JP2005279460A

JP2005279460A - 水処理方法

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Publication number: JP2005279460A
Application number: JP2004097811A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Yoneda; 剛米田; Atsuyuki Manabe; 敦行真鍋
Original assignee: Miura Co Ltd
Current assignee: Miura Co Ltd
Priority date: 2004-03-30
Filing date: 2004-03-30
Publication date: 2005-10-13
Anticipated expiration: 2024-03-30
Also published as: JP5005165B2

Abstract

【課題】被処理水を不純物の無い水に効率よく処理する水処理方法を提供する。
【解決手段】被処理水を軟水処理した後、逆浸透膜部４で濾過することにより、軟水処理により被処理水中のカルシウム等の硬度分を除し、カルシウム等の硬度分とシリカとの結合によるスケールの発生を防止し、これにより被処理水のシリカ溶解度を高くし、その分被処理水のシリカ濃度が高い状態でもシリカスケールの析出を抑制し、被処理水の高いシリカ濃度での水処理運転を可能とし、処理水の回収率の向上を図る。
【選択図】図１

Description

本発明は、原水を不純物の無い水に効率よく処理する水処理方法に関する。

半導体製造、電子部品の洗浄、医療器具の洗浄等に不純物を含まない水（純水）が多く使用されている。

従来、原水を不純物の無い水に処理する水処理方法として、一般に逆浸透膜を使用し、原水を逆浸透膜で濾過して、原水に含まれている非不動態化金属体腐食促進成分やその他の不純物を除去する方法がある。

かかる水処理に逆浸透膜を利用したのは、逆浸透膜は、溶媒は透過するが溶質は透過させないという性質があるからであり、この性質を利用して、被処理水の浸透圧より高い圧力をかけて、溶媒としての水だけを選択的に透過させ、水中の不純物を濾過することにより処理している（例えば、特許文献１参照。）。

この水処理にあって、原水中に溶解しているシリカ濃度が高い場合、逆浸透膜で発生する濃縮排水を含む逆浸透膜付近の被処理水のシリカ濃度が飽和濃度を超えると被処理水中にシリカスケールが析出し、これが逆浸透膜に沈着し、逆浸透膜に目詰まりが発生し、この結果処理水の回収率が低下する。原水中のシリカスケールの析出は、原水のシリカ濃度が原水のシリカ溶解度、即ち、シリカ飽和濃度を超える状態となったとき発生し易く、また、原水中のシリカ溶解度は、原水の温度と正比例の関係、即ち、温度が高くなると溶解度が高くなり、温度が低くなると溶解度が低くなるといった関係にある。

そこで、前記シリカ濃度が高くなった逆浸透膜付近の被処理水中に析出したシリカスケールによる逆浸透膜の目詰まりを防止する手段として、定期的に薬剤を投入し逆浸透膜を洗浄するといったことや、被処理水を逆浸透膜に送る前に加温し、シリカの溶解度を上げておく、或いは被処理水の温度を低い温度に設定し、被処理水のシリカ濃度が前記設定した水温による溶解度を超えないような運転をすることにより、被処理水中にシリカスケールが析出することを抑制するといったことにより、逆浸透膜の目詰まりを防止することが知られている。
特開平５−２２０４８０号公報

しかし、上記の水処理方法によれば、逆浸透膜の目詰まりを防止することはできるが、薬剤を投入し逆浸透膜を洗浄する手段では、この薬剤の一部が処理水に取り込まれる可能性があり、処理水の利用の障害となる場合があり、また、処理水の利用後の排水に際し、前記薬剤を除去するための特別な処理を施さない限り、そのまま下水等に排水すると、環境汚染を引き起こすおそれがある、といった問題があった。また、被処理水を逆浸透膜に送る前に加温する手段では、給水加温設備等が必要となり、コストアップとなるといった問題があった。また、被処理水の温度を低い温度に設定し、被処理水のシリカ濃度が前記設定した水温による溶解度を超えないような運転をするといった手段では、処理水の回収率が低くなり、水資源の無駄遣いとなる、といった問題があった。

