JP2001232183A - 流体分散供給ユニットおよび真空内流体処理装置 - Google Patents
流体分散供給ユニットおよび真空内流体処理装置Info
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Abstract
膨張や熱収縮等の制約を受けずに装置の大型化を図るこ
とができ、また容器内を分散して流下する流体の流量を
均一にでき、スループットの仕様変化にも容易かつ迅速
に対応可能な流体分散供給ユニットおよび真空内流体処
理装置を提供する。 【構成】底部に流体取出口を備え上部に配管を介して外
部流体供給源に接続される流体導入口が形成された真空
容器と、この真空容器内の上部近傍に配列された流体分
散供給ユニットと、真空容器内で該容器の流体導入口と
流体分散供給ユニットの流体取入口とを接続する内部配
管とを有し、流体分散供給ユニットは、上部に流体取入
口が形成され、底部がチャンバー内外部に通じる多数の
細孔をもつ多孔板で閉塞された流体チャンバーで構成さ
れている。
Description
本の細流状態にして真空容器内に供給する流体分散供給
ユニットおよびこの流体分散供給ユニットを内蔵した真
空内流体処理装置に関し、特に、各種樹脂の重縮合反応
器あるいは脱揮処理装置として利用される流体処理装置
に関する。
装置内で均一に分散させて雰囲気に対する流体の界面を
大きくすることが要求されることがある。例えば、樹脂
の重縮合反応あるいは脱揮操作では、気液間の物質移動
をより効率的に行うため、比表面積(液体表面積/容
積)を極力大きくとることが必要であり、従来、多孔板
から被処理液を流出させて多数の細い流れを生成し、そ
の流れの途中で各種の処理を行うことが知られている。
概略的な側面断面図である。円筒状の槽本体部1の上部
に一次側(液供給側)チャンバー2が形成され、この間
が多数の細孔3を有する多孔板5で仕切られている。多
孔板5は槽本体部1の上端フランジ部6と一次側チャン
バー2の下端フランジ部7との間に挟まれて保持され、
外部からボルト等で一体に固定される。一次側チャンバ
ー2は配管8を介して被処理液の供給ポンプ9に接続さ
れ、槽本体部1の側部に図示しない真空ポンプの吸気管
10が連結されて内部が真空排気され、また槽本体部1
の底部に処理済みの液体取出口11が形成されている。
給された被処理液は多孔板5を通して直径数mm程度の
細い流れ15となって槽本体部1の反応室12へ流下し
ていく。反応室12は真空状態にあり、流下途中の液表
面から低揮発分が離脱することにより、目的の処理が達
成される。処理後の液体は下部の液体取出口11から排
出される。この装置では、一次側チャンバー2内で被処
理液の供給口13の直下あるいはその付近とチャンバー
外周縁部分で多孔板5からの液体の流通量に差が生じな
いように多孔板通過時の圧力損失ΔPを大きく設定して
いる。一方、機械構造的に多孔板5は前記ΔPに耐え得
る支持強度、板厚が必要となる。したがって、この種の
脱揮装置の大型化に際しては、多孔板5の肉厚増大や支
持構造体の剛性、強度の増大、さらには槽本体部1とチ
ャンバー2間のフランジ部6,7に使用するガスケット
の製作可能寸法に配慮しながら設計を行っている。
孔板で仕切り、被処理液を上部から多孔板を介して細流
状態に分散流下させる上述の装置では、一般に一次側チ
ャンバーの供給口付近の孔からの流量が大きく、前記供
給口から遠ざかるにつれて流出量は減少する傾向があ
り、多孔板の各孔から流出する液量を均一化するため
に、背圧が大きくなるような小さな孔径を採用し、意図
的に孔の一次側の圧力を高く設定している。しかし、こ
の方法は液の流下にとって不必要に背圧を大きく取らな
ければならず、スループットの増大に伴なう装置の大型
化に際して、機械構造的に装置各部の高強度、高剛性
化、厚肉化等コスト上昇を伴ない、また被処理液を循環
させる供給ポンプも大容量、高性能のものが要求され、
ランニングコストにも影響を与えている。さらに多孔板
を支持するフランジ部のガスケットの寸法にも限界があ
り、多孔板や一次側チャンバーの材質を選定する上でも
温度分布差により生じる熱膨張、熱収縮等の問題があ
り、この種の装置の大型化をはばんでいた。
るためになされたものであって、一次側チャンバーをユ
ニット化して真空容器内に配置することにより、装置各
部の機械的強度や剛性を増大させずに、かつ、熱膨張や
熱収縮等の制約を受けずに装置の大型化を図ることがで
き、また前記容器内を分散して流下する流体の流量を均
一にでき、さらにスループットの仕様変化にも容易かつ
迅速に対応可能な流体分散供給ユニットおよび真空内流
体処理装置を提供することにある。
流体取入口が形成され、底部が多孔板で閉塞された流体
チャンバーを有し、前記多孔板には前記チャンバーの内
部から外部へ通じる多数の細孔が形成された流体分散供
給ユニットが提供される。
備え上部に配管を介して外部流体供給源に接続される流
体導入口が形成された真空容器と、該真空容器内の上部
近傍に配列された流体分散供給ユニットと、前記真空容
器内で該容器の流体導入口と前記流体分散供給ユニット
の流体取入口とを接続する内部配管とを有し、前記流体
分散供給ユニットは、上部に前記流体取入口が形成さ
れ、底部がチャンバー内外部に通じる多数の細孔をもつ
多孔板で閉塞された流体チャンバーで構成されている真
空内流体処理装置が提供される。
ついて図面を参照して説明する。図1は本発明の1実施
形態に係る真空内流体処理装置の概略的な側面断面図で
ある。真空容器16は、耐圧円筒状の胴部17の上側に
蓋体18が外側部のフランジ部19,20によって気密
状態に装着され、胴部17の下部は、処理済の液を取り
