JPH11168066A - 熱処理装置のクリーニング方法 - Google Patents
熱処理装置のクリーニング方法Info
- Publication number
- JPH11168066A JPH11168066A JP33434997A JP33434997A JPH11168066A JP H11168066 A JPH11168066 A JP H11168066A JP 33434997 A JP33434997 A JP 33434997A JP 33434997 A JP33434997 A JP 33434997A JP H11168066 A JPH11168066 A JP H11168066A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- heat treatment
- cleaning
- reactive
- processing chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】クリーニングガスと反応する反応性部材の損傷
を回避することを課題とする。 【解決手段】処理室23と、この処理室内に配置され、ウ
ェハを支持するサセプタと、前記ウェハを加熱するヒー
タ27と、前記処理室内に前記ウェハと対向するように配
置された整流板30と、前記処理室に接続され、処理室内
にクリーニングガスを送給するガス導入管31と、前記ク
リーニングガスと反応する材料からなる反応性部材とを
具備する熱処理装置のクリーニング方法において、熱処
理による付着物が付着し難くかつ前記反応性部材がある
箇所に、反応性ガスと不活性なガスを流し、前記クリー
ニングガスを希釈又は搬送して排気することを特徴とす
る熱処理装置のクリーニング方法。
を回避することを課題とする。 【解決手段】処理室23と、この処理室内に配置され、ウ
ェハを支持するサセプタと、前記ウェハを加熱するヒー
タ27と、前記処理室内に前記ウェハと対向するように配
置された整流板30と、前記処理室に接続され、処理室内
にクリーニングガスを送給するガス導入管31と、前記ク
リーニングガスと反応する材料からなる反応性部材とを
具備する熱処理装置のクリーニング方法において、熱処
理による付着物が付着し難くかつ前記反応性部材がある
箇所に、反応性ガスと不活性なガスを流し、前記クリー
ニングガスを希釈又は搬送して排気することを特徴とす
る熱処理装置のクリーニング方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は熱処理装置のクリー
ニング方法に関し、特に熱処理による付着物を除去する
ために流すガスと反応しやすい部材を保護するように改
良した熱処理装置のクリーニング方法に関する。
ニング方法に関し、特に熱処理による付着物を除去する
ために流すガスと反応しやすい部材を保護するように改
良した熱処理装置のクリーニング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、熱処理装置としては、図２に示す
ものが知られている。図中の付番１は上部が開口された
有底の筒状体であり、該筒状体１の上部に設けられた蓋
体としての天板２とともに処理室３を構成している。こ
の処理室３内には、ウェハ４を支持するサセプタ５が配
置されている。このサセプタ５は、下方に配置された駆
動機構６により駆動するようになっている。前記サセプ
タ５の内側にはウェハ４を加熱するヒータ７が配置され
ている。前記サセプタ５の外側寄りには、リング状の遮
蔽部材８が配置されている。前記筒状体１の上側には、
支持部材９により支持された整流板10が設けられてい
る。この整流板10には、ウェハ４主面に反応ガスを流す
複数のノズル穴10ａが設けられている。前記筒状体１の
上部側壁には、処理室３内に反応性ガスやクリーニング
ためのＣｌＦ3 （三弗化塩素）ガスを流すガス導入管11
が設けられている。前記筒状体１の下部側には処理室３
内の反応性ガスなどを排気する排気管12が設けられてい
る。
ものが知られている。図中の付番１は上部が開口された
有底の筒状体であり、該筒状体１の上部に設けられた蓋
体としての天板２とともに処理室３を構成している。こ
の処理室３内には、ウェハ４を支持するサセプタ５が配
置されている。このサセプタ５は、下方に配置された駆
動機構６により駆動するようになっている。前記サセプ
タ５の内側にはウェハ４を加熱するヒータ７が配置され
ている。前記サセプタ５の外側寄りには、リング状の遮
蔽部材８が配置されている。前記筒状体１の上側には、
支持部材９により支持された整流板10が設けられてい
る。この整流板10には、ウェハ４主面に反応ガスを流す
複数のノズル穴10ａが設けられている。前記筒状体１の
