JPH11156342A - 給水温度によって薬品による脱気を併用する膜脱気装置 - Google Patents
給水温度によって薬品による脱気を併用する膜脱気装置Info
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- JPH11156342A JPH11156342A JP34060997A JP34060997A JPH11156342A JP H11156342 A JPH11156342 A JP H11156342A JP 34060997 A JP34060997 A JP 34060997A JP 34060997 A JP34060997 A JP 34060997A JP H11156342 A JPH11156342 A JP H11156342A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 膜脱気装置の能力を過剰に高くすることな
く、給水中の溶存酸素濃度を常に低い値に保つ。 【解決手段】 ボイラ３への給水ライン２の途中に膜脱
気装置１を設け、ボイラで発生させた蒸気の一部を用い
て膜脱気装置へ送られる給水を加熱する給水加熱装置１
３、加熱後の給水の温度を検出する温度検出装置４、膜
脱気装置より下流の給水ライン２へ脱酸素剤を注入する
薬注装置９、給水加熱装置１３への蒸気導入を制御する
蒸気導入制御弁１１を設けておき、温度検出装置４と薬
注装置９に信号線で接続された薬注制御装置５、温度検
出装置４と蒸気導入制御弁１１に信号線で接続された給
水加熱制御装置１４を設け、給水温度が低い場合には薬
注装置９の作動と給水の加熱を行う。
く、給水中の溶存酸素濃度を常に低い値に保つ。 【解決手段】 ボイラ３への給水ライン２の途中に膜脱
気装置１を設け、ボイラで発生させた蒸気の一部を用い
て膜脱気装置へ送られる給水を加熱する給水加熱装置１
３、加熱後の給水の温度を検出する温度検出装置４、膜
脱気装置より下流の給水ライン２へ脱酸素剤を注入する
薬注装置９、給水加熱装置１３への蒸気導入を制御する
蒸気導入制御弁１１を設けておき、温度検出装置４と薬
注装置９に信号線で接続された薬注制御装置５、温度検
出装置４と蒸気導入制御弁１１に信号線で接続された給
水加熱制御装置１４を設け、給水温度が低い場合には薬
注装置９の作動と給水の加熱を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、給水温度によって薬品
による脱気を併用する膜脱気装置に関するものである。
による脱気を併用する膜脱気装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】水中の溶存酸素を除去する装置として膜
脱気装置が知られている。この装置は、微小な孔の開い
た気液分離膜を内蔵した膜モジュールに真空発生装置を
接続しておき、モジュール内の膜の一方側を減圧し他方
側に通水することにより、水中の溶存酸素を減圧側に移
動させて脱気を行うものである。
脱気装置が知られている。この装置は、微小な孔の開い
た気液分離膜を内蔵した膜モジュールに真空発生装置を
接続しておき、モジュール内の膜の一方側を減圧し他方
側に通水することにより、水中の溶存酸素を減圧側に移
動させて脱気を行うものである。
【０００３】膜脱気装置を用いて溶存酸素の除去を行う
場合、処理される水の水温によって処理後に残留する溶
存酸素濃度が変動し、溶存酸素濃度は水温が高いと低
く、水温が低いと高くなる。給水を加熱していないシス
テムの場合、冬季と夏季で水温が異なり、冬季の水温で
膜脱気装置に必要な能力を定めると夏季には必要以上の
能力を持つこととなり、夏季の水温で膜脱気装置に必要
な能力を定めると冬季には能力が不足する。また、ボイ
ラの給水ラインに膜脱気装置を設けている場合、ボイラ
で発生させた蒸気によって給水の加熱を行うことで、給
水温度の季節変化を無くすことが可能となるが、その場
合であってもボイラ起動時には蒸気にて加熱することが
できず、蒸気以外の加熱手段はコスト高となるために一
般的には採用されていないことより、常時給水を加熱す
ることは行えず、水温の変化を無くすことはできない。
そのため膜脱気装置の能力は状況によって過剰となるか
不足となる場合があった。
場合、処理される水の水温によって処理後に残留する溶
存酸素濃度が変動し、溶存酸素濃度は水温が高いと低
く、水温が低いと高くなる。給水を加熱していないシス
テムの場合、冬季と夏季で水温が異なり、冬季の水温で
膜脱気装置に必要な能力を定めると夏季には必要以上の
能力を持つこととなり、夏季の水温で膜脱気装置に必要
な能力を定めると冬季には能力が不足する。また、ボイ
ラの給水ラインに膜脱気装置を設けている場合、ボイラ
で発生させた蒸気によって給水の加熱を行うことで、給
水温度の季節変化を無くすことが可能となるが、その場
