JPH11134616A - 磁気抵抗型読取りセンサ、磁気記憶装置及び磁気抵抗型センサの製造方法 - Google Patents
磁気抵抗型読取りセンサ、磁気記憶装置及び磁気抵抗型センサの製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 基板10,110,210上に形成した磁気
抵抗型読取りセンサは、確定した組成のイリジウムマン
ガンで形成された反強磁性層に交換結合した強磁性層を
備える。非磁性バッファ層としてタンタル層を用いる。
反強磁性層はIrxMn100-x(ここで、xは15<x<
23の範囲内)の材料組成で形成される。スピンバルブ
構造の実施例では、タンタル層12を基板10上に付着
し、反強磁性層20を強磁性ピン止め層18に直接接触
させる。別の実施例では、IrMn層116を軟アクテ
ィブ層114上に形成する。交換ピン止め作用を用いる
第3実施例では、アクティブ磁気抵抗層上に離隔したI
rMn領域222,224を形成し、センサのトラック
幅を画定する。 【効果】 アニール温度の変化に対して交換磁場及び飽
和保磁力が変化しない。
抵抗型読取りセンサは、確定した組成のイリジウムマン
ガンで形成された反強磁性層に交換結合した強磁性層を
備える。非磁性バッファ層としてタンタル層を用いる。
反強磁性層はIrxMn100-x(ここで、xは15<x<
23の範囲内)の材料組成で形成される。スピンバルブ
構造の実施例では、タンタル層12を基板10上に付着
し、反強磁性層20を強磁性ピン止め層18に直接接触
させる。別の実施例では、IrMn層116を軟アクテ
ィブ層114上に形成する。交換ピン止め作用を用いる
第3実施例では、アクティブ磁気抵抗層上に離隔したI
rMn領域222,224を形成し、センサのトラック
幅を画定する。 【効果】 アニール温度の変化に対して交換磁場及び飽
和保磁力が変化しない。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁場を感知するた
めの磁気抵抗型(MR)センサ及びスピンバルブセンサ
に関し、特に、高温の環境下で使用するためのMR読取
りセンサを用いた磁気記憶装置に関する。
めの磁気抵抗型(MR)センサ及びスピンバルブセンサ
に関し、特に、高温の環境下で使用するためのMR読取
りセンサを用いた磁気記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】磁気抵抗型(MR)センサは、読取り素
子の抵抗の変化を検出することにより磁場を検出する。
MR読取りセンサは、磁気ディスク装置または磁気テー
プ装置に用いられて、磁気媒体上に記録した磁束の変化
の形態で信号を読み取る。通常のMR読取りセンサは、
基板上に薄膜層を付着させた矩形多層構造である。
子の抵抗の変化を検出することにより磁場を検出する。
MR読取りセンサは、磁気ディスク装置または磁気テー
プ装置に用いられて、磁気媒体上に記録した磁束の変化
の形態で信号を読み取る。通常のMR読取りセンサは、
基板上に薄膜層を付着させた矩形多層構造である。
【0003】複合ヘッドとして知られている現在公知の
薄膜磁気ヘッドは、信号を記録するための誘導型書込み
素子と、記録した信号を読み取るための磁気抵抗型(M
R)センサとを備える。書込み動作は、磁路を形成しか
つ先端ポール領域に非磁性変換ギャップを画定する1対
の磁気書込みポールを用いて誘導的に行われる。前記変
換ギャップは、回転磁気ディスクのような隣接する記録
媒体の表面に近接して配置する。前記ポール間に形成さ
れる電気コイルにより、記録すべき信号情報を表すコイ
ル内の電流に応答して、前記ポールの磁路に磁束の流れ
が生じる。
薄膜磁気ヘッドは、信号を記録するための誘導型書込み
素子と、記録した信号を読み取るための磁気抵抗型(M
R)センサとを備える。書込み動作は、磁路を形成しか
つ先端ポール領域に非磁性変換ギャップを画定する1対
の磁気書込みポールを用いて誘導的に行われる。前記変
換ギャップは、回転磁気ディスクのような隣接する記録
媒体の表面に近接して配置する。前記ポール間に形成さ
