JPH11183918A - 液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示素子及びその製造方法Info
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- JPH11183918A JPH11183918A JP35647697A JP35647697A JPH11183918A JP H11183918 A JPH11183918 A JP H11183918A JP 35647697 A JP35647697 A JP 35647697A JP 35647697 A JP35647697 A JP 35647697A JP H11183918 A JPH11183918 A JP H11183918A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 製造工程数を大幅に減少させることが可能と
なる液晶表示素子及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 一対の電極基板を貼合わせる際に、シー
ル材としてＵＶ光の照射によって硬化が開始し、その後
順次硬化する光トリガ式の光硬化性樹脂を用いる。これ
によって、熱硬化性樹脂を用いた場合のように長時間を
要する焼成工程をなくすことができると共に、過度のＵ
Ｖ照射による配向膜の劣化を防ぐ為の遮光手段もなくす
ことができる。
なる液晶表示素子及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 一対の電極基板を貼合わせる際に、シー
ル材としてＵＶ光の照射によって硬化が開始し、その後
順次硬化する光トリガ式の光硬化性樹脂を用いる。これ
によって、熱硬化性樹脂を用いた場合のように長時間を
要する焼成工程をなくすことができると共に、過度のＵ
Ｖ照射による配向膜の劣化を防ぐ為の遮光手段もなくす
ことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラットパネルデ
ィスプレイとして好適に用いられる液晶表示素子および
その製造方法に関する。
ィスプレイとして好適に用いられる液晶表示素子および
その製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フラットパネルディスプレイに用いられ
る液晶表示素子の開発は、小型化、単色化、２値表示化
の初期段階を既に脱し、大型化、カラー化、中間調表示
や動画表示などに進展して年毎にその生産量も増加の一
途を辿っている。
る液晶表示素子の開発は、小型化、単色化、２値表示化
の初期段階を既に脱し、大型化、カラー化、中間調表示
や動画表示などに進展して年毎にその生産量も増加の一
途を辿っている。
【０００３】ここで、液晶表示素子の一つとしてＴＦＴ
からなるスイッチング素子を有するアクティブマトリク
ス型の液晶表示素子の構造及びその製造方法について、
図６、図７を用いて説明すると以下の通りである。
からなるスイッチング素子を有するアクティブマトリク
ス型の液晶表示素子の構造及びその製造方法について、
図６、図７を用いて説明すると以下の通りである。
【０００４】図６は一般的な液晶表示素子の断面構造を
示す図であり、３１ａ、３１ｂは偏光板、３２ａ、３２
ｂは透光性基板、３３はカラーフィルタや透明電極など
からなるカラー部、３４ａ、３４ｂは配向膜、３５は液
晶層、３６はシール材、３７はスイッチング素子、画素
電極及び信号配線などからなるＴＦＴ部、３８はスペー
サである。
示す図であり、３１ａ、３１ｂは偏光板、３２ａ、３２
ｂは透光性基板、３３はカラーフィルタや透明電極など
からなるカラー部、３４ａ、３４ｂは配向膜、３５は液
晶層、３６はシール材、３７はスイッチング素子、画素
電極及び信号配線などからなるＴＦＴ部、３８はスペー
サである。
【０００５】このような構成の液晶表示素子は、図７に
示すような、工程（ａ）乃至工程（ｏ）からなるフロー
チャートに基づいて作製される。
示すような、工程（ａ）乃至工程（ｏ）からなるフロー
チャートに基づいて作製される。
【０００６】まず、工程（ａ）及び（ｅ）に示されるよ
うに、カラー部３３が形成された透光性基板３２ａ、及
びＴＦＴ部３７が形成された透光性基板３２ｂを洗浄
し、次いで工程（ｂ）及び（ｆ）に示されるように、こ
れらの基板を乾燥させる。
うに、カラー部３３が形成された透光性基板３２ａ、及
びＴＦＴ部３７が形成された透光性基板３２ｂを洗浄
し、次いで工程（ｂ）及び（ｆ）に示されるように、こ
れらの基板を乾燥させる。
【０００７】続いて、工程（ｃ）、（ｇ）に示されるよ
うに、透光性基板３２ａのカラー部３３の形成面、及び
透光性基板３２ｂのＴＦＴ部３７の形成面に配向膜３４
ａ、３４ｂを塗布し、焼成、ラビング処理を行う。
うに、透光性基板３２ａのカラー部３３の形成面、及び
透光性基板３２ｂのＴＦＴ部３７の形成面に配向膜３４
ａ、３４ｂを塗布し、焼成、ラビング処理を行う。
【０００８】更に、工程（ｄ）に示されるように、カラ
ー部３３が形成された透光性基板３２ａ上の表示領域周
