JPH1111982A

JPH1111982A - 耐熱性熱線遮断ガラス及びその製造方法

Info

Publication number: JPH1111982A
Application number: JP18588397A
Authority: JP
Inventors: Kenichi Kinoshita; 健一木下; Masaru Takahira; 優高比良
Original assignee: Narumi China Corp
Current assignee: Narumi China Corp
Priority date: 1997-06-25
Filing date: 1997-06-25
Publication date: 1999-01-19

Abstract

(57)【要約】【課題】６５０℃以上の高温下においても優れた熱線
遮断機能を発揮しうる耐熱性熱線遮断ガラス及びその製
造方法を提供すること。【解決手段】ガラス基板１０の表面に熱線遮断用の薄
膜２を有する熱線遮断ガラス１。ガラス基板１０は低熱
膨張性を有すると共にその軟化点が６５０℃以上であ
り，かつ，薄膜２は６５０℃以上において形成された酸
化錫系皮膜である。ガラス基板１０の熱膨張係数は，−
１０〜＋１５×１０−７／℃であることが好ましい。ま
たガラス基板１０は，結晶化ガラスまたは石英ガラスで
あることが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【技術分野】本発明は，高温下においても優れた熱線遮
断性能を発揮し，かつ耐久性に優れる耐熱性熱線遮断ガ
ラスに関する。

【０００２】

【従来技術】太陽光からの熱線（赤外線等）を反射する
熱線遮断ガラスは，例えば自動車の車室内の過熱を防止
するガラス等として有効である。従来，熱線遮断ガラス
としては，ソーダガラスや硼珪酸ガラスをガラス基板と
して用い，その表面に熱線遮断用の薄膜を形成したもの
がある。上記薄膜としては，例えば酸化錫系等の金属酸
化物膜が適用される。

【０００３】

【解決しようとする課題】しかしながら，上記従来の熱
線遮断ガラスにおいては，次の問題がある。即ち，上記
従来の熱線遮断ガラスは，室温に近い環境での使用を目
的として開発されてきたものであり，高温下における使
用に耐えることができない。例えば，セラミック製品の
焼成炉や金属製品の加熱炉等の工業炉においては，炉体
内部の状況を監視するため，覗き窓を設けることが望ま
しい。

【０００４】しかしながら，６００℃を超える熱処理を
行うような高温処理用の工業炉に上記従来の熱線遮断ガ
ラスを使用した場合には，上記ガラス基板自体が軟化し
てくると共に上記薄膜の熱線遮断効果が大幅に低下す
る。そのため，上記従来の熱線遮断ガラスを高温処理用
工業炉の覗き窓に適用することは困難である。

【０００５】また，工業炉の覗き窓に限らず，高温状態
で用いるその他の機器においても熱線遮断ガラスを使用
したい場合がある。しかしながら，従来の熱線遮断ガラ
スは，上記のごとく高温での使用に耐えることができな
いため，これらの機器に適用することができない。その
ため，種々の分野から，高温環境下においても優れた熱
線遮断機能を発揮しうる耐熱性の熱線遮断ガラスの開発
が望まれていた。

【０００６】本発明は，かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので，６５０℃以上の高温下においても優れた
熱線遮断機能を発揮しうる耐熱性熱線遮断ガラス及びそ
の製造方法を提供しようとするものである。

【０００７】

【課題の解決手段】請求項１の発明は，ガラス基板の表
面に熱線遮断用の薄膜を有する熱線遮断ガラスにおい
て，上記ガラス基板は低熱膨張性を有すると共にその軟
化点が６５０℃以上であり，かつ，上記薄膜は６５０℃
以上において形成された酸化錫系皮膜であることを特徴
とする耐熱性熱線遮断ガラスにある。

【０００８】本発明において最も注目すべきことは，上
記特性を有する特定のガラス基板を採用したこと，か
つ，上記薄膜は６５０℃という高温状態において形成さ
れた酸化錫系皮膜であるということである。

