JPH11121656A - 樹脂封止型bgaおよびbga用樹脂封止金型 - Google Patents

樹脂封止型bgaおよびbga用樹脂封止金型

Info

Publication number
JPH11121656A
JPH11121656A JP28325997A JP28325997A JPH11121656A JP H11121656 A JPH11121656 A JP H11121656A JP 28325997 A JP28325997 A JP 28325997A JP 28325997 A JP28325997 A JP 28325997A JP H11121656 A JPH11121656 A JP H11121656A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
bga
circuit board
printed circuit
board
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP28325997A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3055669B2 (ja
Inventor
Hideyuki Nishikawa
秀幸 西川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP28325997A priority Critical patent/JP3055669B2/ja
Publication of JPH11121656A publication Critical patent/JPH11121656A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3055669B2 publication Critical patent/JP3055669B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

Landscapes

  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 上金型の突起によりプリント基板を変形させ
て、樹脂封止時に樹脂が下金型とプリント基板との間に
漏れることがないようにしたものにおいて、突起による
ソルダーレジストの破損を防止して、ソルダーレジスト
屑がプリント基板裏面の、半田ボールを形成するランド
に付着することのないようにする。 【構成】 半導体素子が搭載されるプリント基板1の、
型締めの際に上金型1に形成された突起13の当接する
部分に金属層12を形成し、この部分にはソルダーレジ
ストを塗布しないようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂封止型BGA
(ボールグリッドアレイ:ball grid array )およびそ
れを製造するための樹脂封止金型に関し、特にその樹脂
封止工程における樹脂漏れ対策に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、樹脂封止型BGAの樹脂封止
は、上金型と下金型の2つの金型間に半導体素子の搭載
されたプリント基板を配置した後型締めし、金型のキャ
ビティ内に樹脂を注入することによって行われる。図5
は、従来より用いられてきたBGA用樹脂封止金型の断
面図である。下金型2には凹部3が設けられており、半
導体素子5の搭載されたプリント基板4がその中に配置
される。上金型1にはキャビティ6が形成されており上
金型1および下金型2が型締めされた状態で半導体素子
5がキャビティ6の内部に位置するように構成されてい
る。上金型内には、溶融した樹脂の通り道となるランナ
ー7が形成されており、ゲート8へと連結している。
【0003】次に、この金型を用いた樹脂封止方法につ
いて説明する。まず、半導体素子5の搭載されたプリン
ト基板4を下金型2の凹部内に配置し、上金型1および
下金型2を型締めする。次に、溶融した封止樹脂をラン
ナー7よりゲート8を通してキャビティ6内に圧入す
る。キャビティ6内を樹脂で満たした後樹脂硬化を行い
半導体素子5を樹脂封止する。次に、上金型1を下金型
2から分離し、樹脂封止済みのプリント基板4を取り出
す。樹脂封止されたプリント基板を金型より取り出した
後不要となったランナー部およびゲート部の樹脂はプリ
ント基板から取り除かれる。その後、プリント基板裏面
に半田バンプを形成し、基板を個片に分割して製品は完
成する。