れる電気コイルにより、記録すべき信号情報を表すコイ
ル内の電流に応答して、前記ポールの磁路に磁束の流れ
が生じる。
【0004】読取り動作は、隣接する磁気媒体上の磁束
の変化に応答して抵抗を変化させるMRセンサにより行
われる。MRセンサを通過する感知電流が、磁束の変化
に比例して変化するMRセンサの抵抗を感知する。
の変化に応答して抵抗を変化させるMRセンサにより行
われる。MRセンサを通過する感知電流が、磁束の変化
に比例して変化するMRセンサの抵抗を感知する。
【0005】巨大磁気抵抗型(GMR)センサと呼ばれ
るデバイスでは、より大きな磁気抵抗が認められてい
る。スピンバルブ構造では、2つの強磁性(FM)層が
銅層ににより分離されている。2つの強磁性層の一方
は、その磁気モーメントが反強磁性(AFM)膜との交
換結合により固定即ちピン止めされている。外部磁場の
印加により、一方のFM層の磁気配向が他方のFM層に
関して変化する。これにより、伝導電子のスピン依存散
乱に変化が生じ、従ってデバイスの電気抵抗が変化す
る。
るデバイスでは、より大きな磁気抵抗が認められてい
る。スピンバルブ構造では、2つの強磁性(FM)層が
銅層ににより分離されている。2つの強磁性層の一方
は、その磁気モーメントが反強磁性(AFM)膜との交
換結合により固定即ちピン止めされている。外部磁場の
印加により、一方のFM層の磁気配向が他方のFM層に
関して変化する。これにより、伝導電子のスピン依存散
乱に変化が生じ、従ってデバイスの電気抵抗が変化す
る。
【0006】ディスクドライブのような磁気記憶装置
は、環境温度が多分100℃であるような高温環境下で
使用される場合がより多くなっている。環境温度がピン
止め層のニール温度を超えると、磁気特性が悪影響を受
け、ディスクドライブはエラーや作動不能になり易くな
る。
は、環境温度が多分100℃であるような高温環境下で
使用される場合がより多くなっている。環境温度がピン
止め層のニール温度を超えると、磁気特性が悪影響を受
け、ディスクドライブはエラーや作動不能になり易くな
る。
【0007】従来、スピンバルブ装置の反強磁性(AF
M)層に選択される材料は鉄マンガン(FeMn)合金
であった。ハシモト(Hashimoto)他の米国特許第5,55
2,949号:1996年9月3日発行:発明の名称「Magnetore
sistance Effect Element With Improved Antiferromag
netic Layer」の明細書では、イリジウムマンガン(I
rMn)を選択して、製造工程で使用される酸の腐食作
用を減少させている。
M)層に選択される材料は鉄マンガン(FeMn)合金
であった。ハシモト(Hashimoto)他の米国特許第5,55
2,949号:1996年9月3日発行:発明の名称「Magnetore
sistance Effect Element With Improved Antiferromag
netic Layer」の明細書では、イリジウムマンガン(I
rMn)を選択して、製造工程で使用される酸の腐食作
用を減少させている。
【0008】このハシモト他の米国特許では、交換結合
膜からなるMR素子が基板上に形成されている。交換結
合膜は、IrMnで形成されたAFM層と、少なくとも
部分的にAFM層に積層されたFM層とからなる。電極
によりFM層に電流が供給される。AFMはIr100-Z
MnZからなり、そのイリジウムの組成は24≦z≦7
5の範囲内である。
膜からなるMR素子が基板上に形成されている。交換結
合膜は、IrMnで形成されたAFM層と、少なくとも
部分的にAFM層に積層されたFM層とからなる。電極
によりFM層に電流が供給される。AFMはIr100-Z
MnZからなり、そのイリジウムの組成は24≦z≦7
5の範囲内である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このハ
シモト他の米国特許におけるイリジウムマンガンの組成
はブロッキング温度(ニール温度)が高くないので、高
温では所望の磁気特性が失われる。
