JPH11130484A - セメント原料調合制御方法及び装置 - Google Patents

セメント原料調合制御方法及び装置

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JPH11130484A
JPH11130484A JP9289474A JP28947497A JPH11130484A JP H11130484 A JPH11130484 A JP H11130484A JP 9289474 A JP9289474 A JP 9289474A JP 28947497 A JP28947497 A JP 28947497A JP H11130484 A JPH11130484 A JP H11130484A
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JP9289474A
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English (en)
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Naoki Morihira
直樹 森平
Kazuhiro Tsukuda
和弘 佃
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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    • B28CPREPARING CLAY; PRODUCING MIXTURES CONTAINING CLAY OR CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28C7/00Controlling the operation of apparatus for producing mixtures of clay or cement with other substances; Supplying or proportioning the ingredients for mixing clay or cement with other substances; Discharging the mixture
    • B28C7/02Controlling the operation of the mixing
    • B28C7/022Controlling the operation of the mixing by measuring the consistency or composition of the mixture, e.g. with supply of a missing component
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B7/00Hydraulic cements
    • C04B7/36Manufacture of hydraulic cements in general
    • C04B7/361Condition or time responsive control in hydraulic cement manufacturing processes
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
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    • B01F35/21Measuring
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    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 セメント原料の最適調合のための自動制御方
法及び装置を提供する。 【解決手段】 (1) セメント原料が調合されるミル系の
出側で得られるサンプル原料の成分含有率を測定して混
合原料の水硬率HM、珪酸率SM、鉄率IMのモジュラ
ス実測値15を求め、(2) 原料の切り出し量18及びミ
ル系通過特性モデル24、原料成分含有率測定器通過特
性モデル23と、予め設定した調合に供する原料の成分
含有率、とから前記サンプリング時のミル系出側のモジ
ュラス推定値22を求め、(3) 該モジュラス推定値22
と前記モジュラス実測値15の差からモジュラス偏差値
30を求め、モジュラス予測値27が予め定められた目
標とする値13に対して追従することにより、原石切り
出し量18を計算するようにしたものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、セメント原料の最
適調合のための自動制御方法及び装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】セメント製造プラントの原料調合制御系
は、例えば図4に示す構成を有している。図4におい
て、符号1,2は、それぞれ種類の異なるセメント原料
を収納する収納ホッパを図示する。図4に示すように、