上部側壁には、処理室３内に反応性ガスやクリーニング
ためのＣｌＦ3 （三弗化塩素）ガスを流すガス導入管11
が設けられている。前記筒状体１の下部側には処理室３
内の反応性ガスなどを排気する排気管12が設けられてい
る。
【０００３】こうした熱処理装置において、熱処理後は
処理室３内あるいは排気管12内等に反応性ガスによる付
着物が付着するため、ＣｌＦ3 をガス導入管11から処理
室内に流して付着物を除去するクリーニングを行なって
いる。なお、ＣｌＦ3 を用いる理由は、ＣｌＦ3 は反応
性が高く、短時間で処理室３や排気管12内の付着物を除
去でき、生産性を低下させることがないためである。
処理室３内あるいは排気管12内等に反応性ガスによる付
着物が付着するため、ＣｌＦ3 をガス導入管11から処理
室内に流して付着物を除去するクリーニングを行なって
いる。なお、ＣｌＦ3 を用いる理由は、ＣｌＦ3 は反応
性が高く、短時間で処理室３や排気管12内の付着物を除
去でき、生産性を低下させることがないためである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図１の熱処
理装置において、処理室３内に止むをえずＣｌＦ3 と反
応する材料を使用しなければならない場合、クリーニン
グ処理時にこれらの材料がエッチングされ、損傷を受け
る。また、エッチングされた材料が気体となり、次の膜
堆積等の熱処理時の汚染源となる可能性がある。
理装置において、処理室３内に止むをえずＣｌＦ3 と反
応する材料を使用しなければならない場合、クリーニン
グ処理時にこれらの材料がエッチングされ、損傷を受け
る。また、エッチングされた材料が気体となり、次の膜
堆積等の熱処理時の汚染源となる可能性がある。
【０００５】本発明はこうした事情を考慮してなされた
もので、熱処理による付着物が付着し難くかつ前記反応
性部材がある箇所に、反応性ガスと不活性なガスを流
し、クリーニングガスを希釈又は搬送して排気すること
により、クリーニングガスと反応する反応性部材の損傷
を回避しえる熱処理装置のクリーニング方法を提供する
ことを目的とする。
もので、熱処理による付着物が付着し難くかつ前記反応
性部材がある箇所に、反応性ガスと不活性なガスを流
し、クリーニングガスを希釈又は搬送して排気すること
により、クリーニングガスと反応する反応性部材の損傷
を回避しえる熱処理装置のクリーニング方法を提供する
ことを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、処理室と、こ
の処理室内に配置され、ウェハを支持するサセプタと、
前記ウェハを加熱するヒータと、前記処理室内に前記ウ
ェハと対向するように配置された整流板と、前記処理室
に接続され、処理室内にクリーニングガスを送給するガ
ス導入管と、前記クリーニングガスと反応する材料から
なる反応性部材とを具備する熱処理装置のクリーニング
方法において、熱処理による付着物が付着し難くかつ前
記反応性部材がある箇所に、反応性ガスと不活性なガス
を流し、前記クリーニングガスを希釈又は搬送して排気
することを特徴とする熱処理装置のクリーニング方法で
ある。
の処理室内に配置され、ウェハを支持するサセプタと、
前記ウェハを加熱するヒータと、前記処理室内に前記ウ
ェハと対向するように配置された整流板と、前記処理室
に接続され、処理室内にクリーニングガスを送給するガ
ス導入管と、前記クリーニングガスと反応する材料から
なる反応性部材とを具備する熱処理装置のクリーニング
方法において、熱処理による付着物が付着し難くかつ前
記反応性部材がある箇所に、反応性ガスと不活性なガス
を流し、前記クリーニングガスを希釈又は搬送して排気
することを特徴とする熱処理装置のクリーニング方法で
ある。
【０００７】本発明において、反応性ガスと不活性なガ
スとしては、例えばＮ2 ガスが挙げられるが、これに限
定されない。また、反応性ガスと不活性なガスはサセプ
タの内部の圧力と外部の圧力が等しくなるように流すこ
とが好ましい。この理由は、ガスの流れが急になるとこ
ろでガスと反応する部材が反応しガス化することを防ぐ
ためである。
スとしては、例えばＮ2 ガスが挙げられるが、これに限
定されない。また、反応性ガスと不活性なガスはサセプ
タの内部の圧力と外部の圧力が等しくなるように流すこ
とが好ましい。この理由は、ガスの流れが急になるとこ
ろでガスと反応する部材が反応しガス化することを防ぐ
ためである。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例について
説明する。まず、本発明に係る熱処理装置の構成につい
て図１を参照して説明する。図中の付番21は上部が開口
された有底の筒状体であり、該筒状体21の上部に設けら
れた蓋体としての天板22とともに処理室23を構成してい
