JPH11121660A - Semiconductor device and manufacturing method therefor - Google Patents

Semiconductor device and manufacturing method therefor

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JPH11121660A
JPH11121660A JP9280158A JP28015897A JPH11121660A JP H11121660 A JPH11121660 A JP H11121660A JP 9280158 A JP9280158 A JP 9280158A JP 28015897 A JP28015897 A JP 28015897A JP H11121660 A JPH11121660 A JP H11121660A
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JP
Japan
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heat
semiconductor device
radiator
back surface
chip
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Application number
JP9280158A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Miwa
孝志 三輪
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11121660A publication Critical patent/JPH11121660A/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/13001Core members of the bump connector
    • H01L2224/13099Material
    • H01L2224/131Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
    • H01L2224/13138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/13144Gold [Au] as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/0201Thermal arrangements, e.g. for cooling, heating or preventing overheating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/341Surface mounted components
    • H05K3/3431Leadless components
    • H05K3/3436Leadless components having an array of bottom contacts, e.g. pad grid array or ball grid array components

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device and its manufacturing method which is capable of effective thermal diffusion, even when there is no spatial margin for equipping a heat radiating fan. SOLUTION: A semiconductor device comprises a gold bump (metallic bump) 2 on a surface of an LSI chip (semiconductor chip) 1 which is electrically connected with a surface of a package substrate 3 of a solder bump 4 on a rear surface of the package substrate 3 which is electrically connected with a mounting substrate 5. A heat-radiating body 6 is made to contact a rear surface of the LSI chip 1 via a thermal conductive medium 7, and a part of the heat- radiating body 6 is fixed on the mounting substrate 5.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置および
その製造方法に関し、特に、放熱フィンを取り付けるた
めの空間的余裕がない場合でも、効率的に熱を拡散でき
る半導体集積回路装置などの半導体装置およびその製造
方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a semiconductor device such as a semiconductor integrated circuit device capable of efficiently diffusing heat even when there is not enough space for attaching a radiation fin. And a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】ところで、本発明者は、半導体集積回路
装置の実装技術について検討した。以下は、本発明者に
よって検討された技術であり、その概要は次のとおりで
ある。
2. Description of the Related Art The present inventors have studied a mounting technique for a semiconductor integrated circuit device. The following is a technique studied by the present inventors, and the outline is as follows.

【0003】すなわち、最近のLSI(Large Scale In
tegrated Circuit)などの半導体集積回路装置におい
て、ワークステーションやパソコンなどに使用されてい
る場合、性能の向上と共に多ピン化が必要となってお
り、BGA(Ball Grid Array )やCSP(Chip Size
Package )のパッケージ構造のものが採用されている。
That is, a recent LSI (Large Scale In)
In a semiconductor integrated circuit device such as an integrated circuit, when used in a workstation or a personal computer, it is necessary to improve the performance and increase the number of pins, so that a BGA (Ball Grid Array) or a CSP (Chip Size) is required.
Package).

【0004】この場合、フリップチップ方式のBGAや
CSPでは、LSIチップの裏面が実装基板と反対側に
向いていることにより、高発熱のLSIチップを搭載す
る場合に、LSIチップの裏面に放熱用のフィン(放熱
フィン)を取り付けることが行われている。
In this case, in the flip-chip type BGA or CSP, since the back surface of the LSI chip faces the opposite side to the mounting substrate, when a high-heat-generating LSI chip is mounted, the back surface of the LSI chip is used for heat dissipation. Fins (radiation fins) are mounted.

【0005】また、フィンの形状または冷却のための空
気の流速を調整することで、種々の発熱量のLSIチッ
プを冷却することができている。
Further, by adjusting the shape of the fins or the flow rate of air for cooling, it is possible to cool LSI chips having various heat values.

【0006】なお、LSIパッケージとしてのBGA型
パッケージについて記載されている文献としては、例え
ば「日経エレクトロニクス1993年8月2日号」p1
04に記載されているものがある。
As a document describing a BGA type package as an LSI package, for example, see “Nikkei Electronics August 2, 1993,” p.
04.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところが、前述したパ
ッケージ構造において、携帯機器、薄形機器などのよう
に、実装基板のパッケージ搭載部上方に十分な空間が確
保できない場合や放熱用のフィンが使えない場合に、放
熱を十分に行うことができないという問題点が発生して
いる。
However, in the above-described package structure, when sufficient space cannot be secured above the package mounting portion of the mounting board, such as in a portable device or a thin device, or when fins for heat radiation cannot be used. If not, there is a problem that heat cannot be sufficiently released.

【0008】また、例えば、LSIチップなどのチップ
の裏面が露出していても、チップの裏面の面積が小さ
く、周囲の空気への熱伝達による放熱が期待できない。
Further, for example, even if the back surface of a chip such as an LSI chip is exposed, the area of the back surface of the chip is small, so that heat dissipation by heat transfer to the surrounding air cannot be expected.

【0009】一方、フリップチップの場合、熱伝導によ
る実装基板への放熱は、チップの下部の電極としてのバ
ンプを経由してパッケージ基板、さらにパッケージ基板
の下部のパッケージ基板用電極を介して実装基板に伝わ
る経路となるため、一般に熱抵抗が大きいことにより、
チップで発生した熱を十分に拡散できないという問題点
が発生している。
On the other hand, in the case of a flip chip, heat is radiated to the mounting substrate by heat conduction through a bump as an electrode at the lower part of the chip, a package substrate, and further through a package substrate electrode at the lower part of the package substrate. In general, due to the large thermal resistance,
There is a problem that the heat generated in the chip cannot be sufficiently diffused.

【0010】その結果、前述したパッケージ構造におい
て、発熱量の大きなチップを搭載することができない。
As a result, in the above-described package structure, it is not possible to mount a chip generating a large amount of heat.

【0011】本発明の目的は、放熱フィンを取り付ける
ための空間的余裕がない場合でも、効率的に熱を拡散で
きる半導体装置およびその製造方法を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of efficiently dispersing heat even when there is no space for mounting a radiation fin, and a method of manufacturing the same.