シモト他の米国特許におけるイリジウムマンガンの組成
はブロッキング温度(ニール温度)が高くないので、高
温では所望の磁気特性が失われる。
【00010】そこで、高い動作温度で磁気特性を失わ
ないAFM材料で製造されたスピンバルブセンサが要望
されている。
ないAFM材料で製造されたスピンバルブセンサが要望
されている。
【00011】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、磁気抵
抗型センサデバイスは、基板上に付着させたタンタル
(Ta)のような金属の非磁性バッファ層を有するよう
に形成する。パーマロイ(NiFe)膜をテクスチャリ
ングのためにTa層上に直接付着させ、かつ次に該Ni
Fe膜上にIrMnを付着させる。このAFM層はIr
xMn100-xからなり、xは15<x<23の範囲内であ
る。磁気抵抗センサ層には電極が結合される。
抗型センサデバイスは、基板上に付着させたタンタル
(Ta)のような金属の非磁性バッファ層を有するよう
に形成する。パーマロイ(NiFe)膜をテクスチャリ
ングのためにTa層上に直接付着させ、かつ次に該Ni
Fe膜上にIrMnを付着させる。このAFM層はIr
xMn100-xからなり、xは15<x<23の範囲内であ
る。磁気抵抗センサ層には電極が結合される。
【00012】本発明の一実施例によれば、前記非磁性
バッファ層は約50Åの膜厚を有し、かつ前記IrMn
・AFM層は約100Åの膜厚を有する。
バッファ層は約50Åの膜厚を有し、かつ前記IrMn
・AFM層は約100Åの膜厚を有する。
【00013】Taバッファ層を用いた本発明のデバイ
スは、295℃程度の高温の影響を受けない。Taバッ
ファ層を用いない場合には、温度が200℃に上がる
と、デバイスの磁気特性が低下することになる。
スは、295℃程度の高温の影響を受けない。Taバッ
ファ層を用いない場合には、温度が200℃に上がる
と、デバイスの磁気特性が低下することになる。
【00014】
【発明の実施の形態】本発明によるスピンバルブ構造の
実施例では、図1に示すように、バッファ層として機能
するTa層12が基板10上に形成されている。次に、
NiFe、CoFe、Co、またはこれらのいずれかの
組合せからなるFM自由層14がバッファ層12上に形
成され、その上に銅スペーサ16が設けられている。次
に、NiFe、CoFe、Co、またはこれらのいずれ
かの組合せで形成することができるFMピン止め層18
を銅スペーサ16の上に付着させる。
実施例では、図1に示すように、バッファ層として機能
するTa層12が基板10上に形成されている。次に、
NiFe、CoFe、Co、またはこれらのいずれかの
組合せからなるFM自由層14がバッファ層12上に形
成され、その上に銅スペーサ16が設けられている。次
に、NiFe、CoFe、Co、またはこれらのいずれ
かの組合せで形成することができるFMピン止め層18
を銅スペーサ16の上に付着させる。
【00015】本発明によれば、イリジウムマンガン
(IrMn)からなるAFM層20をピン止め層18上
に付着させる。ピン止め層18はAFM層20に交換結
合されている。電極22、24を設けて、前記スピンバ
ルブ構造を感知回路26に接続する。
(IrMn)からなるAFM層20をピン止め層18上
に付着させる。ピン止め層18はAFM層20に交換結
合されている。電極22、24を設けて、前記スピンバ
ルブ構造を感知回路26に接続する。
【00016】IrMnをNiFe上に付着させて使用
し、かつNiFeについてTaバッファ層を用いること
により、非常に安定した膜を有する高交換・高ブロッキ
ング温度のデバイスが実現される。本発明に従って、A
FM層20はIrxMn100-xからなり、かつxは15<
x<23の範囲内にあり、Taバッファ層12がスピン
バルブセンサのNiFe・FM自由層14の下側に設け
られている。本発明に従って所望の磁気特性が得られる
範囲は、Ir15Mn85乃至Ir23Mn77であり、Ir20
Mn80が好ましい組成である。本明細書中に記載するよ
うにTaバッファ層を用いた構造は、Taバッファ層を
