JPH11175969A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 基板にテキスチャ加工を施したのち更に電解
エッチングを行い、その上に磁気記録層を形成する磁気
記録媒体の製造方法において、サーティファイ工程にお
けるヘッドの汚れを減少させる。 【解決手段】 電解エッチングをポリエチレングリコー
ルモノアルキルエーテルを添加したリン酸水溶液中で行
う。リン酸水溶液のリン酸濃度は通常１〜３０重量％で
あるが、２重量％以上が好ましい。またポリエチレング
リコールモノアルキルエーテルとしては、ノニオン系界
面活性剤として用いられているもの、例えば金属を硫酸
などで洗浄して脱脂する際の助剤などとして用いられて
いるエチレングリコール単位の重合度が５以上でアルキ
ル基の炭素数が１０〜１８程度のものが用いられる。ポ
リエチレングリコールモノアルキルエーテルは、通常は
リン酸水溶液中に０．０１〜１．０重量％となるように
添加する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、少くとも表面が金
属である基板にテキスチャ加工を施し、更にその上に磁
気記録層を形成する磁気記録媒体の製造方法における、
テキスチャ加工面の処理法に関するものである。本発明
によれば、製造された磁気記録媒体の検査工程であるサ
ーティファイ工程におけるヘッドの汚れを減少させるこ
とができる。

【０００２】

【従来の技術】少くとも表面が金属である基板上に磁気
記録層を形成してなる磁気記録媒体は、コンピュータの
外部記憶装置として広く用いられている。最も一般的な
のは、アルミニウム合金板にＮｉ−Ｐ合金などの非磁性
メッキ層を形成した基板上に、Ｃｒ系の下地層、Ｃｏ系
合金の磁性層及び炭素質の保護層を順次形成し、更にそ
の上にフッ素系の潤滑剤を塗布して潤滑層を形成したも
のである。

【０００３】磁気記録媒体への情報の書き込み−読み出
しに際しては、磁気ヘッドが微少な浮上量で磁気記録媒
体上をスムーズに移動することが求められる。そのため
磁気記録媒体の製造に際しては、基板上に微細な凹凸を
形成することが行われている。これをテキスチャ加工と
称し、一般には基板を回転させつつ、これに研磨テープ
を接触させて、表面に微細な溝を形成する方法が採用さ
れている。テキスチャ加工は、磁気記録媒体と磁気ヘッ
ドとの接触面積を小さくし、その接触抵抗を小さくする
のに有効であるとされている。

【０００４】テキスチャ加工により磁気記録媒体の表面
特性は大きく改善されるが、場合によっては更なる改善
が望まれることがある。このような要求に応える一つの
方法として、特開平４−９５２２１号公報には、テキス
チャ加工に引続き、更にケミカルエッチングを施すこと
が記載されている。また、ケミカルエッチングの代りに
電解エッチングを施すことも提案されており、電解液と
しては硫酸、硝酸、塩酸、クロム酸、リン酸、シュウ
酸、酢酸等の水溶液を用いれば良いが、なかでもリン酸
水溶液が好ましいとされている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】リン酸水溶液による電
解エッチングは優れた方法であるが、場合により磁気記
録媒体の検査工程であるサーティファイ工程において、
ヘッド汚れを多発させることが判明した。この原因の詳
細は不明であるが、電解エッチングに引続く洗浄工程で
の何らかの異常により洗浄不良が発生すると、リン酸が
残存して腐蝕を起すものと推定される。従って洗浄を十
分に行うとヘッド汚れを減少させることが可能と考えら
れるが、既存の製造ラインにおいて洗浄に更に時間をか
けることは、生産性の低下をもたらすので好ましくな
い。従って本発明は、洗浄を強化しなくてもサーティフ
ァイ工程におけるヘッド汚れを発生させることの少ない
電解エッチング方法を提供しようとするものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、少くと
も表面が金属である基板にテキスチャ加工を施し、更に
その上に磁気記録層を形成する磁気記録媒体の製造方法
において、テキスチャ加工を施した基板を、ポリエチレ
ングリコールモノアルキルエーテルを溶解させたリン酸
水溶液中で電解エッチングしたのち磁気記録層の形成に
供することにより、サーティファイ工程でのヘッド汚れ
を減少させることができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明について詳細に説明する
と、本発明による磁気記録媒体の製造は、テキスチャ加
工後の電解エッチング工程を、ポリエチレングリコール
モノアルキルエーテルを溶解させたリン酸水溶液中で行
う以外は、公知の方法に従って行うことができる。基板
としては、通常は、アルミニウム合金の円板を鏡面加工
したのち、Ｎｉ−Ｐ合金やＮｉ−Ｃｕ−Ｐ合金などを５
〜２０μｍの厚さに無電解メッキしたものが用いられ
る。この基板の表面にポリッシュ加工を施して所定の表
面粗さとしたのち、テキスチャ加工に供する。ポリッシ
ュ加工によりどの程度の表面粗さとするかは、後続する
テキスチャ加工法とも関係するが、通常は表面粗さＲａ
が５０Å以下、好ましくは３０Å以下となるように行
う。表面粗さＲａは小さいほど好ましいが、必然的に加
工費用がかさむ。

