JPH11156103A - 排ガス処理システム - Google Patents
排ガス処理システムInfo
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- JPH11156103A JPH11156103A JP9321196A JP32119697A JPH11156103A JP H11156103 A JPH11156103 A JP H11156103A JP 9321196 A JP9321196 A JP 9321196A JP 32119697 A JP32119697 A JP 32119697A JP H11156103 A JPH11156103 A JP H11156103A
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- gas treatment
- tank
- gas
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 排ガス処置装置において、リンなどの固化物
が装置内に堆積し、装置で使用している薬液のライフサ
イクルが短くなったり、装置の目詰まりによるシステム
の交換頻度が短くなったり、またポンプなどへの周辺装
置への固化物の拡散等の問題があった。 【解決手段】 冷却管をボトムと垂直かつ等間隔に設置
し、また振動発生装置を取り付ける。
が装置内に堆積し、装置で使用している薬液のライフサ
イクルが短くなったり、装置の目詰まりによるシステム
の交換頻度が短くなったり、またポンプなどへの周辺装
置への固化物の拡散等の問題があった。 【解決手段】 冷却管をボトムと垂直かつ等間隔に設置
し、また振動発生装置を取り付ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体製造装置に使
用される排ガス処理装置に関する。
用される排ガス処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】排ガス処理装置に置いては、近年大量の
排ガスの処理を必要とし、それに伴う装置の高効率化、
メンテナンスや清掃、洗浄の周期の長期化、簡易化が求
められてきている。以下に、従来の技術においての排ガ
ス処理装置について説明する。
排ガスの処理を必要とし、それに伴う装置の高効率化、
メンテナンスや清掃、洗浄の周期の長期化、簡易化が求
められてきている。以下に、従来の技術においての排ガ
ス処理装置について説明する。
【０００３】説明は図５、図６を用いて行うものとす
る。先ず図５は、従来の排ガス処理装置の断面を描いた
ものであり、１０３はガスの導入口であり、ガスが供給
される例えば気相成長装置の反応室（図示せず）などか
ら、本排ガス処理装置１０にガスが供給されるパイプで
ある。１０２は前記ガス導入口１０３の流量を調整する
バルブである。
る。先ず図５は、従来の排ガス処理装置の断面を描いた
ものであり、１０３はガスの導入口であり、ガスが供給
される例えば気相成長装置の反応室（図示せず）などか
ら、本排ガス処理装置１０にガスが供給されるパイプで
ある。１０２は前記ガス導入口１０３の流量を調整する
バルブである。
【０００４】１０１は排ガス処理装置全体を示してい
る。１０４は冷却装置の内壁１０５を仕切ってあるフィ
ンである。図５の断面図ではわかりにくいが、図６に斜
視図を示しているのでそれを用いると、冷却装置の内壁
１０５には、図６に示すように何重にもなった複数のフ
ィン１０４と、それを支える支柱１１２からなってい
る。
る。１０４は冷却装置の内壁１０５を仕切ってあるフィ
ンである。図５の断面図ではわかりにくいが、図６に斜
視図を示しているのでそれを用いると、冷却装置の内壁
１０５には、図６に示すように何重にもなった複数のフ
ィン１０４と、それを支える支柱１１２からなってい
る。
【０００５】次に図５に戻って、１０６は冷却装置の外
壁であり１０８はフィン１０４を支える支柱１１２のボ
トムの通風口１０８であり、図６で説明すると、図の一
番下のところに当たり、冷却されたガスが一番下までき
て冷却装置から排出されるために１０８から支柱１１２
の中を通っていく為のものである。
壁であり１０８はフィン１０４を支える支柱１１２のボ
トムの通風口１０８であり、図６で説明すると、図の一
番下のところに当たり、冷却されたガスが一番下までき
て冷却装置から排出されるために１０８から支柱１１２