使用しない構造について見られるようなアニール温度の
変化に伴うHeまたはHcの変化を生じない。
し、かつNiFeについてTaバッファ層を用いること
により、非常に安定した膜を有する高交換・高ブロッキ
ング温度のデバイスが実現される。本発明に従って、A
FM層20はIrxMn100-xからなり、かつxは15<
x<23の範囲内にあり、Taバッファ層12がスピン
バルブセンサのNiFe・FM自由層14の下側に設け
られている。本発明に従って所望の磁気特性が得られる
範囲は、Ir15Mn85乃至Ir23Mn77であり、Ir20
Mn80が好ましい組成である。本明細書中に記載するよ
うにTaバッファ層を用いた構造は、Taバッファ層を
使用しない構造について見られるようなアニール温度の
変化に伴うHeまたはHcの変化を生じない。
【00017】本発明の好適な実施例では、AFM層2
0の膜厚が約100Å、Taバッファ層の膜厚が約50
Å、NiFe自由層14の膜厚が約50Åである。
0の膜厚が約100Å、Taバッファ層の膜厚が約50
Å、NiFe自由層14の膜厚が約50Åである。
【00018】図2は、本発明により形成された軟隣接
層(SAL)型のMRセンサを示している。図示される
センサは、ディスク装置のような磁気媒体から見上げた
場合を示している。このMRセンサは、例えばRF(無
線周波数)スパッタリングまたはDC(直流)スパッタ
リングのような公知技術を用いて製造される。
層(SAL)型のMRセンサを示している。図示される
センサは、ディスク装置のような磁気媒体から見上げた
場合を示している。このMRセンサは、例えばRF(無
線周波数)スパッタリングまたはDC(直流)スパッタ
リングのような公知技術を用いて製造される。
【00019】基板110は、多層膜構造Ta/NiF
eX/IrMn/Ta/NiFeXを順に付着させて準
備する。ここで、Xはロジウム(Rh)、タンタル(T
a)またはレニウム(Re)である。前記センサのエン
ド領域は、フォトリソグラフィとサブトラクティブ法に
よるイオンミリングまたはエッチングとにより画定され
る。前記エンド領域間に中央アクティブ領域100が画
定される。導電リード124、126を形成して、前記
MRセンサを信号感知回路122に接続する。
eX/IrMn/Ta/NiFeXを順に付着させて準
備する。ここで、Xはロジウム(Rh)、タンタル(T
a)またはレニウム(Re)である。前記センサのエン
ド領域は、フォトリソグラフィとサブトラクティブ法に
よるイオンミリングまたはエッチングとにより画定され
る。前記エンド領域間に中央アクティブ領域100が画
定される。導電リード124、126を形成して、前記
MRセンサを信号感知回路122に接続する。
【00020】第1NiFeX層114は、軟隣接層即
ち軟アクティブ層(SAL)として機能する。Taバッ
ファ層112は基板110とNiFeX・SAL層11
4間に形成される。SAL層114上に形成したIrM
n層116はAFMであり、高いブロッキング温度を有
する。AFM層116がIrxMn100-xからなり、xが
15<x<23の範囲内にあると好都合である。本発明
に従って所望の磁気特性が得られる範囲は、Ir15Mn
85乃至Ir23Mn77であり、Ir20Mn80が好ましい組
成である。
ち軟アクティブ層(SAL)として機能する。Taバッ
ファ層112は基板110とNiFeX・SAL層11
4間に形成される。SAL層114上に形成したIrM
n層116はAFMであり、高いブロッキング温度を有
する。AFM層116がIrxMn100-xからなり、xが
15<x<23の範囲内にあると好都合である。本発明
に従って所望の磁気特性が得られる範囲は、Ir15Mn
85乃至Ir23Mn77であり、Ir20Mn80が好ましい組
成である。
【00021】Ta層118がIrMn層116上に形
成され、NiFeからなるMR層120がTa層118
上に形成される。前記センサデバイスは、導電リード1
24、126により感知回路122に接続される。
成され、NiFeからなるMR層120がTa層118