そこで、本願発明者等は、試験研究を重ねた結果、シリカスケールの析出を抑制し、処理水の高い回収率を確保できる水処理方法を開発した。

即ち、本発明の目的とするところは、被処理水を不純物の無い水に効率よく処理する水処理方法を提供することにある。

上記目的を達成するために、請求項１記載の発明に係る水処理方法は、被処理水を軟水処理した後、逆浸透膜部で濾過するようにしたことを特徴とする。

このように、被処理水を軟水処理すると被処理水中のカルシウム等の硬度分が除去され、カルシウム等の硬度分とシリカとの結合によるスケールの発生が防止されるので、被処理水のシリカ溶解度が高くなり、その分被処理水のシリカ濃度が高い状態でもシリカスケールの析出が抑制され、被処理水の高いシリカ濃度での水処理運転が可能となり、これにより、処理水の回収率の向上が図れる。

請求項２記載の発明に係る水処理方法は、被処理水を逆浸透膜部で濾過し、逆浸透膜部により発生する濃縮排水を所定間隔でブローすることを特徴とする。

このように、逆浸透膜部により発生する濃縮排水をブローすると、ブローされた分被処理水が排水側に流れる結果、逆浸透膜部付近でシリカ濃度が高くなった被処理水のシリカ濃度が低下する。かかる濃縮排水を所定間隔でブローすることにより、逆浸透膜部による濾過でシリカ濃度が高くなった被処理水が定期的に濃縮排水の排水側に流れ、逆浸透膜部付近における被処理水のシリカ濃度の上昇が押さえられることになり、シリカスケールの析出が抑制され、逆浸透膜部の目詰まりが防止でき、長期的に安定した水処理運転を継続して行うことができ、処理水の回収率の向上を図ることができる。

請求項３記載の発明に係る水処理方法は、被処理水を軟水処理した後、逆浸透膜部で濾過し、逆浸透膜部により発生する濃縮排水を所定間隔でブローすることを特徴とする。

このように、被処理水を軟水処理することにより、被処理水中のカルシウム等の硬度分が除去され、カルシウム等の硬度分とシリカとの結合によるスケールの析出が防止されるので、被処理水のシリカ溶解度が高くなり、その分被処理水のシリカ濃度が高い状態でもシリカスケールの析出が抑制され、被処理水の高いシリカ濃度での水処理運転が可能となる。

更に、前記軟水処理した被処理水を逆浸透膜部で濾過し、発生した濃縮排水を所定間隔でブローすることにより、逆浸透膜部による濾過でシリカ濃度が高くなった被処理水が定期的に濃縮排水の排水側に流れるので、逆浸透膜部付近における被処理水のシリカ濃度の上昇が押さえられることになり、シリカスケールの析出が抑制され、逆浸透膜部の目詰まりが防止でき、長期的に安定した水処理運転を継続して行うことができ、処理水の回収率の一層の向上を図ることができる。

請求項４記載の発明に係る水処理方法は、請求項２又は３に記載の、前記濃縮排水をブローする所定間隔は、予め想定した被処理水の温度と、その温度における被処理水のシリカ溶解度を基に設定した一定時間となっていることを特徴とする。

このように設定することにより、シリカスケールの析出の抑制に必要な間隔で濃縮排水をブローし、必要以上の濃縮排水のブローを抑制できるので、シリカスケールの析出を効果的に抑制し、逆浸透膜部の目詰まりを防止できるとともに、処理水の回収率の一層の向上が図れ、供給水の節水を図ることができる。

請求項５記載の発明に係る水処理方法は、請求項２又は３に記載の、前記濃縮排水をブローする所定間隔は、被処理水の温度を検知し、水温が高いときは長く、低いときは短くなるように設定されていることを特徴とする。

このように設定することにより、逆浸透膜部付近の被処理水のシリカ濃度を、この被処理水の溶解度近くとする運転が可能となり、被処理水中にシリカスケールの析出を抑制し、逆浸透膜の目詰まりを防止することができるとともに、より一層効率よく水処理を行うことができ、処理水の回収率のより一層の向上が図れ、供給水の節水を図ることができる。

請求項６記載の発明に係る水処理方法は、請求項２又は３に記載の、前記濃縮排水をブローする所定間隔は、逆浸透膜部に送られた被処理水のシリカ濃度を検出し、濃度が高いときは短く、低いときは長くなるように設定されていることを特徴とする。

請求項７記載の発明に係る水処理方法は、請求項２，３，４，５又は６に記載の、前記逆浸透膜部により発生する濃縮排水をブローするときは、処理水側の弁を閉じて行うことを特徴とする。

このようにすると、被処理水は全て濃縮排水の排水側に流れるので、被処理水のシリカ濃度を短時間で低くすることができるとともに、濃縮排水の排水側に流れる被処理水の流速が早くなり、その流圧により逆浸透膜部に沈着したシリカスケールは逆浸透膜部から剥離することになり、逆浸透膜部の目詰まりを早期に解消することができるものとなる。

