JPH11160706A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH11160706A JPH11160706A JP32110097A JP32110097A JPH11160706A JP H11160706 A JPH11160706 A JP H11160706A JP 32110097 A JP32110097 A JP 32110097A JP 32110097 A JP32110097 A JP 32110097A JP H11160706 A JPH11160706 A JP H11160706A
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- surfactant
- liquid crystal
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶表示素子の初期配向を垂直配向とする場
合、良好な垂直配向を得ると同時に、工程の簡略化、コ
スト低減を図れるようにする。 【解決手段】 基板上にスパッタあるいは蒸着によりＳ
ｉＯ2 膜４を成膜させ、メインシール作製から通常の条
件でセルを作製した後、界面活性剤５を適量添加して溶
解させた液晶６を注入することにより垂直配向を得るよ
うにする。
合、良好な垂直配向を得ると同時に、工程の簡略化、コ
スト低減を図れるようにする。 【解決手段】 基板上にスパッタあるいは蒸着によりＳ
ｉＯ2 膜４を成膜させ、メインシール作製から通常の条
件でセルを作製した後、界面活性剤５を適量添加して溶
解させた液晶６を注入することにより垂直配向を得るよ
うにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に工程の簡略化
が可能な液晶表示素子の製造方法に関するものである。
が可能な液晶表示素子の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子の初期配向を基板に対して
垂直配向とする場合、均一な垂直配向を得るために従来
より次の，のような方法がとられている。
垂直配向とする場合、均一な垂直配向を得るために従来
より次の，のような方法がとられている。
【０００３】図４に示すような蒸着装置を使用し、そ
の蒸着チャンバー１１内に基板１２を蒸発源１３に対し
て斜めに設置し、ＳｉＯ2 等の材料を斜め蒸着させる。
の蒸着チャンバー１１内に基板１２を蒸発源１３に対し
て斜めに設置し、ＳｉＯ2 等の材料を斜め蒸着させる。
【０００４】その後、垂直配向剤として界面活性剤を成
膜させる。これにより、図５に示すように基板１２の法
線方向から多少傾いた均一な垂直配向が得られる。図５
中、１４はＳｉＯ2 の蒸着膜、１５は界面活性剤、１６
は液晶（ＬＣ）を示している。
膜させる。これにより、図５に示すように基板１２の法
線方向から多少傾いた均一な垂直配向が得られる。図５
中、１４はＳｉＯ2 の蒸着膜、１５は界面活性剤、１６
は液晶（ＬＣ）を示している。
【０００５】長鎖アルキル鎖を含有したポリイミド・
ベースの有機高分子系垂直配向膜を基板上に成膜させる
ことにより垂直配向を得る。
ベースの有機高分子系垂直配向膜を基板上に成膜させる
ことにより垂直配向を得る。
【０００６】また、必要に応じて均一な垂直配向を得る
ために、その後ラビング処理等を行い、基板の法線方向
から多少傾けて配向させる。
ために、その後ラビング処理等を行い、基板の法線方向
から多少傾けて配向させる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の液晶表示素子の製造方法にあっては、垂直
配向を得るに際して次のような問題点があった。
ような従来の液晶表示素子の製造方法にあっては、垂直
配向を得るに際して次のような問題点があった。
【０００８】上記の方法においては、界面活性剤は化
学吸着により成膜するので、成膜状態が環境に影響され
やすく、工程管理が難しい。
学吸着により成膜するので、成膜状態が環境に影響され
やすく、工程管理が難しい。
【０００９】上記の方法においては、有機高分子系の
配向膜を成膜するので、印刷またはスピンナー塗布の後
プリベーク，ポストベークとなり、工程が複雑となる。
配向膜を成膜するので、印刷またはスピンナー塗布の後
プリベーク，ポストベークとなり、工程が複雑となる。
【００１０】また、配向膜の成膜だけでは垂直方向の配
向規制力のみであるので、成膜の後何らかの配向規制力
を与え、均一配向（一軸配向）としなければならない。
例えばそれがラビングであっても、工程がまた増えるこ
とになる。
向規制力のみであるので、成膜の後何らかの配向規制力
を与え、均一配向（一軸配向）としなければならない。
例えばそれがラビングであっても、工程がまた増えるこ
とになる。
【００１１】本発明は、上記のような問題点に着目して
なされたもので、良好な垂直配向が得られるとともに、
工程の簡略化及びコスト低減を図ることができる液晶表
示素子の製造方法を提供することを目的としている。
なされたもので、良好な垂直配向が得られるとともに、
工程の簡略化及びコスト低減を図ることができる液晶表
示素子の製造方法を提供することを目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明に係る液晶表示素
子の製造方法は、次のように構成したものである。
子の製造方法は、次のように構成したものである。
【００１３】（１）基板に形成したセル内に、界面活性
剤を所定量添加して溶解させた液晶を注入することによ
り垂直配向を得るようにした。
剤を所定量添加して溶解させた液晶を注入することによ
り垂直配向を得るようにした。
【００１４】（２）基板上にＳｉＯ2 膜を成膜してセル
を形成した後、該セル内に界面活性剤を所定量添加して
溶解させた液晶を注入することにより垂直配向を得るよ
うにした。