る。この処理室23内には、ウェハ24を支持するサセプタ
25が配置されている。このサセプタ25は、下方に配置さ
れた駆動機構26により駆動するようになっている。前記
サセプタ25の内側にはウェハ24を加熱するヒータ27が配
置されている。前記サセプタ25の外側寄りには、筒状の
遮蔽部材28が配置されている。前記筒状体21の上側に
は、支持部材29により支持された整流板30が設けられて
いる。この整流板30には、ウェハ24主面に反応ガスを流
す複数のノズル穴30ａが設けられている。前記筒状体21
の上部側壁には、処理室23内に反応性ガスやクリーニン
グためのＣｌＦ3 ガスを流すガス導入管31が設けられて
いる。前記筒状体21の下部側には処理室23内の反応性ガ
スなどを排気する排気管32が設けられている。
説明する。まず、本発明に係る熱処理装置の構成につい
て図１を参照して説明する。図中の付番21は上部が開口
された有底の筒状体であり、該筒状体21の上部に設けら
れた蓋体としての天板22とともに処理室23を構成してい
る。この処理室23内には、ウェハ24を支持するサセプタ
25が配置されている。このサセプタ25は、下方に配置さ
れた駆動機構26により駆動するようになっている。前記
サセプタ25の内側にはウェハ24を加熱するヒータ27が配
置されている。前記サセプタ25の外側寄りには、筒状の
遮蔽部材28が配置されている。前記筒状体21の上側に
は、支持部材29により支持された整流板30が設けられて
いる。この整流板30には、ウェハ24主面に反応ガスを流
す複数のノズル穴30ａが設けられている。前記筒状体21
の上部側壁には、処理室23内に反応性ガスやクリーニン
グためのＣｌＦ3 ガスを流すガス導入管31が設けられて
いる。前記筒状体21の下部側には処理室23内の反応性ガ
スなどを排気する排気管32が設けられている。
【０００９】こうした構成のの装置において、ウェハ24
の処理が終了した後、ウェハ24をサセプタ25から外した
後、ガス導入管31からクリーニングガスであるＣｌＦ3
を流すとともに、筒状体21の底部に設けられた駆動機構
26部分よりＮ2 ガスを流してＣｌＦ3 を希釈することに
よりクリーニングを行う。この際、サセプタ25の内側及
び外側の圧力が等しくなる量のＮ2 ガスを流す。
の処理が終了した後、ウェハ24をサセプタ25から外した
後、ガス導入管31からクリーニングガスであるＣｌＦ3
を流すとともに、筒状体21の底部に設けられた駆動機構
26部分よりＮ2 ガスを流してＣｌＦ3 を希釈することに
よりクリーニングを行う。この際、サセプタ25の内側及
び外側の圧力が等しくなる量のＮ2 ガスを流す。
【００１０】上記実施例に係る熱処理装置のクリーニン
グ方法によれば、ガス導入管31からＣｌＦ3 を流すとと
もに、筒状体21の底部に設けられた駆動機構26部分より
Ｎ2ガスを流してＣｌＦ3 を希釈し、これらのガスを排
気管32から排出するクリーニングを行うため、サセプタ
25の内側に主として堆積されている熱処理による付着物
が付着し難くかつＣｌＦ3 と反応しやすい反応性部材が
存在しても、サセプタ25の内側でＣｌＦ3 がＮ2 により
希釈されるため、反応性部材がＣｌＦ3 と反応しエッチ
ングされるのを抑制できる。また、Ｎ2 ガスをサセプタ
25の内側及び外側の圧力が等しくなる量流すため、反応
性部材がＣｌＦ3 と反応するのを一層抑制することがで
きる。
グ方法によれば、ガス導入管31からＣｌＦ3 を流すとと
もに、筒状体21の底部に設けられた駆動機構26部分より
Ｎ2ガスを流してＣｌＦ3 を希釈し、これらのガスを排
気管32から排出するクリーニングを行うため、サセプタ
25の内側に主として堆積されている熱処理による付着物
が付着し難くかつＣｌＦ3 と反応しやすい反応性部材が
存在しても、サセプタ25の内側でＣｌＦ3 がＮ2 により
希釈されるため、反応性部材がＣｌＦ3 と反応しエッチ
ングされるのを抑制できる。また、Ｎ2 ガスをサセプタ
25の内側及び外側の圧力が等しくなる量流すため、反応
性部材がＣｌＦ3 と反応するのを一層抑制することがで
きる。
【００１１】なお、上記実施例では、筒状体の底部に設
けられた駆動機構部分よりＮ2 ガスを流す場合について
述べたが、これに限らず、熱処理による付着物が付着し
難くかつＣｌＦ3 と反応しやすい反応性部材が存在する
箇所ならどこから流してもよい。また、上記実施例で
は、反応性ガスと不活性なガスとしてＮ2 を用いた場合
について述べたが、これに限らず、Ｈｅ，Ａｒなどの不
活性ガスを用いてもよい。
けられた駆動機構部分よりＮ2 ガスを流す場合について
述べたが、これに限らず、熱処理による付着物が付着し
難くかつＣｌＦ3 と反応しやすい反応性部材が存在する
箇所ならどこから流してもよい。また、上記実施例で