の中を通っていく為のものである。
【０００６】次に図５に戻って、１１０は、冷却装置の
フィン１０４とフィン１０４の間の冷却スペースであ
り、下のスペースに行くに従って冷却されていくので、
ガスの温度が下がっている。
フィン１０４とフィン１０４の間の冷却スペースであ
り、下のスペースに行くに従って冷却されていくので、
ガスの温度が下がっている。
【０００７】さらに１１１はフィン１０４の一部に開け
てある通風口であり、ここをガスが通っていくことによ
って冷却され、さらに下のフィン１０４へと運ばれてい
くことになる。
てある通風口であり、ここをガスが通っていくことによ
って冷却され、さらに下のフィン１０４へと運ばれてい
くことになる。
【０００８】１１２は前述したように、フィン１０４の
支柱であるが、一番下まで運ばれたガスが通風口１０８
から入り、冷却されたガスを冷却装置１０１から外へ運
ぶ為の排ガス管である。
支柱であるが、一番下まで運ばれたガスが通風口１０８
から入り、冷却されたガスを冷却装置１０１から外へ運
ぶ為の排ガス管である。
【０００９】従来技術の排ガス処理装置においては、反
応炉内１１０に使用後の排ガスを導入口１０３から供給
し、反応炉内のフィン１０４に反応ガス中の残存物を蓄
積させ、排ガス中のリン等の有害な未反応生成物を除去
する工程を経る。中でも、排ガスを急冷し排ガスの中を
リンを回収する方法においては、以下のような問題が発
生する。
応炉内１１０に使用後の排ガスを導入口１０３から供給
し、反応炉内のフィン１０４に反応ガス中の残存物を蓄
積させ、排ガス中のリン等の有害な未反応生成物を除去
する工程を経る。中でも、排ガスを急冷し排ガスの中を
リンを回収する方法においては、以下のような問題が発
生する。
【００１０】前記のように、未反応材料の除去処理を続
けると、フィン１０４や反応炉内下部１０７に冷却され
たガスからリンなどが固化した生成物がたまっていく。
このような状態になると、固化によるリンなどが、排ガ
ス処理装置８（図４参照）後段のポンプ１１及び排ガス
処理装置８に流入し、ポンプ１１においては、油回転ポ
ンプのポンプオイルの劣化、これに伴う交換メンテナン
スが必要であった。また、排ガス処理装置１０１におい
ては、除外剤のライフサイクルの短縮化、さらに排ガス
排出口１０８及び１１２の配管の目詰まりとなり、これ
に伴う配管内圧力の上昇、排ガス処理装置のシステム停
止となる問題があった。
けると、フィン１０４や反応炉内下部１０７に冷却され
たガスからリンなどが固化した生成物がたまっていく。
このような状態になると、固化によるリンなどが、排ガ
ス処理装置８（図４参照）後段のポンプ１１及び排ガス
処理装置８に流入し、ポンプ１１においては、油回転ポ
ンプのポンプオイルの劣化、これに伴う交換メンテナン
スが必要であった。また、排ガス処理装置１０１におい
ては、除外剤のライフサイクルの短縮化、さらに排ガス
排出口１０８及び１１２の配管の目詰まりとなり、これ
に伴う配管内圧力の上昇、排ガス処理装置のシステム停
止となる問題があった。
【００１１】また、上記のように目詰まりが起こり、反
応により発生固化したリンなどを取り除くためには、固
化したリンなどと反応する薬剤などに浸し、反応させ除
去しなければならなかった。
応により発生固化したリンなどを取り除くためには、固
化したリンなどと反応する薬剤などに浸し、反応させ除
去しなければならなかった。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】近年、排ガス処理装置
に置いては、大量の排ガスの処理、それに伴う装置の高
効率化、メンテナンスや清掃、洗浄の周期の長期化、簡
易化が求められいる。従来技術の排ガス処理装置におい
ては、例えば所定の反応炉内に原料ガスを供給し、反応
炉内の半導体基板表面等に薄膜を気相成長させ成長後の
処理ガスを排ガス処理装置において固化する、フィンや
反応炉内下部に冷却されたガスからリンなどが固化した
生成物がたまっていく。このような状態になると、固化
によるリンなどが、排ガス処理装置後段のポンプ及び排
ガス処理装置に流入し、ポンプにおいては、油回転ポン
プのポンプオイルの劣化、これに伴う交換メンテナンス
が必要となっていた。
に置いては、大量の排ガスの処理、それに伴う装置の高
効率化、メンテナンスや清掃、洗浄の周期の長期化、簡
易化が求められいる。従来技術の排ガス処理装置におい
