JPH11176735A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4365908B2 (ja) 1998-09-04 2009-11-18 キヤノン株式会社 面位置検出装置、露光装置およびデバイス製造方法
JP2000124122A (ja) * 1998-10-19 2000-04-28 Canon Inc 半導体露光装置および同装置を用いるデバイス製造方法
JP2001075294A (ja) * 1999-07-08 2001-03-23 Nikon Corp 面位置検出方法及び装置、並びに露光方法及び装置、露光装置の製造方法、半導体デバイス製造方法
TWI231405B (en) * 1999-12-22 2005-04-21 Asml Netherlands Bv Lithographic projection apparatus, position detection device, and method of manufacturing a device using a lithographic projection apparatus
US6504611B2 (en) * 2000-05-17 2003-01-07 Coretek, Inc. Two stage optical alignment device and method of aligning optical components
KR100524194B1 (ko) 2003-06-30 2005-10-26 삼성전자주식회사 웨이퍼의 표면 검사 방법 및 장치
WO2008007765A1 (en) * 2006-07-14 2008-01-17 Nikon Corporation Surface position detecting apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
JP2008218839A (ja) * 2007-03-06 2008-09-18 Canon Inc 検査装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP6327861B2 (ja) * 2014-01-07 2018-05-23 キヤノン株式会社 リソグラフィ装置、リソグラフィ方法、および物品の製造方法
KR101986161B1 (ko) 2014-03-04 2019-06-05 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 데이터 처리 장치를 갖는 리소그래피 장치
JP7625636B2 (ja) * 2023-05-24 2025-02-03 キヤノン株式会社 基板処理装置、制御方法、および物品製造方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2622573B2 (ja) * 1988-01-27 1997-06-18 キヤノン株式会社 マーク検知装置及び方法
JP2785146B2 (ja) * 1990-02-09 1998-08-13 キヤノン株式会社 自動焦点調整制御装置
JP2886957B2 (ja) * 1990-09-06 1999-04-26 キヤノン株式会社 自動焦点合せ装置
US5361122A (en) * 1990-09-06 1994-11-01 Canon Kabushiki Kaisha Autofocusing device and projection exposure apparatus with the same
JP3158446B2 (ja) * 1990-12-13 2001-04-23 株式会社ニコン 表面位置検出装置及び表面位置検出方法、並びに露光装置、露光方法及び半導体製造方法
US5777722A (en) * 1994-04-28 1998-07-07 Nikon Corporation Scanning exposure apparatus and method
US6018384A (en) * 1994-09-07 2000-01-25 Nikon Corporation Projection exposure system
JPH09320933A (ja) * 1996-05-28 1997-12-12 Nikon Corp 走査型露光装置
US5825043A (en) * 1996-10-07 1998-10-20 Nikon Precision Inc. Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus

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