合であってもボイラ起動時には蒸気にて加熱することが
できず、蒸気以外の加熱手段はコスト高となるために一
般的には採用されていないことより、常時給水を加熱す
ることは行えず、水温の変化を無くすことはできない。
そのため膜脱気装置の能力は状況によって過剰となるか
不足となる場合があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、膜脱気装置の能力を過剰に高くすることな
く、給水中の溶存酸素濃度を常に低い値に保つことにあ
る。
する課題は、膜脱気装置の能力を過剰に高くすることな
く、給水中の溶存酸素濃度を常に低い値に保つことにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】ボイラへ給水するための
給水ラインの途中に膜脱気装置を設け、ボイラで発生さ
せた蒸気の一部を用いて膜脱気装置へ送られる給水を加
熱する給水加熱装置、加熱後の給水の温度を検出する温
度検出装置、膜脱気装置より下流の給水ラインへ脱酸素
剤を注入する薬注装置、給水加熱装置への蒸気導入を制
御する蒸気導入制御弁を設けておき、温度検出装置と薬
注装置に信号線で接続され、温度検出装置にて検出され
た給水温度に基づいて薬注装置の作動を制御する薬注制
御装置、温度検出装置と蒸気導入制御弁に信号線で接続
され、温度検出装置にて検出された給水温度に基づいて
蒸気導入制御弁の作動を制御する給水加熱制御装置を設
ける。
給水ラインの途中に膜脱気装置を設け、ボイラで発生さ
せた蒸気の一部を用いて膜脱気装置へ送られる給水を加
熱する給水加熱装置、加熱後の給水の温度を検出する温
度検出装置、膜脱気装置より下流の給水ラインへ脱酸素
剤を注入する薬注装置、給水加熱装置への蒸気導入を制
御する蒸気導入制御弁を設けておき、温度検出装置と薬
注装置に信号線で接続され、温度検出装置にて検出され
た給水温度に基づいて薬注装置の作動を制御する薬注制
御装置、温度検出装置と蒸気導入制御弁に信号線で接続
され、温度検出装置にて検出された給水温度に基づいて
蒸気導入制御弁の作動を制御する給水加熱制御装置を設
ける。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の一実施例を図面を用いて
説明する。図１は本発明の一実施例での各機器の配置を
示す説明図であり、水タンク７よりボイラ３へ給水を行
う給水ライン２の途中に気液分離膜を内蔵した膜モジュ
ール６を設けている。膜モジュール６内は気液分離膜に
よって減圧側と通水側に分けておき、減圧側に真空発生
装置８を接続しており、膜モジュール６と真空発生装置
８で膜脱気装置１を構成する。膜モジュール６の設置数
は膜脱気装置の処理水量に応じて異なり、通常は複数個
設置されるが、図１では簡略化している。水タンク７と
膜モジュール６の間の給水ライン２に温度検出装置４、
膜モジュール６とボイラ３の間の給水ライン２に薬注配
管１０によって接続された薬注装置９を設ける。ボイラ
３には主蒸気配管１５を接続しており、主蒸気配管１５
から分岐させた蒸気導入配管１２を設け、蒸気導入配管
１２の他端は水タンク７で給水を加熱する給水加熱装置
１３に接続し、蒸気導入配管１２の途中には蒸気導入制
御弁１１を設ける。また、薬注装置９と温度検出装置４
のそれぞれに信号線で接続された薬注制御装置５、蒸気
導入制御弁１１と温度検出装置４のそれぞれに信号線で
接続された給水加熱制御装置１４を設けておく。
説明する。図１は本発明の一実施例での各機器の配置を
示す説明図であり、水タンク７よりボイラ３へ給水を行
う給水ライン２の途中に気液分離膜を内蔵した膜モジュ
ール６を設けている。膜モジュール６内は気液分離膜に
よって減圧側と通水側に分けておき、減圧側に真空発生
装置８を接続しており、膜モジュール６と真空発生装置
８で膜脱気装置１を構成する。膜モジュール６の設置数
は膜脱気装置の処理水量に応じて異なり、通常は複数個
設置されるが、図１では簡略化している。水タンク７と
膜モジュール６の間の給水ライン２に温度検出装置４、
膜モジュール６とボイラ３の間の給水ライン２に薬注配
管１０によって接続された薬注装置９を設ける。ボイラ
３には主蒸気配管１５を接続しており、主蒸気配管１５
から分岐させた蒸気導入配管１２を設け、蒸気導入配管
１２の他端は水タンク７で給水を加熱する給水加熱装置
１３に接続し、蒸気導入配管１２の途中には蒸気導入制
御弁１１を設ける。また、薬注装置９と温度検出装置４
のそれぞれに信号線で接続された薬注制御装置５、蒸気
導入制御弁１１と温度検出装置４のそれぞれに信号線で
接続された給水加熱制御装置１４を設けておく。
【０００７】脱気処理を行う場合、真空発生装置８を作
動することで膜モジュール６の減圧側を真空化し、原水
を膜モジュール６の通水側へ送り込むと、通水側の原水