ては、例えば所定の反応炉内に原料ガスを供給し、反応
炉内の半導体基板表面等に薄膜を気相成長させ成長後の
処理ガスを排ガス処理装置において固化する、フィンや
反応炉内下部に冷却されたガスからリンなどが固化した
生成物がたまっていく。このような状態になると、固化
によるリンなどが、排ガス処理装置後段のポンプ及び排
ガス処理装置に流入し、ポンプにおいては、油回転ポン
プのポンプオイルの劣化、これに伴う交換メンテナンス
が必要となっていた。
【００１３】また、排ガス処理装置においては、装置に
堆積した固化物と反応させる除外剤のライフサイクルの
短縮化、さらに排ガス排出口の配管の目詰まりとなり、
これに伴う配管内圧力の上昇、排ガス処理装置のシステ
ム停止となる問題があった。
堆積した固化物と反応させる除外剤のライフサイクルの
短縮化、さらに排ガス排出口の配管の目詰まりとなり、
これに伴う配管内圧力の上昇、排ガス処理装置のシステ
ム停止となる問題があった。
【００１４】また、上記のように目詰まりが起こり、反
応により発生固化したリンなどを取り除くためには、固
化したリンなどと反応する薬剤などに浸し、反応させ除
去しなければならなかった。
応により発生固化したリンなどを取り除くためには、固
化したリンなどと反応する薬剤などに浸し、反応させ除
去しなければならなかった。
【００１５】本発明の目的は、上記問題を鑑み、発生し
た固化物を簡単に取り除け、周辺装置に悪影響を及ぼす
ことなく排ガスを処理できる排ガス処理装置を提供する
ことにある。
た固化物を簡単に取り除け、周辺装置に悪影響を及ぼす
ことなく排ガスを処理できる排ガス処理装置を提供する
ことにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明による半導体装置
は、タンクと、前記タンク上部に設置されてあるガス導
入口と、前記ガス導入口と接続されているガス分岐管
と、前記ガス分岐管と接続されている冷却パイプと、前
記タンクの下部に配置されている固化物収容部とを具備
するものであり、前記冷却パイプが、前記タンクの底部
に対して垂直かつに設置されているものであり、前記冷
却パイプの内壁が、固化物付着を防ぐためにコーティン
グされているものであり、前記冷却パイプのコーティン
グが、樹脂コーティングを施されているものであり、前
記排ガス処理装置に振動板が設置されているものであ
り、ガス導入部とガス排出部の圧力を検出する圧力計と
連動して固化物の付着を監視する手段を有し、前記振動
板が自動的にコントロールされているものであり、前記
固化物収容部は、前記タンクに対し、移動可能なように
設置する。
は、タンクと、前記タンク上部に設置されてあるガス導
入口と、前記ガス導入口と接続されているガス分岐管
と、前記ガス分岐管と接続されている冷却パイプと、前
記タンクの下部に配置されている固化物収容部とを具備
するものであり、前記冷却パイプが、前記タンクの底部
に対して垂直かつに設置されているものであり、前記冷
却パイプの内壁が、固化物付着を防ぐためにコーティン
グされているものであり、前記冷却パイプのコーティン
グが、樹脂コーティングを施されているものであり、前
記排ガス処理装置に振動板が設置されているものであ
り、ガス導入部とガス排出部の圧力を検出する圧力計と
連動して固化物の付着を監視する手段を有し、前記振動
板が自動的にコントロールされているものであり、前記
固化物収容部は、前記タンクに対し、移動可能なように
設置する。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明は以下の実施の形態を図面
をもって説明するが、本発明はここで説明する実施の形
態に限定されるものではない。下記実施の形態は多様に
変化することができる。
をもって説明するが、本発明はここで説明する実施の形
態に限定されるものではない。下記実施の形態は多様に
変化することができる。
【００１８】本発明の実施の形態を以下に図面をもって
説明する。本発明の説明は、図１から図４であり、まず
図１は本発明の第１の実施の形態である。
説明する。本発明の説明は、図１から図４であり、まず
図１は本発明の第１の実施の形態である。
【００１９】図１に示すように、ガス導入口１が排ガス
処理装置８のタンクの上部に設置させている。従来の技
術と異なるところは、従来はガス導入口１が１本のパイ
プだったのに対し、本発明は途中からガス分岐管２によ
って、複数のパイプに分かれて排ガス処理装置８に導入