本発明によれば、逆浸透膜を使用し、被処理水を逆浸透膜で濾過する水処理に際し、被処理水におけるシリカスケールの析出を抑制し、逆浸透膜部の目詰まりを防止でき、長期的に安定した水処理運転を継続して行うことができ、処理水の回収率の向上を図ることができる。

以下、本発明に係る水処理方法を実施するための最良の形態を説明する。

（実施の形態１）
本例の水処理方法は、被処理水を軟水処理した後、逆浸透膜部で濾過するようにした。

このように、被処理水を軟水処理すると被処理水中のカルシウム等の硬度分が除去される。カルシウム等の硬度分はシリカと結合してスケールの発生を促進させる要因となるものであり、被処理水の軟水処理により被処理水中のカルシウム等の硬度分が除去されることにより、カルシウム等の硬度分とシリカとの結合によるスケールの発生が防止される。この結果、被処理水のシリカ溶解度が高くなり、その分、被処理水のシリカ濃度が高い状態でもシリカスケールの析出が抑制され、被処理水の高いシリカ濃度での水処理運転が可能となり、これにより、処理水の回収率の向上を図ることができることになる。

（実施の形態２）
本例の水処理方法は、被処理水を逆浸透膜部で濾過し、逆浸透膜部により発生する濃縮排水を所定間隔でブローするようにした。

このように、逆浸透膜部により発生する濃縮排水をブローすると、濃縮排水の排水側が負圧となり、ブローされた分被処理水が排水側に流れる結果、逆浸透膜部付近でシリカ濃度が高くなっている被処理水のシリカ濃度が低下する。かかる濃縮排水を所定間隔でブローすることにより、逆浸透膜部による濾過でシリカ濃度が高くなった被処理水が定期的に濃縮排水の排水側に流れるので、逆浸透膜部付近における被処理水のシリカ濃度の上昇を押さえ、シリカスケールの析出を抑制し、また、シリカスケールが析出していてもこれを濃縮排水の排水側に流し、また、析出したシリカスケールが逆浸透膜部に沈着していたときは、逆浸透膜部に沈着しているシリカスケールを濃縮排水の排水側に流れる流圧により剥離して排水側に流すことができる。これにより、逆浸透膜部の目詰まりを防止でき、長期的に安定した水処理運転を継続して行うことができ、処理水の回収率の向上を図ることができる。

前記濃縮排水をブローする所定間隔にあっては、予め想定した被処理水の温度と、その温度における被処理水のシリカ溶解度を基に、被処理水のシリカ濃度が飽和濃度になる時間を求めて、一定の時間を設定するとよい。

このように、濃縮排水をブローする所定間隔を、予め想定した被処理水の温度と、その温度における被処理水のシリカ溶解度を基に設定することにより、シリカスケールの析出の抑制に必要な間隔で濃縮排水をブローし、必要以上の濃縮排水のブローを抑制できるので、シリカスケールの析出を効果的に抑制し、逆浸透膜部の目詰まりを防止できるとともに、処理水の回収率の一層の向上が図れ、供給水の節水を図ることができる。

或いはまた、前記濃縮排水をブローする所定間隔として、被処理水の温度を検知し、被処理水のシリカ濃度が飽和濃度になる時間を限界に、水温が高いときは長く、低いときは短くなるように設定するとよい。

このように、濃縮排水をブローする所定間隔を、被処理水の温度を検知し、水温が高いときは長く、低いときは短くなるように設定することにより、逆浸透膜部付近の被処理水のシリカ濃度を、この被処理水の溶解度近くとする運転が可能となり、被処理水中にシリカスケールの析出を抑制し、逆浸透膜の目詰まりを防止することができるとともに、より一層効率よく水処理を行うことができ、処理水の回収率のより一層の向上が図れ、供給水の節水を図ることができる。

或いはまた、前記濃縮排水をブローする所定間隔として、逆浸透膜部に送られた被処理水のシリカ濃度を検出し、被処理水のシリカ濃度の飽和濃度を限界に、濃度が高いときは短く、低いときは長くなるように設定するとよい。