セメント原料は、この収納ホッパ1,2からフィードウ
ェア3,4によって所定量ずつ切り出して調合され、ベ
ルトコンベア5により原料粉砕ミル6に導かれてここで
粉砕される。該原料粉砕ミル6で粉砕された原料は、バ
ケットエレベータ7を介してセパレータ8に導かれる。
該セパレータ8では調合原料は分級され、その粗粉は再
び原料の粉砕ミル6に送られ、粗粉を除かれた調合原料
は、成分分析計9を介してブレンディングサイロへと導
かれる。
【0003】一方、成分分析計9に供給された調合原料
の含有成分(CaO,SiO2 ,Al2 3 ,Fe2
3 )比データは、電子計算機10に供給される。電子計
算機10には、フィードウェア3,4に設けられた切出
量検出器11,12で検出された各々のセメント原料の
切出し量が記録される。
【0004】従来の調合制御の機能ブロック図を図5に
示す。図5において、まず目標とするモジュラス値13
と、実際に成分分析計9から計測された値から計算した
モジュラス実測値15との偏差を計算する。前記モジュ
ラス値13には、水硬率HM,珪酸率SM,鉄率IMが
あり、それぞれ下記式(1)〜(3)の通り定義されて
いる。 水硬率HM=(CaO)/(SiO2 +Al2 3 +Fe2 3 ) …(1) 珪酸率SM=(SiO2 )/(Al2 3 +Fe2 3 ) …(2) 鉄率IM=(Al2 3 )/(Fe2 3 )) …(3)
【0005】前記偏差が一定以上になれば、調合計算に
用いる原石の代表成分含有率19を基に、調合計算に用
いる原石成分含有率の推定計算16を実施し、調合計算
に用いる原石成分含有率を更新する。そしてこれらによ
り得られる原石成分含有率推定値20と、モジュラス値
の実値と目標値との偏差21とから、モジュラス値を目
標値と一致させる原石の切出量の計算を、成分比率(モ
ジュラス値の定義式のこと)の式と物質収支の式から成
る連立方程式17を解くことで行い、フィードウェア
3,4に出力している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この際、従来技術では
以下の問題点があった。1つは、調合に供する原石の成
分の推定値20が実際のものとズレていることにより、
計算される切出量も間違ったものになることであり、も
う1つは、調合後の原料の成分分析計の計測値が大きく
ばらついたとき等に、成分比率の式と物質収支の式から
成る連立方程式17が、フィードウェア3,4の能力を
満足した解をもたないケースがあることである。この中
には、原石の成分の含有率の推定値20が負になる可能
性もある、という事情が含まれている。
【0007】原石の数が、連立方程式の数と一致してい
れば通常、解は存在する。特に、原料の組成変動が小さ
いとき、前記連立方程式の解はフィードウェアの能力の
範囲内に収まる解となる。しかしながら、原料の組成変
動が大きいとき、すなわち一部の原石の成分が大きく変
化したとき、前記連立方程式の解はフィードウェアの能
力の範囲内に収まる解でなくなる。このような場合でも
原料調合制御を中止するわけにはいかないので、計算機
から警報を発し、原石供給量の設定を自動から手動に切
り替え、それ以降は人間の判断にて原料調合を実施して
いた。このような場合、人間の判断で調合制御を行う
と、一般的には個人差が大きく現れる、という問題があ
る。
【0008】また、供給原石の数が前記連立方程式の数
に比較して多かったり、少なかったりすると、前記連立
方程式の解は無限個の解をもったり、あるいは解を持た
なかったりする。この場合は、連立方程式を解く方法は
成り立たないため、手動運転に頼らざるを得ない。計算
機で制御を行うとしても、3種類のモジュラス値(水硬
率HM、珪酸率SM、鉄率IM)全てを考慮せず、この
うちの水硬率HMのみの制御を行う、等といったことし
かできなかった。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する[請
求項1]の発明は、セメント原料が調合されるミル系の
出側で得られるサンプル原料の成分含有率を測定して混
合原料の水硬率HM、珪酸率SM、鉄率IMのモジュラ
ス実測値を求め、前記原料の切り出し量及びミル系通過
特性モデル、原料成分含有率測定器通過特性モデルと、
予め設定した調合に供する原料の成分含有率、とから前
記サンプリング時のミル系出側のモジュラス推定値を求
め、該モジュラス推定値と前記モジュラス実測値の差か
らモジュラス偏差値を求め、一方、前記原料切り出し量
及び予め設定した調合に供する原料の成分含有率、とか
ら算出されるミル系出側のモジュラス将来値に対して、
前記モジュラス偏差値にノイズ除去フィルタを通した値
を加算することで、切り出し量計算に用いる、モジュラ
ス予測値を求め、複数のモジュラス値の兼ね合いを考慮
し、かつ調合に供する原料の供給機の能力を考慮しつ
つ、前記モジュラス該予測値が予め定められた目標とす
る値に対して追従することにより、原石切り出し量を計
算することを特徴とする。
【0010】[請求項2]の発明は、請求項1におい
て、各種モジュラス値の、目標値に対する一致を図るた
めの調整、およびフィードウェアの急激な変動を抑制す