【０００９】上記ガラス基板における低熱膨張性とは，
従来の熱線遮断ガラスに用いられていた一般的なガラス
基板よりも熱膨張係数が小さいことを意味する。具体的
には，従来の一般的なガラス基板はソーダガラスや硼珪
酸ガラスからなり，その熱膨張係数は約３０×１０^-7／
℃以上である。これに対し，本発明におけるガラス基板
としては，少なくとも３０×１０−７℃未満の熱膨張係
数を有するガラスを適用する。

【００１０】また，上記ガラス基板の軟化点は，上記の
ごとく６５０℃以上である。軟化点が６５０℃未満の場
合には，６５０℃以上における使用が困難であるという
問題がある。なお，軟化点の上限値は高い程良いが，こ
の軟化点はガラスの物性値であるため自ずと限界があ
る。ここで軟化点とは，φ０．５５〜φ０．７５ｍｍ，
長さ２３５ｍｍのファイバーを上端を支持して吊り下
げ，その上部１００ｍｍを５℃／分の速度で温度上昇さ
せた場合に，自重により１ｍｍ／分の速度で伸びる温度
をいい，粘性係数がη＝１０^7.6に相当する温度であ
る。

【００１１】また，熱線遮断用の薄膜は，上記のごとく
６５０℃以上において形成された酸化錫系皮膜である。
酸化錫系皮膜自体は，従来より知られたものであり，熱
線遮断効果を発揮するための種々のドーピング剤を加え
たものが知られている。ここで重要な点は，上記薄膜
は，単に従来より知られている皮膜を採用したのではな
く，６５０℃以上という高温状態において形成したもの
であるということである。

【００１２】６５０℃未満において形成した皮膜では，
その熱線遮断ガラスを例えば６５０℃以上という高温状
態で使用した場合には熱線遮断効果が大幅に劣化すると
いう問題がある。一方，皮膜形成温度の上限値は，蒸着
時の過度の酸化による表面抵抗率の劣化を防止する理由
により９００℃であることが好ましい。

【００１３】次に，本発明の作用につき説明する。本発
明の熱線遮断ガラスは，上記特定のガラス基板に上記特
定の薄膜を設けてなるため，高温下において使用しても
優れた熱線遮断効果及び優れた耐久性（耐熱性）を発揮
する。

【００１４】即ち，上記ガラス基板はその軟化点が６５
０℃以上である。そのため，６５０℃以上という高温状
態で使用してもガラス基板が軟化してしまうという不具
合が発生しない。また，上記ガラス基板は低熱膨張性で
ある。そのため，耐熱衝撃性，寸法安定性等に優れ，破
損の防止等を図ることができる。

【００１５】また，上記薄膜は６５０℃以上において形
成された酸化錫系皮膜である。従来の酸化錫系皮膜は約
５００℃程度の温度において形成されるものであり，そ
の熱線遮断効果は５００℃超えるような高温において大
幅に劣化してしまう。これに対し，本発明における６５
０℃以上において形成した酸化錫系皮膜は，後述する実
施形態例にも示すごとく，６５０度を超えるような非常
に高い温度においても優れた熱線遮断効果を維持するこ
とができる。

【００１６】また，薄膜の成分としては，従来と同様の
酸化錫系皮膜を用いることができる。そのため，例えば
酸化インジウム系皮膜や，金属膜と金属酸化物の複合皮
膜のような高価な皮膜を採用する必要がなく，耐熱性熱
線遮断ガラスの低コスト化を図ることができる。

【００１７】このように，本発明においては，上記ガラ
ス基板の耐久性の向上及び酸化錫系皮膜の熱線遮断効果
の高温特性の向上の実現によって，６５０℃以上の高温
下においても優れた熱線遮断機能を発揮しうる耐熱性熱
線遮断ガラスを提供することができる。

【００１８】次に，請求項２の発明のように，上記ガラ
ス基板の熱膨張係数は，−１０〜＋１５×１０^-7／℃で
あることが好ましい。熱膨張係数がこの範囲内にあれ
ば，ガラス基板の耐熱衝撃性，寸法安定性等の特性を非
常に良好に維持することができる。一方，熱膨張係数が
上記範囲を超える場合には，高温時の寸法変化が大きく
なり，適用対象が制限されるという問題がある。

