JPH11163114A

JPH11163114A - 精密基板容器

Info

Publication number: JPH11163114A
Application number: JP32442897A
Authority: JP
Inventors: Kimitoku Tominaga; 公徳冨永
Original assignee: Shin Etsu Polymer Co Ltd; Shin Etsu Chemical Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Polymer Co Ltd; Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date: 1997-11-26
Filing date: 1997-11-26
Publication date: 1999-06-18

Abstract

(57)【要約】【課題】精密基板の傾斜を規制し、隣接する精密基板
同士が接触して損傷するのを有効に防止できる精密基板
容器を提供する。【解決手段】容器本体１と、容器本体１に収納される
筒形のカセット５とを備え、カセット５の内部両側に複
数のウェーハＷを整列保持する収納溝６をそれぞれ複数
並べて成形する。容器本体１の内部底面には一対の係止
片３を間隔をおいて対向状態に突出成形する。また、カ
セット５の開口下部に嵌合する傾斜規制アダプタ８を備
え、傾斜規制アダプタ８を、複数の係止片３に着脱自在
に保持されるベース９と、ベース９上に間隔をおいた対
向状態に設けられカセット５から露出したウェーハＷの
下部両側に保持溝１１を圧接する一対の挟持片１０とか
ら構成する。保持溝１１がウェーハＷを垂直に位置決め
保持し、ウェーハＷの保持を補助するので、隣接するウ
ェーハＷ同士が傾斜して接触損傷するのを防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フォトマスク、ペ
リクルフレームに張設されたペリクル、又は半導体ウェ
ーハ（例えば、シリコンウェーハ）等を収納、搬送、輸
送、又は保管する精密基板容器に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の精密基板容器は、図７ないし図１
０に示すように、有底筒形の容器本体１と、この容器本
体１に収納される精密基板、例えば半導体ウェーハ（以
下、ウェーハと略称する）Ｗ用のカセット５と、容器本
体１の開口上部を被覆する蓋体７とを備えている。

【０００３】カセット５は、間隔をおいて相対向する前
後壁を備え、これら前後壁の下部両側間には隙間をおい
て相対向する左右底板がそれぞれ成形されて一体化して
おり、これら左右底板の内面には複数のウェーハＷを所
定の間隔で縦に整列保持する収納溝６がそれぞれ複数並
べて成形されている。また、前後壁の両側間にも左右両
側壁がそれぞれ成形されて一体化し、これら左右両側壁
の内面にも複数のウェーハＷを所定の間隔で縦に整列保
持する収納溝６がそれぞれ複数並べて成形されている。
各収納溝６、６は、図９や図１０に示すように、ウェー
ハＷの挿入の容易化を図るため、大きなクリアランス
（ガタツキ）で成形され、この結果、ウェーハＷが傾斜
状態に保持される。

【０００４】したがって、カセット５に複数のウェーハ
Ｗを整列収納し、このカセット５を容器本体１に収納載
置し、その後、容器本体１の開口上部に蓋体７をパッキ
ン１２を介し被せれば、複数のウェーハＷを密封状態で
収納したり、あるいはこの密封状態で半導体メーカ等か
らＩＣメーカ等に輸送等することができる。なお、この
種の精密基板容器に関する先行技術文献として、実開昭
６３−８２７８８号、実開昭６３−１６６９４８号、及
び特開平９−１０７０２５号公報等があげられる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来の精密基板容器
は、以上のように各収納溝６が大きなクリアランスで成
形されているので、ウェーハＷが傾斜状態に保持され得
る。この傾きは隣接するウェーハＷ同士が接触損傷しな
い程度に設計可能であれば良いが、ウェーハＷのサイズ
等により大きなクリアランスが要求される場合、隣接す
るウェーハＷ同士が接触する傾きに設計せざるを得ない
ことがある。このような場合、従来においては、カセッ
ト５を強制的に傾斜させ、収納溝６の内部でウェーハＷ
を片寄らせて収納位置を一定にし、隣接するウェーハＷ
同士の接触を防止するようにしている。しかしながら、
容器本体１にカセット５を収納する前工程等において
は、カセット５を常時傾斜させて取り扱うことが非常に
困難な場合が多く、この場合には隣接するウェーハＷ同
士が接触して損傷しやすい。