されている点である。ここから、高温のガスが導入され
る。
処理装置８のタンクの上部に設置させている。従来の技
術と異なるところは、従来はガス導入口１が１本のパイ
プだったのに対し、本発明は途中からガス分岐管２によ
って、複数のパイプに分かれて排ガス処理装置８に導入
されている点である。ここから、高温のガスが導入され
る。
【００２０】前記ガス導入口１を分岐させるためのガス
分岐管２は、配管内面に対ガス性及び冷却温度特性が優
れた、例えばテフロン（登録商標）などの樹脂がコーテ
ィングされている。また、分岐された各パイプは、排ガ
ス処理装置８のボトム６に対して、垂直方向かつ均等の
幅をもって設置されているものとする。
分岐管２は、配管内面に対ガス性及び冷却温度特性が優
れた、例えばテフロン（登録商標）などの樹脂がコーテ
ィングされている。また、分岐された各パイプは、排ガ
ス処理装置８のボトム６に対して、垂直方向かつ均等の
幅をもって設置されているものとする。
【００２１】前記ガス導入口１より導入された高温のガ
スは、各冷却パイプ外側に充填された冷媒３（フロリナ
ート（登録商標））により冷却される。この冷却によ
り、排ガスの反応によって生成したリンなどが固化した
有毒な固化物が、図１のリン７に示すように、タンク下
部へ堆積するようになる。これは、従来フィン１０４
（図５参照）によってタンク下部まで、リンなどの固化
物が落ちなかったが、本発明では、冷却パイプがボトム
６に向かって垂直にかつ等間隔に設置されているため、
かなりの量の固化物は自然にタンク下部の固化物収容部
に落ちる。
スは、各冷却パイプ外側に充填された冷媒３（フロリナ
ート（登録商標））により冷却される。この冷却によ
り、排ガスの反応によって生成したリンなどが固化した
有毒な固化物が、図１のリン７に示すように、タンク下
部へ堆積するようになる。これは、従来フィン１０４
（図５参照）によってタンク下部まで、リンなどの固化
物が落ちなかったが、本発明では、冷却パイプがボトム
６に向かって垂直にかつ等間隔に設置されているため、
かなりの量の固化物は自然にタンク下部の固化物収容部
に落ちる。
【００２２】また、冷却された排ガスは、図１に示すよ
うに、ガス排出口４から装置外に排出され、ポンプ１１
（図４参照）に吸入される。さらに、図１に示すよう
に、リンなどの固化物がすべて自然にタンクの下部に落
ちず、ガス分岐管の側面や下部などに付着して堆積して
きた場合に備えて、本発明は振動板５を具備している。
うに、ガス排出口４から装置外に排出され、ポンプ１１
（図４参照）に吸入される。さらに、図１に示すよう
に、リンなどの固化物がすべて自然にタンクの下部に落
ちず、ガス分岐管の側面や下部などに付着して堆積して
きた場合に備えて、本発明は振動板５を具備している。
【００２３】前記振動板５は、例えば周波数２８ｋＨｚ
から５０ｋＨｚを用いた超音波、あるいはソレノイドな
どによって振動を発生させる装置であるが、同程度の振
動を発生させるものであれば、これに限定しないことは
いうまでのない。
から５０ｋＨｚを用いた超音波、あるいはソレノイドな
どによって振動を発生させる装置であるが、同程度の振
動を発生させるものであれば、これに限定しないことは
いうまでのない。
【００２４】また、前記振動板５は図１では、ガス配管
によって排ガス処理装置８と接続されているが、振動を
増大させるなど場合によっては直接設置してもよいし、
他の接点をもって接していても良い。
によって排ガス処理装置８と接続されているが、振動を
増大させるなど場合によっては直接設置してもよいし、
他の接点をもって接していても良い。
【００２５】本発明は、この前記振動板５を用いて、リ
ンなどの固化物がすべて自然にタンクの下部に落ちず、
ガス分岐管の側面や下部などに付着して堆積してきた場
合に作動するようになっており、これにより排ガス処理
装置８の処理に支障がきたすまで固化物が堆積するのを
防止する。
ンなどの固化物がすべて自然にタンクの下部に落ちず、
ガス分岐管の側面や下部などに付着して堆積してきた場
合に作動するようになっており、これにより排ガス処理
装置８の処理に支障がきたすまで固化物が堆積するのを
防止する。
【００２６】また、前記振動板５は圧力計Ａおよび圧力
計Ｂと連動しており、図４に示すように、反応室１０か
ら排ガス処理装置８に接続されているパイプに１つ（こ
れをＡとする）、もうひとつは排ガス処理装置８からポ