このように、濃縮排水をブローする所定間隔を、逆浸透膜部に送られた被処理水のシリカ濃度を検出し、濃度が高いときは短く、低いときは長くなるように設定することにより、逆浸透膜部付近の被処理水のシリカ濃度を、この被処理水の溶解度近くとする運転が可能となり、被処理水中にシリカスケールの析出を抑制し、逆浸透膜の目詰まりを防止することができるとともに、より一層効率よく水処理を行うことができ、処理水の回収率のより一層の向上が図れ、供給水の節水を図ることができる。

また、本例では、前記逆浸透膜部により発生する濃縮排水をブローするときに、処理水側の弁を閉じて行うこともできる。

このようにすると、被処理水は全て濃縮排水の排水側に流れるので、被処理水のシリカ濃度を短時間で低くすることができるとともに、濃縮排水の排水側に流れる被処理水の流速が早くなり、その流圧により逆浸透膜部に沈着したシリカスケールは逆浸透膜部から剥離することになり、逆浸透膜部の目詰まりを早期に解消することができるものとなる。この方法は、シリカ濃度がシリカ溶解度を大きく超えシリカスケールが析出しやすい状態になったときや逆浸透膜部にシリカスケールが沈着し目詰まりを起こし始めたときに、効果的である。

（実施の形態３）
本例の水処理方法は、被処理水を軟水処理した後、逆浸透膜部で濾過し、逆浸透膜部により発生する濃縮排水を所定間隔でブローするようにした。

更に、前記軟水処理した被処理水を逆浸透膜部で濾過し、発生した濃縮排水を所定間隔でブローすることにより、逆浸透膜部による濾過でシリカ濃度が高くなった被処理水が定期的に濃縮排水の排水側に流れるので、逆浸透膜部付近における被処理水のシリカ濃度の上昇を押さえ、シリカスケールの析出を抑制し、また、シリカスケールが析出していてもこれを濃縮排水の排水側に流し、また、発生したシリカスケールが逆浸透膜部に沈着していたときは、逆浸透膜部に沈着しているシリカスケールを濃縮排水の排水側に流れる流圧により剥離して排水側に流すことができ、これにより、逆浸透膜部の目詰まりを防止でき、長期的に安定した水処理運転を継続して行うことができ、処理水の回収率の一層の向上を図ることができる。

前記濃縮排水をブローする所定間隔にあっては、前記実施の形態２と同様に、予め想定した被処理水の温度と、その温度における被処理水のシリカ溶解度を基に設定した一定時間とするとよい。

或いはまた、前記濃縮排水をブローする所定間隔として、前記実施の形態２と同様に、前記濃縮排水をブローする所定間隔を、被処理水の温度を検知し、水温が高いときは長く、低いときは短くなるように設定するとよい。

このように、濃縮排水をブローする所定間隔を設定することにより、逆浸透膜部付近の被処理水のシリカ濃度を、この被処理水の溶解度近くとする運転が可能となり、被処理水中にシリカスケールの析出を抑制し、逆浸透膜の目詰まりを防止することができるとともに、より一層効率よく水処理を行うことができ、処理水の回収率のより一層の向上が図れ、供給水の節水を図ることができる。

或いはまた、前記濃縮排水をブローする所定間隔として、前記実施の形態２と同様に、前記濃縮排水をブローする所定間隔は、逆浸透膜部に送られた被処理水のシリカ濃度を検出し、濃度が高いときは短く、低いときは長くなるように設定するとよい。

また、本例では、前記実施の形態２と同様に、前記逆浸透膜部により発生する濃縮排水をブローするときは、処理水側の弁を閉じて行うこともできる。

次に本発明の具体的な一実施例を図面により詳細に説明する。図１は本発明の一実施例を示す水処理システムの概略説明図である。
図１に示す水処理システムは、被処理水を給水する給水ライン１に、上流側から、軟水処理部２、被処理水中のゴミ等を除去するフィルター３、被処理水中の不純物等を除去する逆浸透膜部４、逆浸透膜部４で処理された処理水中の溶存気体を透過する気体透過膜を用いて脱気する膜式脱気部５、膜式脱気部５を透過することにより得られた処理水を貯留する貯留タンク６とが、順番に配置され、更に、逆浸透膜部４の上流側には、被処理水を前記逆浸透膜部４に加圧して供給するポンプ７が配置されている。また、前記逆浸透膜部４には、不純物が濃縮された濃縮排水を排水する濃縮排水ライン８が接続されており、この濃縮排水ライン８には、排水ライン８ａとブローライン８ｂが分岐して接続されている。更に、前記逆浸透膜部４で処理された処理水を流す処理水ライン１ａに開閉弁９が配置され、また、前記排水ライン８ａには排水弁１０ａが配置され、ブローライン８ｂにはブロー弁１０ｂが配置されている。