は、反応性ガスと不活性なガスとしてＮ2 を用いた場合
について述べたが、これに限らず、Ｈｅ，Ａｒなどの不
活性ガスを用いてもよい。
【００１２】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、熱
処理による付着物が付着し難くかつ前記反応性部材があ
る箇所に、反応性ガスと不活性なガスを流し、クリーニ
ングガスを希釈又は搬送して排気することにより、クリ
ーニングガスと反応する反応性部材の損傷を回避できる
とともに、反応性ガスと反応性のある材料も積極的に使
用可能となって選択の幅が広がる熱処理装置のクリーニ
ング方法を提供できる。
処理による付着物が付着し難くかつ前記反応性部材があ
る箇所に、反応性ガスと不活性なガスを流し、クリーニ
ングガスを希釈又は搬送して排気することにより、クリ
ーニングガスと反応する反応性部材の損傷を回避できる
とともに、反応性ガスと反応性のある材料も積極的に使
用可能となって選択の幅が広がる熱処理装置のクリーニ
ング方法を提供できる。
【図１】本発明の一実施例に係る熱処理装置の説明図。
【図２】従来の熱処理装置の説明図。
21…筒状体、 22…天板、 23…処理室、 24…ウェハ、 25…サセプタ、 26…駆動機構、 27…ヒータ、 30…整流板、 30ａ…ノズル穴、 31…ガス導入管、 32…排気管。
Claims (3)
- 【請求項１】 処理室と、この処理室内に配置され、ウ
ェハを支持するサセプタと、前記ウェハを加熱するヒー
タと、前記処理室内に前記ウェハと対向するように配置
された整流板と、前記処理室に接続され、処理室内にク
リーニングガスを送給するガス導入管と、前記クリーニ
ングガスと反応する材料からなる反応性部材とを具備す
る熱処理装置のクリーニング方法において、 熱処理による付着物が付着し難くかつ前記反応性部材が
ある箇所に、反応性ガスと不活性なガスを流し、前記ク
リーニングガスを希釈又は搬送して排気することを特徴
とする熱処理装置のクリーニング方法。 - 【請求項２】 反応性ガスと不活性なガスがＮ2 ガスで
あることを特徴とする請求項１記載の熱処理装置のクリ
ーニング方法。 - 【請求項３】 反応性ガスと不活性なガスを、サセプタ
の内側の圧力と外部の圧力が等しい量流すことを特徴と
する請求項１若しくは請求項２記載の熱処理装置のクリ
ーニング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33434997A JPH11168066A (ja) | 1997-12-04 | 1997-12-04 | 熱処理装置のクリーニング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33434997A JPH11168066A (ja) | 1997-12-04 | 1997-12-04 | 熱処理装置のクリーニング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11168066A true JPH11168066A (ja) | 1999-06-22 |
Family
ID=18276381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33434997A Pending JPH11168066A (ja) | 1997-12-04 | 1997-12-04 | 熱処理装置のクリーニング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11168066A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013207196A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Nuflare Technology Inc | 成膜装置および成膜方法 |
-
1997
- 1997-12-04 JP JP33434997A patent/JPH11168066A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013207196A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Nuflare Technology Inc | 成膜装置および成膜方法 |
| US9735003B2 (en) | 2012-03-29 | 2017-08-15 | Nuflare Technology, Inc | Film-forming apparatus and film-forming method |
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