【0012】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0014】すなわち、本発明の半導体装置は、LSI
チップなどの半導体チップの表面の金属バンプがパッケ
ージ基板の表面に電気的に接続されており、パッケージ
基板の裏面のハンダバンプが実装基板に電気的に接続さ
れている半導体装置であって、放熱体が、半導体チップ
の裏面に熱伝導媒体を介して接触されており、放熱体の
一部が、実装基板に固定されているものである。
That is, the semiconductor device of the present invention is an LSI
A semiconductor device in which metal bumps on the surface of a semiconductor chip such as a chip are electrically connected to the surface of the package substrate, and solder bumps on the back surface of the package substrate are electrically connected to the mounting substrate. The heat sink is in contact with the back surface of the semiconductor chip via a heat conductive medium, and a part of the heat radiator is fixed to the mounting substrate.

【0015】また、本発明の半導体装置の製造方法は、
半導体チップの表面の金属バンプをパッケージ基板の表
面に電気的に接続した後、パッケージ基板の裏面のハン
ダバンプを実装基板に電気的に接続する工程と、半導体
チップの裏面に、熱伝導媒体を設けた後、放熱体を半導
体チップの裏面に載せた状態で、放熱体を半導体チップ
の裏面に熱伝導媒体を介して接触させると共に放熱体を
実装基板に固定する工程とを有するものである。
Further, a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention
After electrically connecting the metal bumps on the surface of the semiconductor chip to the surface of the package substrate, electrically connecting the solder bumps on the back surface of the package substrate to the mounting substrate; and providing a heat conductive medium on the back surface of the semiconductor chip. And a step of fixing the heat radiator to the mounting substrate while contacting the heat radiator to the rear surface of the semiconductor chip via a heat conductive medium with the heat radiator mounted on the back surface of the semiconductor chip.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明す
るための全図において同一機能を有するものは同一の符
号を付し、重複説明は省略する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments, components having the same function are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted.

【0017】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1である半導体装置を示す概略断面図である。
(First Embodiment) FIG. 1 is a schematic sectional view showing a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【0018】本実施の形態の半導体装置は、LSIチッ
プ(半導体チップ)1の表面の金バンプ(金属バンプ)
2がパッケージ基板3の表面に電気的に接続されてお
り、パッケージ基板3の裏面のハンダバンプ4が実装基
板5に電気的に接続されている半導体装置であって、放
熱体6が、LSIチップ1の裏面に熱伝導媒体7を介し
て接触されており、放熱体6の一部が、実装基板5に固
定されているものである。
In the semiconductor device of the present embodiment, a gold bump (metal bump) on the surface of an LSI chip (semiconductor chip) 1 is used.
2 is a semiconductor device that is electrically connected to the front surface of the package substrate 3, and the solder bumps 4 on the back surface of the package substrate 3 are electrically connected to the mounting substrate 5. Of the radiator 6 is fixed to the mounting board 5 with a heat conductive medium 7 in contact with the rear surface of the radiator 6.

【0019】また、本実施の形態の半導体装置は、放熱
体6の一部が実装基板5に固定されている領域におい
て、実装基板5におけるグランド用導電層5aと放熱体
6とがスルーホール5bに埋め込まれている導電層5c
を介して、電気的に接続されている。
Also, in the semiconductor device of the present embodiment, in the region where a part of the heat radiator 6 is fixed to the mounting substrate 5, the ground conductive layer 5a and the heat radiator 6 of the mounting substrate 5 are connected to the through hole 5b. Conductive layer 5c embedded in
Are electrically connected via

【0020】また、本実施の形態の半導体装置の製造方
法は、LSIチップ1の表面の金バンプ2をパッケージ
基板3の表面に電気的に接続した後、パッケージ基板3
の裏面のハンダバンプ4を実装基板5に電気的に接続す
る工程と、LSIチップ1の裏面に、熱伝導媒体7を設
けた後、放熱体6をLSIチップ1の裏面に載せた状態
で、放熱体6をLSIチップ1の裏面に熱伝導媒体7を
介して接触させると共に放熱体6を実装基板5に固定す
る(取り付ける)工程とを有するものである。
In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment, after the gold bumps 2 on the surface of the LSI chip 1 are electrically connected to the surface of the package substrate 3,
Electrically connecting the solder bumps 4 on the back surface of the LSI chip 1 to the mounting substrate 5, and providing a heat conductive medium 7 on the back surface of the LSI chip 1, and dissipating the heat while placing the radiator 6 on the back surface of the LSI chip 1. A step of bringing the body 6 into contact with the back surface of the LSI chip 1 via the heat conductive medium 7 and fixing (attaching) the heat radiator 6 to the mounting board 5.

【0021】次に、本実施の形態の半導体装置およびそ
の製造方法を詳細に説明する。
Next, the semiconductor device of the present embodiment and a method of manufacturing the same will be described in detail.

【0022】すなわち、LSIチップ(半導体チップ)
1の表面には、あらかじめボンディング用の電極端子に
金バンプ(金属バンプ)2が配置されている。この場
合、LSIチップ1の表面のボンディング用の電極端子
にボンディングワイヤとしての金線を取り付けた後、熱
処理を行って、その金線をバンプ状の電極として、金バ
ンプ(金属バンプ)2を形成している。
That is, an LSI chip (semiconductor chip)
Gold bumps (metal bumps) 2 are arranged on electrode surfaces for bonding in advance on the surface of 1. In this case, after a gold wire as a bonding wire is attached to a bonding electrode terminal on the surface of the LSI chip 1, heat treatment is performed, and a gold bump (metal bump) 2 is formed using the gold wire as a bump-shaped electrode. doing.