【００１９】また，請求項３の発明のように，上記ガラ
ス基板は，結晶化ガラスまたは石英ガラスであることが
好ましい。結晶化ガラス及び石英ガラスは，一般に−１
０〜＋１５×１０^-7／℃の範囲内の熱膨張率を有し，か
つ軟化点が９００℃以上（石英ガラスは１３００℃以
上）である。そのため，上記ガラス基板に求められる特
性を容易に満足することができ，上記作用効果を十分に
発揮することができる。

【００２０】また，請求項４の発明のように，上記薄膜
の膜厚は，１００〜１０００ｎｍであることが好まし
い。１００ｎｍ未満の場合には，上記薄膜が島状になっ
て連続した均一な薄膜構造にならないため，十分な熱線
遮断効果を発揮し得ない。そのため，より好ましくは３
００ｎｍ以上がよい。一方，１０００ｎｍを超える場合
には，可視光の透過率が低下するため，例えば覗き窓の
ように前方を透視することを目的とする熱線遮断ガラス
には適用困難となるという問題がある。そのため，より
好ましくは７００ｎｍ以下がよい。

【００２１】また，上記薄膜が熱線遮断効果を発揮する
ためには，薄膜に電気伝導性が必要である。電子のプラ
ズマ振動により熱線が反射されるからである。したがっ
て通常は，導電効果を高めるために上記薄膜にドーピン
グ剤を含有させる。この場合，請求項５の発明のよう
に，上記薄膜は，ドーピング剤としてアンチモンを含有
していることが好ましい。これにより，酸化アンチモン
を有する酸化錫系皮膜が形成され，優れた熱線遮断ガラ
スを確実に発揮させることができる。なお，上記ドーピ
ング剤としては，アンチモンに代えて，フッ素，インジ
ウム等を用いることもできる。

【００２２】次に，上記優れた耐熱性熱線遮断ガラスを
製造する方法としては，次の発明がある。即ち，請求項
６の発明のように，低熱膨張性を有すると共に軟化点が
６５０℃以上のガラス基板を準備し，次いで，該ガラス
基板を６５０℃以上に加熱すると共に，該ガラス基板上
にスプレー法又はＣＶＤ法により酸化錫系の薄膜を形成
することを特徴とする耐熱性熱線遮断ガラスの製造方法
がある。

【００２３】本製造方法において注目すべきことは，上
記ガラス基板を６５０℃以上に加熱した状態で上記薄膜
を形成すること，即ち，薄膜の形成温度を６５０℃以上
の高温とすることである。なお，低熱膨張性を有すると
共に軟化点が６５０℃以上のガラス基板は，上記と同様
である。

【００２４】また，具体的な薄膜形成方法は，上記スプ
レー法又はＣＶＤ法である。スプレー法は，薄膜の原料
となる溶液を高温状態のガラス基板上に噴霧して，ガラ
ス基板上において熱分解酸化反応により薄膜を形成する
という従来より知られた方法である。また，ＣＶＤ法
（化学蒸着法）は，薄膜の原料を含んだ反応ガスを，高
温状態のガラス基板に接触させ，該ガラス基板上におい
て薄膜を蒸着させる従来より知られた方法である。

【００２５】本製造方法においては，上記のごとく，ガ
ラス基板を６５０℃以上の温度に加熱して酸化錫系皮膜
を形成する。また，その形成方法はスプレー法又はＣＶ
Ｄ法であって，特別の工夫を要しない。そのため，前述
した優れた耐熱性熱線遮断ガラスを容易に製造すること
ができる。即ち，本製造方法により得られた耐熱性熱線
遮断ガラスは，６５０℃以上の高温下においても優れた
熱線遮断機能及び耐久性を発揮する。

