JPH11130566A - 識別表示部を有するセラミック体及びその製造方法 - Google Patents
識別表示部を有するセラミック体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH11130566A JPH11130566A JP29445197A JP29445197A JPH11130566A JP H11130566 A JPH11130566 A JP H11130566A JP 29445197 A JP29445197 A JP 29445197A JP 29445197 A JP29445197 A JP 29445197A JP H11130566 A JPH11130566 A JP H11130566A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic body
- ceramic
- identification display
- film
- display portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5001—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with carbon or carbonisable materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5053—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials non-oxide ceramics
- C04B41/5057—Carbides
- C04B41/5059—Silicon carbide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/80—Optical properties, e.g. transparency or reflexibility
- C04B2111/82—Coloured materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】耐熱性、耐薬品性、耐摩耗性が要求されるよう
な厳しい条件下でも確実に識別することが可能な識別表
示部を有するセラミック体を提供する。 【解決手段】セラミック体２の表面に文字、模様、記
号、図柄などを構成する凹部４を刻設し、該凹部４の壁
面４ａ及び底面４ｂにのみ上記セラミック体２とは異な
る色を呈する硬質膜５を被着して識別表示部Ｐを有する
セラミック体２を形成する。
な厳しい条件下でも確実に識別することが可能な識別表
示部を有するセラミック体を提供する。 【解決手段】セラミック体２の表面に文字、模様、記
号、図柄などを構成する凹部４を刻設し、該凹部４の壁
面４ａ及び底面４ｂにのみ上記セラミック体２とは異な
る色を呈する硬質膜５を被着して識別表示部Ｐを有する
セラミック体２を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、文字、模様、記
号、図柄などの識別表示部を有するセラミック体とその
製造方法に関するものであり、特に、薄膜磁気ヘッド用
基板や半導体ウエハなどの被加工物の研磨台、定盤、そ
の他各種加工時に使用する固定用治具、あるいはブロッ
クゲージ、切削チップ等の治工具などを構成するセラミ
ック体として好適なものである。
号、図柄などの識別表示部を有するセラミック体とその
製造方法に関するものであり、特に、薄膜磁気ヘッド用
基板や半導体ウエハなどの被加工物の研磨台、定盤、そ
の他各種加工時に使用する固定用治具、あるいはブロッ
クゲージ、切削チップ等の治工具などを構成するセラミ
ック体として好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、薄膜磁気ヘッドの製造工程におい
ては、薄膜磁気ヘッド用基板（以下、ヘッド用基板と略
称する。）の切断加工、研磨加工、接合などさまざまな
加工工程があり、各種加工工程においてはそれぞれに応
じた固定用治具が使用されている。
ては、薄膜磁気ヘッド用基板（以下、ヘッド用基板と略
称する。）の切断加工、研磨加工、接合などさまざまな
加工工程があり、各種加工工程においてはそれぞれに応
じた固定用治具が使用されている。
【０００３】例えば、ヘッド用基板の切断加工時に使用
する固定用治具としては、図１に示すような板状のセラ
ミック体２からなり、その一主面をヘッド用基板Ｗの張
り付け面３とし、該張り付け面３には切断時におけるダ
イヤモンドブレードの逃げ溝３ａを等間隔に複数個刻設
したものが使用されている。また、この固定用治具１に
は、ヘッド用基板Ｗをどの固定用治具で加工したかなど
加工時のロッド管理や固定用治具の納入先管理、あるい
はメンテナンス管理等を簡略化するために、セラミック
スからなる固定用治具１の表面に番号や記号を付けて目
視により管理したり、バーコード記号を設けて光学的読
取装置によりコンピュータ管理を行うための識別表示部
Ｐが形成されていた。
する固定用治具としては、図１に示すような板状のセラ
ミック体２からなり、その一主面をヘッド用基板Ｗの張
り付け面３とし、該張り付け面３には切断時におけるダ
イヤモンドブレードの逃げ溝３ａを等間隔に複数個刻設
したものが使用されている。また、この固定用治具１に
は、ヘッド用基板Ｗをどの固定用治具で加工したかなど
加工時のロッド管理や固定用治具の納入先管理、あるい
はメンテナンス管理等を簡略化するために、セラミック
スからなる固定用治具１の表面に番号や記号を付けて目