【0023】パッケージ基板3は、例えばプリント基板
の材料と同一の材料からなるベース材の内層にグランド
(接地)用導電層、電源用導電層および信号用導電層な
どからなる多層の配線構造(平面状配線層の積層構造)
の配線層を備えている。また、パッケージ基板3のチッ
プ面側には、LSIチップ1の金バンプ2に対向して、
電極端子が形成されており、パッケージ基板3の実装基
板搭載面側には、実装基板5に電気的に接続するための
電極端子としてのハンダバンプ4が設けられている。さ
らに、パッケージ基板3において、そのチップ面側の電
極端子と実装基板搭載面側の電極端子は、それぞれに対
応する電極端子同士が、ベース材に設けられているスル
ーホールに埋め込まれている導電層を介して電気的に接
続されている。
The package substrate 3 has, for example, a multilayer wiring structure (planar) including a ground (ground) conductive layer, a power supply conductive layer, a signal conductive layer and the like in an inner layer of a base material made of the same material as that of the printed circuit board. Layered structure of wire-like wiring)
Wiring layer. Also, on the chip surface side of the package substrate 3, facing the gold bump 2 of the LSI chip 1,
Electrode terminals are formed, and solder bumps 4 as electrode terminals for electrically connecting to the mounting substrate 5 are provided on the mounting substrate mounting surface side of the package substrate 3. Further, in the package substrate 3, the electrode terminals on the chip surface side and the electrode terminals on the mounting substrate mounting surface side are the conductive layers in which the corresponding electrode terminals are embedded in through holes provided in the base material. Are electrically connected via

【0024】LSIチップ1表面の金バンプ2は、パッ
ケージ基板3表面の電極端子に導電性接着材により電気
的に接続されている。
The gold bumps 2 on the surface of the LSI chip 1 are electrically connected to electrode terminals on the surface of the package substrate 3 by a conductive adhesive.

【0025】また、LSIチップ1表面とパッケージ基
板3表面との間の空間には、樹脂(図示を省略)が充填
されており、LSIチップ1表面およびパッケージ基板
3表面ならびにLSIチップ1表面とパッケージ基板3
表面との間の電気的な接続部である金バンプ2などが、
外力や汚染などから保護されている。
The space between the surface of the LSI chip 1 and the surface of the package substrate 3 is filled with a resin (not shown), and the space between the surface of the LSI chip 1 and the surface of the package substrate 3 and the surface of the LSI chip 1 and the surface of the package are filled. Substrate 3
The gold bumps 2 and the like, which are electrical connections between the surface and the like,
Protected from external forces and pollution.

【0026】パッケージ基板3裏面の電極端子には、は
んだのボール状電極であるハンダバンプ4が電気的に接
続されている。
Solder bumps 4, which are solder ball electrodes, are electrically connected to the electrode terminals on the back surface of the package substrate 3.

【0027】実装基板5は、例えばプリント基板の材料
と同一の材料からなるベース材の内層にグランド用導電
層、電源用導電層および信号用導電層などからなる多層
の配線構造(平面状配線層の積層構造)の配線層を備え
ている。また、実装基板5の表面には、パッケージ、抵
抗やコンデンサなどのチップ部品と電気的に接続されて
いる電極端子が設けられている。この場合、部品搭載用
の電極端子に、あらかじめはんだペーストをスクリーン
印刷法により供給しておき、パッケージ基板3やチップ
部品を所定の位置に位置合わせして搭載した後、約24
0℃の熱処理を行い、はんだを溶融させて、実装基板5
の表面の電極端子に各部品を固着している。
The mounting substrate 5 has a multi-layer wiring structure (a planar wiring layer) including a ground conductive layer, a power supply conductive layer, a signal conductive layer, and the like in an inner layer of a base material made of the same material as that of the printed circuit board, for example. Wiring layer). Further, on the surface of the mounting substrate 5, electrode terminals electrically connected to chip components such as a package, a resistor and a capacitor are provided. In this case, a solder paste is supplied to the component mounting electrode terminals in advance by a screen printing method, and the package substrate 3 and the chip component are positioned at predetermined positions and mounted.
A heat treatment of 0 ° C. is performed to melt the solder, and
Each component is fixed to the electrode terminal on the surface of the device.

【0028】放熱体6を実装基板5に固定する場合に、
パッケージ基板3に搭載されているLSIチップ1の裏
面に、例えばフィラーとしてのアルミナを添加したグリ
ス(樹脂)からなる熱伝導媒体7を塗布した後、放熱体
6を上面より被せるように載せた状態として、実装基板
5に固定している。この場合、熱伝導媒体7の材料は、
種々のものを適用できるが、フィラーとしてのアルミナ
を添加したグリスを使用することにより、熱伝導性のよ
い熱伝導媒体7とすることができる。なお、熱伝導媒体
7の他の態様として、フィラーを分散させたシート状の
熱伝導シート(樹脂)を用いることができる。また、熱
伝導媒体7は、熱伝導率の高いアルミナなどの粒子をフ
ィラーとして分散させたグリスやフィラーを分散させた
熱伝導シートからなる樹脂であることにより、LSIチ
ップ1の裏面と放熱体6との隙間を埋め込むことができ
るので、熱の伝導を効率よく伝導させることができる。
When fixing the radiator 6 to the mounting substrate 5,
A state in which a heat conductive medium 7 made of, for example, grease (resin) to which alumina as a filler is added is applied to the back surface of the LSI chip 1 mounted on the package substrate 3, and then the radiator 6 is placed so as to cover from above. Are fixed to the mounting substrate 5. In this case, the material of the heat transfer medium 7 is
Various materials can be applied, but by using grease to which alumina is added as a filler, the heat conductive medium 7 having good heat conductivity can be obtained. In addition, as another embodiment of the heat conduction medium 7, a sheet-like heat conduction sheet (resin) in which a filler is dispersed can be used. The heat conductive medium 7 is a resin made of grease in which particles such as alumina having a high thermal conductivity are dispersed as a filler or a heat conductive sheet in which a filler is dispersed. Can be buried, so that heat can be conducted efficiently.

【0029】また、放熱体6を実装基板5に固定する場
合に、放熱体6が固定される領域の実装基板5の表面に
接着体8としてのはんだを供給しており、放熱体6を実
装基板5に位置合わせした後に、ヒータにより局所的に
加熱し、はんだを溶融させて、放熱体6を実装基板5に
はんだからなる接着体8を用いて固定している。なお、
放熱体6を実装基板5に固定する場合の他の態様とし
て、はんだを使用する以外に、熱伝導のよい接着剤を使
用したり、ネジなどを用いた機械的な固定の態様を適用
することができる。
When the heat radiator 6 is fixed to the mounting substrate 5, solder as an adhesive 8 is supplied to the surface of the mounting substrate 5 in a region where the heat radiator 6 is fixed, and the heat radiator 6 is mounted. After alignment with the substrate 5, the heater is locally heated to melt the solder, and the radiator 6 is fixed to the mounting substrate 5 using an adhesive 8 made of solder. In addition,
As another mode for fixing the heat radiator 6 to the mounting substrate 5, in addition to using solder, using an adhesive having good heat conductivity or applying a mode of mechanical fixing using screws or the like is applied. Can be.