上に形成される。前記センサデバイスは、導電リード1
24、126により感知回路122に接続される。
【00022】本実施例では、基板110とSAL層1
14間のTaバッファ層112の膜厚が約50Åであ
る。AFM安定化層116の膜厚は約80Å、Taバッ
ファ層118の膜厚は約20Åである。
14間のTaバッファ層112の膜厚が約50Åであ
る。AFM安定化層116の膜厚は約80Å、Taバッ
ファ層118の膜厚は約20Åである。
【00023】本実施例において、AFM層116はI
rxMn100-xからなり、かつxは15<x<23の範囲
内にあるとともに、Taバッファ層118がIrMn層
116とNiFe層120間に設けられている。本発明
に従って所望の磁気特性が得られる範囲は、Ir15Mn
85乃至Ir23Mn77であり、Ir20Mn80が好ましい組
成である。
rxMn100-xからなり、かつxは15<x<23の範囲
内にあるとともに、Taバッファ層118がIrMn層
116とNiFe層120間に設けられている。本発明
に従って所望の磁気特性が得られる範囲は、Ir15Mn
85乃至Ir23Mn77であり、Ir20Mn80が好ましい組
成である。
【00024】図3は、本発明によるMR読取りセンサ
の別の実施例を示しており、MR層が交換ピン止めされ
ている。この実施例では、離隔されたAFM領域22
2、224に確定された組成のIrMnを用いる。この
構造は、SAL214を付着させた基板210について
形成される。
の別の実施例を示しており、MR層が交換ピン止めされ
ている。この実施例では、離隔されたAFM領域22
2、224に確定された組成のIrMnを用いる。この
構造は、SAL214を付着させた基板210について
形成される。
【00025】Ta層218をSAL214上に形成
し、かつ好適にはNiFeからなるFM層220をTa
層218上に付着させる。離隔したIrMn領域22
2、224は、導電リード228、230により感知回
路226に接続されている。本実施例においても、上述
した好適な組成と同じ組成のIrMnを用いると好都合
である。
し、かつ好適にはNiFeからなるFM層220をTa
層218上に付着させる。離隔したIrMn領域22
2、224は、導電リード228、230により感知回
路226に接続されている。本実施例においても、上述
した好適な組成と同じ組成のIrMnを用いると好都合
である。
【00026】IrMnは、FeMnよりニール温度即
ちブロッキング温度が高いので、高温の環境下で有利で
ある。Taバッファ層を有しないIrMnは不安定であ
り、その交換磁場及び飽和保磁力が、製造時にアニール
工程での温度の循環に対して好ましくない変化を生じ
る。
ちブロッキング温度が高いので、高温の環境下で有利で
ある。Taバッファ層を有しないIrMnは不安定であ
り、その交換磁場及び飽和保磁力が、製造時にアニール
工程での温度の循環に対して好ましくない変化を生じ
る。
【00027】Ir20Mn80を有するように製造したデ
バイスのテスト結果は、190℃のブロッキング温度及
び良好な磁気特性を示している。膜質は、Taバッファ
層を基板上に用いた場合にのみ良好である。Ta下地層
を用いない場合には、飽和保磁力Hc及び交換磁場He
がアニール温度で変化する。
バイスのテスト結果は、190℃のブロッキング温度及
び良好な磁気特性を示している。膜質は、Taバッファ
層を基板上に用いた場合にのみ良好である。Ta下地層
を用いない場合には、飽和保磁力Hc及び交換磁場He
がアニール温度で変化する。
【00028】図4は、Taバッファ層を有する場合及
び有しない場合で、IrMnを組み込んだ異なるアーキ
テクチャの厚さ110ÅのNiFe膜についてアニール
温度の関数として交換磁場(He)及び飽和保磁力(H
c)をエルステッド(Oe)単位で示している。使用し
たアーキテクチャは次の通りである。
び有しない場合で、IrMnを組み込んだ異なるアーキ
テクチャの厚さ110ÅのNiFe膜についてアニール
温度の関数として交換磁場(He)及び飽和保磁力(H
