JPH11165176A - 電気式脱イオン水製造装置 - Google Patents
電気式脱イオン水製造装置Info
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- JPH11165176A JPH11165176A JP9352442A JP35244297A JPH11165176A JP H11165176 A JPH11165176 A JP H11165176A JP 9352442 A JP9352442 A JP 9352442A JP 35244297 A JP35244297 A JP 35244297A JP H11165176 A JPH11165176 A JP H11165176A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A20/00—Water conservation; Efficient water supply; Efficient water use
- Y02A20/124—Water desalination
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- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 被処理水の水質が強電解質成分が少なく、弱
電解質成分が多い場合においても、簡易な手段により濃
縮水の電気伝導率を高め、電流量を多くして被処理水中
の弱電解質成分の除去率を向上させる電気式脱イオン水
製造装置を提供すること。 【解決手段】 脱塩室、濃縮室及び電極室を有すると共
に、一対の電極に電圧を印加することで脱塩室から脱イ
オン水を得る電気式脱イオン水製造装置１において、前
記電極室の陽極室から排出される陽極水を活性炭吸着塔
３により処理し、この処理水を濃縮水貯蔵設備３を経由
して、前記濃縮室の流入側に戻すことにより濃縮水のイ
オン濃度を高めるようにした電気式脱イオン水製造装置
１。
電解質成分が多い場合においても、簡易な手段により濃
縮水の電気伝導率を高め、電流量を多くして被処理水中
の弱電解質成分の除去率を向上させる電気式脱イオン水
製造装置を提供すること。 【解決手段】 脱塩室、濃縮室及び電極室を有すると共
に、一対の電極に電圧を印加することで脱塩室から脱イ
オン水を得る電気式脱イオン水製造装置１において、前
記電極室の陽極室から排出される陽極水を活性炭吸着塔
３により処理し、この処理水を濃縮水貯蔵設備３を経由
して、前記濃縮室の流入側に戻すことにより濃縮水のイ
オン濃度を高めるようにした電気式脱イオン水製造装置
１。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に、強電解質成
分が少なく、弱電解質成分が多い水質の処理において、
濃縮水の電気伝導率を高めて被処理水中の弱電解質成分
の除去率を向上させる電気式脱イオン水製造装置に関す
るものである。
分が少なく、弱電解質成分が多い水質の処理において、
濃縮水の電気伝導率を高めて被処理水中の弱電解質成分
の除去率を向上させる電気式脱イオン水製造装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、脱イオン水を製造するには、イオ
ン交換樹脂が利用されている。このイオン交換樹脂は、
通常薬剤による再生を必要とする。このため、該イオン
交換樹脂を利用した脱イオンと電気透析作用を組合せ、
薬剤による再生が不要で、高度な脱イオン水を得る電気
式脱イオン水製造装置が知られている。
ン交換樹脂が利用されている。このイオン交換樹脂は、
通常薬剤による再生を必要とする。このため、該イオン
交換樹脂を利用した脱イオンと電気透析作用を組合せ、
薬剤による再生が不要で、高度な脱イオン水を得る電気
式脱イオン水製造装置が知られている。
【０００３】該電気式脱イオン水製造装置は、例えば、
基本的にはカチオン交換膜とアニオン交換膜で形成され
る隙間に、イオン交換体を充填して脱塩室とし、当該イ
オン交換体に被処理水を通過させると共に、前記両イオ
ン交換膜を介して直流電流を作用させて、両イオン交換
膜の外側に流れている濃縮水中に被処理水中のイオンを
電気的に排除しながら脱イオン水を製造するものであ
る。このため、濃縮水中には塩類等のイオンが濃縮され
る。
基本的にはカチオン交換膜とアニオン交換膜で形成され
る隙間に、イオン交換体を充填して脱塩室とし、当該イ
オン交換体に被処理水を通過させると共に、前記両イオ
ン交換膜を介して直流電流を作用させて、両イオン交換