【0030】放熱体6は、銅などの金属を材料としてお
り、厚さが0. 1〜0. 5mmの板状であり、放熱体6の
チップ裏面接触部6bは平坦形状としており、放熱体6
の取付部6aは屈曲形状としている。本発明者の検討の
結果、放熱体6の材料は、銅、アルミニウム、銅合金ま
たはアルミニウム合金とすると、放熱性がよくなること
が明らかになっている。したがって、放熱体6は、熱伝
導率の高い材料から形成されていることにより、熱の伝
導を効率よく伝導させることができるので、LSIチッ
プ1から発生する熱を実装基板5に効率よく伝導させる
ことができる。
The heat radiator 6 is made of a metal such as copper and has a plate shape with a thickness of 0.1 to 0.5 mm. The contact portion 6b on the back surface of the chip of the heat radiator 6 has a flat shape. 6
The mounting portion 6a has a bent shape. As a result of the study by the present inventor, it has been clarified that when the material of the heat radiator 6 is copper, aluminum, a copper alloy or an aluminum alloy, the heat radiation is improved. Therefore, since the heat radiator 6 is made of a material having a high thermal conductivity, heat can be efficiently conducted, and the heat generated from the LSI chip 1 is efficiently conducted to the mounting board 5. be able to.

【0031】また、放熱体6において、放熱体6の屈曲
形状の取付部6aは、放熱体6の平坦化されているチッ
プ裏面接触部6bの2辺方向に形成していたり、3辺方
向または4辺方向に形成している態様としている。さら
に、放熱体6を実装基板5に固定する場合に、放熱体6
の屈曲形状の取付部6aの2辺または3辺あるいは4辺
を用いた態様とすることができる。
In the heat radiator 6, the bent attachment portion 6a of the heat radiator 6 is formed in the two sides of the flattened chip back surface contact portion 6b of the heat radiator 6, or in the three sides. The embodiment is formed in four sides. Further, when the heat radiator 6 is fixed to the mounting substrate 5, the heat radiator 6
The two or three or four sides of the bent-shaped mounting portion 6a may be used.

【0032】前述した本実施の形態の半導体装置によれ
ば、放熱体6が、LSIチップ1の裏面に熱伝導媒体7
を介して接触されており、放熱体6の一部が、実装基板
5に固定されていることにより、LSIチップ(半導体
チップ)1で発生した熱は、熱伝導媒体7を介して放熱
体6に伝達されて、低温度状態の実装基板5に熱が移行
することにより、LSIチップ1から発生する熱をLS
Iチップ1から優れた状態で取り除くことができる。
According to the semiconductor device of the present embodiment described above, the heat radiator 6 is provided on the back surface of the LSI chip 1 by the heat conductive medium 7.
Since a part of the heat radiator 6 is fixed to the mounting substrate 5, the heat generated in the LSI chip (semiconductor chip) 1 is dissipated through the heat conductive medium 7. Is transferred to the mounting board 5 in the low temperature state, and the heat generated from the LSI chip 1 is transferred to the LS.
It can be removed from the I chip 1 in an excellent condition.

【0033】また、本実施の形態の半導体装置によれ
ば、放熱体6が、LSIチップ1の裏面に熱伝導媒体7
を介して接触されており、放熱体6の一部が、実装基板
5に固定されていることにより、実装基板5は、LSI
チップ1やパッケージ基板3よりも表面積が大きくしか
も空気への熱の伝達も極めて小さい抵抗状態をもって行
えるので、LSIチップ1から発生する熱をLSIチッ
プ1から優れた状態で取り除くことができる。
According to the semiconductor device of the present embodiment, the heat radiator 6 is provided on the back surface of the LSI chip 1 by the heat conductive medium 7.
And a part of the heat radiator 6 is fixed to the mounting substrate 5, so that the mounting substrate 5
Since the surface area is larger than that of the chip 1 and the package substrate 3 and the heat transfer to the air can be performed with a very small resistance state, the heat generated from the LSI chip 1 can be removed from the LSI chip 1 in an excellent state.

【0034】さらに、本実施の形態の半導体装置によれ
ば、放熱体6が実装基板5におけるグランド用導電層5
aに電気的に接続されていることにより、実装基板5に
おけるグランド用導電層5aは配線密度が高くしかも高
い導電層であるので、実装基板5における熱の拡散が効
率的に行われて、LSIチップ1から発生する熱をLS
Iチップ1から優れた状態で取り除くことができる。
Further, according to the semiconductor device of the present embodiment, the radiator 6 is connected to the ground conductive layer 5 on the mounting board 5.
a, the ground conductive layer 5a in the mounting board 5 is a conductive layer having a high wiring density and a high wiring density, so that heat is efficiently diffused in the mounting board 5, LS generated heat from chip 1
It can be removed from the I chip 1 in an excellent condition.

【0035】したがって、本実施の形態の半導体装置に
よれば、高発熱のLSIチップ(半導体チップ)1をパ
ッケージ基板3などに実装することができる。
Therefore, according to the semiconductor device of the present embodiment, it is possible to mount the LSI chip (semiconductor chip) 1 with high heat generation on the package substrate 3 or the like.

【0036】また、本実施の形態の半導体装置によれ
ば、放熱体6が実装基板5におけるグランド用導電層5
aに電気的に接続されていることにより、放熱体6をL
SIチップ1およびパッケージ基板3を完全に覆うよう
な態様としても、電磁波の遮蔽効果がえられるために、
EMI(電磁障害)に対しても、影響の少ない実装構造
とすることができる。
According to the semiconductor device of the present embodiment, the radiator 6 is connected to the ground conductive layer 5 on the mounting substrate 5.
a, the radiator 6 is connected to L
Even in a mode in which the SI chip 1 and the package substrate 3 are completely covered, an electromagnetic wave shielding effect can be obtained.
A mounting structure with little influence on EMI (electromagnetic interference) can be obtained.