を形成した後、該セル内に界面活性剤を所定量添加して
溶解させた液晶を注入することにより垂直配向を得るよ
うにした。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施例に使用可能
な一般的な量産性に優れたインライン式のスパッタ装置
の内部を示す図である。同図中、Ａは基板１の搬送方向
を示し、また２はＳｉＯ2 のターゲット、３は基板へ向
うＳｉＯ2 のスパッタ粒子を示している。
な一般的な量産性に優れたインライン式のスパッタ装置
の内部を示す図である。同図中、Ａは基板１の搬送方向
を示し、また２はＳｉＯ2 のターゲット、３は基板へ向
うＳｉＯ2 のスパッタ粒子を示している。
【００１６】図１のスパッタ装置あるいは図４の蒸着装
置を用いた場合、図２に示すようにスパッタあるいは蒸
着による基板上のＳｉＯ2 膜４は微細な針状の突起が方
向性を持った形状で成膜される。
置を用いた場合、図２に示すようにスパッタあるいは蒸
着による基板上のＳｉＯ2 膜４は微細な針状の突起が方
向性を持った形状で成膜される。
【００１７】本発明では、上記の基板を用いて、ギャッ
プ（Ｇａｐ）散布、メインシール形成から通常の条件で
セルを作製した後、液晶を注入するときに、その液晶に
ＤＭＯＡＰ等の配向処理材となる界面活性剤を適量添加
して注入する。これにより、図３に示すように図５と同
様の良好な均一性のある垂直配向が得られる。図３中、
５はＤＭＯＡＰ等の界面活性剤、６は液晶である。
プ（Ｇａｐ）散布、メインシール形成から通常の条件で
セルを作製した後、液晶を注入するときに、その液晶に
ＤＭＯＡＰ等の配向処理材となる界面活性剤を適量添加
して注入する。これにより、図３に示すように図５と同
様の良好な均一性のある垂直配向が得られる。図３中、
５はＤＭＯＡＰ等の界面活性剤、６は液晶である。
【００１８】次に、上述の手法に基づく本発明の実施例
について具体的に説明する。なお、本発明の手法は上記
のＳｉＯ2 膜４がなくても適用可能である。
について具体的に説明する。なお、本発明の手法は上記
のＳｉＯ2 膜４がなくても適用可能である。
【００１９】（実施例１）まず、電極形成のためにパタ
ーニングされたＩＴＯ膜上に、インライン式のスパッタ
装置（日電アネルバ社製ＩＬＣ−７０２）にてＳｉＯ2
のスパッタ膜を無加熱で膜厚が１０００オングストロー
ムになるように成膜した。
ーニングされたＩＴＯ膜上に、インライン式のスパッタ
装置（日電アネルバ社製ＩＬＣ−７０２）にてＳｉＯ2
のスパッタ膜を無加熱で膜厚が１０００オングストロー
ムになるように成膜した。
【００２０】この基板にてスぺーサ散布、メインシール
形成から通常のセル工程と同じ条件にてセルを作製し
た。
形成から通常のセル工程と同じ条件にてセルを作製し
た。
【００２１】一方、誘電異方性が負である液晶（ＭＪ９
４３５７：Ｍｅｒｃｋ社製）に界面活性剤としてＤＭＯ
ＡＰ（チッソ製５０％メタノール溶液）を１ｗｔ％添加
し、液晶のＮＩ点まで加熱し溶解させた。
４３５７：Ｍｅｒｃｋ社製）に界面活性剤としてＤＭＯ
ＡＰ（チッソ製５０％メタノール溶液）を１ｗｔ％添加
し、液晶のＮＩ点まで加熱し溶解させた。
【００２２】その液晶を上記セルに真空注入した。
【００２３】そして、このセルを偏光板の直交クロス間
に入れて配向観察をしたところ、セル内全域で真っ黒で
あり、初期配向において良好な垂直配向が確認された。
に入れて配向観察をしたところ、セル内全域で真っ黒で
あり、初期配向において良好な垂直配向が確認された。
【００２４】さらに、このセルに電圧を印加したとこ
ろ、液晶が応答しセル全域において均一なＯＮ状態が得
られた。これは、偏光顕微鏡で観察してもディスクリネ
ーション・ラインの見られない良好な一軸配向であっ
た。
ろ、液晶が応答しセル全域において均一なＯＮ状態が得
られた。これは、偏光顕微鏡で観察してもディスクリネ
ーション・ラインの見られない良好な一軸配向であっ
た。
【００２５】（実施例２）上記実施例１によるＳｉＯ2
膜を成膜することなく、同様にセルを作製したところ、
同様な垂直配向が得られた。
膜を成膜することなく、同様にセルを作製したところ、
同様な垂直配向が得られた。
【００２６】つまり、ＩＴＯ膜上であってもこの手法を
用いれば界面活性剤がＩＴＯ面に吸着し、良好な垂直配
向が作れることが確認できた。
用いれば界面活性剤がＩＴＯ面に吸着し、良好な垂直配
向が作れることが確認できた。
【００２７】しかし、これでは垂直方向の規制力だけで
電圧印加状態では液晶分子がランダムに倒れるため、均
一な配向が得られない。
電圧印加状態では液晶分子がランダムに倒れるため、均
一な配向が得られない。
【００２８】そこで、電極にスリットを設けて電圧印加
時に電界配向させるようにしたところ、良好な均一配向
が得られた。
時に電界配向させるようにしたところ、良好な均一配向
が得られた。
【００２９】以上、本発明の実施例について述べたが、
本実施例では、従来の界面活性剤成膜と比較し、化学吸
着のための工程条件及び環境が簡略化でき、コスト低減
につながる。
本実施例では、従来の界面活性剤成膜と比較し、化学吸
着のための工程条件及び環境が簡略化でき、コスト低減
につながる。
【００３０】また、図１に示す装置により、Ｆ−Ｂショ
ート防止膜としてＳｉＯ2 膜を成膜することが主流であ
ることから、液晶に界面活性剤を適量添加、溶解するだ
けで、簡単に均一な垂直配向がつくれることになる。
ート防止膜としてＳｉＯ2 膜を成膜することが主流であ
ることから、液晶に界面活性剤を適量添加、溶解するだ
けで、簡単に均一な垂直配向がつくれることになる。
【００３１】有機高分子系のポリイミドタイプの垂直配
向膜と比較しても、工程的、コスト的メリットは大き
い。
向膜と比較しても、工程的、コスト的メリットは大き
い。
【００３２】本来、界面活性剤はＩＴＯ膜に吸着させに
くいが、本手法を用いれば容易に吸着でき、垂直配向と
なる。
くいが、本手法を用いれば容易に吸着でき、垂直配向と