視により管理したり、バーコード記号を設けて光学的読
取装置によりコンピュータ管理を行うための識別表示部
Ｐが形成されていた。
【０００４】このような識別表示部Ｐをセラミックスか
らなる固定用治具１に形成する方法としては、例えば、
固定用治具１が淡黄色や黄土色のジルコニアセラミック
スである場合、ＹＡＧレーザーを照射することでレーザ
ー光の照射部近傍を黒色に改質して番号や記号、あるい
はバーコード記号などの識別表示部Ｐを形成したものが
あり、固定用治具１が白色のアルミナセラミックスであ
る場合、速乾性のインクでもって番号や記号、あるいは
バーコード記号などの識別表示部Ｐを形成したものがあ
った。
らなる固定用治具１に形成する方法としては、例えば、
固定用治具１が淡黄色や黄土色のジルコニアセラミック
スである場合、ＹＡＧレーザーを照射することでレーザ
ー光の照射部近傍を黒色に改質して番号や記号、あるい
はバーコード記号などの識別表示部Ｐを形成したものが
あり、固定用治具１が白色のアルミナセラミックスであ
る場合、速乾性のインクでもって番号や記号、あるいは
バーコード記号などの識別表示部Ｐを形成したものがあ
った。
【０００５】また、近年、光学的読取装置によってより
多くの情報の読み取りができるようにするために、ある
限られたスペース内に黒点を多数配列して構成した二次
元コード記号と呼ばれる識別表示も採用されるようにな
っていた。
多くの情報の読み取りができるようにするために、ある
限られたスペース内に黒点を多数配列して構成した二次
元コード記号と呼ばれる識別表示も採用されるようにな
っていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記固定用
治具１へのヘッド用基板Ｗの張り付けには一般的にワッ
クスが用いられ、ワックスが溶融する１５０℃〜２５０
℃の温度に加熱した状態でヘッド用基板Ｗの張り付けや
取り外しが行われていた。また、ヘッド用基板Ｗを取り
外した際にワックスが残ったり、ゴミ等が付着している
とヘッド用基板Ｗに悪影響を与えたり、張り付け精度が
阻害されて所定寸法に切断できず、製品不良となるなど
の恐れがあることから、酸やアルカリの溶液で洗浄する
ようになっている。
治具１へのヘッド用基板Ｗの張り付けには一般的にワッ
クスが用いられ、ワックスが溶融する１５０℃〜２５０
℃の温度に加熱した状態でヘッド用基板Ｗの張り付けや
取り外しが行われていた。また、ヘッド用基板Ｗを取り
外した際にワックスが残ったり、ゴミ等が付着している
とヘッド用基板Ｗに悪影響を与えたり、張り付け精度が
阻害されて所定寸法に切断できず、製品不良となるなど
の恐れがあることから、酸やアルカリの溶液で洗浄する
ようになっている。
【０００７】しかしながら、ＹＡＧレーザーにより識別
表示部Ｐを形成したジルコニアセラミック製の固定用治
具１を１５０℃以上の温度に加熱すると、識別表示部Ｐ
の濃淡が徐々に薄くなるといった課題があった。
表示部Ｐを形成したジルコニアセラミック製の固定用治
具１を１５０℃以上の温度に加熱すると、識別表示部Ｐ
の濃淡が徐々に薄くなるといった課題があった。
【０００８】また、速乾性のインクにより識別表示部Ｐ
を形成したアルミナセラミック製の固定用治具１では、
酸やアルカリの溶液で洗浄するとインクが溶けて消失す
るとともに、他の部材と擦られるとインクが削られて剥
げてしまうといった課題があった。
を形成したアルミナセラミック製の固定用治具１では、
酸やアルカリの溶液で洗浄するとインクが溶けて消失す
るとともに、他の部材と擦られるとインクが削られて剥
げてしまうといった課題があった。
【０００９】その為、いずれの固定用治具１も目視によ
る管理や光学的読取装置によるコンピュータ管理ができ
ないといった不都合があった。
る管理や光学的読取装置によるコンピュータ管理ができ
ないといった不都合があった。
【００１０】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明では上記
課題に鑑み、セラミック体の表面に、文字、模様、記
号、図柄などを構成する凹部を刻設し、該凹部の壁面及
び底面に上記セラミック体とは異なる色を呈する硬質膜
を被着して識別表示部を有するセラミック体を形成した
ものである。
課題に鑑み、セラミック体の表面に、文字、模様、記
号、図柄などを構成する凹部を刻設し、該凹部の壁面及
び底面に上記セラミック体とは異なる色を呈する硬質膜
を被着して識別表示部を有するセラミック体を形成した
ものである。
【００１１】また、本発明は、上記セラミック体を白色
系あるいは黄色系のセラミックスにより形成するととも
に、上記セラミック体に刻設した凹部の壁面及び底面の
みに、ダイヤモンド・ライク・カーボン膜、ＳｉＣ膜な
ど黒色系の硬質膜を被着し、識別表示部としてバーコー
ド記号あるいは２次元コード記号を形成したものであ
る。
系あるいは黄色系のセラミックスにより形成するととも
に、上記セラミック体に刻設した凹部の壁面及び底面の
みに、ダイヤモンド・ライク・カーボン膜、ＳｉＣ膜な
ど黒色系の硬質膜を被着し、識別表示部としてバーコー
ド記号あるいは２次元コード記号を形成したものであ
る。
【００１２】さらに、本発明は、上記識別表示部を有す
るセラミック体を製造するために、セラミック体の表面
に、文字、模様、記号、図柄などを構成する凹部を刻設
し、上記セラミック体とは異なる色を呈する硬質膜を、
上記凹部を含むセラミック体の表面に被着したあと、凹
部の壁面及び底面に被着された硬質膜以外の硬質膜を除
去することにより識別表示部を有するセラミック体を製
造したものである。