【０００８】テキスチャ加工は、基板を５０〜５０００
ｒｐｍ、好ましくは１００〜１５００ｒｐｍで回転させ
つつ、これに研磨テープを接触させることにより行われ
る。テキスチャ加工は、砥粒を固定した研磨テープを用
いるテープ研削法（特開平１−８６３２０号参照）、又
は砥粒をスラリーとして用いるスラリー研削法（特開平
３−１４７５１８号参照）のいずれでも行うことができ
る。砥粒としてはアルミナ砥粒やダイヤモンド砥粒など
が用いられる。砥粒の粒径は通常０．１〜５μｍ程度で
あるが、表面粗さＲａが小さなテキスチャ加工面を得る
には、小粒径の砥粒を用いるのが好ましい。研磨テープ
は５０回／分以上、好ましくは１００〜５０００回／分
で左右に往復動（振動）させて、形成される条痕の交差
する角度（クロス角度）が２〜４０度となるように研磨
する。研磨テープの送り速度は通常１〜１０ｍｍ／秒で
ある。

【０００９】本発明では、上記によりテキスチャ加工を
施した基板に、ポリエチレングリコールモノアルキルエ
ーテルを溶解させたリン酸水溶液中で電解エッチングを
施す。リン酸水溶液のリン酸濃度は通常１〜３０重量％
であるが、２重量％以上が好ましい。またポリエチレン
グリコールモノアルキルエーテルとしては、ノニオン系
界面活性剤として用いられているもの、例えば金属を硫
酸などで洗浄して脱脂する際の助剤などとして用いられ
ているエチレングリコール単位の重合度が５以上でアル
キル基の炭素数が１０〜１８程度のものが用いられる。
ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルは、通常
はリン酸水溶液中に０．０１〜１．０重量％となるよう
に添加する。添加量が多過ぎても少な過ぎても、ヘッド
汚れを減少させるという目的は達成されない。

【００１０】電解エッチング操作自体は、ポリエチレン
グリコールモノアルキルエーテルを含まないリン酸水溶
液を用いる場合と、全く同様に行うことができる。電解
は直流でも交流でも行うことができるが、交流を用いる
のが好ましい。交流の周波数は通常１〜１００Ｈｚであ
る。対極としてはチタンや白金などを用いるが、直流の
場合にはステンレススチールを用いることもできる。電
解液の温度は１０〜７０℃程度であり、平均電流密度は
５０ｍＡ／ｃｍ² 以下、好ましくは０．１〜５０ｍＡ／
ｃｍ² 、更に好ましくは０．５〜４５ｍＡ／ｃｍ² であ
る。電解時間は１〜４００秒、好ましくは２〜２００秒
であり、電気量（平均電流密度と電解時間との積）は１
０〜１０００ｍＡ・秒／ｃｍ² 、好ましくは５０〜６０
０ｍＡ・秒／ｃｍ² である。