膜の外側に流れている濃縮水中に被処理水中のイオンを
電気的に排除しながら脱イオン水を製造するものであ
る。このため、濃縮水中には塩類等のイオンが濃縮され
る。
【０００４】この濃縮水は装置外へ排出されるが、電気
式脱イオン水製造装置の水利用率（回収率）を向上させ
るため捨てずに再利用している。すなわち、被処理水の
一部を濃縮水とし、該濃縮水を循環使用し、その一部を
装置外へ排出することにより水利用率の向上と適度な濃
縮水のイオン濃度の維持を図っている。このように、濃
縮水を循環する方法は濃縮水中のイオン濃度が上昇する
ため濃縮水の電気伝導率が上昇する。このため、電気が
流れ易く、当該装置に流れる電流量が多くなる。従っ
て、イオン除去率も向上する。また、該装置に印加する
電圧を低くできるため消費電力が少なくなるなどの効果
がある。
式脱イオン水製造装置の水利用率（回収率）を向上させ
るため捨てずに再利用している。すなわち、被処理水の
一部を濃縮水とし、該濃縮水を循環使用し、その一部を
装置外へ排出することにより水利用率の向上と適度な濃
縮水のイオン濃度の維持を図っている。このように、濃
縮水を循環する方法は濃縮水中のイオン濃度が上昇する
ため濃縮水の電気伝導率が上昇する。このため、電気が
流れ易く、当該装置に流れる電流量が多くなる。従っ
て、イオン除去率も向上する。また、該装置に印加する
電圧を低くできるため消費電力が少なくなるなどの効果
がある。
【０００５】一方、電気式脱イオン水製造装置の被処理
水としては、河川などの原水を逆浸透膜装置で処理した
透過水、半導体工場などの使用ポイントの戻り水などが
挙げられる。原水を逆浸透膜装置で処理した透過水の場
合、逆浸透膜装置の特性から塩素イオン、硫酸イオンな
どの強電解質成分は高い除去率で除去されるが、シリ
カ、炭酸、硼酸などの弱酸性成分は除去されにくい。こ
のため、該透過水は、例えば、電気伝導率１〜２μS/c
m、シリカ500 〜1,0000μg/L の如く、電気伝導率が低
く、弱電解質成分の濃度は高い水質となる。また、半導
体工場などの使用ポイントの戻り水の場合、同様に電気
伝導率は低く、弱電解質成分の濃度は高い水質のものが
多い。
水としては、河川などの原水を逆浸透膜装置で処理した
透過水、半導体工場などの使用ポイントの戻り水などが
挙げられる。原水を逆浸透膜装置で処理した透過水の場
合、逆浸透膜装置の特性から塩素イオン、硫酸イオンな
どの強電解質成分は高い除去率で除去されるが、シリ
カ、炭酸、硼酸などの弱酸性成分は除去されにくい。こ
のため、該透過水は、例えば、電気伝導率１〜２μS/c
m、シリカ500 〜1,0000μg/L の如く、電気伝導率が低
く、弱電解質成分の濃度は高い水質となる。また、半導
体工場などの使用ポイントの戻り水の場合、同様に電気
伝導率は低く、弱電解質成分の濃度は高い水質のものが
多い。
【０００６】このような水質の水を被処理水として電気
式脱イオン水製造装置で処理する場合、濃縮水を循環使
用しても、濃縮水中のイオン濃度は高くならない。この
ため、電流が流れ難く、除去するには高電流を必要とす
るシリカなどの弱電解質成分の除去は困難となる。これ
を解決する方法としては、濃縮水などの循環回数量を多
くすることによりイオン濃度を高濃度にする方法、濃縮
水へ電解質成分を添加することによりイオン濃度を高濃
度にする方法が挙げられる。
式脱イオン水製造装置で処理する場合、濃縮水を循環使
用しても、濃縮水中のイオン濃度は高くならない。この
ため、電流が流れ難く、除去するには高電流を必要とす
るシリカなどの弱電解質成分の除去は困難となる。これ
を解決する方法としては、濃縮水などの循環回数量を多
くすることによりイオン濃度を高濃度にする方法、濃縮
水へ電解質成分を添加することによりイオン濃度を高濃
度にする方法が挙げられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、濃縮水
などを循環する方法は、ある一定の濃縮倍率以上にする
ことは困難である。それは次の理由による。すなわち、
電気式脱イオン水製造装置では濃縮水の一部を電極室へ
通水し、これを排水として装置外へ排出（ブロー）して
いる。電極水は、陰極及び陽極付近の水であり、電解生
成物として、次亜塩素酸、次亜臭素酸、塩素ガス等の酸
化性物質を含有している場合が多い。特に、次亜塩素酸
や塩素ガスは強力な酸化剤であるから、電極水をそのま
ま該装置の流入側へ循環すると、該装置のイオン交換膜
やイオン交換樹脂に悪影響を与える。従って、電極水は
系外へ排出する必要がある。この排出される電極水量
は、電極室内に一定以上の流速を確保する必要から、被