るセラミック体を製造するために、セラミック体の表面
に、文字、模様、記号、図柄などを構成する凹部を刻設
し、上記セラミック体とは異なる色を呈する硬質膜を、
上記凹部を含むセラミック体の表面に被着したあと、凹
部の壁面及び底面に被着された硬質膜以外の硬質膜を除
去することにより識別表示部を有するセラミック体を製
造したものである。
【００１３】なお、上記セラミック体としては、白色系
のアルミナ、黄色系のジルコニア、黒色系の炭化珪素や
窒化珪素、灰色系の窒化アルミニウムを主成分とするセ
ラミックスを用いることができ、また、上記セラミック
原料に顔料を添加して他の色に着色したものでも構わな
い。
のアルミナ、黄色系のジルコニア、黒色系の炭化珪素や
窒化珪素、灰色系の窒化アルミニウムを主成分とするセ
ラミックスを用いることができ、また、上記セラミック
原料に顔料を添加して他の色に着色したものでも構わな
い。
【００１４】また、上記硬質膜としては非常に硬く、酸
やアルカリの溶液に対して優れた耐薬品性と耐熱性を有
するものが良く、具体的にはダイヤモンド・ライク・カ
ーボン膜、あるいはＳｉＣ、ＨｆＮ、ＺｒＮ、ＴｉＮ、
ＮｂＣ、ＴａＣ、ＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＮなどのセラミッ
ク膜を用いることができる。
やアルカリの溶液に対して優れた耐薬品性と耐熱性を有
するものが良く、具体的にはダイヤモンド・ライク・カ
ーボン膜、あるいはＳｉＣ、ＨｆＮ、ＺｒＮ、ＴｉＮ、
ＮｂＣ、ＴａＣ、ＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＮなどのセラミッ
ク膜を用いることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。
説明する。
【００１６】図１は、本発明の識別表示部を有するセラ
ミック体を薄膜磁気ヘッド用基板の切断加工時に使用す
る固定用治具として用いた例を示す斜視図である。
ミック体を薄膜磁気ヘッド用基板の切断加工時に使用す
る固定用治具として用いた例を示す斜視図である。
【００１７】この固定用治具１は、板状のセラミック体
２からなり、該セラミック体２はアルミナ、ジルコニ
ア、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウムを主成分と
するセラミックスにより形成してある。また、上記セラ
ミック体２の上面をヘッド用基板Ｗの張り付け面３とし
てあり、この張り付け面３には切断時におけるダイヤモ
ンドブレードの逃げ溝３ａを等間隔に刻設してある。
２からなり、該セラミック体２はアルミナ、ジルコニ
ア、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウムを主成分と
するセラミックスにより形成してある。また、上記セラ
ミック体２の上面をヘッド用基板Ｗの張り付け面３とし
てあり、この張り付け面３には切断時におけるダイヤモ
ンドブレードの逃げ溝３ａを等間隔に刻設してある。
【００１８】この固定用治具１を用いてヘッド用基板Ｗ
を切断するには、まず、張り付け面３上にワックスを介
してヘッド用基板Ｗを載置し、１５０℃〜２５０℃程度
に加熱してワックスを溶融させることにより、ヘッド用
基板Ｗを張り付け面３に固定する。そして、ヘッド用基
板Ｗの所定位置をダイヤモンドブレードにより順次切断
して所定寸法の磁気ヘッドＴを切り出したあと、再度１
５０℃〜２５０℃程度に加熱してワックスを溶融させる
ことにより、切断された磁気ヘッドＴを張り付け面３か
ら取り外すようになっている。
を切断するには、まず、張り付け面３上にワックスを介
してヘッド用基板Ｗを載置し、１５０℃〜２５０℃程度
に加熱してワックスを溶融させることにより、ヘッド用
基板Ｗを張り付け面３に固定する。そして、ヘッド用基
板Ｗの所定位置をダイヤモンドブレードにより順次切断
して所定寸法の磁気ヘッドＴを切り出したあと、再度１
５０℃〜２５０℃程度に加熱してワックスを溶融させる
ことにより、切断された磁気ヘッドＴを張り付け面３か
ら取り外すようになっている。
【００１９】また、上記セラミック体２の側面には、バ
ーコード記号や２次元コード記号、あるいは文字、模
様、図柄などの識別表示部Ｐを付設してあり、図２
（ａ）に識別表示部Ｐの拡大図を、（ｂ）にそのＸ−Ｘ
線断面図をそれぞれ示すように、セラミック体２の側面
に識別表示部Ｐを構成する凹部４を刻設するとともに、
該凹部４の壁面４ａ及び底面４ｂにのみ上記セラミック
体２とは異なる色を呈するダイヤモンド・ライク・カー
ボン膜やセラミック膜などの硬質膜５を被着してある。
ーコード記号や２次元コード記号、あるいは文字、模
様、図柄などの識別表示部Ｐを付設してあり、図２
（ａ）に識別表示部Ｐの拡大図を、（ｂ）にそのＸ−Ｘ
線断面図をそれぞれ示すように、セラミック体２の側面
に識別表示部Ｐを構成する凹部４を刻設するとともに、
該凹部４の壁面４ａ及び底面４ｂにのみ上記セラミック
体２とは異なる色を呈するダイヤモンド・ライク・カー
ボン膜やセラミック膜などの硬質膜５を被着してある。
【００２０】このように、本発明によれば、セラミック
体２の表面に凹部４を刻設して識別表示部Ｐの輪郭を形
成するとともに、上記凹部４の壁面４ａ及び底面４ｂに
前記セラミック体２とは異なる色を呈する硬質膜５を被
着して色調を異ならせたことから、輪郭がはっきりとし
た識別表示部Ｐを形成することができる。その為、目視
や光学的読取装置により確実に認識することができる。
体２の表面に凹部４を刻設して識別表示部Ｐの輪郭を形
成するとともに、上記凹部４の壁面４ａ及び底面４ｂに