ンプ１１に接続されているパイプに設置されている（こ
れをＢとする）。
計Ｂと連動しており、図４に示すように、反応室１０か
ら排ガス処理装置８に接続されているパイプに１つ（こ
れをＡとする）、もうひとつは排ガス処理装置８からポ
ンプ１１に接続されているパイプに設置されている（こ
れをＢとする）。
【００２７】排ガスの処理装置８内に、リンなどの固化
物が堆積してくると、排ガス処理装置８内の圧力が上昇
してくる。しかし、Ｂが接続させているパイプの方は、
ポンプ１１から吸入されているため、それほど圧力は上
昇せず、パイプＡの方だけ上昇が起こる。
物が堆積してくると、排ガス処理装置８内の圧力が上昇
してくる。しかし、Ｂが接続させているパイプの方は、
ポンプ１１から吸入されているため、それほど圧力は上
昇せず、パイプＡの方だけ上昇が起こる。
【００２８】圧力の上昇は、例えばＢを基準としてＡが
プラス２０００Ｐａの圧力差ができると、装置を止めて
固化物を除去しなければならない。また、前記振動板５
（図１参照）はこの圧力計Ａ、およびＢと連動してお
り、このことから、例えば１０００Ｐａの圧力差を感知
すると振動板５が作動するようにしてある。作動した
後、例えば圧力差が８００Ｐａより少なくなると、作動
を停止するなどプログラムは自在にできるものとする。
プラス２０００Ｐａの圧力差ができると、装置を止めて
固化物を除去しなければならない。また、前記振動板５
（図１参照）はこの圧力計Ａ、およびＢと連動してお
り、このことから、例えば１０００Ｐａの圧力差を感知
すると振動板５が作動するようにしてある。作動した
後、例えば圧力差が８００Ｐａより少なくなると、作動
を停止するなどプログラムは自在にできるものとする。
【００２９】また、図２は排ガス処理装置を上部から見
た図である。左右（又は上下、又は２個以上であっても
良い）に振動板５が設置されており、複数の配管が設置
されている。等間隔に設置された配管と配管との間は冷
媒３（フロリナート）が充填されている。
た図である。左右（又は上下、又は２個以上であっても
良い）に振動板５が設置されており、複数の配管が設置
されている。等間隔に設置された配管と配管との間は冷
媒３（フロリナート）が充填されている。
【００３０】上記装置により、万が一分岐管２の側面や
下部に固化物が堆積してきても、振動板５と圧力計Ａ、
およびＢと連動して振動板５が作動することにより、固
化物を除去でき、従来のようにシステムを停止されて、
固化物の除去作業を行うことなく、生産性の高い排ガス
処置装置を提供することができる。
下部に固化物が堆積してきても、振動板５と圧力計Ａ、
およびＢと連動して振動板５が作動することにより、固
化物を除去でき、従来のようにシステムを停止されて、
固化物の除去作業を行うことなく、生産性の高い排ガス
処置装置を提供することができる。
【００３１】次に本発明の第２の実施の形態を図３を用
いて説明する。本発明の第２の実施の形態は図３に示す
ように第１の実施の形態と異なる点は、第１の実施の形
態は振動板が側面に設置されていたのに対し、第２の実
施の形態は下部に設置されている点である。また、万が
一リンなどの固化物がタンク下部に堆積してしまって、
固化物を除去しなければならなくなった場合に備えて、
タンク下部の固化物収容部を分離できるようにしたのが
特徴である。
いて説明する。本発明の第２の実施の形態は図３に示す
ように第１の実施の形態と異なる点は、第１の実施の形
態は振動板が側面に設置されていたのに対し、第２の実
施の形態は下部に設置されている点である。また、万が
一リンなどの固化物がタンク下部に堆積してしまって、
固化物を除去しなければならなくなった場合に備えて、
タンク下部の固化物収容部を分離できるようにしたのが
特徴である。
【００３２】また、振動板５は第１の実施の形態はと同
様に、図４に示すように、反応室１０から排ガス処理装
置８に接続されているパイプにある圧力計Ａ、排ガス処
理装置８からポンプ１１に接続されているパイプに設置
されている圧力計Ｂと連動している。。
様に、図４に示すように、反応室１０から排ガス処理装
置８に接続されているパイプにある圧力計Ａ、排ガス処
理装置８からポンプ１１に接続されているパイプに設置
されている圧力計Ｂと連動している。。
【００３３】排ガスの処理装置８内に、リンなどの固化
物が堆積してくると、排ガス処理装置８内の圧力が上昇
してくる。しかし、Ｂが接続させているパイプの方は、