辺部にシール材３６を形成すると共に、工程（ｈ）に示
されるように、ＴＦＴ部３７が形成された透光性基板３
２ｂ上にスペーサ３８を均一に散布する。なお、シール
材３６は表示領域の全周に形成するのではなく、後の液
晶注入工程における液晶の注入口となる部分には形成せ
ず、開口部を設けておく。
ー部３３が形成された透光性基板３２ａ上の表示領域周
辺部にシール材３６を形成すると共に、工程（ｈ）に示
されるように、ＴＦＴ部３７が形成された透光性基板３
２ｂ上にスペーサ３８を均一に散布する。なお、シール
材３６は表示領域の全周に形成するのではなく、後の液
晶注入工程における液晶の注入口となる部分には形成せ
ず、開口部を設けておく。
【０００９】そして、工程（ｉ）に示されるように、カ
ラー部３３及びシール材３６が設けられた透光性基板３
２ａと、ＴＦＴ部３７及びスペーサ３８が設けられた透
光性基板３２ｂとを貼合わせ、工程（ｊ）に示されるよ
うに、貼合わされた両基板３２ａ、３２ｂをプレスした
ままプリベーク（仮焼成）処理を行って仮固定させた
後、工程（ｋ）に示されるように、ポストベーク（本焼
成）処理を行う。
ラー部３３及びシール材３６が設けられた透光性基板３
２ａと、ＴＦＴ部３７及びスペーサ３８が設けられた透
光性基板３２ｂとを貼合わせ、工程（ｊ）に示されるよ
うに、貼合わされた両基板３２ａ、３２ｂをプレスした
ままプリベーク（仮焼成）処理を行って仮固定させた
後、工程（ｋ）に示されるように、ポストベーク（本焼
成）処理を行う。
【００１０】更に、工程（ｌ）に示されるように、必要
に応じて貼合わされた両基板３２ａ、３２ｂを所望の大
きさに分断する。以下、この工程により分断されたもの
をセルと称する。また、このセル内に設けられたシール
材３６の開口部を注入口と称する。
に応じて貼合わされた両基板３２ａ、３２ｂを所望の大
きさに分断する。以下、この工程により分断されたもの
をセルと称する。また、このセル内に設けられたシール
材３６の開口部を注入口と称する。
【００１１】続いて、工程（ｍ）に示されるように、前
記セルの注入口から液晶を注入し、この注入口を封止樹
脂により封止する。更に、工程（ｎ）に示されるよう
に、必要に応じてセルに注入された液晶が配向するよう
にセルを加熱・急冷し、工程（ｏ）に示されるように偏
光板などの光学部材を貼合わせることによって液晶表示
素子が完成する。
記セルの注入口から液晶を注入し、この注入口を封止樹
脂により封止する。更に、工程（ｎ）に示されるよう
に、必要に応じてセルに注入された液晶が配向するよう
にセルを加熱・急冷し、工程（ｏ）に示されるように偏
光板などの光学部材を貼合わせることによって液晶表示
素子が完成する。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うな従来の液晶表示素子の製造方法においては、両基板
３２ａ及び３２ｂを貼合わせた後、プリベーク及びポス
トベーク処理を必要とするため製造工程が複雑になり、
設備投資の増加、生産能力の低下、更には製造歩留の低
下を生じてしまい、コストの増加を招いてしまうという
問題点があった。このようなプリベーク処理及びポスト
ベーク処理が必要となるのは、一方の透光性基板に設け
られるシール材３６として、一般的に熱硬化性樹脂が用
いられている為である。
うな従来の液晶表示素子の製造方法においては、両基板
３２ａ及び３２ｂを貼合わせた後、プリベーク及びポス
トベーク処理を必要とするため製造工程が複雑になり、
設備投資の増加、生産能力の低下、更には製造歩留の低
下を生じてしまい、コストの増加を招いてしまうという
問題点があった。このようなプリベーク処理及びポスト
ベーク処理が必要となるのは、一方の透光性基板に設け
られるシール材３６として、一般的に熱硬化性樹脂が用
いられている為である。
【００１３】シール材３６としては、熱硬化性樹脂に代
えて光硬化性樹脂を用いることもできる。しかしこの場
合、光硬化性樹脂を硬化させる為にＵＶ光を照射する必
要があるが、このＵＶ光が液晶層３５や、透光性基板３
２ａ又は３２ｂに形成された配向膜３４ａ又は３４ｂに
過度に照射されると、液晶分子や配向膜が劣化してしま
い、表示品位を低下させてしまうという問題点がある。
えて光硬化性樹脂を用いることもできる。しかしこの場
合、光硬化性樹脂を硬化させる為にＵＶ光を照射する必
要があるが、このＵＶ光が液晶層３５や、透光性基板３
２ａ又は３２ｂに形成された配向膜３４ａ又は３４ｂに
過度に照射されると、液晶分子や配向膜が劣化してしま
い、表示品位を低下させてしまうという問題点がある。
【００１４】そこで、特開平８−１７１０９３号公報に
は、シール材３６として光硬化性樹脂を用いた液晶表示
素子の製造方法として、ＵＶ光を照射する際にシール材
にのみ選択的に光を照射して光硬化性樹脂を硬化させる
工程を有する製造方法を開示している。具体的には、Ｕ
Ｖ光の照射前に遮光フィルムをシール材対応領域を除く
表示パターン領域に被覆し、ＵＶ光照射後に遮光フィル
ムを剥離するものである。
は、シール材３６として光硬化性樹脂を用いた液晶表示
素子の製造方法として、ＵＶ光を照射する際にシール材
にのみ選択的に光を照射して光硬化性樹脂を硬化させる