c)をエルステッド(Oe)単位で示している。使用し
たアーキテクチャは次の通りである。
【00029】(1)膜厚50ÅTa層の上に膜厚14
5ÅのIrMnを付着し、その上に膜厚110ÅのNi
Fe層を付着して、積層構造を形成する(Ta50/I
rMn145/NiFe110)。 (2)Taバッファ層を有しない構造において、膜厚1
10ÅのNiFe層を付着し、かつその上に膜厚145
ÅのIrMn層を付着する(NiFe110/IrMn
145)。 (3)膜厚50ÅTa層の上に膜厚110ÅのNiFe
層を付着し、かつその上に膜厚145ÅのIrMn層を
付着する(Ta50/NiFe110/IrMn14
5)。 (4)膜厚50ÅTa層の上に膜厚110ÅのNiFe
層を付着し、かつその上に膜厚145ÅのIrMn層を
付着し、その上に膜厚50ÅのTa層を付着する(Ta
50/NiFe110/IrMn145/Ta50)。
5ÅのIrMnを付着し、その上に膜厚110ÅのNi
Fe層を付着して、積層構造を形成する(Ta50/I
rMn145/NiFe110)。 (2)Taバッファ層を有しない構造において、膜厚1
10ÅのNiFe層を付着し、かつその上に膜厚145
ÅのIrMn層を付着する(NiFe110/IrMn
145)。 (3)膜厚50ÅTa層の上に膜厚110ÅのNiFe
層を付着し、かつその上に膜厚145ÅのIrMn層を
付着する(Ta50/NiFe110/IrMn14
5)。 (4)膜厚50ÅTa層の上に膜厚110ÅのNiFe
層を付着し、かつその上に膜厚145ÅのIrMn層を
付着し、その上に膜厚50ÅのTa層を付着する(Ta
50/NiFe110/IrMn145/Ta50)。
【00030】前記スピンバルブセンサの最下NiFe
層はTaバッファ層上に付着しなければならず、そうで
ない場合には、Hc及びHeが、上述した(2)の場合
について図示されるようにアニール温度とともに変化す
る。図示されるようにバッファ層を有しないIrMn組
成は不安定であり、即ちその交換磁場(Hc)及び飽和
保磁力(Hc)が、製造時にアニール工程での温度の循
環と共に変化する。
層はTaバッファ層上に付着しなければならず、そうで
ない場合には、Hc及びHeが、上述した(2)の場合
について図示されるようにアニール温度とともに変化す
る。図示されるようにバッファ層を有しないIrMn組
成は不安定であり、即ちその交換磁場(Hc)及び飽和
保磁力(Hc)が、製造時にアニール工程での温度の循
環と共に変化する。
【00031】図4の結果から、NiFeをIrMn上
に付着した上記(1)の場合に、交換磁場が非常に小さ
いことが分かる。IrMnをNiFe上に付着した上記
(3)及び(4)の場合には、IrMn層上にTaスペ
ーサ層を追加したことにより、交換磁場が非常に良好で
ある。
に付着した上記(1)の場合に、交換磁場が非常に小さ
いことが分かる。IrMnをNiFe上に付着した上記
(3)及び(4)の場合には、IrMn層上にTaスペ
ーサ層を追加したことにより、交換磁場が非常に良好で
ある。
【発明の効果】本発明によれば、MR読取りセンサにお
いて、基板上に付着させた非磁性バッファ層上に形成し
た強磁性層がIrXMn100-x(15<x<23)から形
成されることにより、製造時にアニール温度の変化に対
して交換磁場及び飽和保磁力が変化せず、高温の環境下
でも所定の磁気特性を維持し得る高性能・高品質の読取
りセンサを実現することができる。
いて、基板上に付着させた非磁性バッファ層上に形成し
た強磁性層がIrXMn100-x(15<x<23)から形
成されることにより、製造時にアニール温度の変化に対
して交換磁場及び飽和保磁力が変化せず、高温の環境下
でも所定の磁気特性を維持し得る高性能・高品質の読取
りセンサを実現することができる。
【図1】本発明を実施したスピンバルブセンサの構造を
示す図である。
示す図である。
【図2】本発明を実施したMR読取りヘッドセンサの構
造を示す図である。
造を示す図である。
【図3】縦交換バイアスを与えたMRヘッドの構成を示
す図である。
す図である。