【0037】本実施の形態の半導体装置は、LSIチッ
プ(半導体チップ)1の表面の金バンプ(金属バンプ)
2がパッケージ基板3の表面に電気的に接続されてお
り、パッケージ基板3の裏面のハンダバンプ4が実装基
板5に電気的に接続されている半導体装置であって、放
熱体6が、LSIチップ1の裏面に熱伝導媒体7を介し
て接触されており、放熱体6の一部が、実装基板5に固
定されているものであることにより、フリップチップ方
式のBGAやCSPのパッケージ構造を備えている半導
体集積回路装置などの種々の半導体装置に適用できる。
In the semiconductor device of the present embodiment, gold bumps (metal bumps) on the surface of an LSI chip (semiconductor chip) 1 are used.
2 is a semiconductor device that is electrically connected to the front surface of the package substrate 3, and the solder bumps 4 on the back surface of the package substrate 3 are electrically connected to the mounting substrate 5. Is provided with a flip-chip type BGA or CSP package structure because a part of the heat radiator 6 is fixed to the mounting substrate 5 through the heat conductive medium 7. To various semiconductor devices such as a semiconductor integrated circuit device.

【0038】したがって、本実施の形態の半導体装置
は、携帯機器、薄形機器などのように、実装基板5のパ
ッケージ搭載部上方に十分な空間が確保できない場合や
放熱用のフィンが使えない場合においても、放熱を十分
に行うことができることにより、携帯機器、薄形機器な
ど高発熱のLSIチップ(半導体チップ)1をパッケー
ジ基板3などに実装している機器に適用することができ
る。
Therefore, the semiconductor device according to the present embodiment is used when a sufficient space cannot be ensured above the package mounting portion of the mounting substrate 5 or when a heat dissipating fin cannot be used, such as a portable device or a thin device. In this case, since heat can be sufficiently dissipated, the present invention can be applied to a device in which an LSI chip (semiconductor chip) 1 with high heat generation is mounted on a package substrate 3 or the like, such as a portable device or a thin device.

【0039】また、本実施の形態の半導体装置およびそ
の製造方法によれば、放熱フィンを取り付けるための空
間的余裕がない場合でも、効率的に熱を拡散できる半導
体装置を容易な製造工程を用いて高製造歩留りをもって
製造することができる。
Further, according to the semiconductor device and the method of manufacturing the same according to the present embodiment, a semiconductor device capable of efficiently diffusing heat can be easily manufactured by using a simple manufacturing process even when there is no space for mounting the radiation fins. And can be manufactured with a high manufacturing yield.

【0040】(実施の形態2)図2は、本発明の実施の
形態2である半導体装置を示す概略断面図である。
(Embodiment 2) FIG. 2 is a schematic sectional view showing a semiconductor device according to Embodiment 2 of the present invention.

【0041】本実施の形態の半導体装置は、LSIチッ
プ(半導体チップ)1の表面の金バンプ(金属バンプ)
2がパッケージ基板3の表面に電気的に接続されてお
り、パッケージ基板3の裏面のハンダバンプ4が実装基
板5に電気的に接続されており、LSIチップ1の上に
筐体10が配置されている半導体装置であって、放熱体
6が、LSIチップ1の裏面に熱伝導媒体7を介して接
触されており、放熱体6の一部が、実装基板5に固定さ
れており、放熱体6の一部(放熱体6の接触部6c)が
筐体10に接触されているものである。この場合、放熱
体6の接触部6cは、屈曲形状としていることにより、
印加力が小さくても、筐体10に接触させることができ
る。
In the semiconductor device of the present embodiment, gold bumps (metal bumps) on the surface of an LSI chip (semiconductor chip) 1 are used.
2 is electrically connected to the front surface of the package substrate 3, the solder bumps 4 on the back surface of the package substrate 3 are electrically connected to the mounting substrate 5, and the housing 10 is disposed on the LSI chip 1. The heat sink 6 is in contact with the back surface of the LSI chip 1 via a heat conductive medium 7, and a part of the heat sink 6 is fixed to the mounting substrate 5. (A contact portion 6c of the radiator 6) is in contact with the housing 10. In this case, the contact portion 6c of the radiator 6 has a bent shape,
Even if the applied force is small, it can be brought into contact with the housing 10.

【0042】したがって、本実施の形態の半導体装置
は、放熱体6の一部を実装基板5に固定せず、放熱体6
の上に配置されている筐体10に接触させており、その
領域以外の放熱体6の一部は、前述した実施の形態1の
半導体装置と同様に、実装基板5に取り付けているもの
である。
Therefore, in the semiconductor device of the present embodiment, a part of the heat radiator 6 is not fixed to the mounting substrate 5 but the heat radiator 6
A part of the heat radiator 6 other than that area is attached to the mounting board 5 similarly to the semiconductor device of the first embodiment described above. is there.

【0043】本実施の形態の半導体装置によれば、LS
Iチップ(半導体チップ)1で発生した熱は、熱伝導媒
体7を介して放熱体6に伝達されて、低温度状態の実装
基板5および筐体10に熱が移行することにより、LS
Iチップ1から発生する熱をLSIチップ1から優れた
状態で取り除くことができる。
According to the semiconductor device of this embodiment, LS
The heat generated in the I chip (semiconductor chip) 1 is transmitted to the heat radiator 6 via the heat conductive medium 7 and transferred to the mounting board 5 and the housing 10 in a low temperature state, so that the LS
The heat generated from the I chip 1 can be removed from the LSI chip 1 in an excellent state.

【0044】したがって、本実施の形態の半導体装置に
よれば、放熱フィンを取り付けるほどの空間的余裕がな
い場合でも、小面積の放熱体6を使用してLSIチップ
1から発生する熱を効率的に拡散できることにより、高
発熱のLSIチップ1をパッケージ基板3などに実装す
ることができる。
Therefore, according to the semiconductor device of the present embodiment, even when there is not enough space to attach the heat radiation fins, the heat generated from the LSI chip 1 can be efficiently used by using the heat radiator 6 having a small area. The high-heat-generating LSI chip 1 can be mounted on the package substrate 3 or the like.

【0045】本実施の形態の半導体装置によれば、前述
した実施の形態1と同様な効果を得ることができる。
According to the semiconductor device of the present embodiment, the same effects as in the first embodiment can be obtained.