【0004】図5に示す金型の型締めを行う際のプリン
ト基板の位置決めは、下金型2に設けられているピンを
プリント基板4に設けられている穴に挿入して行うのが
一般的である。しかし、ピン径、ピン位置、穴径、穴位
置には製作誤差が生じることが不可避であるため、図5
におけるプリント基板4の側面と下金型2の間には隙間
9が生じることがある。このように隙間のある場合には
ランナー7からゲート8に封止樹脂が流れていく際に樹
脂が漏れ、プリント基板4の側面に付着してしまう。こ
の付着した樹脂が後にはがれ、基板裏面の半田バンプが
形成されるパッドに付着すると半田バンプが形成されな
いという問題が起きる。また半田バンプが形成されたと
しても半田と基板裏面のパッドの間に樹脂くずが存在し
ていると強度が不十分でボールが欠落する危険性が高く
なる。
【0005】この問題の対策として、型締めの際にプリ
ント基板を押し潰して基板を広げて隙間をなくす方法が
とられている。図6は図5におけるゲート8近傍の部分
断面図であるが、上金型1にはゲートの両側に高さ0.
1mmの突起13が設けられており、この突起によりプ
リント基板4は押し潰され、プリント基板4の側面と下
金型2の間に生じる隙間はゼロに近づく。図7は、樹脂
封止後のプリント基板のゲート付近の状態を示す平面図
である。ゲート部樹脂10の両側には押し潰された跡1
1ができ、この押し潰された跡の周囲は基板が膨れてい
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来技術おい
ては、第1に、上金型の突起により押し潰される部分の
基板表面はソルダーレジストで覆われているため、押し
潰されることによりソルダーレジストが破損されること
になる。この破損されたソルダーレジストが飛び散り、
基板裏面の半田バンプ形成用のパッドに付着すると半田
バンプが形成されなくなったり形成されたとしても強度
が不十分で欠落してしまったりする。ここで、突起の当
接する部分のソルダーレジストを除去しておくことも考
えられるが、単に除去しただけでは今度はプリント基板
の樹脂積層板が損傷を受ける可能性が高くなり樹脂屑が
発生する原因となる。この損傷の程度は基板の押し潰し
量を増やすにつれて大きくなる。
【0007】第2に、製作公差の大きな基板を樹脂封止
する場合には、図5における隙間9をゼロにすることは
できずに樹脂漏れが生じ、樹脂が基板側面に付着してし
まう。その樹脂がはがれて基板裏面の半田バンプ形成用
のパッドに付着すると、半田ボールが形成されなかった
り形成されたとしても強度が不十分で欠落してしまうと
いう危険性がある。対策として基板の膨らみを大きくす
るため、図6に示す上金型1の突起13の高さを高くす
ることは、ソルダーレジストの破壊の程度を著しくし第
1の問題がより深刻になるため実施することはできな
い。従って、本発明の解決すべき課題は、ソルダーレジ
スト屑や樹脂屑の発生を防止することであり、これによ
りこれらが基板裏面の半田バンプ形成用のパッドに付着
することのないようにして信頼性高く半田バンプを形成
することができるようにすることである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めの本発明による樹脂封止型BGAは、プリント基板上
に半導体素子が樹脂封止されて搭載されているものであ
って、前記プリント基板の樹脂封止時に封止金型に設け
られた突起に当接する部分には金属層が形成されてお
り、そしてその部分はソルダーレジストに被覆されてい
ないことを特徴としている。
【0009】また、本発明によるBGA用樹脂封止金型
は、樹脂漏れ防止の目的でプリント基板のゲート部周囲
を押し潰すための突起を有するものであって、前記突起
のプリント基板に接する面がプリント基板の外側に向か
って徐々に低くなることを特徴としている。
【0010】[作用]本発明の樹脂封止型BGAでは、
樹脂封止時に金型の突起に当接するプリント基板の表面
には金属層が形成されかつその部分はソルダーレジスト
に被覆されていないので、突起でプリント基板を押し潰
して広げる際にソルダーレジストが破損して飛び散るこ
とがなくなる。また、突起の当接するプリント基板表面
は展性の高い金属層で保護されているため、樹脂積層板
が破損して樹脂屑を発生させることもない。そのため、
基板を破壊させることなく大きく変形させることが可能
になる。また、本発明のBGA用樹脂封止金型では、樹
脂基板を押し潰す突起が外側に向かって低くなるテーパ
を有しているため、プリント基板を大きく押し広げるこ
とができる。そのため、基板と下側金型との間の隙間を