【図4】IrMnを組み込んだ異なるアーキテクチャの
膜厚110ÅのNiFe膜についてアニール温度の関数
として表示した交換磁場He及び飽和保磁力Hcを示す
図である。
膜厚110ÅのNiFe膜についてアニール温度の関数
として表示した交換磁場He及び飽和保磁力Hcを示す
図である。
10 基板 12 Taバッファ層 14 FM自由層 16 銅スペーサ 18 FMピン止め層 20 AFM層 22、24 電極 26 感知回路 100 中央アクティブ領域 110 基板 112 Taバッファ層 114 第1NiFeX・SAL層 116 IrMn・AFM層 118 Taバッファ層 120 NiFe・MR層 122 信号感知回路 124、126 導電リード 210 基板 214 SAL 218 Ta層 220 FM層 222、224 IrMn・AFM領域 226 感知回路 228、230 導電リード
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ダニエル・エイ・ネペラ アメリカ合衆国・カルフォルニア州・ 95123,サン・ノゼ,#147,ブロッサム・ リバー・ウェイ・1009 (72)発明者 フワ−チン・トン アメリカ合衆国・カルフォルニア州・ 95120,サン・ノゼ,ジョスリン・ドライ ブ・7184
Claims (19)
- 【請求項1】 基板と、 前記基板上に付着させた非磁性バッファ層からなる変換
デバイスと、 前記バッファ層上に形成した少なくとも1つの強磁性層
と、 前記強磁性層に交換結合した反強磁性層と、 前記変換デバイスに結合した感知回路とからなり、 前記強磁性層がIrXMn100-xからなり、xが15<x
<23の範囲内にあることを特徴とする磁気抵抗型読取
りセンサ。 - 【請求項2】 前記強磁性層の少なくとも一部分に前
記反強磁性層が積層されていることを特徴とする請求項
1に記載の磁気抵抗型読取りセンサ。 - 【請求項3】 前記非磁性バッファ層が約50Åの膜
厚を有することを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗
型読取りセンサ。 - 【請求項4】 前記反強磁性層が約80〜100Åの
膜厚を有することを特徴とする請求項1に記載の磁気抵
抗型読取りセンサ。 - 【請求項5】 前記反強磁性層がIr20Mn80からな
ることを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗型読取り
センサ。 - 【請求項6】 前記非磁性バッファ層がタンタルであ
ることを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗型読取り
センサ。 - 【請求項7】 基板と、 前記基板上に付着させたタンタル層からなる変換デバイ
スと、 前記タンタル層の上に形成した強磁性自由層と、 前記強磁性自由層の上に付着させた銅スペーサと、 前記銅スペーサ上に付着させた強磁性ピン止め層と、 IrxMn100-x(ここで、xは15<x<23の範囲
内)からなり、前記ピン止め強磁性層の上に付着させた
反強磁性層と、 前記変換デバイスに結合した感知回路とからなることを
特徴とする磁気抵抗型読取りセンサ。 - 【請求項8】 基板と、 前記基板上に付着した第1タンタル層からなる変換デバ
イスと、 前記第1タンタル層の上に付着した軟隣接層と、 IrxMn100-x(ここで、xは15<x<23の範囲
内)からなり、前記軟隣接層の上に付着させた反強磁性
層と、 前記反強磁性層上に形成した第2タンタル層と、 前記第2タンタル層上に付着させた強磁性磁気抵抗層
と、 前記変換デバイスに結合した感知回路とからなることを
特徴とする磁気抵抗型読取りセンサ。 - 【請求項9】 基板と、 前記基板上に付着した第1タンタル層からなり、エンド
領域により制限された中央アクティブ領域を有する変換
デバイスと、 前記基板上に付着させた軟アクティブ層と、 前記軟アクティブ層上に形成したタンタル層と、 前記タンタル層上に付着した強磁性層と、 前記強磁性層上に配置した前記エンド領域に付着させた