【0046】(実施の形態3)図3は、本発明の実施の
形態3である半導体装置を示す概略断面図である。
(Embodiment 3) FIG. 3 is a schematic sectional view showing a semiconductor device according to Embodiment 3 of the present invention.

【0047】本実施の形態の半導体装置は、LSIチッ
プ(半導体チップ)1の表面の金バンプ(金属バンプ)
2がパッケージ基板3の表面に電気的に接続されてお
り、パッケージ基板3の裏面のハンダバンプ4が実装基
板5に電気的に接続されており、LSIチップ1の上に
筐体10が配置されている半導体装置であって、放熱体
6が、LSIチップ1の裏面に熱伝導媒体7を介して接
触されており、放熱体6の一部が、筐体10に固定され
ており、放熱体6の一部が筐体10に接触されているも
のである。
In the semiconductor device of the present embodiment, a gold bump (metal bump) on the surface of an LSI chip (semiconductor chip) 1 is used.
2 is electrically connected to the front surface of the package substrate 3, the solder bumps 4 on the back surface of the package substrate 3 are electrically connected to the mounting substrate 5, and the housing 10 is disposed on the LSI chip 1. The heat sink 6 is in contact with the back surface of the LSI chip 1 via a heat conductive medium 7, and a part of the heat sink 6 is fixed to the housing 10. Are in contact with the housing 10.

【0048】また、本実施の形態の半導体装置の製造方
法は、LSIチップ1の表面の金バンプ2をパッケージ
基板3の表面に電気的に接続した後、パッケージ基板3
の裏面のハンダバンプ4を実装基板5に電気的に接続す
る工程と、放熱体6の一部を筐体10に固定すると共に
放熱体6の一部を筐体10に接触させる工程と、LSI
チップ1の裏面に、熱伝導媒体7を設けた後、筐体10
に取り付けてある放熱体6をLSIチップ1の裏面に載
せた状態で、放熱体6をLSIチップ1の裏面に熱伝導
媒体7を介して接触させる工程とを有するものである。
In the method of manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment, after the gold bumps 2 on the surface of the LSI chip 1 are electrically connected to the surface of the package substrate 3,
Electrically connecting the solder bumps 4 on the back surface of the substrate to the mounting substrate 5, fixing a part of the radiator 6 to the housing 10 and bringing a part of the radiator 6 into contact with the housing 10,
After providing the heat conductive medium 7 on the back surface of the chip 1, the housing 10
The heat radiator 6 attached to the LSI chip 1 is placed on the back surface of the LSI chip 1 and the heat radiator 6 is brought into contact with the back surface of the LSI chip 1 via the heat conductive medium 7.

【0049】したがって、本実施の形態の半導体装置
は、放熱体6の取付部6aを筐体10に固定していると
共に放熱体6の他の端部(放熱体6の接触部6c)を筐
体10に接触させている。
Therefore, in the semiconductor device of the present embodiment, the mounting portion 6a of the radiator 6 is fixed to the housing 10, and the other end of the radiator 6 (the contact portion 6c of the radiator 6) is connected to the housing. It is in contact with the body 10.

【0050】放熱体6の配置に対しては、放熱体6を筐
体10に固定した(取り付けた)後に、パッケージ基板
3に搭載されているLSIチップ1の裏面に、例えば熱
伝導性シート(樹脂)からなる熱伝導媒体7を貼り付け
た後、放熱体6を上面より被せるように載せた状態とし
て、放熱体6が固定されている筐体10をLSIチップ
1に取り付けている。この際、放熱体6の一部が熱伝導
媒体7に接するような高さに調整してある。また、放熱
体6を筐体10に固定する際に、はんだなどの接着体8
を用いて、放熱体6を筐体10に取り付けている。ま
た、放熱体6の接触部6cは、屈曲形状としていること
により、筐体10に接触させることができる。
With respect to the arrangement of the heat radiator 6, after the heat radiator 6 is fixed (attached) to the housing 10, for example, a heat conductive sheet (for example, a heat conductive sheet (not shown)) is provided on the back surface of the LSI chip 1 mounted on the package substrate 3. After adhering the heat conductive medium 7 made of resin, the heat radiator 6 is mounted on the LSI chip 1 with the heat radiator 6 mounted thereon such that the heat radiator 6 is placed on the LSI chip 1. At this time, the height is adjusted so that a part of the heat radiator 6 is in contact with the heat conduction medium 7. When fixing the radiator 6 to the housing 10, an adhesive 8 such as solder is used.
The heat radiator 6 is attached to the housing 10 by using. Further, the contact portion 6c of the heat radiator 6 can be brought into contact with the housing 10 by having a bent shape.

【0051】したがって、LSIチップ1の裏面の高さ
がばらついていても、放熱体6の一端がスライドするこ
とができるので、放熱体6の取り付け高さが変わり、安
定した接触を保つことができる。
Therefore, even if the height of the back surface of the LSI chip 1 varies, one end of the heat radiator 6 can slide, so that the mounting height of the heat radiator 6 changes and stable contact can be maintained. .

【0052】本実施の形態の半導体装置によれば、前述
した実施の形態1および実施の形態2と同様な効果を得
ることができる。
According to the semiconductor device of the present embodiment, the same effects as those of the first and second embodiments can be obtained.

【0053】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, it can be changed.

【0054】例えば、本発明の半導体装置およびその製
造方法は、半導体チップとして、LSIチップ以外の種
々の半導体集積回路装置チップを適用でき、そのチップ
に形成されている半導体素子として、MOSFET、C
MOSFETまたはバイポーラトランジスタあるいはそ
れらを組み合わせた半導体素子とすることができ、MO
S型、CMOS型、BiMOS型またはBiCMOS型
の半導体集積回路装置およびその製造方法に適用でき
る。
For example, in the semiconductor device and the method of manufacturing the same according to the present invention, various semiconductor integrated circuit device chips other than the LSI chip can be applied as the semiconductor chip, and MOSFET, C
MOSFETs or bipolar transistors or semiconductor elements combining them can be used.
The present invention can be applied to an S-type, CMOS-type, BiMOS-type or BiCMOS-type semiconductor integrated circuit device and a method of manufacturing the same.

【0055】[0055]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.