処理水量に対して２〜８％程度である。この場合、被処
理水中の電解質成分が全て濃縮水へ濃縮されたとして
も、50〜12.5倍が濃縮限界である。また、濃縮水へ電解
質成分を添加する方法は、そのための薬剤注入設備及び
薬剤の管理などが必要となり、コスト増加や設備の複雑
化を招くという問題がある。
などを循環する方法は、ある一定の濃縮倍率以上にする
ことは困難である。それは次の理由による。すなわち、
電気式脱イオン水製造装置では濃縮水の一部を電極室へ
通水し、これを排水として装置外へ排出（ブロー）して
いる。電極水は、陰極及び陽極付近の水であり、電解生
成物として、次亜塩素酸、次亜臭素酸、塩素ガス等の酸
化性物質を含有している場合が多い。特に、次亜塩素酸
や塩素ガスは強力な酸化剤であるから、電極水をそのま
ま該装置の流入側へ循環すると、該装置のイオン交換膜
やイオン交換樹脂に悪影響を与える。従って、電極水は
系外へ排出する必要がある。この排出される電極水量
は、電極室内に一定以上の流速を確保する必要から、被
処理水量に対して２〜８％程度である。この場合、被処
理水中の電解質成分が全て濃縮水へ濃縮されたとして
も、50〜12.5倍が濃縮限界である。また、濃縮水へ電解
質成分を添加する方法は、そのための薬剤注入設備及び
薬剤の管理などが必要となり、コスト増加や設備の複雑
化を招くという問題がある。
【０００８】従って、本発明の目的は、被処理水の水質
が強電解質成分が少なく、弱電解質成分が多い場合にお
いても、簡易な手段により濃縮水の電気伝導率を高め、
電流量を多くして被処理水中の弱電解質成分の除去率を
向上させる電気式脱イオン水製造装置を提供することに
ある。
が強電解質成分が少なく、弱電解質成分が多い場合にお
いても、簡易な手段により濃縮水の電気伝導率を高め、
電流量を多くして被処理水中の弱電解質成分の除去率を
向上させる電気式脱イオン水製造装置を提供することに
ある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者は鋭意検討を行った結果、電気式脱イオン水製造
装置において、次亜塩素酸、次亜臭素酸、塩素ガス等の
酸化性物質を含有するのは陽極水であり、これはブロー
して捨てる必要があるのに対して、陰極水はそのまま濃
縮水の供給側に戻しても悪影響はなく、これにより濃縮
水中のイオン濃度は高められること、また、陽極水を酸
化性物質除去設備で処理し、酸化性物質が除去された該
処理水を循環使用させれば、更に濃縮水中のイオン濃度
は高められ、電気量を多くできること、などを見出し、
本発明を完成させるに至った。
発明者は鋭意検討を行った結果、電気式脱イオン水製造
装置において、次亜塩素酸、次亜臭素酸、塩素ガス等の
酸化性物質を含有するのは陽極水であり、これはブロー
して捨てる必要があるのに対して、陰極水はそのまま濃
縮水の供給側に戻しても悪影響はなく、これにより濃縮
水中のイオン濃度は高められること、また、陽極水を酸
化性物質除去設備で処理し、酸化性物質が除去された該
処理水を循環使用させれば、更に濃縮水中のイオン濃度
は高められ、電気量を多くできること、などを見出し、
本発明を完成させるに至った。
【００１０】すなわち、本発明は、脱塩室、濃縮室及び
電極室を有すると共に、一対の電極に電圧を印加するこ
とで脱塩室から脱イオン水を得る電気式脱イオン水製造
装置において、前記電極室の陽極室から排出される陽極
水をブローすると共に、前記電極室の陰極室から排出さ
れる陰極水を前記濃縮室の流入側に戻すことにより、濃
縮水のイオン濃度を高めるようにした電気式脱イオン水
製造装置を提供するものである。
電極室を有すると共に、一対の電極に電圧を印加するこ
とで脱塩室から脱イオン水を得る電気式脱イオン水製造
装置において、前記電極室の陽極室から排出される陽極
水をブローすると共に、前記電極室の陰極室から排出さ
れる陰極水を前記濃縮室の流入側に戻すことにより、濃
縮水のイオン濃度を高めるようにした電気式脱イオン水
製造装置を提供するものである。
【００１１】この電気式脱イオン水製造装置によれば、
従来は、全量をブローしていた電極水を、その半分量は
濃縮水の流入側に戻されるため、電極水のブロー比率は
被処理水に対して１〜４％程度となり、濃縮水のイオン
濃度は被処理水の50〜25倍に濃縮される。このため、電
気が流れ易くなり、当該装置に流れる電流量が多くな
る。従って、除去するのに高電流を必要とするシリカな
どの弱電解質成分の除去率を向上させることができる。
また、循環使用する陰極水は水素ガスを含有するものの
イオン交換膜やイオン交換体に悪影響を与えることはな
い。