0に近付けることができ、樹脂漏れを低減させて基板へ
の樹脂の付着を少なくすることができる。よって、本発
明によれば、ソルダーレジスト屑や樹脂屑の発生を抑制
することができ、これらが半田バンプを形成するパッド
に付着することがなくなり、信頼性高く半田バンプを形
成することが可能になる。
【0011】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図1は、本発明の第1の実
施の形態を示す断面図である。図1に示すように、プリ
ント基板4の、上金型1の突起13により押し潰される
部分の表面には金属層12が形成されている。プリント
基板4の他の部分は従来のBGAのそれと同様である。
すなわち、基板両面には配線パターンが形成され、表・
裏面の配線パターンはスルーホールによって接続されて
いる。基板表面には半導体素子が搭載され、ボンディン
グワイヤにより半導体素子の電極パッドと配線パターン
間が接続されている。また、表・裏面の配線パターン上
はパッド部等を除いてソルダーレジストにより被覆され
ている。
【0012】上記金属層12は、基板表面の配線パター
ンと同時に形成することができる。したがって、金属層
は、通常、銅箔または銅箔+銅メッキ層または銅箔+銅
メッキ層+金メッキ層等で形成されることになる。次
に、樹脂封止工程について説明する。図1に示すよう
に、下金型2の凹部内に、半導体素子が搭載されたプリ
ント基板4を配置する。ゲート両サイドに突起13を有
する上金型1を降下させて型締めを行う。このとき、上
金型1の突起13により基板が押し潰され基板端部が膨
れ、下金型2とプリント基板4間の隙間は解消される
が、突起13の当接する部分にソルダーレジストは形成
されていないので破損されたソルダーレジストが飛び散
ることは回避される。そして、押し潰される基板の表面
は展性の高い金属層12により保護されているので基板
素材が破損されて飛び散ることもない。型締め後、ゲー
トよりキャビティに溶融樹脂を注入して樹脂封止を行
う。
【0013】図2は、本発明の第2の実施の形態を示す
断面図である。本実施の形態の図1に示した第1の実施
の形態と異なる点は、図2に示すように、上金型1に設
けられた突起13がキャビティから離れるにつれて(プ
リント基板4の外側に向かって)その高さが徐々に低く
なっている点である。これにより、基板側面の膨らみを
より大きくして下金型−プリント基板間の隙間をより確
実に埋めることができる。プリント基板の変形量は第1
の実施の形態の場合よりも大きくなるが基板表面は展性
の大きな金属層12により保護されているため、基板が
破損されて樹脂屑を発生することは抑制されている。
【0014】図3は、本発明の第3の実施の形態を示す
断面図である。本実施の形態の図2に示した第2の実施
の形態と異なる点は、図3に示すように、下金型2側に
も表面にテーパを有する突起を形成し、これに伴ってプ
リント基板4の裏面側にも金属層12が設けられた点で
ある。これにより、基板の膨らみはより大きくなるため
樹脂漏れ防止の効果をより大きくすることができる。基
板の膨らみが大きくなっても、基板両面の突起の当接す
る部分は展性の高い金属層12により保護されているた
め、基板が破損されて樹脂屑を発生することは抑制され
ている。上記第3の実施の形態では、上金型と下金型の
双方の突起の表面にテーパが形成されていたが、これを
上金型または下金型のいずれか一方のみとなるように変
更してもよい。
【0015】
【実施例】図1、図4を参照して第1の実施例について
説明する。この実施例では、金属層12の材料として銅
が採用され、その膜厚は約50μmである。図4に上金
型の突起、ゲートおよびその付近のプリント基板に配置
を示す。上金型に設けられている突起13の大きさは
0.5mm×1.0mmで高さは0.1mmである。突
起13は、ゲート8からは0.5mm離れ、基板4の端
面からは0.2mm離れた位置に形成されている。金属
層12は、突起13に対し、基板4の辺方向(x方向)
には片側で0.5mm大きく、Y方向では片側で0.2
mm大きく設計されている。このように金属層(銅層)
12は突起13よりも大きめに設計されているため、プ
リント基板や金型に製作誤差が生じても突起13は確実
に金属層12内に留まる。
【0016】金属層12はプリント基板の配線パターン
形成工程において同時に形成することができる。本実施
例においては、プリント基板はパネルメッキ法の一種で
あるテンティング法を用いて製作した。すなわち、まず
両面銅張り積層板を用意しスルホール部にドリルにて穴
を開け、触媒処理、無電界銅メッキの後、所定の膜厚に