【０００６】本発明は、上記従来の問題に鑑みなされた
もので、精密基板の傾斜を規制して、隣接する精密基板
同士が接触して損傷するのを有効に防止することのでき
る精密基板容器を提供することを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明にお
いては、上記課題を達成するため、容器本体と、この容
器本体に収納されるカセットとを含み、このカセットの
内部両側に複数の精密基板を所定の間隔で整列保持する
収納溝をそれぞれ複数設けたものであって、上記容器本
体の内部底面に複数の係止部材を間隔をおいて設け、上
記カセットに嵌合する上記精密基板用の傾斜規制アダプ
タを備え、この傾斜規制アダプタは、上記複数の係止部
材に着脱自在に保持されるベースと、このベース上に間
隔をおいて対向状態に設けられ上記カセットから露出し
た上記精密基板の下部両側に保持溝を接触させる複数の
挟持部材とを含んでなることを特徴としている。

【０００８】なお、上記容器本体の内部底面と上記複数
の係止部材とを一体成形してこの複数の係止部材を相対
向させ、各係止部材の上部にベース用の係止突部を成形
することが好ましい。また、上記ベースと上記複数の挟
持部材とを一体成形して各挟持部材の対向面には複数の
保持溝を並べて成形し、各保持溝を断面ほぼＶ字形に成
形することが望ましい。

【０００９】ここで、特許請求の範囲における「精密基
板」には、少なくとも電気、電子、又は半導体の製造分
野で使用される液晶セル、石英ガラス、半導体ウェー
ハ、フォトマスクガラス、又はマスク基板等が含まれ
る。また、カセットの内部両側に収納溝を設ける方法と
しては、壁部材に複数の収納溝を並べ設け、カセットの
内部両側に壁部材をそれぞれ間接的に取り付けたり、あ
るいは、カセットの内部両側に収納溝をそれぞれ直接成
形する方法等があげられる。また、「係止部材」は、各
種形状の板形や棒形等とすることができる。この係止部
材は、直線形でも良いが、その一部が屈曲したり、ある
いは湾曲したものでも良い。また、「係止突部」は、Ｌ
字形、Ｊ字形、鉤形、又は茸形等を呈し、係止部材の上
部に単数複数成形される。さらに、「断面ほぼＶ字形」
は、厳密な意味の断面Ｖ字形と、おおよそ実質的に断面
Ｖ字形と認められる類似形状を含む。

【００１０】請求項１記載の発明によれば、カセットに
精密基板を収納する場合には、カセットに精密基板を収
納溝を介して収納し、カセットに傾斜規制アダプタをセ
ットして精密基板の下部両側に向かい合う挟持部材の保
持溝をそれぞれ嵌めて接触させる。保持溝が精密基板の
姿勢を好適に保持し、精密基板の保持を補助するので、
容器本体に対するカセット収納の時期や収納溝の大きさ
等にかかわらず、精密基板同士が傾斜に伴い接触して損
傷するのを防止できる。また、カセットの収納時、複数
の係止部材にベースが規制され、容器本体の内部底面に
傾斜規制アダプタが固定される。また、容器本体からカ
セットを取り外す場合、容器本体からカセットを持ち上
げると、複数の係止部材にベースが既に取り外し不能に
規制されているので、カセットと傾斜規制アダプタとの
結合が解除され、カセットから傾斜規制アダプタが外れ
る。

【００１１】また、請求項２記載の発明によれば、複数
の係止部材間に傾斜規制アダプタのベースをセットする
と、複数の係止部材の係止突部にベースの外周部等が引
っ掛かり、傾斜規制アダプタが持ち上げ不能に規制され
る。さらに、請求項３記載の発明によれば、カセットに
傾斜規制アダプタを嵌めると、精密基板の下部両側の外
周縁に保持溝の鋭角の凹部が嵌められて接触し、精密基
板がほぼ直立状態に位置決めされる。この際、精密基板
の外周縁と保持溝の斜面とが接触しても、斜面が案内作
用を有しているので、斜面に精密基板が相対的に案内さ
れてスライドし、凹部に精密基板の外周縁が位置決めさ
れる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態をウェーハを例にして説明する。本実施形態にお
ける精密基板容器は、図１ないし図６に示すように、容
器本体１、ウェーハＷ用のカセット５、蓋体７、及び傾
斜規制アダプタ８を備えている。

【００１３】容器本体１は、軽量性や成形性に優れ、し
かも、帯電防止処理されたポリカーボネート樹脂等を用
いてトップオープンタイプで透明の有底筒形の箱構造に
射出成形されている。この容器本体１の開口上部の外周
面からは図１ないし図３に示すように、蓋体７用の搭載
フランジ２が水平外方向に張り出し成形されている。ま
た、容器本体１の内部底面には屈曲可能な一対の係止片
３が上方に向けそれぞれ一体的に突出成形されている。
この一対の係止片３は、容器本体１の内部底面の左右両
側に間隔をおいて成形されるとともに、相互に対向して
おり、各係止片３の上端部には傾斜規制アダプタ８用の
鉤４が対向方向に向け傾斜して折曲成形されている。