従来は、全量をブローしていた電極水を、その半分量は
濃縮水の流入側に戻されるため、電極水のブロー比率は
被処理水に対して１〜４％程度となり、濃縮水のイオン
濃度は被処理水の50〜25倍に濃縮される。このため、電
気が流れ易くなり、当該装置に流れる電流量が多くな
る。従って、除去するのに高電流を必要とするシリカな
どの弱電解質成分の除去率を向上させることができる。
また、循環使用する陰極水は水素ガスを含有するものの
イオン交換膜やイオン交換体に悪影響を与えることはな
い。
【００１２】また、本発明は、脱塩室、濃縮室及び電極
室を有すると共に、一対の電極に電圧を印加することで
脱塩室から脱イオン水を得る電気式脱イオン水製造装置
において、前記電極室の陽極室から排出される陽極水を
酸化性物質除去設備により処理し、この処理水を前記濃
縮室の流入側に戻すことにより、濃縮水のイオン濃度を
高めるようにした電気式脱イオン水製造装置を提供する
ものである。
室を有すると共に、一対の電極に電圧を印加することで
脱塩室から脱イオン水を得る電気式脱イオン水製造装置
において、前記電極室の陽極室から排出される陽極水を
酸化性物質除去設備により処理し、この処理水を前記濃
縮室の流入側に戻すことにより、濃縮水のイオン濃度を
高めるようにした電気式脱イオン水製造装置を提供する
ものである。
【００１３】この電気式脱イオン水製造装置によれば、
電極室の陽極室から排出される陽極水は酸化性物質除去
設備により処理されるため、陽極水に含まれる次亜塩素
酸、次亜臭素酸、塩素ガスなどの酸化性物質を除去でき
る。そして、この処理水は単独又は陰極水と合流して、
濃縮水の流入側に戻される。電極水の全量を循環使用と
する場合、濃縮水のイオン濃度は被処理水の約200 倍以
上にできる。このため、電気が流れ易くなり、当該装置
に流れる電流量が多くなる。従って、除去するのに高電
流を必要とするシリカなどの弱電解質成分の除去率を更
に向上させることができる。また、循環使用する陽極水
は酸化性物質が除去されているため、イオン交換膜やイ
オン交換体に悪影響を与えることはない。なお、電極水
の全量を循環使用する場合、濃縮水のイオン濃度が過度
に高濃度となることを防止するために濃縮水循環系から
一部を装置外にブローする。
電極室の陽極室から排出される陽極水は酸化性物質除去
設備により処理されるため、陽極水に含まれる次亜塩素
酸、次亜臭素酸、塩素ガスなどの酸化性物質を除去でき
る。そして、この処理水は単独又は陰極水と合流して、
濃縮水の流入側に戻される。電極水の全量を循環使用と
する場合、濃縮水のイオン濃度は被処理水の約200 倍以
上にできる。このため、電気が流れ易くなり、当該装置
に流れる電流量が多くなる。従って、除去するのに高電
流を必要とするシリカなどの弱電解質成分の除去率を更
に向上させることができる。また、循環使用する陽極水
は酸化性物質が除去されているため、イオン交換膜やイ
オン交換体に悪影響を与えることはない。なお、電極水
の全量を循環使用する場合、濃縮水のイオン濃度が過度
に高濃度となることを防止するために濃縮水循環系から
一部を装置外にブローする。
【００１４】また、本発明は、脱塩室、濃縮室及び電極
室を有すると共に、一対の電極に電圧を印加することで
脱塩室から脱イオン水を得る電気式脱イオン水製造装置
において、前記電極室の陽極室から排出される陽極水と
前記電極室の陰極室から排出される陰極水を合流させ、
該合流水を酸化性物質除去手段により処理し、この処理
水を前記濃縮室の流入側に戻すことにより、濃縮水のイ
オン濃度を高めるようにした電気式脱イオン水製造装置
を提供するものである。
室を有すると共に、一対の電極に電圧を印加することで
脱塩室から脱イオン水を得る電気式脱イオン水製造装置
において、前記電極室の陽極室から排出される陽極水と
前記電極室の陰極室から排出される陰極水を合流させ、
該合流水を酸化性物質除去手段により処理し、この処理
水を前記濃縮室の流入側に戻すことにより、濃縮水のイ
オン濃度を高めるようにした電気式脱イオン水製造装置
を提供するものである。
【００１５】この電気式脱イオン水製造装置によれば、
前述の発明と同様の効果を奏することができる。
前述の発明と同様の効果を奏することができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態における電気
式脱イオン水製造装置について、図面を参照して説明す
る。
式脱イオン水製造装置について、図面を参照して説明す
る。
【００１７】（第１の実施の形態）図１は、第１の実施
の形態における電気式脱イオン水製造装置の構成を示す
ブロック図である。被処理水は、電気式脱イオン水製造