工程を有する製造方法を開示している。具体的には、Ｕ
Ｖ光の照射前に遮光フィルムをシール材対応領域を除く
表示パターン領域に被覆し、ＵＶ光照射後に遮光フィル
ムを剥離するものである。
【００１５】しかしながら、特開平８−１７１０９３号
公報に開示された技術によれば、遮光フィルムを貼付す
る工程及び剥離する工程が必要となるばかりでなく、遮
光フィルムを貼付又は剥離する為の装置の導入も必要と
なり、製造工程の複雑化、設備投資の増加を余儀なくさ
れてしまうという問題点がある。
公報に開示された技術によれば、遮光フィルムを貼付す
る工程及び剥離する工程が必要となるばかりでなく、遮
光フィルムを貼付又は剥離する為の装置の導入も必要と
なり、製造工程の複雑化、設備投資の増加を余儀なくさ
れてしまうという問題点がある。
【００１６】本発明は上述した問題点に鑑みてなされた
ものであり、製造工程の複雑化及び設備の増加を招くこ
とのない液晶表示素子及びその製造方法を提供するもの
である。
ものであり、製造工程の複雑化及び設備の増加を招くこ
とのない液晶表示素子及びその製造方法を提供するもの
である。
【００１７】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
液晶表示素子は、一対の平面基板が、その周辺に設けら
れたシール材によって所定の間隙を保って貼合わされ、
該間隙に液晶が注入された構成を有する液晶表示素子に
おいて、前記シール材が、ＵＶ光の照射によって硬化が
開始し、その後ＵＶ光を遮断しても順次硬化が促進する
光トリガ式の光硬化性樹脂からなることを特徴とするも
のである。
液晶表示素子は、一対の平面基板が、その周辺に設けら
れたシール材によって所定の間隙を保って貼合わされ、
該間隙に液晶が注入された構成を有する液晶表示素子に
おいて、前記シール材が、ＵＶ光の照射によって硬化が
開始し、その後ＵＶ光を遮断しても順次硬化が促進する
光トリガ式の光硬化性樹脂からなることを特徴とするも
のである。
【００１８】このように、シール材として用いる光硬化
性樹脂として光トリガ式の樹脂を用いることによって、
必要以上にＵＶ光を照射する必要が無くなるので、ＵＶ
光の照射による液晶材料又は配向膜の劣化を起こすこと
なく、表示品位の高い液晶表示素子とすることができ
る。
性樹脂として光トリガ式の樹脂を用いることによって、
必要以上にＵＶ光を照射する必要が無くなるので、ＵＶ
光の照射による液晶材料又は配向膜の劣化を起こすこと
なく、表示品位の高い液晶表示素子とすることができ
る。
【００１９】前記シール材としてエポキシ系の光硬化性
樹脂を用いることによって、シール材の強度、伸縮性が
向上し、信頼性の高い液晶表示素子とすることができ
る。
樹脂を用いることによって、シール材の強度、伸縮性が
向上し、信頼性の高い液晶表示素子とすることができ
る。
【００２０】また、前記シール材の粘度を３〜２００Ｐ
ａ・ｓとすることによって、該シール材を印刷法やディ
スペンサ塗布法等の簡単な方法で形成することができ
る。
ａ・ｓとすることによって、該シール材を印刷法やディ
スペンサ塗布法等の簡単な方法で形成することができ
る。
【００２１】本発明の請求項４記載の液晶表示素子は、
請求項１乃至３記載の液晶表示素子において、前記一方
の平面基板は、ストライプ状の透明電極とカラーフィル
タとが形成されたカラーフィルタ基板であり、他方の平
面基板は、プラズマ放電可能なプラズマ室がストライプ
状に多数形成されたプラズマアドレス基板であり、これ
ら一対の平面基板を、透明電極とプラズマ室とが直交す
るように貼合わされていることを特徴とするものであ
る。
請求項１乃至３記載の液晶表示素子において、前記一方
の平面基板は、ストライプ状の透明電極とカラーフィル
タとが形成されたカラーフィルタ基板であり、他方の平
面基板は、プラズマ放電可能なプラズマ室がストライプ
状に多数形成されたプラズマアドレス基板であり、これ
ら一対の平面基板を、透明電極とプラズマ室とが直交す
るように貼合わされていることを特徴とするものであ
る。
【００２２】このように、大画面表示を可能とするプラ
ズマアドレス型の液晶表示素子にも適用することができ
るので、大画面の表示素子を容易に作製することが可能
となる。
ズマアドレス型の液晶表示素子にも適用することができ
るので、大画面の表示素子を容易に作製することが可能
となる。
【００２３】本発明の請求項５記載の液晶表示素子の製
造方法は、一対の平面基板のうち少なくとも一方の基板
の周辺部に、ＵＶ光の照射によって硬化が開始し、その
後ＵＶ光を遮断しても順次硬化が促進する光トリガ式の
光硬化性樹脂を塗布する工程と、前記光硬化性樹脂を介
して一対の平面基板を貼合わせる工程と、貼合わされた
一対の基板にＵＶ光を瞬時に照射し、前記光硬化性樹脂
を硬化させる工程と、を有することを特徴とするもので
ある。
造方法は、一対の平面基板のうち少なくとも一方の基板
の周辺部に、ＵＶ光の照射によって硬化が開始し、その
後ＵＶ光を遮断しても順次硬化が促進する光トリガ式の
光硬化性樹脂を塗布する工程と、前記光硬化性樹脂を介
して一対の平面基板を貼合わせる工程と、貼合わされた
一対の基板にＵＶ光を瞬時に照射し、前記光硬化性樹脂