に含まれている溶存酸素が気液分離膜を通して減圧側に
移動する。膜脱気装置１で処理された脱気水は給水ライ
ン２を通してボイラ３へ送られ、ボイラ３により蒸気と
なって主蒸気配管１５を通して蒸気使用側へ送られる。
動することで膜モジュール６の減圧側を真空化し、原水
を膜モジュール６の通水側へ送り込むと、通水側の原水
に含まれている溶存酸素が気液分離膜を通して減圧側に
移動する。膜脱気装置１で処理された脱気水は給水ライ
ン２を通してボイラ３へ送られ、ボイラ３により蒸気と
なって主蒸気配管１５を通して蒸気使用側へ送られる。
【０００８】温度検出装置４は膜脱気装置１へ送られて
いる原水の水温を測定し、水温の情報を薬注制御装置５
および給水加熱制御装置１４へ出力する。薬注制御装置
５は、温度検出装置４で検出された水温が薬注用設定値
未満であると薬注装置９の作動を出力し、薬注用設定値
以上であれば薬注装置９の作動停止の出力を行う。薬注
装置９の作動が出力されている場合、薬注装置９は薬注
配管１０を通して給水ライン２へ脱酸素剤の注入を行
う。膜脱気装置による脱気処理では除去しきれずに溶存
酸素が残留していても、薬注装置９によって注入された
脱酸素剤によって更に除去され、ボイラ３へ送られる給
水の溶存酸素濃度はきわめて低い値となる。
いる原水の水温を測定し、水温の情報を薬注制御装置５
および給水加熱制御装置１４へ出力する。薬注制御装置
５は、温度検出装置４で検出された水温が薬注用設定値
未満であると薬注装置９の作動を出力し、薬注用設定値
以上であれば薬注装置９の作動停止の出力を行う。薬注
装置９の作動が出力されている場合、薬注装置９は薬注
配管１０を通して給水ライン２へ脱酸素剤の注入を行
う。膜脱気装置による脱気処理では除去しきれずに溶存
酸素が残留していても、薬注装置９によって注入された
脱酸素剤によって更に除去され、ボイラ３へ送られる給
水の溶存酸素濃度はきわめて低い値となる。
【０００９】また、給水加熱制御装置１４は、温度検出
装置４で検出された水温が給水加熱開始用設定値未満で
あると蒸気導入制御弁１１を開き、給水加熱停止用設定
値以上であると蒸気導入制御弁１１を閉じる制御を行
う。蒸気導入制御弁１１を開くことで主蒸気配管１５を
送られている蒸気の一部を給水加熱装置１３に送り、給
水を加熱する。給水温度の上限値は膜モジュール６の材
質によって定まり、例えば膜モジュール６の上限値が６
０℃であれば給水加熱停止用設定値は６０℃、給水加熱
開始用設定値は上限値よりも少し低い５５℃という風に
定める。膜モジュール６へ送られる原水の温度を膜モジ
ュール６の上限値近くまで上昇させておくと、膜脱気装
置によってより多くの溶存酸素が除去され、脱酸素剤を
用いなくてもボイラ３へ送られる給水の溶存酸素濃度は
きわめて低い値となる。
装置４で検出された水温が給水加熱開始用設定値未満で
あると蒸気導入制御弁１１を開き、給水加熱停止用設定
値以上であると蒸気導入制御弁１１を閉じる制御を行
う。蒸気導入制御弁１１を開くことで主蒸気配管１５を
送られている蒸気の一部を給水加熱装置１３に送り、給
水を加熱する。給水温度の上限値は膜モジュール６の材
質によって定まり、例えば膜モジュール６の上限値が６
０℃であれば給水加熱停止用設定値は６０℃、給水加熱
開始用設定値は上限値よりも少し低い５５℃という風に
定める。膜モジュール６へ送られる原水の温度を膜モジ
ュール６の上限値近くまで上昇させておくと、膜脱気装
置によってより多くの溶存酸素が除去され、脱酸素剤を
用いなくてもボイラ３へ送られる給水の溶存酸素濃度は
きわめて低い値となる。
【００１０】膜モジュール６へ送られる水温が高い場合
には膜モジュール６より取り出される水に残存する溶存
酸素濃度は低い値となり、水温が低い場合には残存する
溶存酸素濃度は高い値となる。水温を検出することで、
膜脱気装置にて脱気処理を行った後の脱気水中に含まれ
る溶存酸素濃度を知ることができ、水温の低い場合のみ
薬注装置９によって脱酸素剤を注入する。水温の低い場
合には薬品による溶存酸素の除去を行うことで、水温が
低くても溶存酸素濃度が高くなることを防ぐことがで
き、膜脱気装置の能力を過剰に高くしなくても溶存酸素
濃度の高い水が給水されることが防止される。なお、薬
品による溶存酸素の除去は、水温が低いために残留する
溶存酸素濃度の高い場合にのみ行うものであり、水温が
高く残留する溶存酸素濃度の低い場合には薬品の注入は
不要であるため、薬品の使用量は少なくて済む。
には膜モジュール６より取り出される水に残存する溶存
酸素濃度は低い値となり、水温が低い場合には残存する
溶存酸素濃度は高い値となる。水温を検出することで、
膜脱気装置にて脱気処理を行った後の脱気水中に含まれ
る溶存酸素濃度を知ることができ、水温の低い場合のみ
薬注装置９によって脱酸素剤を注入する。水温の低い場
合には薬品による溶存酸素の除去を行うことで、水温が