装置（以下、ＥＤＩ装置ともいう）１に流入される。こ
の被処理水は、市水、工業用水を逆浸透膜処理した透過
水、あるいは半導体ウェハーを超純水で洗浄した際に排
出される洗浄排水等であり、強電解質成分が少なく、弱
電解質成分が多い水質である。また、ＥＤＩ装置１は、
イオン交換樹脂、イオン交換繊維等のイオン交換体が充
填された脱塩室と、この脱塩室とイオン交換膜を介して
仕切られた濃縮室と、これら脱塩室及び濃縮室に電圧を
印加する一対の電極（陽電極と陰電極）を有している。
そして、脱塩室に被処理水を、また、濃縮室に濃縮水を
流通することで、塩類をイオン交換膜を介し濃縮室を流
れる濃縮水中に移動させる。これによって、塩類が除去
された処理水（脱イオン水）を得ると供に、塩類が濃縮
された濃縮水を濃縮室に得ることができる。従って、脱
塩室から処理水が排出され、濃縮室から濃縮水が排出さ
れる。また、陽電極と陰電極の一対の電極を収納する陽
極室及び陰極室にも濃縮水（電極水）を流通する。従っ
て、該陽極室からは陽極水が、陰極室からは陰極水が排
出される。
の形態における電気式脱イオン水製造装置の構成を示す
ブロック図である。被処理水は、電気式脱イオン水製造
装置（以下、ＥＤＩ装置ともいう）１に流入される。こ
の被処理水は、市水、工業用水を逆浸透膜処理した透過
水、あるいは半導体ウェハーを超純水で洗浄した際に排
出される洗浄排水等であり、強電解質成分が少なく、弱
電解質成分が多い水質である。また、ＥＤＩ装置１は、
イオン交換樹脂、イオン交換繊維等のイオン交換体が充
填された脱塩室と、この脱塩室とイオン交換膜を介して
仕切られた濃縮室と、これら脱塩室及び濃縮室に電圧を
印加する一対の電極（陽電極と陰電極）を有している。
そして、脱塩室に被処理水を、また、濃縮室に濃縮水を
流通することで、塩類をイオン交換膜を介し濃縮室を流
れる濃縮水中に移動させる。これによって、塩類が除去
された処理水（脱イオン水）を得ると供に、塩類が濃縮
された濃縮水を濃縮室に得ることができる。従って、脱
塩室から処理水が排出され、濃縮室から濃縮水が排出さ
れる。また、陽電極と陰電極の一対の電極を収納する陽
極室及び陰極室にも濃縮水（電極水）を流通する。従っ
て、該陽極室からは陽極水が、陰極室からは陰極水が排
出される。
【００１８】そして、ＥＤＩ装置１の濃縮室から排出さ
れる濃縮水と陰極室から排出される陰極水の全量が濃縮
水貯蔵槽２に戻され、貯蔵される。また、該装置１の陽
極室から排出される陽極水の全量が装置外へブローされ
る。そして、濃縮水貯蔵槽２に貯蔵される濃縮水はＥＤ
Ｉ装置１の濃縮室、陰極室及び陽極室にそれぞれ供給さ
れる。なお、被処理水の一部は補給水として濃縮水貯蔵
槽２に供給される。
れる濃縮水と陰極室から排出される陰極水の全量が濃縮
水貯蔵槽２に戻され、貯蔵される。また、該装置１の陽
極室から排出される陽極水の全量が装置外へブローされ
る。そして、濃縮水貯蔵槽２に貯蔵される濃縮水はＥＤ
Ｉ装置１の濃縮室、陰極室及び陽極室にそれぞれ供給さ
れる。なお、被処理水の一部は補給水として濃縮水貯蔵
槽２に供給される。
【００１９】このような第１の実施の形態においては、
従来は、全量をブローしていた電極水を、その半分量に
相当する陰極水は濃縮水貯蔵槽２に戻されるため、電極
水のブロー比率は被処理水に対して１〜４％程度とな
り、濃縮水のイオン濃度は被処理水の50〜25倍に濃縮で
きる。このため、電気が流れ易くなり、当該装置１に流
れる電流量が多くなる。従って、除去するのに高電流を
必要とするシリカなどの弱電解質成分の除去率を向上さ
せることができる。また、循環使用する陰極水は水素ガ
スを含有するものの当該装置１のイオン交換膜やイオン
交換体に悪影響を与えることはない。
従来は、全量をブローしていた電極水を、その半分量に
相当する陰極水は濃縮水貯蔵槽２に戻されるため、電極
水のブロー比率は被処理水に対して１〜４％程度とな
り、濃縮水のイオン濃度は被処理水の50〜25倍に濃縮で
きる。このため、電気が流れ易くなり、当該装置１に流
れる電流量が多くなる。従って、除去するのに高電流を
必要とするシリカなどの弱電解質成分の除去率を向上さ
せることができる。また、循環使用する陰極水は水素ガ
スを含有するものの当該装置１のイオン交換膜やイオン
交換体に悪影響を与えることはない。
【００２０】（第２の実施の形態）図２は、第２の実施
の形態における電気式脱イオン水製造装置の構成を示す
ブロック図である。本発明の第２の実施の形態におい
て、第１の実施の形態と異なる点についてのみ主に説明
する。すなわち、第１の実施の形態と異なるところは、