を硬化させる工程と、を有することを特徴とするもので
ある。
【００２４】したがって、ＵＶ光が配向膜に過度に照射
されることを防ぐ為に遮光マスク等を用いる必要が無く
なり、製造工程の複雑化を避けることが可能となる。
されることを防ぐ為に遮光マスク等を用いる必要が無く
なり、製造工程の複雑化を避けることが可能となる。
【００２５】
【発明の実施の形態】（実施の形態１）本発明の第１の
実施形態について、図１、図２を用いて以下に説明す
る。本実施形態は、ＴＦＴからなるスイッチング素子を
用いてアクティブ駆動を行うＴＦＴ駆動型の液晶表示素
子について説明したものである。
実施形態について、図１、図２を用いて以下に説明す
る。本実施形態は、ＴＦＴからなるスイッチング素子を
用いてアクティブ駆動を行うＴＦＴ駆動型の液晶表示素
子について説明したものである。
【００２６】図１は一般的なＴＦＴ駆動型の液晶表示素
子の断面構造を示す図であり、１ａ、１ｂは偏光板、２
ａ、２ｂは透光性基板、３はカラーフィルタや透明電極
などからなるカラー部、４ａ、４ｂは配向膜、５は液晶
層、６はシール材、７はスイッチング素子、画素電極及
び信号配線などからなるＴＦＴ部、８はスペーサであ
る。
子の断面構造を示す図であり、１ａ、１ｂは偏光板、２
ａ、２ｂは透光性基板、３はカラーフィルタや透明電極
などからなるカラー部、４ａ、４ｂは配向膜、５は液晶
層、６はシール材、７はスイッチング素子、画素電極及
び信号配線などからなるＴＦＴ部、８はスペーサであ
る。
【００２７】本実施形態に用いられるシール材６は、
ＵＶ光の照射によって硬化が開始し、その後順次硬化す
る光トリガ式の光硬化性樹脂を用いている。この光トリ
ガ式の光硬化性樹脂は、ＵＶ光を瞬時に照射しただけで
硬化が開始され、その後ＵＶ光の照射を止めても順次硬
化が促進するものである。したがって、この樹脂を硬化
させる為にはＵＶ光の照射時間はごく僅かな時間、例え
ば２〜５秒程度の時間で良い。ＵＶ光の照射時間が１０
秒以下であれば、配向膜又は液晶材料が表示品位を低下
させるほど劣化することはない。
ＵＶ光の照射によって硬化が開始し、その後順次硬化す
る光トリガ式の光硬化性樹脂を用いている。この光トリ
ガ式の光硬化性樹脂は、ＵＶ光を瞬時に照射しただけで
硬化が開始され、その後ＵＶ光の照射を止めても順次硬
化が促進するものである。したがって、この樹脂を硬化
させる為にはＵＶ光の照射時間はごく僅かな時間、例え
ば２〜５秒程度の時間で良い。ＵＶ光の照射時間が１０
秒以下であれば、配向膜又は液晶材料が表示品位を低下
させるほど劣化することはない。
【００２８】このような構成の液晶表示素子は、図２に
示すような、工程（ａ）乃至工程（ｍ）からなるフロー
チャートに基づいて作製される。
示すような、工程（ａ）乃至工程（ｍ）からなるフロー
チャートに基づいて作製される。
【００２９】まず、工程（ａ）及び（ｅ）に示されるよ
うに、カラー部３が形成された透光性基板２ａ及びＴＦ
Ｔ部７が形成された透光性基板２ｂを中性洗剤洗浄、純
水洗浄、超音波洗浄などにより洗浄し、次いで工程
（ｂ）及び（ｆ）に示されるように、これらの基板を乾
燥させる。
うに、カラー部３が形成された透光性基板２ａ及びＴＦ
Ｔ部７が形成された透光性基板２ｂを中性洗剤洗浄、純
水洗浄、超音波洗浄などにより洗浄し、次いで工程
（ｂ）及び（ｆ）に示されるように、これらの基板を乾
燥させる。
【００３０】続いて、工程（ｃ）、（ｇ）に示されるよ
うに、透光性基板２ａのカラー部３の形成面、及び透光
性基板２ｂのＴＦＴ部７の形成面に配向膜４ａ、４ｂを
塗布し、焼成、ラビング処理を行う。
うに、透光性基板２ａのカラー部３の形成面、及び透光
性基板２ｂのＴＦＴ部７の形成面に配向膜４ａ、４ｂを
塗布し、焼成、ラビング処理を行う。
【００３１】更に、工程（ｄ）に示されるように、カラ
ー部３が形成された透光性基板２ａ上の表示領域周辺部
にシール材６を形成すると共に、工程（ｈ）に示される
ように、ＴＦＴ部７が形成された透光性基板２ｂ上にス
ペーサ８を均一に散布する。なお、シール材６は表示領
域の全周に形成するのではなく、後の液晶注入工程にお
ける液晶の注入口となる部分には形成せず、開口部を設
けておく。
ー部３が形成された透光性基板２ａ上の表示領域周辺部
にシール材６を形成すると共に、工程（ｈ）に示される
ように、ＴＦＴ部７が形成された透光性基板２ｂ上にス
ペーサ８を均一に散布する。なお、シール材６は表示領
域の全周に形成するのではなく、後の液晶注入工程にお
ける液晶の注入口となる部分には形成せず、開口部を設
けておく。
【００３２】なお、前記シール材６は、透光性基板２ａ
上の全面に形成した後パターニングしても良いが、コス
トや工程数の削減の為には、スクリーン印刷、フレキソ
印刷、オフセット印刷などの印刷法を用いて予めパター
ン化されたものを直接透光性基板２ａ上に形成する、或
いはディスペンサ塗布法によって直接透光性基板２ａ上
に描画するほうが好ましい。これらの方法を用いる場合
は、シール材６の粘度は３〜２００Ｐａ・ｓのものを用
いると良い。これは、粘度がこの範囲から外れてしまう
とシール幅が広がってしまうこと、接着強度が低下する