低くても溶存酸素濃度が高くなることを防ぐことがで
き、膜脱気装置の能力を過剰に高くしなくても溶存酸素
濃度の高い水が給水されることが防止される。なお、薬
品による溶存酸素の除去は、水温が低いために残留する
溶存酸素濃度の高い場合にのみ行うものであり、水温が
高く残留する溶存酸素濃度の低い場合には薬品の注入は
不要であるため、薬品の使用量は少なくて済む。
【００１１】また、温度検出装置４にて検出される水温
に応じて蒸気導入制御弁１１の開閉を制御し、給水温度
を膜モジュール６の上限温度近くまで上昇させておくこ
とによって膜脱気装置では効率よく溶存酸素を除去でき
るため、膜脱気装置は通常の給水による場合よりも高い
溶存酸素除去能力を持つことができる。
に応じて蒸気導入制御弁１１の開閉を制御し、給水温度
を膜モジュール６の上限温度近くまで上昇させておくこ
とによって膜脱気装置では効率よく溶存酸素を除去でき
るため、膜脱気装置は通常の給水による場合よりも高い
溶存酸素除去能力を持つことができる。
【００１２】本実施例では薬注装置９をＯＮ−ＯＦＦで
制御させた例を記載したが、給水量に対する薬注量の割
合である薬注率を給水温度に応じて比例的または段階的
に変更させても良い。
制御させた例を記載したが、給水量に対する薬注量の割
合である薬注率を給水温度に応じて比例的または段階的
に変更させても良い。
【００１３】
【発明の効果】本発明を実施することにより、膜脱気装
置の能力を過剰に高くしなくても、給水中の溶存酸素を
常に低い値に保つことができる。
置の能力を過剰に高くしなくても、給水中の溶存酸素を
常に低い値に保つことができる。
【図１】 本発明の一実施例での各機器の配置を示す説
明図
明図
１ 膜脱気装置 ２ 給水ライン ３ ボイラ ４ 温度検出装置 ５ 薬注制御装置 ６ 膜モジュール ７ 水タンク ８ 真空発生装置 ９ 薬注装置 １０ 薬注配管 １１ 蒸気導入制御弁 １２ 蒸気導入配管 １３ 給水加熱装置 １４ 給水加熱制御装置 １５ 主蒸気配管
Claims (2)
- 【請求項１】 給水ラインの途中に膜脱気装置を設け、
給水ラインを送られる給水の温度を検出する温度検出装
置、膜脱気装置より下流側の給水ラインへ脱酸素剤を注
入する薬注装置を設けておき、温度検出装置と薬注装置
に信号線にて接続され、温度検出装置にて検出された給
水温度に基づいて薬注装置の作動を制御する薬注制御装
置を設けたことを特徴とする給水温度によって薬品によ
る脱気を併用する膜脱気装置。 - 【請求項２】 ボイラへ給水するための給水ラインの途
中に膜脱気装置を設け、ボイラで発生させた蒸気の一部
を用いて膜脱気装置へ送られる給水を加熱する給水加熱
装置、加熱後の給水の温度を検出する温度検出装置、膜
脱気装置より下流の給水ラインへ脱酸素剤を注入する薬
注装置、給水加熱装置への蒸気導入を制御する蒸気導入
制御弁を設けておき、温度検出装置と薬注装置に信号線
で接続され、温度検出装置にて検出された給水温度に基
づいて薬注装置の作動を制御する薬注制御装置、温度検
出装置と蒸気導入制御弁に信号線で接続され、温度検出
装置にて検出された給水温度に基づいて蒸気導入制御弁
の作動を制御する給水加熱制御装置を設けたことを特徴
とする給水温度によって薬品による脱気を併用する膜脱
気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34060997A JP3694399B2 (ja) | 1997-11-25 | 1997-11-25 | 給水温度によって薬品による脱気を併用する膜脱気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34060997A JP3694399B2 (ja) | 1997-11-25 | 1997-11-25 | 給水温度によって薬品による脱気を併用する膜脱気装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11156342A true JPH11156342A (ja) | 1999-06-15 |
| JP3694399B2 JP3694399B2 (ja) | 2005-09-14 |
Family
ID=18338624
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34060997A Expired - Fee Related JP3694399B2 (ja) | 1997-11-25 | 1997-11-25 | 給水温度によって薬品による脱気を併用する膜脱気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3694399B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2791972A1 (fr) * | 1999-04-08 | 2000-10-13 | Bwt France | Procede de regulation du traitement et du conditionnement des eaux alimentaires des chaudieres, des circuits chauds ou des generateurs de vapeur |