図２より明らかなように、陽極室から排出される陽極水
は酸化性物質除去設備３により処理され、この処理水は
濃縮水貯蔵槽２に戻されるところにある。また、濃縮水
が過度に濃縮されないように濃縮水貯蔵槽２中の一部は
ブローされる。
の形態における電気式脱イオン水製造装置の構成を示す
ブロック図である。本発明の第２の実施の形態におい
て、第１の実施の形態と異なる点についてのみ主に説明
する。すなわち、第１の実施の形態と異なるところは、
図２より明らかなように、陽極室から排出される陽極水
は酸化性物質除去設備３により処理され、この処理水は
濃縮水貯蔵槽２に戻されるところにある。また、濃縮水
が過度に濃縮されないように濃縮水貯蔵槽２中の一部は
ブローされる。
【００２１】前記酸化性物質除去設備としては、陽極水
中に含まれる次亜塩素酸、次亜臭素酸、塩素ガスなどの
電解生成物を除去できるものであれば特に制限されない
が、例えば、活性炭吸着塔、亜硫酸ナトリウム等の還元
剤添加設備等が挙げられ、このうち、活性炭吸着塔が好
ましい。
中に含まれる次亜塩素酸、次亜臭素酸、塩素ガスなどの
電解生成物を除去できるものであれば特に制限されない
が、例えば、活性炭吸着塔、亜硫酸ナトリウム等の還元
剤添加設備等が挙げられ、このうち、活性炭吸着塔が好
ましい。
【００２２】このような第２の実施の形態においては、
電極室の陽極室から排出される陽極水は酸化性物質除去
設備３により処理されるため、陽極水に含まれる次亜塩
素酸、次亜臭素酸、塩素ガスなどの酸化性物質を除去で
きる。そして、この処理水は単独又は陰極水と合流し
て、濃縮水貯蔵槽２に戻される。このように、濃縮水及
び電極水の全量を循環使用とするため、濃縮水のイオン
濃度は被処理水の約200倍以上にできる。このため、電
気が更に流れ易くなり、当該装置１に流れる電流量が多
くなる。従って、除去するのに高電流を必要とするシリ
カなどの弱電解質成分の除去率を更に向上させることが
できる。また、循環使用する陽極水は酸化性物質が除去
されているため、イオン交換膜やイオン交換体に悪影響
を与えることはない。
電極室の陽極室から排出される陽極水は酸化性物質除去
設備３により処理されるため、陽極水に含まれる次亜塩
素酸、次亜臭素酸、塩素ガスなどの酸化性物質を除去で
きる。そして、この処理水は単独又は陰極水と合流し
て、濃縮水貯蔵槽２に戻される。このように、濃縮水及
び電極水の全量を循環使用とするため、濃縮水のイオン
濃度は被処理水の約200倍以上にできる。このため、電
気が更に流れ易くなり、当該装置１に流れる電流量が多
くなる。従って、除去するのに高電流を必要とするシリ
カなどの弱電解質成分の除去率を更に向上させることが
できる。また、循環使用する陽極水は酸化性物質が除去
されているため、イオン交換膜やイオン交換体に悪影響
を与えることはない。
【００２３】（第３の実施の形態）図３は、第３の実施
の形態における電気式脱イオン水製造装置の構成を示す
ブロック図である。本発明の第３の実施の形態におい
て、第２の実施の形態と異なる点についてのみ主に説明
する。すなわち、第２の実施の形態と異なるところは、
図３より明らかなように、陰極室から排出される陰極水
と陽極室より排出される陽極水は合流され、この合流水
は酸化性物質除去設備３により処理され、この処理水は
濃縮水貯蔵槽２に戻されるところにある。
の形態における電気式脱イオン水製造装置の構成を示す
ブロック図である。本発明の第３の実施の形態におい
て、第２の実施の形態と異なる点についてのみ主に説明
する。すなわち、第２の実施の形態と異なるところは、
図３より明らかなように、陰極室から排出される陰極水
と陽極室より排出される陽極水は合流され、この合流水
は酸化性物質除去設備３により処理され、この処理水は
濃縮水貯蔵槽２に戻されるところにある。
【００２４】このような第３の実施の形態においては、
第２の実施の形態と同様の作用効果を奏する。
第２の実施の形態と同様の作用効果を奏する。
【００２５】
【実施例】実施例１ 図３の装置を用いて、１０日間の処理実験を行った。被
処理水は地下水を２段の逆浸透膜装置で処理した透過水
とした。被処理水の電気伝導率、シリカ濃度を表１に示
す。ＥＤＩ装置１の水バランスは、処理水量２．９８５
m3/h（供給水量３．０m3/h）、濃縮水量０．５m3/h、陽
極水量０．０５m3/h、陰極水量０．０５m3/h、補給水量
０．０１５m3/h、ブロー量０．０１５m3/hであり、酸化
性物質除去設備３には、活性炭吸着塔を使用した。ま
た、ＥＤＩ装置１及び活性炭吸着塔は、下記仕様のもの
を使用した。処理１０日目の濃縮倍率（水量から推