こと、印刷法やディスペンサ塗布法などの簡単な方法で
の形成が困難になること等の不具合が生じてしまう為で
ある。
上の全面に形成した後パターニングしても良いが、コス
トや工程数の削減の為には、スクリーン印刷、フレキソ
印刷、オフセット印刷などの印刷法を用いて予めパター
ン化されたものを直接透光性基板２ａ上に形成する、或
いはディスペンサ塗布法によって直接透光性基板２ａ上
に描画するほうが好ましい。これらの方法を用いる場合
は、シール材６の粘度は３〜２００Ｐａ・ｓのものを用
いると良い。これは、粘度がこの範囲から外れてしまう
とシール幅が広がってしまうこと、接着強度が低下する
こと、印刷法やディスペンサ塗布法などの簡単な方法で
の形成が困難になること等の不具合が生じてしまう為で
ある。
【００３３】また、前記シール材６として強度、伸縮性
に優れたエポキシ系の光硬化性樹脂を用いれば、液晶表
示素子の耐環境性が向上する。
に優れたエポキシ系の光硬化性樹脂を用いれば、液晶表
示素子の耐環境性が向上する。
【００３４】次に、工程（ｉ）に示されるように、シー
ル材６が形成された透光性基板２ａとＴＦＴ部７が形成
された透光性基板２ｂとを貼合わせると同時に、ＴＦＴ
部７が形成された透光性基板２ｂ側からＵＶ光を瞬時に
照射し、シール材６を硬化させる。
ル材６が形成された透光性基板２ａとＴＦＴ部７が形成
された透光性基板２ｂとを貼合わせると同時に、ＴＦＴ
部７が形成された透光性基板２ｂ側からＵＶ光を瞬時に
照射し、シール材６を硬化させる。
【００３５】更に、工程（ｊ）に示されるように、必要
に応じて貼合わされた両基板２ａ、２ｂを所望の大きさ
に分断する。以下、この工程により分断されたものをセ
ルと称する。又、このセル内に設けられたシール材６の
開口部を注入口と称する。
に応じて貼合わされた両基板２ａ、２ｂを所望の大きさ
に分断する。以下、この工程により分断されたものをセ
ルと称する。又、このセル内に設けられたシール材６の
開口部を注入口と称する。
【００３６】続いて、工程（ｋ）に示されるように、前
記セルの注入口から液晶を注入し、この注入口を封止樹
脂により封止する。更に、工程（ｌ）に示されるよう
に、必要に応じてセルに注入された液晶が配向するよう
にセルを加熱・急冷し、工程（ｍ）に示されるように偏
光板などの光学部材を貼合わせることによって、ＴＦＴ
駆動型の液晶表示素子が完成する。
記セルの注入口から液晶を注入し、この注入口を封止樹
脂により封止する。更に、工程（ｌ）に示されるよう
に、必要に応じてセルに注入された液晶が配向するよう
にセルを加熱・急冷し、工程（ｍ）に示されるように偏
光板などの光学部材を貼合わせることによって、ＴＦＴ
駆動型の液晶表示素子が完成する。
【００３７】このように、本実施形態における液晶表示
素子によれば、シール材６を硬化させる為に長時間を要
するプリベーク工程及びポストベーク工程を必要とする
ことが無く、且つ有効表示領域へのＵＶ光を遮る為の遮
光マスクを必要とすることも無いので、製造工程を複雑
にすること無く、容易にＴＦＴ型の液晶表示素子を得る
ことができる。
素子によれば、シール材６を硬化させる為に長時間を要
するプリベーク工程及びポストベーク工程を必要とする
ことが無く、且つ有効表示領域へのＵＶ光を遮る為の遮
光マスクを必要とすることも無いので、製造工程を複雑
にすること無く、容易にＴＦＴ型の液晶表示素子を得る
ことができる。
【００３８】（実施の形態２）本発明の第２の実施形態
について、図３、図４、図５を用いて以下に説明する。
本実施形態は、プラズマ放電を利用してアクティブ駆動
を行うプラズマアドレス型の液晶表示素子について説明
したものである。
について、図３、図４、図５を用いて以下に説明する。
本実施形態は、プラズマ放電を利用してアクティブ駆動
を行うプラズマアドレス型の液晶表示素子について説明
したものである。
【００３９】図３は一般的なプラズマアドレス型の液晶
表示素子の断面構造を示す図であり、１１ａ、１１ｂは
偏光板、１２は透光性基板、１３はカラーフィルタや透
明電極などからなるカラー部、１４ａ、１４ｂは配向
膜、１５は液晶層、１６はシール材、１７はプラズマア
ドレス基板、１８はスペーサである。
表示素子の断面構造を示す図であり、１１ａ、１１ｂは
偏光板、１２は透光性基板、１３はカラーフィルタや透
明電極などからなるカラー部、１４ａ、１４ｂは配向
膜、１５は液晶層、１６はシール材、１７はプラズマア
ドレス基板、１８はスペーサである。
【００４０】本実施形態では、プラズマアドレス基板１
７として、図４に示すように、透光性基板２１上にカソ
ード電極２２、アノード電極２３、及び隔壁２４がスト
ライプ状に形成され、隔壁２４上に透光性薄板基板２５
が設けられたものを用いた。
７として、図４に示すように、透光性基板２１上にカソ
ード電極２２、アノード電極２３、及び隔壁２４がスト
ライプ状に形成され、隔壁２４上に透光性薄板基板２５
が設けられたものを用いた。
【００４１】図４において、透光性基板２１、隔壁２
４、および透光性薄板基板２５によって囲まれた空間が
プラズマ室となり、このプラズマ室はストライプ状に多
数形成されている。また、透光性基板１２上にカラー部