前記セラミック体２とは異なる色を呈する硬質膜５を被
着して色調を異ならせたことから、輪郭がはっきりとし
た識別表示部Ｐを形成することができる。その為、目視
や光学的読取装置により確実に認識することができる。
【００２１】また、識別表示部Ｐを構成する硬質膜５
は、耐摩耗性、耐熱性、耐薬品性に優れるダイヤモンド
・ライク・カーボン膜やセラミック膜からなるため、他
の部材と擦られたり、加熱されたり、あるいは酸やアル
カリの溶液に曝されたとしても識別表示部Ｐのカスレを
生じたり、消失することがない。その為、上記固定用治
具１のように厳しい条件下での長期使用においても確実
に認識が可能である。
は、耐摩耗性、耐熱性、耐薬品性に優れるダイヤモンド
・ライク・カーボン膜やセラミック膜からなるため、他
の部材と擦られたり、加熱されたり、あるいは酸やアル
カリの溶液に曝されたとしても識別表示部Ｐのカスレを
生じたり、消失することがない。その為、上記固定用治
具１のように厳しい条件下での長期使用においても確実
に認識が可能である。
【００２２】特に、セラミック体２が白色系のアルミナ
セラミックスや黄色系のジルコニアセラミックスからな
る場合、凹部４の壁面４ａ及び底面４ｂにダイヤモンド
・ライク・カーボン膜、ＳｉＣ膜など黒色系の硬質膜５
を被着してバーコード記号や２次元コード記号を形成す
れば、光学的読取装置による認識不良のないものとする
ことができる。
セラミックスや黄色系のジルコニアセラミックスからな
る場合、凹部４の壁面４ａ及び底面４ｂにダイヤモンド
・ライク・カーボン膜、ＳｉＣ膜など黒色系の硬質膜５
を被着してバーコード記号や２次元コード記号を形成す
れば、光学的読取装置による認識不良のないものとする
ことができる。
【００２３】なお、上記ダイヤモンド・ライク・カーボ
ン膜とは別名、ダイヤモンド状硬質炭素膜、合成疑似ダ
イヤモンド膜、ＤＬＣ膜、ｉ−カーボン膜などと呼ばれ
ているもので、表１に示すような特性を有し、その構造
としては、結晶質を若干含んでいても良いが基本的には
非晶質構造をしたものであり、ラマン分光分析で測定し
た時に１３５０ｃｍ-1の位置と１５５０ｃｍ-1の位置の
近傍にそれぞれピークを有するものである。また、ピー
ク位置は１３５０ｃｍ-1か１５５０ｃｍ-1のいずれか一
方に偏っていても良く、好ましくはダイヤモンドのピー
ク位置に近い１３５０ｃｍ-1の方に偏ったものが良い。
ン膜とは別名、ダイヤモンド状硬質炭素膜、合成疑似ダ
イヤモンド膜、ＤＬＣ膜、ｉ−カーボン膜などと呼ばれ
ているもので、表１に示すような特性を有し、その構造
としては、結晶質を若干含んでいても良いが基本的には
非晶質構造をしたものであり、ラマン分光分析で測定し
た時に１３５０ｃｍ-1の位置と１５５０ｃｍ-1の位置の
近傍にそれぞれピークを有するものである。また、ピー
ク位置は１３５０ｃｍ-1か１５５０ｃｍ-1のいずれか一
方に偏っていても良く、好ましくはダイヤモンドのピー
ク位置に近い１３５０ｃｍ-1の方に偏ったものが良い。
【００２４】また、上記セラミック膜としては表１に示
すような黒色系を呈するＳｉＣ、黄色系を呈するＨｆ
Ｎ、ＺｒＮ、金色を呈するＴｉＮ、褐色を呈するＮｂ
Ｃ、ＴａＣ、灰色を呈するＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＮなどを
用いることができる。
すような黒色系を呈するＳｉＣ、黄色系を呈するＨｆ
Ｎ、ＺｒＮ、金色を呈するＴｉＮ、褐色を呈するＮｂ
Ｃ、ＴａＣ、灰色を呈するＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＮなどを
用いることができる。
【００２５】ただし、上記固定用治具１のように加熱さ
れるものにあっては、硬質膜５の剥離を防ぐため、セラ
ミック体２の熱膨張係数に近似したものを用いることが
良い。
れるものにあっては、硬質膜５の剥離を防ぐため、セラ
ミック体２の熱膨張係数に近似したものを用いることが
良い。
【００２６】
【表１】
【００２７】さらに、凹部４に被着する硬質膜５の膜厚
みｔとしては、０．５〜１０．０μｍ、好ましくは０．
５〜３．０μｍとし、ダイヤモンド・ライク・カーボン
膜にあっては０．５〜５．０μｍ、好ましくは０．５〜
２．０μｍとすることが良い。これは、膜厚みｔを１
０．０μｍより厚くすることは成膜に時間がかかりす
ぎ、実用的でないからであり、ダイヤモンド・ライク・
カーボン膜においては、膜厚みｔが５．０μｍより厚く
なると、膜内部の残留応力が大きくなるために剥離し易
くなるからである。また、逆に膜厚みｔを０．５μｍ未
満とするのはこれより薄くなると下地が見えてしまうか
らである。
みｔとしては、０．５〜１０．０μｍ、好ましくは０．
５〜３．０μｍとし、ダイヤモンド・ライク・カーボン
膜にあっては０．５〜５．０μｍ、好ましくは０．５〜
２．０μｍとすることが良い。これは、膜厚みｔを１
０．０μｍより厚くすることは成膜に時間がかかりす
ぎ、実用的でないからであり、ダイヤモンド・ライク・
カーボン膜においては、膜厚みｔが５．０μｍより厚く
なると、膜内部の残留応力が大きくなるために剥離し易
くなるからである。また、逆に膜厚みｔを０．５μｍ未
満とするのはこれより薄くなると下地が見えてしまうか
らである。
【００２８】なお、凹部４の深さｓが１．５ｍｍより深
くなると、凹部４の幅が狭い場合、凹部４の底面に硬質
膜５を被着することが難しくなり、凹部４の深さｓが
０．０２ｍｍより浅くなると、後述する硬質膜５の被着
後における余分な硬質膜５の除去作業において、凹部４
中の硬質膜５が剥離する恐れがある。さらにはセラミッ
ク体２が図１の固定用治具である場合、洗浄工程におい
