シールド付き光学フィルタの製造方法。 - 【請求項７】 前記ＩＴＯ層と前記金属パターンとを設
けた前記ガラス基板の面の周囲に求める接着層の厚さと
同じ厚さのスペーサを貼り付け、前記透明な接着剤を前
記スペーサで囲まれた前記ガラス基板上に垂らし、前記
プラスチック基板と接着することを特徴とする請求項６
記載の電磁波シールド付き光学フィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9368733A JPH11194215A (ja) | 1997-12-29 | 1997-12-29 | 電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9368733A JPH11194215A (ja) | 1997-12-29 | 1997-12-29 | 電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11194215A true JPH11194215A (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=18492608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9368733A Pending JPH11194215A (ja) | 1997-12-29 | 1997-12-29 | 電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11194215A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2843204A1 (fr) * | 2002-08-05 | 2004-02-06 | Saint Gobain | Structure de filtrage optique et de blindage electromagnetique |
| US6808773B2 (en) * | 2001-05-24 | 2004-10-26 | Kyodo Printing Co., Ltd. | Shielding base member and method of manufacturing the same |
| WO2005013664A1 (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-10 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | プラズマディスプレイ用前面板、及びプラズマディスプレイ |
| JP2006269953A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Nec Network & Sensor Systems Ltd | 表示パネルの取付構造 |
| CN117479521A (zh) * | 2023-12-27 | 2024-01-30 | 江苏赛博空间科学技术有限公司 | 一种透波材料电磁屏蔽结构 |
-
1997
- 1997-12-29 JP JP9368733A patent/JPH11194215A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6808773B2 (en) * | 2001-05-24 | 2004-10-26 | Kyodo Printing Co., Ltd. | Shielding base member and method of manufacturing the same |
| US7191517B2 (en) | 2001-05-24 | 2007-03-20 | Kyodo Printing Co., Ltd. | Shielding base member manufacturing method |
| US7086146B2 (en) | 2001-05-24 | 2006-08-08 | Kyodo Printing Co., Ltd. | Method of manufacturing a shielding base member |
| US7459641B2 (en) | 2002-08-05 | 2008-12-02 | Saint-Gobain Glass France | Optical filtering and electromagnetic armouring structure |
| WO2004016053A3 (fr) * | 2002-08-05 | 2004-04-08 | Saint Gobain | Structure de filtrage optique et de blindage electromagnetique |
| WO2004016053A2 (fr) * | 2002-08-05 | 2004-02-19 | Saint-Gobain Glass France | Structure de filtrage optique et de blindage electromagnetique |
| CN100342766C (zh) * | 2002-08-05 | 2007-10-10 | 法国圣戈班玻璃厂 | 滤光和电磁屏蔽结构 |
| FR2843204A1 (fr) * | 2002-08-05 | 2004-02-06 | Saint Gobain | Structure de filtrage optique et de blindage electromagnetique |
| WO2005013664A1 (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-10 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | プラズマディスプレイ用前面板、及びプラズマディスプレイ |
| JP2006269953A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Nec Network & Sensor Systems Ltd | 表示パネルの取付構造 |
| JP4669724B2 (ja) * | 2005-03-25 | 2011-04-13 | Ｎｅｃネットワーク・センサ株式会社 | 表示パネルの取付構造 |
| CN117479521A (zh) * | 2023-12-27 | 2024-01-30 | 江苏赛博空间科学技术有限公司 | 一种透波材料电磁屏蔽结构 |
| CN117479521B (zh) * | 2023-12-27 | 2024-05-28 | 江苏赛博空间科学技术有限公司 | 一种透波材料电磁屏蔽结构 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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|
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|
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