１３として設けられた透明電極もストライプ状に形成さ
れており、透光性基板２およびプラズマアドレス基板１
７は、透明電極とプラズマ室とが直交するように貼合わ
されている。
４、および透光性薄板基板２５によって囲まれた空間が
プラズマ室となり、このプラズマ室はストライプ状に多
数形成されている。また、透光性基板１２上にカラー部
１３として設けられた透明電極もストライプ状に形成さ
れており、透光性基板２およびプラズマアドレス基板１
７は、透明電極とプラズマ室とが直交するように貼合わ
されている。
【００４２】本実施形態に用いられるシール材１６は、
第１の実施形態と同様に、ＵＶ光の照射によって硬化が
開始し、その後順次硬化する光トリガ式の光硬化性樹脂
を用いている。
第１の実施形態と同様に、ＵＶ光の照射によって硬化が
開始し、その後順次硬化する光トリガ式の光硬化性樹脂
を用いている。
【００４３】このような構成の液晶表示素子は、図５に
示すような、工程（ａ）乃至工程（ｍ）からなるフロー
チャートに基づいて作製される。
示すような、工程（ａ）乃至工程（ｍ）からなるフロー
チャートに基づいて作製される。
【００４４】まず、工程（ａ）及び（ｅ）に示されるよ
うに、カラー部１３が形成された透光性基板１２ａ及び
プラズマアドレス基板１７を中性洗剤洗浄、純水洗浄、
超音波洗浄などにより洗浄し、次いで工程（ｂ）及び
（ｆ）に示されるように、これらの基板を乾燥させる。
うに、カラー部１３が形成された透光性基板１２ａ及び
プラズマアドレス基板１７を中性洗剤洗浄、純水洗浄、
超音波洗浄などにより洗浄し、次いで工程（ｂ）及び
（ｆ）に示されるように、これらの基板を乾燥させる。
【００４５】続いて、工程（ｃ）、（ｇ）に示されるよ
うに、透光性基板１２ａのカラー部１３の形成面側、及
びプラズマアドレス基板１７の透光性薄膜基板２５側に
配向膜１４ａ、１４ｂを塗布し、焼成、ラビング処理を
行う。
うに、透光性基板１２ａのカラー部１３の形成面側、及
びプラズマアドレス基板１７の透光性薄膜基板２５側に
配向膜１４ａ、１４ｂを塗布し、焼成、ラビング処理を
行う。
【００４６】更に、工程（ｄ）に示されるように、カラ
ー部３が形成された透光性基板１２ａ上の表示領域周辺
部にシール材１６を形成すると共に、工程（ｈ）に示さ
れるように、プラズマアドレス基板１７上にスペーサ１
８を均一に散布する。なお、シール材１６は表示領域の
全周に形成するのではなく、後の液晶注入工程における
液晶の注入口となる部分には形成せず、開口部を設けて
おく。
ー部３が形成された透光性基板１２ａ上の表示領域周辺
部にシール材１６を形成すると共に、工程（ｈ）に示さ
れるように、プラズマアドレス基板１７上にスペーサ１
８を均一に散布する。なお、シール材１６は表示領域の
全周に形成するのではなく、後の液晶注入工程における
液晶の注入口となる部分には形成せず、開口部を設けて
おく。
【００４７】なお、前記シール材１６は、基板１２ａ上
全面に形成した後パターニングしても良いが、第１の実
施形態と同様に印刷法或いはディスペンサ塗布法を用い
て形成するほうが好ましい。
全面に形成した後パターニングしても良いが、第１の実
施形態と同様に印刷法或いはディスペンサ塗布法を用い
て形成するほうが好ましい。
【００４８】また、前記シール材１６として強度、伸縮
性に優れたエポキシ系の光硬化性樹脂を用いれば、液晶
表示素子の耐環境性が向上する。
性に優れたエポキシ系の光硬化性樹脂を用いれば、液晶
表示素子の耐環境性が向上する。
【００４９】そして、工程（ｉ）に示されるように、カ
ラー部１３及びシール材１６が設けられた透光性基板１
２ａと、スペーサ１８が設けられたプラズマアドレス基
板１７とを貼合わせると同時に、プラズマアドレス基板
１７側からＵＶ光を瞬時に照射し、シール材１６を硬化
させる。
ラー部１３及びシール材１６が設けられた透光性基板１
２ａと、スペーサ１８が設けられたプラズマアドレス基
板１７とを貼合わせると同時に、プラズマアドレス基板
１７側からＵＶ光を瞬時に照射し、シール材１６を硬化
させる。
【００５０】更に、工程（ｊ）に示されるように、必要
に応じて貼合わされた透光性基板１２ａ及びプラズマア
ドレス基板１７を所望の大きさに分断する。以下、この
工程により分断されたものをセルと称する。また、この
セル内に設けられたシール材１６の開口部を注入口と称
する。
に応じて貼合わされた透光性基板１２ａ及びプラズマア
ドレス基板１７を所望の大きさに分断する。以下、この
工程により分断されたものをセルと称する。また、この
セル内に設けられたシール材１６の開口部を注入口と称
する。
【００５１】続いて、工程（ｋ）に示されるように、前
記セルの注入口から液晶を注入し、この注入口を封止樹
脂により封止する。更に、工程（ｌ）に示されるよう
に、必要に応じてセルに注入された液晶が配向するよう
にセルを加熱・急冷し、工程（ｍ）に示されるように偏
光板などの光学部材を貼合わせることによって、プラズ
マアドレス型の液晶表示素子が完成する。
記セルの注入口から液晶を注入し、この注入口を封止樹
脂により封止する。更に、工程（ｌ）に示されるよう
に、必要に応じてセルに注入された液晶が配向するよう