電界銅メッキを行った。次に、感光性ドライフィルムを
両面の銅箔上にラミネートし、ネガフィルムを合わせて
露光し、現像した。現像後にはスルホール部、配線パタ
ーン部および突起の当たる部分はドライフィルムで保護
されている。次に、エッチング液によりドライフィルム
で保護されていない部分の銅を溶解除去した。すなわち
スルホール、配線パターンおよび突起の当たる部分の銅
を残して除去した。次に、ドライフィルムを剥離し、所
定の部分にソルダーレジストを塗布して完成した。配線
パターンの銅層の上にはソルダーレジストが塗布される
が、突起13の当たる部分はソルダーレジストは塗布さ
れず剥き出し状態のままとなる。
【0017】図2を参照して第2の実施例について説明
する。第2の実施例では、上金型1の突起13の表面に
はキャビティから離れるにつれて低くなるテーパが付け
られている。この突起の平面形状は図4に示した第1の
実施例の場合と同様である。また、突起は、高い側の高
さが0.15mm、低い側さが0.1mmである。第1
の実施例ではプリント基板をパネルメッキ法にて形成し
たが、第2の実施例ではパターンメッキ法にて形成し
た。すなわち、ガラスエポキシを基材とする35μmの
両面銅張り積層板を用意し、スルーホール形成個所にド
リルにて穴開けを行った。触媒処理、無電界銅メッキの
後、ネガタイプの感光性樹脂を塗布し、露光・現像を行
って、形成すべきパターンと逆パターンのレジストパタ
ーンを形成した。すなわち、金属層12、配線パターン
およびスルーホールを形成する部分の銅層が露出し他の
部分がレジストパターンに被覆された状態とした。続い
て、電界銅メッキを20μm、電界金メッキを10μm
ずつ行った後、レジストパターンを剥離除去した。その
後、金層をエッチングマスクとして露出した銅層をエッ
チング除去した後、、所定の部分にソルダーレジストを
塗布して本実施例のプリント基板を完成した。本実施例
での金属層12の平面形状は第1の実施例と同様であ
る。
【0018】次に、図3を参照して第3の実施例につい
て説明する。本実施例では、金型の突起13が、上金型
1だけではなく下金型2にも設けられている。上金型、
下金型いずれも突起の形状も第2の実施例と同様の形状
に形成される。また、本実施例のプリント基板4には基
板裏面にも金属層12が形成されるが、プリント基板4
の製造方法と基板表・裏面の金属層12のパターン形状
は、第2の実施例と同様とした。
【0019】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の樹脂封止
型BGAは、プリント基板の、樹脂封止時に金型のゲー
ト付近に形成された突起に当接する部分に金属層を形成
したものであるので、以下の効果を奏することができ
る。 プリント基板の、金型の突起に押し潰される部分に
ソルダーレジストが形成されていないので、樹脂封止時
の金型の型締めによってソルダーレジストが破損される
ことがなくなり、ソルダーレジストが飛び散ることがな
くなる。 プリント基板の、金型の突起が当接する部分は展性
の高い金属層によって保護されているので、基板変形量
が大きくなっても基板が破損されることが防止され基板
破損による樹脂屑の発生が抑制される。 上記の結果、基板を大きく押し潰して側面を大き
く膨らませることが可能になり、プリント基板側面に封
止樹脂が付着するのを防止することができ、封止樹脂の
樹脂屑の発生を防止することが可能になる。 上記〜の結果、プリント基板裏面の半田バンプ
形成用のパッドにソルダーレジスト屑や樹脂屑が付着す
るのを防止することが可能になり、半田ボールの欠落や
付着強度不足を防止して半田バンプの信頼性を向上させ
ることが可能になる。 上記、の結果、金型がソルダーレジスト屑や樹
脂屑で汚染されるのを抑制することが可能になり、従来
高頻度で行う必要のあった樹脂封止金型の清掃の回数を
低減することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施の形態を示す断面図。
【図2】 本発明の第2の実施の形態を示す断面図。
【図3】 本発明の第3の実施の形態を示す断面図。
【図4】 本発明の第1の実施例を説明するためのゲー
ト付近の平面図。
【図5】 従来技術を示す断面図。
【図6】 従来技術を示す拡大断面図。
【図7】 従来技術を説明する平面図。
【符号の説明】
1 上金型 2 下金型 3 凹部 4 プリント基板 5 半導体素子 6 キヤビテイ 7 ランナー 8 ゲート 9 隙間 10 ゲート部樹脂 11 押し潰された跡 12 金属層 13 突起