【００２６】したがって，本発明によれば，６５０℃以
上の高温下においても優れた熱線遮断機能を発揮しうる
耐熱性熱線遮断ガラスの製造方法を提供することができ
る。

【００２７】また，請求項７の発明のように，上記ガラ
ス基板の熱膨張係数は，−１０〜＋１５×１０^-7／℃で
あることが好ましい。この場合には，上記と同様に耐熱
衝撃性，寸法安定性等に優れた耐熱性熱線遮断ガラスを
容易に製造することができる。

【００２８】また，上記ガラス基板は，結晶化ガラスま
たは石英ガラスであることが好ましい。この場合には，
上記と同様にガラス基板に求められる特性を容易に満足
させることができる。

【００２９】

【発明の実施の形態】

実施形態例１本発明の実施形態例にかかる耐熱性熱線遮断ガラス及び
その製造方法につき，図１を用いて説明する。本例の耐
熱性熱線遮断ガラス１は，図１に示すごとく，ガラス基
板１０の表面に熱線遮断用の薄膜２を有する。

【００３０】ガラス基板１０としては，低熱膨張性を有
すると共にその軟化点が６５０℃以上である透明結晶化
ガラスを用いた。即ち，この透明結晶化ガラスは，軟化
点が９００℃以上であり，かつ−１０〜＋５×１０^-7／
℃の熱膨張係数を有する。また，薄膜２は以下にも示す
ごとく，６５０℃以上において形成された酸化錫系皮膜
である。

【００３１】この耐熱性熱線遮断ガラス１を製造するに
当たっては，上記の透明結晶化ガラスよりなるガラス基
板１０を準備すると共に，スプレー用の薬液を作製す
る。スプレー用薬液を作製するに当たっては，まずモル
比［Ｓｂ］／［Ｓｎ］が０．１〜０．５となるように塩
化第二錫にアンチモンを加えて薬剤を作製した。次いで
この薬剤をアルコールに溶解してスプレー用薬液とし
た。

【００３２】次に，薄膜２を形成するに当たっては，ま
ずガラス基板１０を８００℃に加熱した。そして，その
加熱温度を保持したまま，ガラス基板１０上に上記のス
プレー用薬液を均一に散布した。こにれより，散布され
たスプレー用薬液は，８００℃に保持されたガラス基板
１０上において酸化熱分解反応を起こし，酸化錫系皮膜
よりなる薄膜２が形成された。即ち，得られた薄膜２
は，８００℃において形成されたものである。また，薄
膜２は，上記スプレーにより飛散される薬液量を調整す
ることにより，約６００ｎｍの膜厚に仕上げた。

【００３３】次に，本例の耐熱性熱線遮断ガラス１の作
用効果につき説明する。本例の耐熱性熱線遮断ガラス１
は，ガラス基板１０として軟化点が９００℃以上の透明
結晶化ガラスを用いているため，少なくとも９００℃ま
での高温下においては軟化することなく使用することが
できる。また，透明結晶化ガラスは上記のごとく非常に
低い熱膨張係数を有しているため，高温において使用し
ても寸法変化が少なく，かつ耐熱衝撃性に優れた耐熱性
熱線遮断ガラスを実現することができる。

【００３４】また，薄膜２は，上記のごとく８００℃と
いう高温において形成されている。そのため，６５０℃
を超えるような高温下においても優れた熱線遮断効果を
維持することができる。この理由は次のように考えるこ
とができる。即ち，薄膜の形成は上記のごとく酸化熱分
解反応により行われるが，この反応は高温であるほど起
こりやすい。そして，得られる薄膜は，少なくとも酸化
熱分解反応が行われた温度までは安定した皮膜状態を維
持することができると考えられる。

【００３５】そのため，従来５００℃程度に制限されて
いた薄膜形成温度を８００℃という高温に高めることに
より，薄膜の高温下における安定性を大幅に向上させる
ことができる。それ故，８００℃において形成した本例
の薄膜２は，６５０℃を超えるような高温，少なくとも
８００℃程度までは十分に安定した熱線遮断機能を発揮
することができる。