にセルを加熱・急冷し、工程（ｍ）に示されるように偏
光板などの光学部材を貼合わせることによって、プラズ
マアドレス型の液晶表示素子が完成する。
【００５２】このように、本実施形態における液晶表示
素子によれば、シール材１６を硬化させる為に長時間を
要するプリベーク工程及びポストベーク工程を必要とす
ることが無く、且つ有効表示領域へのＵＶ光を遮る為の
遮光マスクを必要とすることも無いので、製造工程を複
雑にすること無く、容易にプラズマアドレス型の液晶表
示素子を得ることができる。
素子によれば、シール材１６を硬化させる為に長時間を
要するプリベーク工程及びポストベーク工程を必要とす
ることが無く、且つ有効表示領域へのＵＶ光を遮る為の
遮光マスクを必要とすることも無いので、製造工程を複
雑にすること無く、容易にプラズマアドレス型の液晶表
示素子を得ることができる。
【００５３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による液晶
表示素子は、ＵＶ光の照射によって硬化が開始し、その
後ＵＶ光を遮断しても順次硬化が促進する光トリガ式の
光硬化性樹脂からなるシール材を用いることによって、
必要以上にＵＶ光を照射する必要が無くなり、ＵＶ光の
照射による配向膜の劣化を起こすことがなく、容易に製
造することができる液晶表示素子とすることができると
いう効果を奏する。
表示素子は、ＵＶ光の照射によって硬化が開始し、その
後ＵＶ光を遮断しても順次硬化が促進する光トリガ式の
光硬化性樹脂からなるシール材を用いることによって、
必要以上にＵＶ光を照射する必要が無くなり、ＵＶ光の
照射による配向膜の劣化を起こすことがなく、容易に製
造することができる液晶表示素子とすることができると
いう効果を奏する。
【００５４】また、前記シール材としてエポキシ系の光
硬化性樹脂を用いることによって、シール材の強度、伸
縮性が向上し、信頼性の高い液晶表示素子とすることが
できるという効果を奏する。
硬化性樹脂を用いることによって、シール材の強度、伸
縮性が向上し、信頼性の高い液晶表示素子とすることが
できるという効果を奏する。
【００５５】更に、前記シール材の粘度を３〜２００Ｐ
ａ・ｓとすることによって、該シール材を印刷法やディ
スペンサ塗布法等の簡単な方法で形成することができ
る。
ａ・ｓとすることによって、該シール材を印刷法やディ
スペンサ塗布法等の簡単な方法で形成することができ
る。
【００５６】また、上記液晶表示素子として特にプラズ
マアドレス型の液晶表示素子とした場合には、大画面の
表示素子を容易に作製することができるという効果を奏
する。
マアドレス型の液晶表示素子とした場合には、大画面の
表示素子を容易に作製することができるという効果を奏
する。
【００５７】本発明の液晶表示素子の製造方法は、一対
の平面基板のうち少なくとも一方の基板の周辺部に、Ｕ
Ｖ光の照射によって硬化が開始し、その後ＵＶ光を遮断
しても順次硬化が促進する光トリガ式の光硬化性樹脂を
塗布する工程と、前記光硬化性樹脂を介して一対の平面
基板を貼合わせる工程と、貼合わされた一対の基板にＵ
Ｖ光を瞬時に照射し、前記光硬化性樹脂を硬化させる工
程と、を有しているので、ＵＶ光が配向膜に過度に照射
されることを防ぐ為に遮光マスク等を用いる必要が無く
なり、製造工程の複雑化を避けることができるという効
果を奏する。
の平面基板のうち少なくとも一方の基板の周辺部に、Ｕ
Ｖ光の照射によって硬化が開始し、その後ＵＶ光を遮断
しても順次硬化が促進する光トリガ式の光硬化性樹脂を
塗布する工程と、前記光硬化性樹脂を介して一対の平面
基板を貼合わせる工程と、貼合わされた一対の基板にＵ
Ｖ光を瞬時に照射し、前記光硬化性樹脂を硬化させる工
程と、を有しているので、ＵＶ光が配向膜に過度に照射
されることを防ぐ為に遮光マスク等を用いる必要が無く
なり、製造工程の複雑化を避けることができるという効
果を奏する。
【図１】実施形態１における液晶表示素子の断面図であ
る。
る。
【図２】図１に示す液晶表示素子の製造工程を示すフロ
ー図である。
ー図である。
【図３】実施形態２における液晶表示素子の断面図であ
る。
る。
【図４】図３におけるプラズマアドレス基板１７の詳細
断面図である。
断面図である。
【図５】図３に示す液晶表示素子の製造工程を示すフロ
ー図である。
ー図である。
【図６】従来の液晶表示素子の断面図である。
【図７】図６に示す液晶表示素子の製造工程を示すフロ
ー図である。
ー図である。
１ａ、１ｂ、１１ａ、１１ｂ 偏光板 ２ａ、２ｂ、１２、２１ 透光性基板 ３、１３ カラー部 ４ａ、４ｂ、１４ａ、１４ｂ 配向膜 ５、１５ 液晶層 ６、１６ シール材 ７ ＴＦＴ部 ８、１８ スペーサ １７ プラズマアドレス基板 ２２ カソード電極 ２３ アノード電極 ２４ 隔壁 ２５ 透光性薄板基板
Claims (5)
- 【請求項１】 一対の平面基板が、その周辺に設けられ
たシール材によって所定の間隙を保って貼合わされ、該
間隙に液晶が注入された構成を有する液晶表示素子にお
いて、 前記シール材が、ＵＶ光の照射によって硬化が開始し、
その後ＵＶ光を遮断しても順次硬化が促進する光トリガ
式の光硬化性樹脂からなることを特徴とする液晶表示素