| JP2006334470A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Miura Co Ltd | 水処理システム |
| JP2008149279A (ja) * | 2006-12-19 | 2008-07-03 | Miura Co Ltd | 水処理システム |
| WO2012055479A1 (de) * | 2010-10-26 | 2012-05-03 | Linde Aktiengesellschaft | Verfahren und vorrichtung zur abkühlung von gasen |
| JP2015040647A (ja) * | 2013-08-20 | 2015-03-02 | 三浦工業株式会社 | ボイラシステム |
| RU2597318C2 (ru) * | 2014-05-12 | 2016-09-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кузбасский государственный технический университет имени Т.Ф. Горбачева" (КузГТУ) | Способ получения микродисперсных систем |
-
1997
- 1997-11-25 JP JP34060997A patent/JP3694399B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2791972A1 (fr) * | 1999-04-08 | 2000-10-13 | Bwt France | Procede de regulation du traitement et du conditionnement des eaux alimentaires des chaudieres, des circuits chauds ou des generateurs de vapeur |
| WO2000061499A1 (fr) * | 1999-04-08 | 2000-10-19 | Bwt France | Regulation du conditionnement des eaux alimentaires des chaudieres, des circuits chauds ou des generateurs de vapeur |
| JP2006334470A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Miura Co Ltd | 水処理システム |
| JP2008149279A (ja) * | 2006-12-19 | 2008-07-03 | Miura Co Ltd | 水処理システム |
| WO2012055479A1 (de) * | 2010-10-26 | 2012-05-03 | Linde Aktiengesellschaft | Verfahren und vorrichtung zur abkühlung von gasen |
| JP2015040647A (ja) * | 2013-08-20 | 2015-03-02 | 三浦工業株式会社 | ボイラシステム |
| RU2597318C2 (ru) * | 2014-05-12 | 2016-09-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кузбасский государственный технический университет имени Т.Ф. Горбачева" (КузГТУ) | Способ получения микродисперсных систем |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3694399B2 (ja) | 2005-09-14 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050401 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050513 |
|
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