るための調整を、オンラインで実施することを特徴とす
る。
【0011】[請求項3]の発明は、セメント原料が調
合されるミル系の出側で得られるサンプル原料の成分含
有率を測定して混合原料の水硬率HM、珪酸率SM、鉄
率IMのモジュラス実測値を得る手段と、前記原料の切
り出し量及びミル系通過特性モデル、原料成分含有率測
定器通過特性モデルと、予め設定した調合に供する原料
の成分含有率、とから前記サンプリング時のミル系出側
のモジュラス推定値を得る手段と、該モジュラス推定値
と前記モジュラス実測値の差からモジュラス偏差値を求
める手段と、前記原料切り出し量及び予め設定した調合
に供する原料の成分含有率、とから算出されるミル系出
側のモジュラス将来値に対して、前記モジュラス偏差値
にノイズ除去フィルタを通した値を加算することで、切
り出し量計算に用いる、モジュラス予測値を得る手段
と、前記モジュラス実測値を得る手段と、モジュラス推
定値を得る手段と、モジュラス偏差値を求める手段と、
モジュラス予測値を得る手段とから入力された情報から
原石の切り出し量を計算する制御手段とを具備し、前記
制御手段は複数のモジュラス値の兼ね合いを考慮し、か
つ調合に供する原料の供給機の能力を考慮しつつ、前記
モジュラス該予測値が予め定められた目標とする値に対
して追従することにより、原石切り出し量を計算するこ
とを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0013】図1は本実施の形態にかかる調合制御の機
能ブロック図である。図1に示すように、本実施の形態
にかかるセメント原料調合制御方法は、(1) セメント原
料が調合されるミル系の出側で得られるサンプル原料の
成分含有率を測定して混合原料の水硬率HM、珪酸率S
M、鉄率IMのモジュラス実測値(15)を求め、(2)
原料の切り出し量(18)及びミル系通過特性モデル
(24)、原料成分含有率測定器通過特性モデル(2
3)と、予め設定した調合に供する原料の成分含有率、
とから前記サンプリング時のミル系出側のモジュラス推
定値(22)を求め、(3) 該モジュラス推定値(22)
と前記モジュラス実測値(15)の差からモジュラス偏
差値(30)を求め、(4) 一方、前記原料切り出し量
(18)及び予め設定した調合に供する原料の成分含有
率、とから算出されるミル系出側のモジュラス将来値
(28)に対して、前記モジュラス偏差値(30)にノ
イズ除去フィルタ(29)を通した値を加算すること
で、原石切り出し量(18)の計算に用いる、モジュラ
ス予測値(27)を求め、(5) 複数のモジュラス値の兼
ね合いを考慮し、かつ調合に供する原料の供給機の能力
を考慮しつつ、前記モジュラス該予測値(27)が予め
定められた目標とする値(13)に対して追従すること
により、原石切り出し量(18)を計算するようにした
ものである。
【0014】前記処理は、下記の5ステップから構成さ
れる。 <ステップ>セメント原料が調合されるミル系の出側
で得られるサンプル原料の成分含有率を測定して混合原
料の水硬率HM、珪酸率SM、鉄率IMのモジュラス実
測値(15)を得る第1ステップ <ステップ>原料の切り出し量(18)及びミル系通
過特性モデル(24)、原料成分含有率測定器通過特性
モデル(23)と、予め設定した調合に供する原料の成
分含有率、とから前記サンプリング時のミル系出側のモ
ジュラス推定値(22)を得る第2ステップ <ステップ>該モジュラス推定値(22)と前記モジ
ュラス実測値(15)の差からモジュラス偏差値(3
0)を求める第3ステップ <ステップ>前記原料切り出し量(18)及び予め設
定した調合に供する原料の成分含有率、とから算出され
るミル系出側のモジュラス将来値(28)に対して、前
記モジュラス偏差値(30)にノイズ除去フィルタ(2
9)を通した値を加算することで、切り出し量計算に用
いる、モジュラス予測値(27)を得る第4ステップ <ステップ>前記第1乃至第4のステップの情報から
原石の切り出し量を計算する制御手段である原石切り出
し量計算機構(26)により、複数のモジュラス値の兼
ね合いを考慮し、かつ調合に供する原料の供給機の能力
を考慮しつつ、前記モジュラス予測値(30)が予め定
められた目標とするモジュラス目標値(13)に対して
追従することにより、原石切り出し量(18)を計算す
る第5ステップ
【0015】本実施の形態の内容を図1に沿って説明す
る。これは、前述した図4における計算機10の内部に
関するものである。図1及び図4に示すように、セメン
ト原料が調合されるミル系出側で得られるサンプル原料
の成分含有率を、成分分析計9にて測定して調合原料の
水硬率HM、珪酸率SM、鉄率IMのモジュラス実測値
15を得る。また、原石切り出し量18、調合に供する
原料の成分含有率19とからこの切り出し量で調合した
ときの成分含有率を用いてモジュラス将来値28を計算
し、このモジュラス値に対してミル系通過特性モデル2
4、成分分析計通過特性モデル23を通してサンプリン
グ時のミル系出側のモジュラス推定値22を計算する。
【0016】原石切り出し量の計算に当たっては、各モ
ジュラス予測値27が、それぞれのモジュラス目標値に