定）、濃縮水電気伝導率、印加電圧、電流値、処理水シ
リカ濃度、処理水抵抗率を表１に示した。
処理水は地下水を２段の逆浸透膜装置で処理した透過水
とした。被処理水の電気伝導率、シリカ濃度を表１に示
す。ＥＤＩ装置１の水バランスは、処理水量２．９８５
m3/h（供給水量３．０m3/h）、濃縮水量０．５m3/h、陽
極水量０．０５m3/h、陰極水量０．０５m3/h、補給水量
０．０１５m3/h、ブロー量０．０１５m3/hであり、酸化
性物質除去設備３には、活性炭吸着塔を使用した。ま
た、ＥＤＩ装置１及び活性炭吸着塔は、下記仕様のもの
を使用した。処理１０日目の濃縮倍率（水量から推
定）、濃縮水電気伝導率、印加電圧、電流値、処理水シ
リカ濃度、処理水抵抗率を表１に示した。
【００２６】 （ＥＤＩ装置） ・印加電圧：２００Ｖ ・使用イオン交換体：カチオン交換樹脂アンバーライトＩＲ１２０Ｂ アニオン交換樹脂アンバーライトＩＲＡ４００ （いずれもロームアンドハース社製） カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂の混合比１：２（容積比） ・使用イオン交換膜：カチオン交換膜ＣＭＨ、アニオン交換膜ＡＭＨ （いずれもトクヤマ社製） （活性炭吸着塔） ・ダイアホープＳ８１（三菱化学社製）、活性炭量５Ｌ
【００２７】比較例１ 図４の装置を用いて、次の条件で処理を行った以外は、
実施例１と同様の方法で行った。ＥＤＩ装置１の水バラ
ンスは、処理水量２．９m3/h（供給水量３．０m3/h）、
濃縮水量０．９m3/h、陽極水及び陰極水の合計ブロー量
０．１m3/h、補給水量０．１m3/hである。結果を表１に
示す。
実施例１と同様の方法で行った。ＥＤＩ装置１の水バラ
ンスは、処理水量２．９m3/h（供給水量３．０m3/h）、
濃縮水量０．９m3/h、陽極水及び陰極水の合計ブロー量
０．１m3/h、補給水量０．１m3/hである。結果を表１に
示す。
【００２８】
【表１】
【００２９】表１より、実施例１は比較例１と比べて、
濃縮水の電気伝導率が高く、その結果、印加電圧が同じ
であっても電流値が大きくなっている。このため、シリ
カの除去率が著しく向上する。
濃縮水の電気伝導率が高く、その結果、印加電圧が同じ
であっても電流値が大きくなっている。このため、シリ
カの除去率が著しく向上する。
【００３０】
【発明の効果】本発明の請求項１に記載の発明によれ
ば、従来は、全量をブローしていた電極水を、その半分
量は濃縮水の流入側に戻されるため、電極水のブロー比
率は被処理水に対して１〜４％程度となり、濃縮水のイ
オン濃度は被処理水の50〜25倍に濃縮される。このた
め、電気が流れ易くなり、当該装置に流れる電流量が多
くなる。従って、除去するのに高電流を必要とするシリ
カなどの弱電解質成分の除去率を向上させることができ
る。
ば、従来は、全量をブローしていた電極水を、その半分
量は濃縮水の流入側に戻されるため、電極水のブロー比
率は被処理水に対して１〜４％程度となり、濃縮水のイ
オン濃度は被処理水の50〜25倍に濃縮される。このた
め、電気が流れ易くなり、当該装置に流れる電流量が多
くなる。従って、除去するのに高電流を必要とするシリ
カなどの弱電解質成分の除去率を向上させることができ
る。
【００３１】また、本発明の請求項２又は請求項３に記
載の発明によれば、電極室から排出される陽極水、又は
陽極水と陰極水との合流水は酸化性物質除去設備により
処理されるため、陽極水に含まれる次亜塩素酸、次亜臭
素酸、塩素ガスなどの酸化性物質を除去できる。そし
て、この処理水は濃縮水の流入側に戻される。電極水の
全量を循環使用とする場合、濃縮水のイオン濃度は被処
理水の約200 倍以上にできる。このため、電気が流れ易
くなり、当該装置に流れる電流量が多くなる。従って、
除去するのに高電流を必要とするシリカなどの弱電解質
成分の除去率を更に向上させることができる。
載の発明によれば、電極室から排出される陽極水、又は
陽極水と陰極水との合流水は酸化性物質除去設備により
処理されるため、陽極水に含まれる次亜塩素酸、次亜臭
素酸、塩素ガスなどの酸化性物質を除去できる。そし
て、この処理水は濃縮水の流入側に戻される。電極水の
全量を循環使用とする場合、濃縮水のイオン濃度は被処
理水の約200 倍以上にできる。このため、電気が流れ易
くなり、当該装置に流れる電流量が多くなる。従って、
除去するのに高電流を必要とするシリカなどの弱電解質
成分の除去率を更に向上させることができる。
【図１】第１の実施の形態における電気式脱イオン水製
造装置の構成を示すブロック図である。
造装置の構成を示すブロック図である。