出す液取出口21を備えた底板22で閉塞さて構成され
る。この実施形態では、真空容器16の蓋体18の上部
中央に外部の被処理液供給ポンプ(図示省略)に配管2
3を介して接続される液供給口25が形成さ、また図示
していないが円筒状の胴部17あるいは蓋体18の適当
な箇所に外部の真空ポンプにつながる吸気口が形成さ
れ、これによって容器内部が負圧状態に保持されてい
る。
個の、図示実施形態では3個の流体分散供給ユニット2
6が配置されている。なお、各々の前記供給ユニット2
6は任意の適当な支持手段によって容器内壁に対して定
位置に支持される。流体分散供給ユニット26は一次側
流体チャンバー27の下面が多数の細孔28を備えた多
孔板29によって閉塞された構造を有し、前記チャンバ
ー27の頂部に形成される流体取入口30と容器蓋体1
8の液供給口25とが内部配管31を介して接続されて
いる。前記被処理液供給ポンプから供給される被処理液
はこれらの内部配管31を介して各々のユニット26に
分配されるが、各ユニット26への被処理液の分配量を
均一にするために、各々のユニットにつながる内部配管
31の圧力損失が等価になるように配管径や配管長さが
設定されている。
流体チャンバー27に供給された被処理液が多孔板29
を通過して負圧状態の容器内に多数の細いすじ状の流れ
33となって流下していき、この流下する過程で脱揮あ
るいは重合、縮合反応等の処理がなされ、処理の終えた
液35は容器16の下部に溜まり、液取出口21から取
り出され、次工程へ移送される。
1箇所の液供給口25から内部配管31によって各流体
分散供給ユニット26へ被処理液を分配するようにした
が、各々の前記供給ユニット26の配管をそれぞれ容器
蓋体18から個別に取り出し、かつ各々流量制御弁を介
して後、集合して外部の流体供給ポンプに接続するよう
にしてもよい。この場合は、各供給ユニット26は個別
に流量の均一化制御がなされるとともに、不要のユニッ
トからの液流下を止めることができる。また、流体分散
供給ユニット26は容器内壁との間の支持部以外は容器
本体とは構造上の関連はなく、したがって相互に熱膨張
係数の異なる異種材料で形成してもよい。真空容器16
自体も多孔板で仕切って一次側と反応側に2室に分離す
る必要がなく、単に耐圧容器としての気密性を確保する
だけの単純な構造としてよい。
空容器を多孔板によって2分割する必要がなく、任意の
個数の流体供給ユニットを前記容器内に配置して各ユニ
ットから被処理液を多数の細流状態にして流下させるの
で、従来のように装置の大型化を図る上での諸種の不都
合な問題、例えば機械構造上の強度、熱膨張、各部の材
料選定等の制約から開放される。装置の大型化(スルー
プットの増大)にたいしては、それに必要な個数の流体
供給ユニットを大形真空容器内に配置するだけで対応で
き、また状況に応じて不要な流体供給ユニットは液供給
を停止すればよく、真空容器もきわめて簡単な構造とな
し得、低コストの真空内流体処理装置が容易に得られる
等、多くの効果がもたらされる。本発明は任意の重縮合
系樹脂の反応器、すべての樹脂の脱揮装置等に適用して
有用である。
の概略的な側面断面図である。
な縦断面図である。
Claims (2)
- 【請求項1】上部に流体取入口が形成され、底部が多孔
板で閉塞された流体チャンバーを有し、前記多孔板には
前記チャンバーの内部から外部へ通じる多数の細孔が形
成されることを特徴とする流体分散供給ユニット。 - 【請求項2】底部に流体取出口を備え上部に配管を介し
て外部流体供給源に接続される流体導入口が形成された
真空容器と、該真空容器内の上部近傍に配列された流体
分散供給ユニットと、前記真空容器内で該容器の流体導
入口と前記流体分散供給ユニットの流体取入口とを接続
する内部配管とを有し、前記流体分散供給ユニットは、
上部に前記流体取入口が形成され、底部がチャンバー内
外部に通じる多数の細孔をもつ多孔板で閉塞された流体
チャンバーで構成されることを特徴とする真空内流体処
理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000052207A JP2001232183A (ja) | 2000-02-23 | 2000-02-23 | 流体分散供給ユニットおよび真空内流体処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000052207A JP2001232183A (ja) | 2000-02-23 | 2000-02-23 | 流体分散供給ユニットおよび真空内流体処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001232183A true JP2001232183A (ja) | 2001-08-28 |
Family
ID=18573765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000052207A Pending JP2001232183A (ja) | 2000-02-23 | 2000-02-23 | 流体分散供給ユニットおよび真空内流体処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001232183A (ja) |
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-
2000
- 2000-02-23 JP JP2000052207A patent/JP2001232183A/ja active Pending
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