IrxMn100-x(ここで、xは15<x<23の範囲
内)からなり、互いに離隔配置された第1及び第2反強
磁性層と、 前記変換デバイスに結合した感知回路とからなることを
特徴する磁気抵抗型読取りセンサ。 - 【請求項10】 データを記録するための磁気記憶装置
であって、 磁気記憶媒体と、 基板と、 前記基板上に付着させた非磁性バッファ層を有する変換
デバイスとからなり、 前記変換デバイスが、 前記バッファ層上に形成した少なくとも1つの強磁性層
と、 前記強磁性層に交換結合した反強磁性層と、 前記磁気記録媒体上に記録されたデータ信号を表す磁場
に応答した抵抗の変化を検出するために前記変換デバイ
スに結合された感知手段と、 前記感知手段と前記変換デバイスとの間に結合された導
電リードとからなり、 前記反強磁性層がIrxMn100-xからなり、xが15<
x<23の範囲内にあることを特徴とする磁気記憶装
置。 - 【請求項11】 前記非磁性バッファ層が約50Åの膜
厚を有することを特徴とする請求項10に記載の磁気記
憶装置。 - 【請求項12】 前記反強磁性層が約100Åの膜厚を
有することを特徴とする請求項10に記載の磁気記憶装
置。 - 【請求項13】 前記反強磁性層がIr20Mn80からな
ることを特徴とする請求項10に記載の磁気記憶装置。 - 【請求項14】 前記非磁性バッファ層がタンタルであ
ることを特徴とする請求項10に記載の磁気記憶装置。 - 【請求項15】 A.基板上に非磁性バッファ層を付着
させる過程と、 B.前記非磁性バッファ層上に強磁性材料層を付着させ
る過程と、 C.IrxMn100-x(ここで、xは15<x<23の範
囲)からなる反強磁性層を前記強磁性材料層上に付着さ
せる過程とからなることを特徴とする磁気抵抗型センサ
の製造方法。 - 【請求項16】 前記非磁性バッファ層を約50Åの膜
厚に付着させることを特徴とする請求項15に記載の磁
気抵抗型センサ製造方法。 - 【請求項17】 前記反強磁性層を約80〜100Åの
膜厚に付着させることを特徴とする請求項15に記載の
磁気抵抗型センサ製造方法。 - 【請求項18】 前記反強磁性層がIr20Mn80からな
ることを特徴とする請求項15に記載の磁気抵抗型セン
サ製造方法。 - 【請求項19】 前記非磁性バッファ層がタンタルであ
ることを特徴とする請求項15に記載の磁気抵抗型セン
サ製造方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/885,283 US6166891A (en) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | Magnetoresistive sensor for high temperature environment using iridium manganese |
US08/885,283 | 1997-06-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11134616A true JPH11134616A (ja) | 1999-05-21 |
Family
ID=25386549
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10198154A Pending JPH11134616A (ja) | 1997-06-30 | 1998-06-30 | 磁気抵抗型読取りセンサ、磁気記憶装置及び磁気抵抗型センサの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6166891A (ja) |
JP (1) | JPH11134616A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPH11274600A (ja) * | 1998-03-20 | 1999-10-08 | Fujitsu Ltd | 磁気抵抗素子の製造方法 |
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