対して、最も大きなズレを生じているモジュラス値に着
目して、そのズレを小さくするように原石切り出し量を
計算するが、このモジュラス予測値27の計算に当たっ
ては、モジュラス将来値28をそのまま使わず、モジュ
ラス推定値22と、モジュラス実測値25との差からモ
ジュラス偏差値30を求め、これにノイズ除去フィルタ
29を通した値を、モジュラス将来値28に加算し、モ
ジュラス予測値21を求める。
【0017】原石切り出し量計算機構26では、モジュ
ラス予測値27が、モジュラス目標値13になるべく近
くなるように、かつ原石切り出し量の急激な変動を抑制
する方向で、かつフィードウェア3,4の能力の範囲内
での最適な原石切り出し量18を、以下のように計算す
る。
【0018】すなわち、下記数1に示す(1)式に示さ
れる要素
【数1】 のうち、最も大きいものを、
【数2】 で定義される範囲内で、最小化するように、原石切り出
し量fi を数理計画法を応用することで計算する。
【0019】これは、モジュラス値の目標値からの偏差
の最も大きいものを、最小化する切り出し量を、フィー
ドウェアの能力の範囲内で、切り出し量の急激な変化を
抑制した上で、計算することを意味している。
【0020】(1)式において、水硬率HMへの追従性
を他のモジュラス値よりも重視する場合は、wHMの値を
大きくとれば良い。
【0021】なお、本方法に基づいて計算を行った結果
を、図2,3に示す。図2,3では、供給原石の数(す
なわち、フィードウェアの数)は3つである。各供給原
石の成分含有率は下記の表1に示す通りのものを用い
た。
【0022】
【表1】
【0023】上表で、F1を基本原料とし、F2はCa
Oの主な調整用供給源、F3はFe 2 3 の主な調整用
供給源として使用した。図2、図3は供給原石F1中の
CaOが調合計算に用いる原石成分含有率よりも+10
%ズレた、外乱が入った場合の性能計算の結果である。
【0024】まず図2では、F2の量を調整してCaO
を下げる試みをした例についての計算を行った結果であ
る。これは、IM,SMを重視した時の運転方法であ
る。この場合、CaOの調整用供給源であるF2の供給
量が下限にかかっているためにHMをこれ以上下げるこ
とができていない。F1をもっと下げてF3を上げれば
水硬率HMはもっと下げることができるが、この場合、
SMの設定値からのズレが大きくなる。水硬率HM,珪
酸率SM,鉄率IMの3つのモジュラス値の中で、(鉄
率IM,珪酸率SMを重視した場合の)適切な原石の切
出量として、F1,F2,F3が計算されていることが
図2から分かる。逆に水硬率HMを重視する操業で、も
っと水硬率HMの設定値への追従性を上げたいときは、
水硬率HMにかかる重み係数を大きくとれば良い。図3
は、水硬率HMの重みを大きくした場合の結果である。
図2よりも水硬率HMが設定値に追従できるように調整
できていることが確認できる。但し、鉄率IMの設定値
からのズレ(オフセット)は大きくなる。
【0025】これより、フィードウェアの能力の限界を
考慮した上で、目標値に近ずいた最適な切り出し量を計
算できていることが確認できる。なお、同実施例では、
3原料の場合について説明したが、本発明はこれに限定
されず、この他にも2原料、4原料、5原料、もしくは
それ以上の原料数に対しても適用可能であることはいう
までもない。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、セメ
ント原料が調合されるミル系の出側で得られるサンプル
原料の成分含有率を測定して混合原料の水硬率HM、珪
酸率SM、鉄率IMのモジュラス実測値を求め、前記原
料の切り出し量及びミル系通過特性モデル、原料成分含
有率測定器通過特性モデルと、予め設定した調合に供す
る原料の成分含有率、とから前記サンプリング時のミル
系出側のモジュラス推定値を求め、該モジュラス推定値
と前記モジュラス実測値の差からモジュラス偏差値を求
め、一方、前記原料切り出し量及び予め設定した調合に
供する原料の成分含有率、とから算出されるミル系出側
のモジュラス将来値に対して、前記モジュラス偏差値に
ノイズ除去フィルタを通した値を加算することで、切り
出し量計算に用いる、モジュラス予測値を求め、複数の
モジュラス値の兼ね合いを考慮し、かつ調合に供する原
料の供給機の能力を考慮しつつ、前記モジュラス該予測
値が予め定められた目標とする値に対して追従すること
により、原石切り出し量を計算するするので、調合に供
する原石の成分の推定値が実際のものとズレていること
に対しては、このズレをモジュラス実測値とモジュラス
推定値のズレとして捉え、このズレ(モジュラス偏差
値)を、前記調合に供する原石の成分の推定値に基づい
て計算されたモジュラス将来値の補正に反映させること
で解決を図っている。
【0027】また、切り出し量計算に当たっては、対象
をフィードウェアの能力を陽に考慮した形で定式化し、
その条件のもとで数理計画問題を解く形式を採用するこ
とで、原料の組成変動が大きいとき、すなわち一部の原
石の成分が大きく変化したときでも、フィードウェアの
能力の範囲内に収まる切り出し量を計算できるようにな
った。このことは、供給原石の数が前記連立方程式の数