ポンプ１１から吸入されているため、それほど圧力は上
昇せず、パイプＡの方だけ上昇が起こる。
物が堆積してくると、排ガス処理装置８内の圧力が上昇
してくる。しかし、Ｂが接続させているパイプの方は、
ポンプ１１から吸入されているため、それほど圧力は上
昇せず、パイプＡの方だけ上昇が起こる。
【００３４】圧力の上昇は、Ｂを基準としてＡがプラス
２０００Ｐａの圧力差ができると、装置を止めて固化物
を除去しなければならない。また、前記振動板５（図１
参照）はこの圧力計Ａ、およびＢと連動しており、この
ことから、例えば１０００Ｐａの圧力差を感知すると振
動板５が作動するようにしてある。作動した後、例えば
圧力差が８００Ｐａより少なくなると、作動を停止する
などプログラムは自在にできるものとする。
２０００Ｐａの圧力差ができると、装置を止めて固化物
を除去しなければならない。また、前記振動板５（図１
参照）はこの圧力計Ａ、およびＢと連動しており、この
ことから、例えば１０００Ｐａの圧力差を感知すると振
動板５が作動するようにしてある。作動した後、例えば
圧力差が８００Ｐａより少なくなると、作動を停止する
などプログラムは自在にできるものとする。
【００３５】上記装置により、万が一分岐管２の側面や
下部に固化物が堆積してきても、振動板５と圧力計Ａ、
およびＢと連動して振動板５が作動することにより、固
化物を除去できる。さらに万が一、固化物が一定量堆積
してしまい、除去が必要になったときでも、簡単にタン
ク下部を外すことにより、固化物を除去でき、従来のよ
うにシステムを停止されて、固化物の除去作業を行うこ
となく、生産性の高い排ガス処置装置を提供することが
できる。
下部に固化物が堆積してきても、振動板５と圧力計Ａ、
およびＢと連動して振動板５が作動することにより、固
化物を除去できる。さらに万が一、固化物が一定量堆積
してしまい、除去が必要になったときでも、簡単にタン
ク下部を外すことにより、固化物を除去でき、従来のよ
うにシステムを停止されて、固化物の除去作業を行うこ
となく、生産性の高い排ガス処置装置を提供することが
できる。
【００３６】
【発明の効果】本発明の排ガス処理装置を用いることに
より、配管がタンクと垂直にかつ等間隔に設置されてお
り、また配管の内側が樹脂コーティングされていること
により、リンなどの固化物が付着、堆積を緩和すること
ができる。
より、配管がタンクと垂直にかつ等間隔に設置されてお
り、また配管の内側が樹脂コーティングされていること
により、リンなどの固化物が付着、堆積を緩和すること
ができる。
【００３７】さらに、圧力計と連動した振動板を設置す
ることにより、前記配管の形状では自然に落ちなかった
固化物を圧力計と連動して、自動的に落とすことができ
る。また、万が一、固化物が一定量堆積してしまい、除
去が必要になったときでも、簡単にタンク下部を外すこ
とにより、固化物を除去でき、従来のようにシステムを
停止されて、固化物の除去作業を行うことなく、生産性
の高い排ガス処置装置を提供することができる。
ることにより、前記配管の形状では自然に落ちなかった
固化物を圧力計と連動して、自動的に落とすことができ
る。また、万が一、固化物が一定量堆積してしまい、除
去が必要になったときでも、簡単にタンク下部を外すこ
とにより、固化物を除去でき、従来のようにシステムを
停止されて、固化物の除去作業を行うことなく、生産性
の高い排ガス処置装置を提供することができる。
【図１】本発明の第１の実施形態に係る排ガス処理装置
を示す断面図。
を示す断面図。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る排ガス処理装置
を示す上面図。
を示す上面図。
【図３】本発明の第２の実施形態に係る排ガス処理装置
を示す断面図。
を示す断面図。
【図４】本発明の第１および第２の実施形態に係る排ガ
ス処理装置施設群を示す概要図。
ス処理装置施設群を示す概要図。
【図５】従来の排ガス処理装置を示す断面図。
【図６】従来の排ガス処理装置の内部の支柱とフィンを
示す斜視図。
示す斜視図。
