JPH11160510A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH11160510A5
JPH11160510A5 JP1998276481A JP27648198A JPH11160510A5 JP H11160510 A5 JPH11160510 A5 JP H11160510A5 JP 1998276481 A JP1998276481 A JP 1998276481A JP 27648198 A JP27648198 A JP 27648198A JP H11160510 A5 JPH11160510 A5 JP H11160510A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
pattern
resist pattern
etching
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1998276481A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPH11160510A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP27648198A priority Critical patent/JPH11160510A/ja
Priority claimed from JP27648198A external-priority patent/JPH11160510A/ja
Publication of JPH11160510A publication Critical patent/JPH11160510A/ja
Publication of JPH11160510A5 publication Critical patent/JPH11160510A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP27648198A 1997-09-12 1998-09-11 多段階段状素子の作製方法又は該素子作製用モールド型の作製方法 Pending JPH11160510A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27648198A JPH11160510A (ja) 1997-09-12 1998-09-11 多段階段状素子の作製方法又は該素子作製用モールド型の作製方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9-268087 1997-09-12
JP26808797 1997-09-12
JP27648198A JPH11160510A (ja) 1997-09-12 1998-09-11 多段階段状素子の作製方法又は該素子作製用モールド型の作製方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11160510A JPH11160510A (ja) 1999-06-18
JPH11160510A5 true JPH11160510A5 (enrdf_load_stackoverflow) 2007-12-13

Family

ID=26548163

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27648198A Pending JPH11160510A (ja) 1997-09-12 1998-09-11 多段階段状素子の作製方法又は該素子作製用モールド型の作製方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11160510A (enrdf_load_stackoverflow)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3437517B2 (ja) 1999-02-16 2003-08-18 キヤノン株式会社 二次元位相型光学素子の作製方法
JP3507374B2 (ja) * 1999-09-03 2004-03-15 キヤノン株式会社 二次元位相素子の作製方法
JP2008298827A (ja) * 2007-05-29 2008-12-11 Toppan Printing Co Ltd パターン形成方法、インプリントモールド、フォトマスク
JP2008304689A (ja) * 2007-06-07 2008-12-18 Toppan Printing Co Ltd パターン形成方法、インプリントモールド、フォトマスク
JP5621201B2 (ja) * 2008-11-13 2014-11-12 凸版印刷株式会社 インプリントモールド製造方法およびインプリントモールド
CN102495444B (zh) * 2011-12-20 2013-10-30 中国科学院微电子研究所 一种四台阶光栅及其制备方法
KR101412219B1 (ko) * 2013-04-30 2014-06-25 하이트론 주식회사 다단형 기판 제조 방법
CN106154382B (zh) * 2016-08-18 2018-12-14 中国科学技术大学 具有高衍射效率的大口径薄膜衍射元件的制作方法
FI128410B (en) 2017-06-02 2020-04-30 Dispelix Oy A method of fabricating a height modulated optical diffractive grating
JP7034696B2 (ja) 2017-12-14 2022-03-14 キヤノン株式会社 硬化物パターンの製造方法、加工基板の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法、およびインプリントモールドの製造方法
JP7380933B1 (ja) * 2023-02-10 2023-11-15 大日本印刷株式会社 光学部材及びその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7018783B2 (en) Fine structure and devices employing it
US6930834B2 (en) Method of manufacturing diffractive optical element
US5358808A (en) Exposure mask, method of manufacturing the same, and exposure method using the same
EP0140175B1 (en) Method for manufacturing a fresnel phase reversal plate lens
US6569608B2 (en) Method of manufacturing an element with multiple-level surface
JP2000199813A (ja) 光学素子の作製方法
Stern Binary optics fabrication
EP0551621A1 (en) Self-aligned phase-shifting mask
JPH11160510A5 (enrdf_load_stackoverflow)
JP4613364B2 (ja) レジストパタン形成方法
JPH11160510A (ja) 多段階段状素子の作製方法又は該素子作製用モールド型の作製方法
JP3437517B2 (ja) 二次元位相型光学素子の作製方法
JP4390119B2 (ja) 回折光学素子の製造方法
GB2135793A (en) Bilevel ultraviolet resist system for patterning substrates of high reflectivity
US8110321B2 (en) Method of manufacture of damascene reticle
US6803154B1 (en) Two-dimensional phase element and method of manufacturing the same
US20240230969A1 (en) Fabrication of optical gratings using a resist contoured based on grey-scale lithography
JP2002048907A (ja) 回折光学素子の製作方法
JP2001074924A (ja) 回折光学素子の作製方法
US20070183046A1 (en) Method of Forming a Diffractive Optical Element
JP3091886B2 (ja) レジストパターンの形成方法
JP2783582B2 (ja) フォトマスク
JP2892753B2 (ja) ホトマスクおよびホトマスクの製造方法
JP2002228820A (ja) 回折光学素子の製造方法、該回折光学素子の製造方法によって製造した回折光学素子、および該回折光学素子を有する光学系、露光装置、デバイス製造方法、デバイス
KR100278908B1 (ko) 반도체소자의 감광막패턴 제조방법