てワックスや塵埃等をブラシにより除去するのである
が、凹部４の深さｓが０．１ｍｍより浅いと、凹部４の
底面に被着した硬質膜５を傷付ける恐れもある。
くなると、凹部４の幅が狭い場合、凹部４の底面に硬質
膜５を被着することが難しくなり、凹部４の深さｓが
０．０２ｍｍより浅くなると、後述する硬質膜５の被着
後における余分な硬質膜５の除去作業において、凹部４
中の硬質膜５が剥離する恐れがある。さらにはセラミッ
ク体２が図１の固定用治具である場合、洗浄工程におい
てワックスや塵埃等をブラシにより除去するのである
が、凹部４の深さｓが０．１ｍｍより浅いと、凹部４の
底面に被着した硬質膜５を傷付ける恐れもある。
【００２９】その為、凹部４の深さｓは０．０２〜１．
５ｍｍ、好ましくは０．１〜１．５ｍｍの範囲で設ける
ことが良い。
５ｍｍ、好ましくは０．１〜１．５ｍｍの範囲で設ける
ことが良い。
【００３０】ところで、識別表示部Ｐを付設する方法と
しては、まず、セラミック体２の側面に、所望のバーコ
ード記号等を刻設するためのマスクを施し、プラズマエ
ッチングやケミカルエッチング、あるいはショットブラ
ス加工により図３（ａ）に示すように凹部４を刻設する
か、あるいはＹＡＧレーザーによって凹部４を刻設す
る。次に、図３（ｂ）に示すように、プラズマＣＶＤ法
や熱ＣＶＤ法、あるいはスパッタリング法やイオンプレ
ーティング法など周知の薄膜成形手段によって、ダイヤ
モンド・ライク・カーボン、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、
ＮｂＣ、ＴａＣ、ＷＣ、ＭｎＮ、ＴｉＮ、ＴａＮ、Ｚｒ
Ｎ、ＨｆＮのうち上記セラミック体２と異なる色を呈す
る硬質膜５を凹部４を含むセラミック体２の表面に被覆
する。しかるのち、凹部４の壁面４ａ及び底面４ｂに被
着されている硬質膜５以外の硬質膜を研削加工により除
去することで、図２に示すような凹部４にのみ硬質膜５
が被着された識別表示部Ｐを形成することができる。
しては、まず、セラミック体２の側面に、所望のバーコ
ード記号等を刻設するためのマスクを施し、プラズマエ
ッチングやケミカルエッチング、あるいはショットブラ
ス加工により図３（ａ）に示すように凹部４を刻設する
か、あるいはＹＡＧレーザーによって凹部４を刻設す
る。次に、図３（ｂ）に示すように、プラズマＣＶＤ法
や熱ＣＶＤ法、あるいはスパッタリング法やイオンプレ
ーティング法など周知の薄膜成形手段によって、ダイヤ
モンド・ライク・カーボン、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＺｒＣ、
ＮｂＣ、ＴａＣ、ＷＣ、ＭｎＮ、ＴｉＮ、ＴａＮ、Ｚｒ
Ｎ、ＨｆＮのうち上記セラミック体２と異なる色を呈す
る硬質膜５を凹部４を含むセラミック体２の表面に被覆
する。しかるのち、凹部４の壁面４ａ及び底面４ｂに被
着されている硬質膜５以外の硬質膜を研削加工により除
去することで、図２に示すような凹部４にのみ硬質膜５
が被着された識別表示部Ｐを形成することができる。
【００３１】以上のように、本実施形態では、薄膜磁気
ヘッド用基板の切断加工時に使用する固定用治具を例に
とって説明したが、これ以外の研磨加工時や接合時に使
用する固定用治具、研磨台や定盤、あるいはブロックゲ
ージ、切削チップ等の治工具など識別表示部を有する全
てのセラミック体に適用することができる。
ヘッド用基板の切断加工時に使用する固定用治具を例に
とって説明したが、これ以外の研磨加工時や接合時に使
用する固定用治具、研磨台や定盤、あるいはブロックゲ
ージ、切削チップ等の治工具など識別表示部を有する全
てのセラミック体に適用することができる。
【００３２】（実施例）識別表示部としてバーコード記
号を形成した本発明の識別表示部を有するセラミック体
と従来の識別表示部を有するセラミック体とをそれぞれ
用意し、加熱試験及び耐薬品試験を行ったあとに光学的
読取装置（バーコードリーダー）による読み取りができ
るか否かを測定した。
号を形成した本発明の識別表示部を有するセラミック体
と従来の識別表示部を有するセラミック体とをそれぞれ
用意し、加熱試験及び耐薬品試験を行ったあとに光学的
読取装置（バーコードリーダー）による読み取りができ
るか否かを測定した。
【００３３】本発明品及び従来品は、共に淡黄色のジル
コニアセラミックスを用い、本発明品は、ジルコニアセ
ラミックスの表面にＹＡＧレーザーによって深さ１ｍｍ
程度のバーコード記号の輪郭をなす複数個の凹部を形成
した。なお、ＹＡＧレーザーによる凹部の加工は、マー
キング速度：１５０ｍｍ／ｓ、出力電流：２２Ａ、周波
数６ＫＨｚの条件にて行った。
コニアセラミックスを用い、本発明品は、ジルコニアセ
ラミックスの表面にＹＡＧレーザーによって深さ１ｍｍ
程度のバーコード記号の輪郭をなす複数個の凹部を形成
した。なお、ＹＡＧレーザーによる凹部の加工は、マー
キング速度：１５０ｍｍ／ｓ、出力電流：２２Ａ、周波
数６ＫＨｚの条件にて行った。
【００３４】次に、ＥＣＲプラズマＣＶＤ装置のチャン
バー内に設置し、磁束密度が８７５Ｇｓ（ガウス）にな
るように電磁コイルに通電した状態で周波数２．４５Ｇ
Ｈｚのマイクロ波を導入することでプラズマを発生させ
るとともに、ジルコニアセラミックスに周波数１３．５
６ＭＨｚの高周波電圧を印加するとともに、成膜ガスと
してベンゼンガス（Ｃ6 Ｈ6 ）を供給することにより硬
質膜５として黒色を呈するダイヤモンド・ライク・カー
ボン膜を０．８μｍの膜厚みで被覆し、しかるのち、凹
部以外の表面に被覆された硬質膜を研削加工により除去
することで、識別表示部として凹部の側面及び底面にの