なる。
【００３３】実施例２で作製されたセルと従来の有機高
分子系ポリイミド配向膜を用いて作製したセルの光学特
性を表１に示す。この表１の結果より、本手法を用いて
も従来と同等のセル特性を維持していることがわかる。
分子系ポリイミド配向膜を用いて作製したセルの光学特
性を表１に示す。この表１の結果より、本手法を用いて
も従来と同等のセル特性を維持していることがわかる。
【００３４】
【表１】
【００３５】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、良好な
垂直配向が得られるとともに、化学吸着のための工程条
件及び環境の簡略化、またコスト低減を図ることができ
るという効果がある。
垂直配向が得られるとともに、化学吸着のための工程条
件及び環境の簡略化、またコスト低減を図ることができ
るという効果がある。
【図１】 スパッタ装置の内部を示す説明図
【図２】 基板にＳｉＯ2 膜を成膜した状態を示す説明
図
図
【図３】 実施例の界面活性剤を添加した液晶をセルに
注入した状態を示す説明図
注入した状態を示す説明図
【図４】 蒸着装置の内部を示す説明図
【図５】 従来例による垂直配向を示す説明図
１ 基板 ２ ターゲット ３ スパッタ粒子 ４ ＳｉＯ2 膜 ５ 界面活性剤 ６ 液晶
Claims (2)
- 【請求項１】 基板に形成したセル内に、界面活性剤を
所定量添加して溶解させた液晶を注入することにより垂
直配向を得るようにしたことを特徴とする液晶表示素子
の製造方法。 - 【請求項２】 基板上にＳｉＯ2 膜を成膜してセルを形
成した後、該セル内に界面活性剤を所定量添加して溶解
させた液晶を注入することにより垂直配向を得るように
したことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32110097A JPH11160706A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32110097A JPH11160706A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11160706A true JPH11160706A (ja) | 1999-06-18 |
Family
ID=18128828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32110097A Withdrawn JPH11160706A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11160706A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001281659A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-10 | Hewlett Packard Co <Hp> | 液晶デバイス |
| JP2001281660A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-10 | Hewlett Packard Co <Hp> | 液晶デバイス |
| JP2005510750A (ja) * | 2001-11-20 | 2005-04-21 | ヒューレット・パッカード・カンパニー | 液晶素子及び組成物 |
| JP2007264461A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示素子 |
| CN102081250A (zh) * | 2010-11-23 | 2011-06-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显示面板及显示装置的制造方法 |
-
1997
- 1997-11-21 JP JP32110097A patent/JPH11160706A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001281659A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-10 | Hewlett Packard Co <Hp> | 液晶デバイス |
| JP2001281660A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-10 | Hewlett Packard Co <Hp> | 液晶デバイス |
| JP2005510750A (ja) * | 2001-11-20 | 2005-04-21 | ヒューレット・パッカード・カンパニー | 液晶素子及び組成物 |
| JP2007264461A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Stanley Electric Co Ltd | 液晶表示素子 |
| US7864276B2 (en) | 2006-03-29 | 2011-01-04 | Stanley Electric Co., Ltd. | Liquid crystal display device |
| CN102081250A (zh) * | 2010-11-23 | 2011-06-01 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 显示面板及显示装置的制造方法 |
| WO2012068759A1 (zh) * | 2010-11-23 | 2012-05-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 液晶盒及显示装置的制造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050201 |