１、１０３…ガス導入口 ２…ガス分岐管 ３…冷媒（フロリナート） ４…ガス排出口 ５、５’…振動板 ６…ボトム ７…リン ８、８’、１０１…排ガス処理装置 ９…着脱式受け皿 １０…反応室 １１…ポンプ １０２…ガス導入流量調整用バルブ １０４…フィン １０５…冷却装置の内壁 １０６…冷却装置の外壁 １０７…反応炉内下部 １０８…フィンを支える支柱のボトムの通風口 １１０…冷却装置の冷却スペース １１２…支柱 Ａ…圧力センサー Ｂ…圧力センサー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 社浦 肇 神奈川県川崎市川崎区駅前本町25番地１ 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社内
Claims (7)
- 【請求項１】タンクと、 前記タンク上部に設置されてあるガス導入口と、 前記ガス導入口と接続されているガス分岐管と、 前記ガス分岐管と接続されている冷却パイプと、 前記タンクの下部に配置されている固化物収容部とを具
備することを特徴とする排ガス処理装置。 - 【請求項２】前記冷却パイプが、前記タンクの底部に対
して垂直かつに設置されていることを特徴とする請求項
１記載の排ガス処理装置。 - 【請求項３】前記冷却パイプの内壁が、固化物付着を防
ぐためにコーティングされていることを特徴とする請求
項１または請求項２記載の排ガス処理装置。 - 【請求項４】前記冷却パイプのコーティングが、樹脂コ
ーティングであることを特徴とする請求項１、請求項２
または請求項３に記載の排ガス処理装置。 - 【請求項５】前記排ガス処理装置に振動板が設置されて
いることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか
１項に記載の排ガス処理装置。 - 【請求項６】ガス導入部とガス排出部の圧力を検出する
圧力計と連動して固化物の付着を監視する手段を有し、
前記振動板が自動的にコントロールされることを特徴と
する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の排ガ
ス処理装置。 - 【請求項７】前記固化物収容部は、前記タンクに対し、
移動可能であることを特徴とする請求項１から請求項６
のいずれか１項に記載の排ガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9321196A JPH11156103A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 排ガス処理システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9321196A JPH11156103A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 排ガス処理システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11156103A true JPH11156103A (ja) | 1999-06-15 |
Family
ID=18129870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9321196A Withdrawn JPH11156103A (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 排ガス処理システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11156103A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005248250A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Teijin Ltd | カスケード式に接続された選択的ポンプ群を備える化学気相蒸着装置と、カスケード式に接続された選択的ポンプ群のモニター装置 |
-
1997
- 1997-11-21 JP JP9321196A patent/JPH11156103A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005248250A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Teijin Ltd | カスケード式に接続された選択的ポンプ群を備える化学気相蒸着装置と、カスケード式に接続された選択的ポンプ群のモニター装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050201 |