み黒色を呈するダイヤモンド・ライク・カーボン膜が被
着されたバーコード記号を形成した。
バー内に設置し、磁束密度が８７５Ｇｓ（ガウス）にな
るように電磁コイルに通電した状態で周波数２．４５Ｇ
Ｈｚのマイクロ波を導入することでプラズマを発生させ
るとともに、ジルコニアセラミックスに周波数１３．５
６ＭＨｚの高周波電圧を印加するとともに、成膜ガスと
してベンゼンガス（Ｃ6 Ｈ6 ）を供給することにより硬
質膜５として黒色を呈するダイヤモンド・ライク・カー
ボン膜を０．８μｍの膜厚みで被覆し、しかるのち、凹
部以外の表面に被覆された硬質膜を研削加工により除去
することで、識別表示部として凹部の側面及び底面にの
み黒色を呈するダイヤモンド・ライク・カーボン膜が被
着されたバーコード記号を形成した。
【００３５】一方、従来品Ａとして、ジルコニアセラミ
ックスの表面にＹＡＧレーザーを照射して黒色に改質さ
せることでバーコード記号を形成したものを用いた。な
お、ＹＡＧレーザーによるマーキング条件は、マーキン
グ速度：２５０ｍｍ／ｓ、出力電流：１３．５Ａ、周波
数２ＫＨｚの条件にて行った。
ックスの表面にＹＡＧレーザーを照射して黒色に改質さ
せることでバーコード記号を形成したものを用いた。な
お、ＹＡＧレーザーによるマーキング条件は、マーキン
グ速度：２５０ｍｍ／ｓ、出力電流：１３．５Ａ、周波
数２ＫＨｚの条件にて行った。
【００３６】また、従来品Ｂとして、ジルコニアセラミ
ックスの表面に、速乾性インクでもって識別表示部とし
てのバーコードを形成したものを使用した。
ックスの表面に、速乾性インクでもって識別表示部とし
てのバーコードを形成したものを使用した。
【００３７】そして、加熱試験では、本発明品及び従来
品Ａ，Ｂを、５０℃、１００℃、１５０℃、２００℃、
２５０℃の各温度にそれぞれ加熱したあとのバーコード
記号を光学的読取装置でもって読み取りができるか否か
を測定した。
品Ａ，Ｂを、５０℃、１００℃、１５０℃、２００℃、
２５０℃の各温度にそれぞれ加熱したあとのバーコード
記号を光学的読取装置でもって読み取りができるか否か
を測定した。
【００３８】また、耐薬品試験では、本発明品及び従来
品Ａ，Ｂを、塩酸を１０％含む溶液と水酸化カリウムを
１０％含む溶液にそれぞれ５時間浸したあとのバーコー
ド記号を光学的測定装置でもって読み取りができるか否
かを測定した。
品Ａ，Ｂを、塩酸を１０％含む溶液と水酸化カリウムを
１０％含む溶液にそれぞれ５時間浸したあとのバーコー
ド記号を光学的測定装置でもって読み取りができるか否
かを測定した。
【００３９】加熱試験の結果は表２に、耐薬品試験の結
果は表３にそれぞれ示す通りである。
果は表３にそれぞれ示す通りである。
【００４０】
【表２】
【００４１】
【表３】
【００４２】これらの結果、従来品Ａは、ワックスを溶
融させるのに必要な１５０℃以上に加熱するとバーコー
ド記号の濃淡が薄くなり、光学的測定装置の読み取りが
できなかった。
融させるのに必要な１５０℃以上に加熱するとバーコー
ド記号の濃淡が薄くなり、光学的測定装置の読み取りが
できなかった。
【００４３】また、従来品Ｂでは、塩酸溶液や水酸化カ
リウム溶液に曝されると、インクが溶けて消失してしま
い、光学的測定装置の読み取りができなかった。
リウム溶液に曝されると、インクが溶けて消失してしま
い、光学的測定装置の読み取りができなかった。
【００４４】これに対し、本発明品は、２５０℃もの高
温に加熱しても識別表示部の濃淡が薄くなるようなこと
はなく、また、塩酸溶液や水酸化カリウム溶液に曝され
たとしても腐食することもなく、光学的読取装置による
読み取りが可能であった。
温に加熱しても識別表示部の濃淡が薄くなるようなこと
はなく、また、塩酸溶液や水酸化カリウム溶液に曝され
たとしても腐食することもなく、光学的読取装置による
読み取りが可能であった。
【００４５】なお、本発明品においてセラミック体２の
凹部４の深さｓを異ならせてダイヤモンド・ライク・カ
ーボンからなる硬質膜５を被着する実験を行ったとこ
ろ、凹部４の深さｓが０．０１ｍｍ、０．０１５ｍｍの
ものでは凹部４以外に被着された硬質膜５を除去する時
に、部分的に硬質膜５の剥離が見られたが、凹部４の深
さｓを０．０２ｍｍ以上としたものについては硬質膜５
の剥離は全く見られなかった。
凹部４の深さｓを異ならせてダイヤモンド・ライク・カ
ーボンからなる硬質膜５を被着する実験を行ったとこ
ろ、凹部４の深さｓが０．０１ｍｍ、０．０１５ｍｍの
ものでは凹部４以外に被着された硬質膜５を除去する時
に、部分的に硬質膜５の剥離が見られたが、凹部４の深
さｓを０．０２ｍｍ以上としたものについては硬質膜５
の剥離は全く見られなかった。
【００４６】この結果、凹部４の深さｓは０．０２ｍｍ
以上とすれば良いことが確認できた。
以上とすれば良いことが確認できた。
【００４７】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、セラミ
ック体の表面に文字、模様、記号、図柄などを構成する
凹部を刻設し、該凹部の壁面及び底面のみに上記セラミ
ック体とは異なる色を呈する硬質膜を被着して識別表示
部を有するセラミック体を構成したことから、輪郭のは
っきりした識別表示部が得られ、目視や光学的読取装置
によって確実に認識することができる。しかも、繰り返
し加熱したり、酸やアルカリの溶液で洗浄したとしても
識別表示部のカスレを生じたり、消失することがなく、
また、識別表示部が他の部材と擦られたとしても摩耗す
ることがない。
ック体の表面に文字、模様、記号、図柄などを構成する
凹部を刻設し、該凹部の壁面及び底面のみに上記セラミ