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プリント基板上に半導体素子が樹脂封止
    されて搭載されている樹脂封止型BGAにおいて、前記
    プリント基板の樹脂封止時に封止金型に設けられた突起
    に当接する部分は金属層が形成されておりその部分はソ
    ルダーレジストに被覆されていないことを特徴とする樹
    脂封止型BGA。
  2. 【請求項2】 前記プリント基板の前記突起に当接する
    部分が前記プリント基板の両面に存在していることを特
    徴とする請求項1記載の樹脂封止型BGA。
  3. 【請求項3】 前記金属層は、銅張り積層板の銅箔また
    は銅張り積層板の銅箔とその上に形成されたメッキ層で
    あることを特徴とする請求項1または2記載の樹脂封止
    型BGA。
  4. 【請求項4】 樹脂漏れ防止の目的でプリント基板のゲ
    ート部周囲を押し潰すための突起を上金型に有するBG
    A用樹脂封止金型において、前記突起のプリント基板に
    接する面がプリント基板の外側に向かって徐々に低くな
    っていることを特徴とするBGA用樹脂封止金型。
  5. 【請求項5】 樹脂漏れ防止の目的で基板のゲート部周
    囲を押し潰すための突起が上および下金型の双方に設け
    られているBGA用樹脂封止金型において、上および下
    金型の突起のうち少なくとも一方の前記突起はプリント
    基板に接する面がプリント基板の外側に向かって徐々に
    低くなっていることを特徴とするBGA用樹脂封止金
    型。
JP28325997A 1997-10-16 1997-10-16 樹脂封止型bgaおよびbga用樹脂封止金型 Expired - Lifetime JP3055669B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28325997A JP3055669B2 (ja) 1997-10-16 1997-10-16 樹脂封止型bgaおよびbga用樹脂封止金型