【0056】(1).本発明の半導体装置によれば、放
熱体が、LSIチップの裏面に熱伝導媒体を介して接触
されており、放熱体の一部が、実装基板に固定されてい
ることにより、LSIチップ(半導体チップ)で発生し
た熱は、熱伝導媒体を介して放熱体に伝達されて、低温
度状態の実装基板に熱が移行することにより、LSIチ
ップから発生する熱をLSIチップから優れた状態で取
り除くことができる。
(1). According to the semiconductor device of the present invention, the heat radiator is in contact with the back surface of the LSI chip via the heat conductive medium, and a part of the heat radiator is fixed to the mounting board, so that the LSI chip (the semiconductor The heat generated in the chip is transferred to the heat radiator via the heat conductive medium, and transferred to the low-temperature mounting board, thereby removing the heat generated from the LSI chip from the LSI chip in an excellent state. be able to.

【0057】また、本発明の半導体装置によれば、放熱
体が、LSIチップ1の裏面に熱伝導媒体を介して接触
されており、放熱体の一部が、実装基板に固定されてい
ることにより、実装基板は、LSIチップやパッケージ
基板よりも表面積が大きくしかも空気への熱の伝達も極
めて小さい抵抗状態をもって行えるので、LSIチップ
から発生する熱をLSIチップから優れた状態で取り除
くことができる。
According to the semiconductor device of the present invention, the heat radiator is in contact with the back surface of the LSI chip 1 via the heat conductive medium, and a part of the heat radiator is fixed to the mounting board. As a result, the mounting substrate has a larger surface area than the LSI chip or the package substrate and can transmit heat to the air in an extremely small resistance state, so that heat generated from the LSI chip can be removed from the LSI chip in an excellent state. .

【0058】さらに、本発明の半導体装置によれば、放
熱体が実装基板におけるグランド用導電層に電気的に接
続されていることにより、実装基板におけるグランド用
導電層は配線密度が高くしかも高い導電層であるので、
実装基板における熱の拡散が効率的に行われて、LSI
チップから発生する熱をLSIチップから優れた状態で
取り除くことができる。
Further, according to the semiconductor device of the present invention, since the heat radiator is electrically connected to the ground conductive layer on the mounting board, the ground conductive layer on the mounting board has a high wiring density and a high conductive property. Because it is a layer
Diffusion of heat in the mounting board is performed efficiently,
The heat generated from the chip can be effectively removed from the LSI chip.

【0059】したがって、本発明の半導体装置によれ
ば、高発熱のLSIチップ(半導体チップ)をパッケー
ジ基板などに実装することができる。
Therefore, according to the semiconductor device of the present invention, an LSI chip (semiconductor chip) with high heat generation can be mounted on a package substrate or the like.

【0060】また、本発明の半導体装置によれば、放熱
体が実装基板におけるグランド用導電層に電気的に接続
されていることにより、放熱体をLSIチップおよびパ
ッケージ基板を完全に覆うような態様としても、電磁波
の遮蔽効果がえられるために、EMI(電磁障害)に対
しても、影響の少ない実装構造とすることができる。
According to the semiconductor device of the present invention, since the heat radiator is electrically connected to the ground conductive layer of the mounting substrate, the heat radiator completely covers the LSI chip and the package substrate. However, since a shielding effect of electromagnetic waves can be obtained, a mounting structure with little influence on EMI (electromagnetic interference) can be obtained.

【0061】(2).本発明の半導体装置は、フリップ
チップ方式のBGAやCSPのパッケージ構造を備えて
いる半導体集積回路装置などの種々の半導体装置に適用
できる。したがって、本発明の半導体装置は、携帯機
器、薄形機器などのように、実装基板のパッケージ搭載
部上方に十分な空間が確保できない場合や放熱用のフィ
ンが使えない場合においても、放熱を十分に行うことが
できることにより、携帯機器、薄形機器など高発熱のL
SIチップ(半導体チップ)をパッケージ基板などに実
装している機器に適用することができる。
(2). The semiconductor device of the present invention can be applied to various semiconductor devices such as a semiconductor integrated circuit device having a flip-chip type BGA or CSP package structure. Therefore, the semiconductor device of the present invention can sufficiently dissipate heat even when sufficient space cannot be secured above the package mounting portion of the mounting board or when heat dissipating fins cannot be used, such as in portable devices and thin devices. Can be performed at high temperatures, such as mobile devices and thin devices.
The present invention can be applied to a device in which an SI chip (semiconductor chip) is mounted on a package substrate or the like.

【0062】(3).本発明の半導体装置およびその製
造方法によれば、放熱フィンを取り付けるための空間的
余裕がない場合でも、効率的に熱を拡散できる半導体装
置を容易な製造工程を用いて高製造歩留りをもって製造
することができる。
(3). According to the semiconductor device and the method of manufacturing the same of the present invention, a semiconductor device capable of efficiently diffusing heat is manufactured with a high manufacturing yield by using an easy manufacturing process even when there is no space for mounting a radiation fin. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1である半導体装置を示す
概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態2である半導体装置を示す
概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention;

【図3】本発明の実施の形態3である半導体装置を示す
概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 LSIチップ(半導体チップ) 2 金バンプ(金属バンプ) 3 パッケージ基板 4 ハンダバンプ 5 実装基板 5a グランド用導電層 5b スルーホール 5c 導電層 6 放熱体 6a 放熱体の取付部 6b 放熱体のチップ裏面接触部 6c 放熱体の接触部 7 熱伝導媒体 8 接着体 10 筐体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 LSI chip (semiconductor chip) 2 Gold bump (metal bump) 3 Package board 4 Solder bump 5 Mounting board 5a Ground conductive layer 5b Through hole 5c Conductive layer 6 Heat radiator 6a Heat radiator attachment part 6b Heat radiator chip back contact part 6c Contact portion of heat radiator 7 Heat conduction medium 8 Adhesive 10 Housing