【００１４】カセット５は、帯電防止処理されたポリカ
ーボネート樹脂等を用いて上面の全面と下面の狭い中央
部とがそれぞれ開口したほぼ筒形に射出成形されてい
る。このカセット５は、間隔をおいて相互に対向するほ
ぼ円形の前後壁を備え、これら前後壁の下部両側間には
隙間をおいて相互に対向する左右底板がそれぞれ架設成
形されて一体化しており、これら左右底板の内面には複
数（例えば２５枚）のウェーハＷを所定の間隔で縦に整
列保持する収納溝６がそれぞれ複数並べて成形されてい
る。また、前後壁の両側間にも相互に対向する左右両側
壁がそれぞれ架設成形されて一体化し、これら左右両側
壁の内面にも複数のウェーハＷを所定の間隔で縦に整列
保持する収納溝６がそれぞれ複数並べて成形されてい
る。

【００１５】各収納溝６は、図６に示すように、ウェー
ハＷの挿入の容易化を図るため、大きなクリアランス
（ガタツキ）で凹み成形されている。このように構成さ
れたカセット５は、複数のウェーハＷを縦に整列収納す
るとともに、この複数のウェーハＷの上部と下部両側を
それぞれ露出させる。また、蓋体７は、帯電防止処理さ
れたポリカーボネート樹脂等を用いて内容物の確認が容
易となるよう透明に射出成形されている。

【００１６】さらに、傾斜規制アダプタ８は、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレート、ポ
リエチレンやポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、又
はポリカーボネート樹脂、ＥＰＤＭ等の熱可塑性エラス
トマー等、好ましくは熱可塑性エラストマーを用いて射
出成形されている。この傾斜規制アダプタ８は、図１な
いし図６に示すように、平坦な方形板形のベース９と、
このベース９上に屈曲可能に対設された左右一対の挟持
片１０とを一体的に備え、容器本体１とカセット５との
間に嵌脱自在に介在配置される。一対の挟持片１０は、
ベース９表面の左右両側から上方に向け突出成形される
とともに、相互に対向している。各挟持片１０は、断面
ほぼく字形の板状に成形され、その上部対向面には複数
の保持溝１１が並べて成形されている。各保持溝１１
は、断面Ｖ字形に成形され、その両斜面がガイド機能を
発揮するようになっている。

【００１７】次に、作業方法について説明する。先ず、
直立させたカセット５に複数のウェーハＷを収納溝６を
介して整列収納し、側方に位置するカセット５の下部に
傾斜規制アダプタ８を着脱自在に嵌合して側方に位置す
る各ウェーハＷの下部両側の外周縁に保持溝１１を嵌入
圧接する。次いで、容器本体１に横にしたカセット５を
収納してフレキシブルな一対の係止片３にベース９を嵌
入挟持させ、その後、容器本体１の開口上部に蓋体７を
枠形のパッキンを介し嵌合被覆して図示しない複数のフ
ック部材で止めれば、複数のウェーハＷを密封状態で収
納したり、あるいはこの密封状態で半導体メーカからＩ
Ｃメーカに輸送することができる。

【００１８】これに対し、容器本体１からカセット５を
取り外す場合には、容器本体１からフック部材、蓋体
７、及びパッキンを順次取り外して密封状態を解除し、
カセット５を持ち上げれば良い。すると、一対の係止片
３の鉤４にベース９の左右両側端がそれぞれ位置決め係
止されているので、カセット５と傾斜規制アダプタ８と
の嵌合が解除され、カセット５の下部から傾斜規制アダ
プタ８が外れ、容器本体１内に傾斜規制アダプタ８が残
存する。この状態でカセット５は図示しない移載装置等
の自動機にそのままセットされ、ウェーハＷが取り出さ
れる。

【００１９】上記構成によれば、各保持溝１１がウェー
ハＷをがたつかないよう垂直に位置決め保持し、ウェー
ハＷの姿勢保持を補助するので、クリアランスの大きさ
や製造工程にかかわらず、隣接するウェーハＷ同士が傾
斜して接触し、損傷するのを確実に防止することができ
る。また、これを通じてカセット５に関する作業性や取
扱性を大幅に向上させることができる。この点に関し、
精密基板メーカの製造工程においては、カセット５を立
てて取り扱う作業が多いので、上記効果は非常に重要で
ある。