【図２】第２の実施の形態における電気式脱イオン水製
造装置の構成を示すブロック図である。
造装置の構成を示すブロック図である。
【図３】第３の実施の形態における電気式脱イオン水製
造装置の構成を示すブロック図である。
造装置の構成を示すブロック図である。
【図４】比較例１で用いた電気式脱イオン水製造装置の
構成を示すブロック図である。
構成を示すブロック図である。
１ 電気式脱イオン水製造装置 ２ 濃縮水貯蔵槽 ３ 酸化性物質除去設備
Claims (3)
- 【請求項１】 脱塩室、濃縮室及び電極室を有すると共
に、一対の電極に電圧を印加することで脱塩室から脱イ
オン水を得る電気式脱イオン水製造装置において、前記
電極室の陽極室から排出される陽極水をブローすると共
に、前記電極室の陰極室から排出される陰極水を前記濃
縮室の流入側に戻すことにより、濃縮水のイオン濃度を
高めるようにした電気式脱イオン水製造装置。 - 【請求項２】 脱塩室、濃縮室及び電極室を有すると共
に、一対の電極に電圧を印加することで脱塩室から脱イ
オン水を得る電気式脱イオン水製造装置において、前記
電極室の陽極室から排出される陽極水を酸化性物質除去
設備により処理し、この処理水を前記濃縮室の流入側に
戻すことにより、濃縮水のイオン濃度を高めるようにし
た電気式脱イオン水製造装置。 - 【請求項３】 脱塩室、濃縮室及び電極室を有すると共
に、一対の電極に電圧を印加することで脱塩室から脱イ
オン水を得る電気式脱イオン水製造装置において、前記
電極室の陽極室から排出される陽極水と前記電極室の陰
極室から排出される陰極水を合流させ、該合流水を酸化
性物質除去設備により処理し、この処理水を前記濃縮室
の流入側に戻すことにより、濃縮水のイオン濃度を高め
るようにした電気式脱イオン水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9352442A JPH11165176A (ja) | 1997-12-05 | 1997-12-05 | 電気式脱イオン水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9352442A JPH11165176A (ja) | 1997-12-05 | 1997-12-05 | 電気式脱イオン水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11165176A true JPH11165176A (ja) | 1999-06-22 |
Family
ID=18424112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9352442A Pending JPH11165176A (ja) | 1997-12-05 | 1997-12-05 | 電気式脱イオン水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11165176A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001276836A (ja) * | 2000-03-28 | 2001-10-09 | Japan Organo Co Ltd | 脱イオン水の製造方法 |
| JP2006187708A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Japan Organo Co Ltd | 排水回収方法及び排水回収装置 |
| JP2021030362A (ja) * | 2019-08-23 | 2021-03-01 | 株式会社ディスコ | 加工廃液処理装置 |
-
1997
- 1997-12-05 JP JP9352442A patent/JPH11165176A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001276836A (ja) * | 2000-03-28 | 2001-10-09 | Japan Organo Co Ltd | 脱イオン水の製造方法 |
| JP2006187708A (ja) * | 2005-01-05 | 2006-07-20 | Japan Organo Co Ltd | 排水回収方法及び排水回収装置 |
| JP2021030362A (ja) * | 2019-08-23 | 2021-03-01 | 株式会社ディスコ | 加工廃液処理装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040304 |