ック体とは異なる色を呈する硬質膜を被着して識別表示
部を有するセラミック体を構成したことから、輪郭のは
っきりした識別表示部が得られ、目視や光学的読取装置
によって確実に認識することができる。しかも、繰り返
し加熱したり、酸やアルカリの溶液で洗浄したとしても
識別表示部のカスレを生じたり、消失することがなく、
また、識別表示部が他の部材と擦られたとしても摩耗す
ることがない。
【００４８】その為、本発明の識別表示部を有するセラ
ミック体を、薄膜磁気ヘッド用基板や半導体ウエハなど
の被加工物の研磨台、定盤、その他各種加工時に使用す
る固定用治具、あるいはブロックゲージ、切削チップ等
の治工具として用いれば、目視による管理や光学的読取
装置を用いてのコンピューター管理を長期間にわって行
うことができる。
ミック体を、薄膜磁気ヘッド用基板や半導体ウエハなど
の被加工物の研磨台、定盤、その他各種加工時に使用す
る固定用治具、あるいはブロックゲージ、切削チップ等
の治工具として用いれば、目視による管理や光学的読取
装置を用いてのコンピューター管理を長期間にわって行
うことができる。
【００４９】また、本発明の識別表示部を有するセラミ
ック体は、セラミック体の表面に、文字、模様、記号、
図柄などを構成する凹部を刻設し、上記セラミック体と
は異なる色を呈する硬質膜を、上記凹部を含むセラミッ
ク体の表面に被覆したあと、セラミック体表面上の硬質
膜を除去し、凹部の壁面及び底面に被着された硬質膜の
みを残して識別表示部を形成してあることから、耐熱
性、耐薬品性、耐摩耗性を持った識別表示部を有するセ
ラミック体を容易に製造することができる。
ック体は、セラミック体の表面に、文字、模様、記号、
図柄などを構成する凹部を刻設し、上記セラミック体と
は異なる色を呈する硬質膜を、上記凹部を含むセラミッ
ク体の表面に被覆したあと、セラミック体表面上の硬質
膜を除去し、凹部の壁面及び底面に被着された硬質膜の
みを残して識別表示部を形成してあることから、耐熱
性、耐薬品性、耐摩耗性を持った識別表示部を有するセ
ラミック体を容易に製造することができる。
【図１】本発明の識別表示部を有するセラミック体を薄
膜磁気ヘッド用基板の切断加工時に使用する固定用治具
として用いた例を示す斜視図である。
膜磁気ヘッド用基板の切断加工時に使用する固定用治具
として用いた例を示す斜視図である。
【図２】（ａ）は識別表示部Ｐを示す拡大図、（ｂ）は
そのＸ−Ｘ線断面図である。
そのＸ−Ｘ線断面図である。
【図３】（ａ），（ｂ）は本発明の識別表示部を有する
セラミック体の製造工程を示す説明図である。
セラミック体の製造工程を示す説明図である。
Claims (3)
- 【請求項１】セラミック体の表面に、文字、模様、記
号、図柄などを構成する凹部を刻設し、該凹部の壁面及
び底面にのみ上記セラミック体とは異なる色を呈する硬
質膜を被着して識別表示部を形成したことを特徴とする
識別表示部を有するセラミック体。 - 【請求項２】上記セラミック体を白色系あるいは黄色系
のセラミックスにより形成するとともに、上記セラミッ
ク体に刻設する凹部の壁面及び底面にのみ、ダイヤモン
ド・ライク・カーボン膜、ＳｉＣ膜など黒色系の硬質膜
を被着し、識別表示部としてバーコード記号あるいは２
次元コード記号を形成したことを特徴とする請求項１に
記載の識別表示部を有するセラミック体。 - 【請求項３】セラミック体の表面に、文字、模様、記
号、図柄などを構成する凹部を刻設し、上記セラミック
体とは異なる色を呈する硬質膜を、上記凹部を含むセラ
ミック体の表面に被着したあと、凹部の壁面及び底面に
被着された硬質膜以外の硬質膜を除去することにより識
別表示部を形成することを特徴とする識別表示部を有す
るセラミック体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29445197A JPH11130566A (ja) | 1997-10-27 | 1997-10-27 | 識別表示部を有するセラミック体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29445197A JPH11130566A (ja) | 1997-10-27 | 1997-10-27 | 識別表示部を有するセラミック体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11130566A true JPH11130566A (ja) | 1999-05-18 |
Family
ID=17807960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29445197A Pending JPH11130566A (ja) | 1997-10-27 | 1997-10-27 | 識別表示部を有するセラミック体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11130566A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6212761B1 (en) | 1997-10-28 | 2001-04-10 | Tdk Corporation | Method for manufacturing thin-film magnetic head |
| JP2003170111A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-17 | Hitachi Ltd | カラーマーキング方法およびマーキングされた筐体部品 |