前記軟水処理部２にあっては、イオン交換樹脂を用いた公知の軟水装置が使用される。また、前記逆浸透膜部４にあっては、逆浸透膜（図示せず）の、溶媒は透過するが溶質は透過させないという性質を利用して、不純物（溶解塩及びシリカ等）を含んだ被処理水の浸透圧より高い圧力をかけて、溶媒としての水だけを選択的に透過採取するものであり、前記膜式脱気部５にあっては、前記気体透過膜を多数備えた気体透過膜モジュール（図示せず）と被処理水中の溶存気体を気体透過膜モジュールを通して真空吸引する水封式真空ポンプ（図示せず）を備えている。

更に、給水ライン１上には、逆浸透膜部４の上流側に被処理水の温度を検知する温度センサ１１を備えている。また、同じく給水ライン１上、逆浸透膜部４の上流側で且つ逆浸透膜部４の付近に、当該部分を流れる被処理水中のシリカ濃度を検出する濃度測定装置１２を備えている。

また、前記ポンプ７に接続され該ポンプ７の回転数を出力周波数に応じて可変させるインバータ１３と、前記温度センサ１１、濃度測定装置１２、ブロー弁１０ｂ、開閉弁９及び前記インバータ１３に対するインターフェースを有し、前記温度センサ１１からの温度検知信号或いは、濃度測定装置１２からのシリカ濃度検出信号に基づいて前記ブローライン８ｂに配置されたブロー弁１０ｂにブロー信号を出力し或いはブロー弁１０ｂにブロー指令信号を出力するとともに逆浸透膜部４で処理された処理水を流す処理水ライン１ａに配置された開閉弁９に開閉指令信号を出力し、また、前記ブロー弁１０ｂへのブロー指令信号に基づいて前記インバータ１３に指令信号を出力する制御部１４を備えている。

前記制御部１４は、被処理水の温度と、その温度における被処理水のシリカ溶解度及び特定の温度と、該特定の温度のときのシリカ溶解度と、該特定の温度で特定のシリカ濃度にあるときのシリカ析出時間と、高濃度となった被処理水のシリカ濃度を低濃度にするためのブロー時間等を記憶させた記憶部を備えている。

そして前記温度センサ１１からの信号に基づいて、被処理水のシリカ濃度が飽和濃度になる時間を限界に、水温が高いときは長く、低いときは短くなるように間隔時間を設定し、前記ブロー弁１０ｂにブロー指令信号を設定した所定間隔で所定時間出力するプログラムと、濃度測定装置１２からの信号に基づいて、被処理水のシリカ濃度の飽和濃度を限界に、濃度が高いときは短く、低いときは長くなるように間隔時間を設定し、前記ブロー弁１０ｂにブロー指令信号を設定した所定間隔で所定時間出力するプログラムと、選択により、前記ブロー指令信号に基づいてブロー弁１０ｂにブロー指令信号を出力している間、前記逆浸透膜部４で処理された処理水を流す給水ライン１ａに配置された開閉弁９に閉指令信号を出力するプログラムを備えている。

更に、選択により、前記ブロー指令信号に基づいてブロー弁１０ｂにブロー指令信号を出力している間、前記インバータ１３に指令信号を出力し、インバータ１３によりポンプ７の回転数を、被処理水の供給量を増量するように変更する指令信号を出力するプログラムを備えている。

上記のように構成した水処理システムにより、本発明に係る水処理方法は次のように実施される。

供給された被処理水を軟水処理部２で軟水処理することにより、被処理水中のカルシウム等の硬度分が除去され、被処理水のシリカ溶解度が高くなった状態でフィルター３で被処理水中のゴミ等を除去し、該被処理水をポンプ７で加圧して逆浸透膜部４に供給する。逆浸透膜部４を透過し、不純物が除去された処理水は、膜式脱気部５で脱気され、貯留する貯留タンク６に貯留される。

そして、前記水処理運転の過程で、被処理水の温度が下がり、温度センサ１１により被処理水のシリカ濃度が当該温度における処理水のシリカ溶解度を超える濃度になる温度となったことを検知したとき、温度センサ１１からの温度検知信号に基づいて制御部１４がプログラムに従い、前記ブローライン８ｂに配置されたブロー弁１０ｂにブロー信号を出力し、ブロー弁１０ｂを所定時間開きブローする。この動作は、プログラムで設定された所定間隔で行われる。