【００１１】電解エッチングが終了したならば、常法に
より十分に洗浄したのち、その上に磁気記録層を形成す
る。通常は、Ｃｒ下地層、Ｃｏ系合金の磁性層及び炭素
質の保護層の順にスパッタリングで順次積層し、更に保
護層にフルオロカーボン系の潤滑剤を塗布して潤滑膜を
形成する。クロム下地層の厚さは通常５０〜２０００Å
である。コバルト系合金としてはＣｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｘ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｘ、Ｃｏ−Ｗ−Ｘ等
で表わされるものが用いられ、その厚さは通常１００〜
１０００Åである。なお、上記の合金組成を表わす式に
おいて、ＸはＬｉ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ａｓ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ａｇ、
Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａ
ｕ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ及びＥｕより
なる群から選ばれた１種又は２種以上の元素を示す。

【００１２】炭素質保護層としては、アモルファス状カ
ーボンや水素化カーボンから成るものが用いられ、アル
ゴンやヘリウム等の希ガス雰囲気下、又は少量の水素の
存在下で、カーボンをターゲットとしてスパッタリング
することにより形成される。炭素質保護層の厚さは通常
５０〜５００Åである。

【００１３】

【実施例】以下に実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。

【００１４】実施例１ アルミニウム合金円板の両面にＮｉ−Ｐの無電解メッキ
層を形成した直径９５ｍｍ、厚さ０．８ｍｍで、中央に
直径２５ｍｍの円孔のあるドーナツ状の基板に、常法の
スラリー法によりテキスチャ加工を施した。濃度４（重
量）％のリン酸水溶液に、市販のポリエチレングリコー
ルモノアルキルエーテルからなる界面活性剤を、ポリエ
チレングリコールモノアルキルエーテルとして０％、
０．１％及び１．０％となるように添加した液中に、上
記のテキスチャ加工済の基板を懸吊し、チタンを対極と
して、電流密度２０ｍＡ／ｃｍ² 、２０Ｈｚの交流電解
を１８秒間行った。次いで純水中で超音波を照射して洗
浄することと、純水をシャワー状にふりかけて洗浄する
こととを反復したのち、純水中に浸漬することを反復し
てすすぎ、乾燥した。

【００１５】この基板に、約５００ÅのＣｒ下地層、約
５００ÅのＣｏＣｒＴａの磁性層、及び約２００Åの炭
素質保護層を順次スパッタリングにより積層し、次いで
パーフルオロカーボン系の潤滑剤を約２０Åとなるよう
に塗布して磁気記録媒体とした。この磁気記録媒体につ
いて、サーティファイ工程におけるヘッドの汚れをチェ
ックしたところ、ポリエチレングリコールモノアルキル
エーテルを添加したリン酸水溶液中で電解エッチングし
たものは、これを添加しないリン酸水溶液中で電解エッ
チングしたものに比して、ヘッド汚れが少なかった。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少くとも表面が金属である基板にテキス
   チャ加工を施し、更にその上に磁気記録層を形成する磁
   気記録媒体の製造方法において、テキスチャ加工を施し
   た基板を、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテ
   ルを溶解させたリン酸水溶液中で電解エッチングしたの
   ち磁気記録層の形成に供することを特徴とする方法。
2. 【請求項２】 リン酸水溶液中のポリエチレングリコー
   ルモノアルキルエーテルの濃度が０．０１〜１．０重量
   ％であることを特徴とする請求項１記載の方法。
3. 【請求項３】 アルキル基の炭素数が１０〜１８である
   ことを特徴とする請求項１又は２記載の方法。