| JP2007532965A (ja) * | 2004-04-14 | 2007-11-15 | サン−ゴバン グラス フランス | マーキング要素を備えるグレージング、グレージング識別方法およびその識別システム |
| CN109530925A (zh) * | 2017-09-22 | 2019-03-29 | 汉达精密电子(昆山)有限公司 | 镭雕二维码的结构 |
-
1997
- 1997-10-27 JP JP29445197A patent/JPH11130566A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6212761B1 (en) | 1997-10-28 | 2001-04-10 | Tdk Corporation | Method for manufacturing thin-film magnetic head |
| US6678939B2 (en) | 1997-10-28 | 2004-01-20 | Tdk Corporation | System for manufacturing a thin film magnetic head |
| JP2003170111A (ja) * | 2001-12-06 | 2003-06-17 | Hitachi Ltd | カラーマーキング方法およびマーキングされた筐体部品 |
| JP2007532965A (ja) * | 2004-04-14 | 2007-11-15 | サン−ゴバン グラス フランス | マーキング要素を備えるグレージング、グレージング識別方法およびその識別システム |
| CN109530925A (zh) * | 2017-09-22 | 2019-03-29 | 汉达精密电子(昆山)有限公司 | 镭雕二维码的结构 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101038440B (zh) | 以liga工艺制造单层或多层金属结构体的方法及获得的结构体 | |
| JP2006309143A (ja) | マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、及びマスクブランクス | |
| KR100697899B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 | |
| KR19980080075A (ko) | 레이저 마크를 갖는 웨이퍼 | |
| JP2012190044A (ja) | マスクブランクスおよびマスクブランクスの製造方法 | |
| EP0983152B1 (en) | Marking diamond | |
| JPH11130566A (ja) | 識別表示部を有するセラミック体及びその製造方法 | |
| EP2281692A2 (en) | Thermal head and manufacturing method for the thermal head | |
| JPS63134679A (ja) | 電子的構成要素を形成するためレ−ザを使用するリソグラフィック方法 | |
| JP3694768B2 (ja) | レーザマーキング方法 | |
| EP0368372A1 (en) | Method of producing a metal matrix | |
| JP2005272187A (ja) | 光学素子用の成形型及びその再生方法 | |
| JP2002176012A (ja) | ダイシング装置およびダイシング方法 | |
| JPH02204345A (ja) | ガラス基板 | |
| EP0416938B1 (en) | Method of producing a core for magnetic head | |
| US20050263806A1 (en) | Die for forming an optical element, and production method as well as regeneration method of the same | |
| CN110587218A (zh) | 一种激光除痕系统的除痕方法 | |
| WO2000076583A1 (en) | Method apparatus and article of manufacture for a branding diamond branding with a focused ion beam | |
| JP2001035112A (ja) | 磁気ヘッドスライダ | |
| JPH08138223A (ja) | 薄膜磁気ヘッドスライダの製造方法 | |
| CN103129156A (zh) | 热敏头的制造方法和热敏打印机 | |
| JPH052779A (ja) | スタンパーの製造方法 | |
| Wittek et al. | Process Development for Batch Production of Micro-Milling Tools Made of Silicon Carbide by Means of the Dry Etching Process. Micromachines 2023, 14, 580 | |
| JPH0852882A (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
| DE69014690T2 (de) | Methode zur Herstellung eines Substrates für einen Flüssigkeitsstrahl-Aufzeichnungskopf. |