また、前記とは別に、前記水処理運転の過程で、被処理水のシリカ濃度が高くなり、濃度測定装置１２により、シリカ濃度が当該被処理水のシリカ溶解度を超える濃度となったことを検出したとき、濃度測定装置１２からのシリカ濃度検出信号に基づいて制御部１４がプログラムに従い、前記濃縮排水ライン８に配置されたブロー弁１０ｂにブロー信号を出力し、ブロー弁１０ｂを所定時間開きブローする。この動作は、プログラムで設定された所定間隔で行われる。

ブローライン８ｂに配置されたブロー弁１０ｂにブロー信号を出力するものとしては、操作者により、前記温度センサ１１からの温度検知信号、或いは濃度測定装置１２からのシリカ濃度検出信号のいずれかが選択される。

このようにすることにより、逆浸透膜部４による濾過でシリカ濃度が高くなった被処理水が定期的に濃縮排水を排水する側に流れるので、逆浸透膜部４付近における被処理水のシリカ濃度の上昇が押さえられ、シリカスケールの析出が抑制され、これにより、逆浸透膜部４の目詰まりを防止でき、長期的に安定した水処理運転を継続して行うことができ、処理水の回収率の一層の向上を図ることができる。

前記、ブロー弁１０ｂを所定時間開き濃縮排水をブローする際に、選択により、前記ブロー指令信号に基づいてブロー弁１０ｂにブロー指令信号を出力している間、前記逆浸透膜部４で処理された処理水を流す処理水ライン１ａに配置された開閉弁９に閉指令信号を出力することができる。

このようにすると、被処理水は全てブローライン８ｂに流れるので、被処理水のシリカ濃度を短時間で低くすることができるとともに、ブローライン８ｂに流れる被処理水の流速が早くなり、その流圧により逆浸透膜部４に沈着したシリカスケールは逆浸透膜部４から剥離することになり、逆浸透膜部４の目詰まりを早期に解消することができるものとなる。この方法は、シリカ濃度がシリカ溶解度を大きく超えシリカスケールが析出しやすい状態になったときや逆浸透膜部４にシリカスケールが沈着し目詰まりを起こし始めたときに、効果的である。

また、選択により、前記ブロー指令信号に基づいてブロー弁１０ｂにブロー指令信号を出力している間、前記インバータ１３に指令信号を出力し、インバータ１３によりポンプ７の回転数を、被処理水の供給量を増量するように変更する指令信号を出力することができる。

このようにすると、逆浸透膜部４を透過する被処理水の流量はブロー前と変わらず、処理水の定量化を維持することができる。

本発明に係る水処理方法を実施する水処理システムの概略説明図。

符号の説明

２軟水処理部
４逆浸透膜部
７ポンプ
８濃縮排水ライン
８ａ排水ライン
８ｂブローライン
９開閉弁
１０ａ排水弁
１０ｂブロー弁
１１温度センサ
１２濃度測定装置
１３インバータ
１４制御部

Claims

被処理水を軟水処理した後、逆浸透膜部で濾過するようにしたことを特徴とする水処理方法。
被処理水を逆浸透膜部で濾過し、逆浸透膜部により発生する濃縮排水を所定間隔でブローすることを特徴とする水処理方法。
被処理水を軟水処理した後、逆浸透膜部で濾過し、逆浸透膜部により発生する濃縮排水を所定間隔でブローすることを特徴とする水処理方法。
前記濃縮排水をブローする所定間隔は、予め想定した被処理水の温度と、その温度における被処理水のシリカ溶解度を基に設定した一定時間となっていることを特徴とする請求項２又は３に記載の水処理方法。
前記濃縮排水をブローする所定間隔は、被処理水の温度を検知し、水温が高いときは長く、低いときは短くなるように設定されていることを特徴とする請求項２又は３に記載の水処理方法。
前記濃縮排水をブローする所定間隔は、逆浸透膜部に送られた被処理水又は濃縮排水のシリカ濃度を検出し、濃度が高いときは短く、低いときは長くなるように設定されていることを特徴とする請求項２又は３に記載の水処理方法。
前記逆浸透膜部により発生する濃縮排水をブローするときは、処理水側の弁を閉じて行うことを特徴とする請求項２，３，４，５又は６に記載の水処理方法。