に比較して多かったり、少なかったりする場合に対して
も、定式化された条件を満足する解(原石切り出し量)
を与えることを可能とした。
【0028】なお、この切り出し量計算に当たっては、
各種モジュラス値(水硬率HM、珪酸率SM、鉄率I
M)のうち目標値との一致を重視したいものに対しては
重み調整パラメータを大きくとることで直感を反映した
調整が可能になり、かつ、原石切出し量の急激な変動を
避けたいのなら、フィードウェアに関する重み調整パラ
メータの値を大きくとることで調整することが可能であ
る。
【0029】また、セメント原料調合制御方法におい
て、各種モジュラス値の、目標値に対する一致を図るた
めの調整、およびフィードウェアの急激な変動を抑制す
るための調整を、オンラインで実施するので、外乱が生
じた際にもセメント原料の調合の迅速な対応を図ること
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の調合制御の機能ブロック図。
【図2】本発明の調合制御の実施結果(その1)
【図3】本発明の調合制御の実施結果(その2)
【図4】セメント製造プラントの原料調合制御系構成
図。
【図5】従来の調合制御の機能ブロック図。
【符号の説明】
1,2 収納ホッパ 3,4 フィードウェア 5 ベルトコンベア 6 原料粉砕ミル 7 バケットエレベータ 8 セパレータ 9 成分分析計 10 電子計算機 13 モジュラス目標値 14 モジュラス変換 15 モジュラス実測値 18 原料の切り出し量 19 調合に供する原料の成分含有量 22 モジュラス推定値 23 原料成分含有率測定器通過特性モデル 24 ミル系通過特性モデル 25 モジュラス変換 26 原石切り出し量計算機構 27 モジュラス予測値 28 モジュラス将来値 29 ノイズ除去フィルタ 30 モジュラス偏差値

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セメント原料が調合されるミル系の出側
    で得られるサンプル原料の成分含有率を測定して混合原
    料の水硬率HM、珪酸率SM、鉄率IMのモジュラス実
    測値を求め、 前記原料の切り出し量及びミル系通過特性モデル、原料
    成分含有率測定器通過特性モデルと、予め設定した調合
    に供する原料の成分含有率、とから前記サンプリング時
    のミル系出側のモジュラス推定値を求め、 該モジュラス推定値と前記モジュラス実測値の差からモ
    ジュラス偏差値を求め、 一方、前記原料切り出し量及び予め設定した調合に供す
    る原料の成分含有率、とから算出されるミル系出側のモ
    ジュラス将来値に対して、前記モジュラス偏差値にノイ
    ズ除去フィルタを通した値を加算することで、切り出し
    量計算に用いる、モジュラス予測値を求め、 複数のモジュラス値の兼ね合いを考慮し、かつ調合に供
    する原料の供給機の能力を考慮しつつ、前記モジュラス
    該予測値が予め定められた目標とする値に対して追従す
    ることにより、原石切り出し量を計算することを特徴と
    するセメント原料調合制御方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載したセメント原料調合制
    御方法において、 各種モジュラス値の、目標値に対する一致を図るための
    調整、およびフィードウェアの急激な変動を抑制するた
    めの調整を、オンラインで実施することを特徴とするセ
    メント原料調合制御方法。
  3. 【請求項3】 セメント原料が調合されるミル系の出側
    で得られるサンプル原料の成分含有率を測定して混合原
    料の水硬率HM、珪酸率SM、鉄率IMのモジュラス実
    測値を得る手段と、 前記原料の切り出し量及びミル系通過特性モデル、原料
    成分含有率測定器通過特性モデルと、予め設定した調合
    に供する原料の成分含有率、とから前記サンプリング時
    のミル系出側のモジュラス推定値を得る手段と、 該モジュラス推定値と前記モジュラス実測値の差からモ
    ジュラス偏差値を求める手段と、 前記原料切り出し量及び予め設定した調合に供する原料
    の成分含有率、とから算出されるミル系出側のモジュラ
    ス将来値に対して、前記モジュラス偏差値にノイズ除去
    フィルタを通した値を加算することで、切り出し量計算
    に用いる、モジュラス予測値を得る手段と、 前記モジュラス実測値を得る手段と、モジュラス推定値
    を得る手段と、モジュラス偏差値を求める手段と、モジ
    ュラス予測値を得る手段とから入力された情報から原石
    の切り出し量を計算する制御手段とを具備し、 前記制御手段は複数のモジュラス値の兼ね合いを考慮
    し、かつ調合に供する原料の供給機の能力を考慮しつ
    つ、前記モジュラス該予測値が予め定められた目標とす
    る値に対して追従することにより、原石切り出し量を計
    算することを特徴とするセメント原料調合制御装置。
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