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップの表面の金属バンプがパッ
ケージ基板の表面に電気的に接続されており、前記パッ
ケージ基板の裏面のハンダバンプが実装基板に電気的に
接続されている半導体装置であって、放熱体が、前記半
導体チップの裏面に熱伝導媒体を介して接触されてお
り、前記放熱体の一部が、前記実装基板に固定されてい
ることを特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor device in which metal bumps on a surface of a semiconductor chip are electrically connected to a surface of a package substrate, and solder bumps on a back surface of the package substrate are electrically connected to a mounting substrate. A semiconductor device, wherein a heat radiator is in contact with the back surface of the semiconductor chip via a heat conductive medium, and a part of the heat radiator is fixed to the mounting substrate.
【請求項2】 半導体チップの表面の金属バンプがパッ
ケージ基板の表面に電気的に接続されており、前記パッ
ケージ基板の裏面のハンダバンプが実装基板に電気的に
接続されており、前記半導体チップの上に筐体が配置さ
れている半導体装置であって、放熱体が、前記半導体チ
ップの裏面に熱伝導媒体を介して接触されており、前記
放熱体の一部が、前記実装基板に固定されており、前記
放熱体の一部が前記筐体に接触されていることを特徴と
する半導体装置。
A metal bump on a surface of the semiconductor chip is electrically connected to a surface of the package substrate; a solder bump on a back surface of the package substrate is electrically connected to a mounting substrate; A semiconductor device in which a housing is disposed, wherein a heat radiator is in contact with a back surface of the semiconductor chip via a heat conductive medium, and a part of the heat radiator is fixed to the mounting substrate. And a part of the heat radiator is in contact with the housing.
【請求項3】 請求項1または2記載の半導体装置であ
って、前記放熱体の一部が前記実装基板に固定されてい
る領域において、前記実装基板におけるグランド用導電
層と前記放熱体とが電気的に接続されていることを特徴
とする半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein a ground conductive layer and the radiator in the mounting board are arranged in a region where a part of the radiator is fixed to the mounting board. A semiconductor device which is electrically connected.
【請求項4】 半導体チップの表面の金属バンプがパッ
ケージ基板の表面に電気的に接続されており、前記パッ
ケージ基板の裏面のハンダバンプが実装基板に電気的に
接続されており、前記半導体チップの上に筐体が配置さ
れている半導体装置であって、放熱体が、前記半導体チ
ップの裏面に熱伝導媒体を介して接触されており、前記
放熱体の一部が、前記筐体に固定されており、前記放熱
体の一部が前記筐体に接触されていることを特徴とする
半導体装置。
A metal bump on a surface of the semiconductor chip is electrically connected to a surface of the package substrate; a solder bump on a back surface of the package substrate is electrically connected to a mounting substrate; A semiconductor device in which a housing is disposed, wherein a radiator is in contact with a back surface of the semiconductor chip via a heat conductive medium, and a part of the radiator is fixed to the housing. And a part of the heat radiator is in contact with the housing.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項に記載の半
導体装置であって、前記放熱体の材料は、銅、アルミニ
ウム、銅合金またはアルミニウム合金であることを特徴
とする半導体装置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein a material of the radiator is copper, aluminum, a copper alloy, or an aluminum alloy.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項に記載の半
導体装置であって、前記実装基板または前記筐体に取り
付けられる領域あるいは前記筐体に接触される領域の前
記放熱体が屈曲形状であり、前記半導体チップの裏面に
接触される領域の前記放熱体が平坦形状であることを特
徴とする半導体装置。
6. The semiconductor device according to claim 1, wherein the heat radiator in a region attached to the mounting board or the housing or a region contacting the housing is bent. A semiconductor device, wherein the heat radiator in a region that is in contact with the back surface of the semiconductor chip has a flat shape.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項に記載の半
導体装置であって、前記熱伝導媒体の材料は、グリスま
たは熱伝導シートなどの樹脂であることを特徴とする半
導体装置。
7. The semiconductor device according to claim 1, wherein a material of the heat conductive medium is a resin such as grease or a heat conductive sheet.
【請求項8】 半導体チップの表面の金属バンプをパッ
ケージ基板の表面に電気的に接続した後、前記パッケー
ジ基板の裏面のハンダバンプを実装基板に電気的に接続
する工程と、 前記半導体チップの裏面に、熱伝導媒体を設けた後、放
熱体を前記半導体チップの裏面に載せた状態で、前記放
熱体を前記半導体チップの裏面に前記熱伝導媒体を介し
て接触させると共に前記放熱体を前記実装基板に固定す
る工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方
法。
8. A step of electrically connecting the metal bumps on the surface of the semiconductor chip to the surface of the package substrate, and then electrically connecting the solder bumps on the back surface of the package substrate to the mounting substrate. After the heat conductive medium is provided, the heat radiator is placed on the back surface of the semiconductor chip, and the heat radiator is brought into contact with the back surface of the semiconductor chip via the heat conductive medium, and the heat radiator is mounted on the mounting board. Fixing the semiconductor device to the semiconductor device.
【請求項9】 半導体チップの表面の金属バンプをパッ
ケージ基板の表面に電気的に接続した後、前記パッケー
ジ基板の裏面のハンダバンプを実装基板に電気的に接続
する工程と、 放熱体の一部を筐体に固定すると共に前記放熱体の一部
を前記筐体に接触させる工程と、 前記半導体チップの裏面に、熱伝導媒体を設けた後、前
記筐体に取り付けてある前記放熱体を前記半導体チップ
の裏面に載せた状態で、前記放熱体を前記半導体チップ
の裏面に前記熱伝導媒体を介して接触させる工程とを有
することを特徴とする半導体装置の製造方法。
9. A step of electrically connecting the metal bumps on the surface of the semiconductor chip to the surface of the package substrate, and then electrically connecting the solder bumps on the back surface of the package substrate to the mounting substrate. Fixing the heat sink to the housing and contacting a part of the heat radiator with the housing; providing a heat conductive medium on the back surface of the semiconductor chip; and then connecting the heat radiator attached to the housing to the semiconductor chip. Contacting the heat radiator with the back surface of the semiconductor chip via the heat conductive medium while being placed on the back surface of the chip.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006326102A (en) * 2005-05-27 2006-12-07 Samii Kk Controller of game machine
JP2007194651A (en) * 2001-07-30 2007-08-02 Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd Plasma display device and flat display unit
JP2010503189A (en) * 2006-09-28 2010-01-28 聯發科技股▲ふん▼有限公司 Electronic equipment
US10008432B2 (en) 2015-08-11 2018-06-26 Socionext Inc. Semiconductor device, manufacturing method thereof, and electronic apparatus

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