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28325997A JP3055669B2 (ja) 1997-10-16 1997-10-16 樹脂封止型bgaおよびbga用樹脂封止金型

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11121656A true JPH11121656A (ja) 1999-04-30
JP3055669B2 JP3055669B2 (ja) 2000-06-26

Family

ID=17663145

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28325997A Expired - Lifetime JP3055669B2 (ja) 1997-10-16 1997-10-16 樹脂封止型bgaおよびbga用樹脂封止金型

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3055669B2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001065601A3 (de) * 2000-03-03 2002-06-20 Infineon Technologies Ag Vorrichtung zum verpacken elektronischer bauteile mittels spritzgusstechnik
US6545531B1 (en) 2001-09-20 2003-04-08 Hynix Semiconductor Inc. Power voltage driver circuit for low power operation mode
SG127716A1 (en) * 2003-03-11 2006-12-29 Hitachi Cable Mold die and method for manufacturing semiconductor device using the same
US8334176B2 (en) 2010-10-06 2012-12-18 Mitsubishi Electric Corporation Method of manufacturing semiconductor device
JP2013188997A (ja) * 2012-03-15 2013-09-26 Toyota Motor Corp 樹脂封止部品の製造方法
JP2016016670A (ja) * 2014-11-26 2016-02-01 株式会社山岡製作所 被成形基板
JP2016086128A (ja) * 2014-10-28 2016-05-19 第一精工株式会社 金型および成形品の製造方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102624615B1 (ko) * 2021-06-16 2024-01-12 한경국립대학교 산학협력단 교체형 흡착필터를 포함하는 에너지 독립형 직접공기 co2 포집 방법 및 장치

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001065601A3 (de) * 2000-03-03 2002-06-20 Infineon Technologies Ag Vorrichtung zum verpacken elektronischer bauteile mittels spritzgusstechnik
US6545531B1 (en) 2001-09-20 2003-04-08 Hynix Semiconductor Inc. Power voltage driver circuit for low power operation mode
SG127716A1 (en) * 2003-03-11 2006-12-29 Hitachi Cable Mold die and method for manufacturing semiconductor device using the same
US7355278B2 (en) 2003-03-11 2008-04-08 Hitachi Cable, Ltd. Mold die for a semiconductor device
US8334176B2 (en) 2010-10-06 2012-12-18 Mitsubishi Electric Corporation Method of manufacturing semiconductor device
DE102011084058B4 (de) * 2010-10-06 2016-04-07 Mitsubishi Electric Corporation Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
JP2013188997A (ja) * 2012-03-15 2013-09-26 Toyota Motor Corp 樹脂封止部品の製造方法
JP2016086128A (ja) * 2014-10-28 2016-05-19 第一精工株式会社 金型および成形品の製造方法
JP2016016670A (ja) * 2014-11-26 2016-02-01 株式会社山岡製作所 被成形基板

Also Published As

Publication number Publication date
JP3055669B2 (ja) 2000-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI413223B (zh) 嵌埋有半導體元件之封裝基板及其製法
KR20050020501A (ko) 비한정형 볼 그리드 어레이 패키지용 배선기판 및 그의제조 방법
KR20020050148A (ko) 반도체 장치의 제조 방법 및 반도체 장치
US6518090B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof
KR100367955B1 (ko) 솔더볼과 기판 사이의 결합이 강화된 반도체 장치
JP3129960B2 (ja) Fpc上のベアチップicの樹脂封止構造およびその製造方法
JP2020035848A (ja) プリント配線板及びソルダーレジストの形成方法
JP2001223293A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP3055669B2 (ja) 樹脂封止型bgaおよびbga用樹脂封止金型
JP3939847B2 (ja) 半導体装置の製造方法
KR20020000012A (ko) 슬릿이 형성된 칩 스케일 패키지 제조 방법
KR20000053570A (ko) 비.지.에이.용 테이프 캐리어 및 그것을 이용한 반도체장치
JP3925752B2 (ja) バンプ付き配線基板及び半導体パッケ−ジの製造法
JPH05226505A (ja) プリント配線板
JP2001127194A (ja) フリップチップ型半導体装置及びその製造方法
JPH08153819A (ja) ボールグリッドアレイ型半導体パッケージの製造方法
JP4336407B2 (ja) 回路基板
JP3570400B2 (ja) 樹脂封止型半導体装置およびその製造方法
JP4366647B2 (ja) 配線部材の製造方法
JPH0936275A (ja) 表面実装型半導体装置の製造方法
JP2001267452A (ja) 半導体装置
TWI838816B (zh) 封裝結構及其製造方法
JPH08102583A (ja) 配線回路基板
JPH118335A (ja) 回路基板及びその製造方法とこれを用いた半導体パッケージの製造方法
JP3714979B2 (ja) パッケージ