子。 - 【請求項２】 前記シール材は、エポキシ系の光硬化性
樹脂であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素
子。 - 【請求項３】 前記シール材は、粘度が３〜２００Ｐａ
・ｓであることを特徴とする請求項１又は請求項２記載
の液晶表示素子。 - 【請求項４】 前記一方の平面基板は、ストライプ状の
透明電極とカラーフィルタとが形成されたカラーフィル
タ基板であり、他方の平面基板は、プラズマ放電可能な
プラズマ室がストライプ状に多数形成されたプラズマア
ドレス基板であり、これら一対の平面基板が、透明電極
とプラズマ室とが直交するように貼合わさていることを
特徴とする請求項１乃至３記載の液晶表示素子。 - 【請求項５】 一対の平面基板のうち少なくとも一方の
基板の周辺部に、ＵＶ光の照射によって硬化が開始し、
その後ＵＶ光を遮断しても順次硬化が促進する光トリガ
式の光硬化性樹脂を塗布する工程と、前記光硬化性樹脂
を介して一対の平面基板を貼合わせる工程と、貼合わさ
れた一対の基板にＵＶ光を瞬時に照射し、前記光硬化性
樹脂を硬化させる工程と、を有することを特徴とする液
晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35647697A JPH11183918A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35647697A JPH11183918A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11183918A true JPH11183918A (ja) | 1999-07-09 |
Family
ID=18449211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35647697A Pending JPH11183918A (ja) | 1997-12-25 | 1997-12-25 | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11183918A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004007209A1 (ja) * | 2002-07-10 | 2004-01-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | 印刷版、印刷機および印刷方法ならびに液晶機器の製造装置および製造方法 |
| JP2006135248A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Fujitsu Ltd | 半導体チップのフリップチップ実装方法およびその実装装置 |
| JP2013109376A (ja) * | 2006-06-02 | 2013-06-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
-
1997
- 1997-12-25 JP JP35647697A patent/JPH11183918A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004007209A1 (ja) * | 2002-07-10 | 2004-01-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | 印刷版、印刷機および印刷方法ならびに液晶機器の製造装置および製造方法 |
| US7243601B2 (en) | 2002-07-10 | 2007-07-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Printing plate, press and method of printing, and apparatus and method for manufacturing liquid crystal devices |
| CN100398335C (zh) * | 2002-07-10 | 2008-07-02 | 夏普株式会社 | 印刷版、印刷机和印刷方法以及液晶设备的制造装置和制造方法 |
| JP2006135248A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Fujitsu Ltd | 半導体チップのフリップチップ実装方法およびその実装装置 |
| JP4644469B2 (ja) * | 2004-11-09 | 2011-03-02 | 富士通株式会社 | 半導体チップのフリップチップ実装方法およびその実装装置 |
| JP2013109376A (ja) * | 2006-06-02 | 2013-06-06 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置 |
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