【００２０】さらに、カセット５の取り出しの際、容器
本体１と傾斜規制アダプタ８とが一体化するので、ウェ
ーハＷを傷つけないようカセット５から邪魔な傾斜規制
アダプタ８を慎重に取り外す必要が全くなく、自動機に
対するセット時等に実に便利となる。この点に関し、精
密基板ユーザの製造工程は、容器本体１からカセット５
を取り出す工程から始まるので、上記効果はきわめて重
要となる。

【００２１】なお、上記実施形態では箱構造の容器本体
１を示したが、容器本体１を有底円筒形でほほドーム形
等とし、蓋体７を対応する形とすることも可能である。
また、容器本体１の内部底面に一対の係止片３を一体成
形したものを示したが、容器本体１の内部底面に別部材
である一対の係止片３をそれぞれ揺動可能に取り付けて
も良い。また、上記実施形態では一対の係止片３を示し
たが、なんらこれに限定されるものではなく、容器本体
１の内部底面の左右両側及び又は前後に係止片３をそれ
ぞれ３個以上設ける等しても良い。

【００２２】また、ウェーハＷの大きさは、特に限定す
るものではなく、８インチでも良いし、１２インチ以上
でも良い。また、蓋体７の内部にウェーハＷ用の上部周
縁に圧接する押さえ部材を着脱自在に取り付けることも
できる。さらに、傾斜規制アダプタ８のベース９の一部
を屈曲させたり、ベース９の形を小判形や多角形等に適
宜変更することもできる。さらにまた、ベース９に別部
材である一対の挟持片１０をそれぞれ揺動可能に取り付
けることも可能である。

【００２３】

【発明の効果】以上のように請求項１記載の発明によれ
ば、精密基板の傾斜を規制し、隣接する精密基板同士が
接触して損傷するのを有効に防止することができるとい
う効果がある。また、請求項２又は３記載の発明によれ
ば、一体成形により製造するので、作業の迅速化、生産
性、品質安定性、及び応用性の向上、並びにコスト削減
等を図ることができる。また、形状が複雑な精密基板容
器を容易に製造することができ、しかも、工程数の低減
も期待できる。さらに、適当な成形材料を選択してパー
ティクルや有機汚染の発生等を抑制することも可能であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る精密基板容器の実施形態における
カセット収納作業の作業状態を示す断面説明図である。

【図２】本発明に係る精密基板容器の実施形態における
カセット収納作業の作業終了状態を示す断面説明図であ
る。

【図３】本発明に係る精密基板容器の実施形態における
カセット取り出し作業状態を示す断面説明図である。

【図４】本発明に係る精密基板容器の実施形態を示す断
面説明図である。

【図５】本発明に係る精密基板容器の実施形態を示す要
部側面図である。

【図６】図５の平面図である。

【図７】従来の精密基板容器を示す分解斜視図である。

【図８】従来の精密基板容器を示す断面説明図である。

【図９】従来の精密基板容器を示す側面図である。

【図１０】図９の平面図である。

【符号の説明】

１容器本体３係止片（係止部材）４鉤（係止突部）５カセット６収納溝７蓋体８傾斜規制アダプタ９ベース１０挟持片（挟持部材）１１保持溝Ｗウェーハ（精密基板）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】容器本体と、この容器本体に収納される
カセットとを含み、このカセットの内部両側に複数の精
密基板を所定の間隔で整列保持する収納溝をそれぞれ複
数設けた精密基板容器であって、上記容器本体の内部底面に複数の係止部材を間隔をおい
て設け、上記カセットに嵌合する上記精密基板用の傾斜規制アダ
プタを備え、この傾斜規制アダプタは、上記複数の係止
部材に着脱自在に保持されるベースと、このベース上に
間隔をおいて対向状態に設けられ上記カセットから露出
した上記精密基板の下部両側に保持溝を接触させる複数
の挟持部材とを含んでなることを特徴とする精密基板容
器。
【請求項２】上記容器本体の内部底面と上記複数の係
止部材とを一体成形してこの複数の係止部材を相対向さ
せ、各係止部材の上部にベース用の係止突部を成形した
請求項１記載の精密基板容器。
【請求項３】上記ベースと上記複数の挟持部材とを一
体成形して各挟持部材の対向面には複数の保持溝を並べ
て成形し、各保持溝を断面ほぼＶ字形に成形した請求項
１又は２記載の精密基板容器。