【００３６】このように，本例の耐熱性熱線遮断ガラス
１は，上記のガラス基板１０の耐熱性能と薄膜２の高温
下における熱線遮断効果の発揮によって，高温において
使用される種々の機器等において十分に活用することが
できる。また，本例の耐熱性熱線遮断ガラス１は，透視
可能な透明結晶化ガラスをガラス基板１０として用い，
かつ薄膜２の厚みを上記値にすることにより透視性能を
確保している。そのため，例えば６５０℃を超えるよう
な熱処理を行う工業炉の覗き窓としても有効に利用する
ことができる。

【００３７】なお，本例においてはスプレー法により薄
膜２を形成したが，ＣＶＤ法により行っても同様の効果
を得ることができる。具体的には，まずモル比［Ｓｂ］
／［Ｓｎ］が０．１〜０．５となるように二塩化ジメチ
ル錫にアンチモンを加えて溶解タンク内で１５０℃に加
熱して溶解する。そして，溶解タンク上に気化した蒸気
を８００℃に加熱したガラス基板１０に吹きかける。こ
れにより，ガラス基板１０上においては，上記蒸気が酸
化熱分解反応を起こして酸化錫系皮膜として蒸着され
る。

【００３８】実施形態例２次に，本例においては，図２，図３に示すごとく，実施
形態例１により得られた耐熱性熱線遮断ガラス１の熱線
遮断効果を定量的に測定した。具体的には，薄膜形成前
のガラス基板１０（透明結晶化ガラス）の赤外線透過率
と，薄膜２を形成した後の耐熱性熱線遮断ガラス１の赤
外線透過率を測定した。なお，本例においては，常温に
おける赤外線透過率を測定した。また，測定装置として
は，日立赤外分光光度計２６０−３０型を用いた。

【００３９】測定結果を図２，図３に示す。図２，図３
は，いずれも横軸に赤外線の波長（μｍ），縦軸に赤外
線の透過率（％）をとった。同図より知られるごとく，
薄膜２の形成前には非常に透過率の高かった２つの赤外
線，２．６μｍピークＰ１及び３．６μｍピークＰ２
は，いずれも約１０％以下（Ｐ３，Ｐ４）にまで抑えら
れた。このことから，実施形態例１により得られた耐熱
性熱線遮断ガラス１は，少なくとも常温においては非常
に優れた熱線遮断効果を発揮することがわかる。

【００４０】実施形態例３次に，本例においては，図４に示すごとく，実施形態例
１により得られた熱線遮断ガラス１（試料Ｅ１とする）
の高温における熱線遮断効果を，比較例等と共に定量的
に評価した。比較例としては，薄膜２の形成温度を５０
０℃としたものを準備した（これを試料Ｃ１とする）。
また，本発明の範囲内である他の例として，薄膜２の形
成温度を６５０℃としたものも準備した（これを試料Ｅ
２とする）。なお，試料Ｅ２，Ｃ１における薄膜形成温
度以外の製造条件は，実施形態例１と同様にした。

【００４１】具体的な評価方法としては，各試料（Ｅ
１，Ｅ２，Ｃ１）に８００℃の熱負荷を与え，その熱負
荷時間の経過に対する赤外線反射率の変化を測定するこ
とにより行った。ここにいう赤外線反射率（％）は，実
施形態例２における赤外線透過率（％）を１００％から
引いた値であり，実際の測定は実施形態例２と同様に行
った。

【００４２】測定結果を図４に示す。同図は，横軸に熱
負荷時間（Ｈｒ）を，縦軸に赤外線反射率（％）をとっ
た。そして，各試料Ｅ１，Ｅ２，Ｃ１の測定結果を同図
にプロットした。同図より知られるごとく，薄膜の形成
温度が高いほど測定時間全域にわたって優れた赤外線反
射性能を示した。

【００４３】また，試料Ｅ１，Ｅ２は，いずれも８００
℃の熱負荷状態において初期の赤外線反射性能を長期間
維持することができた。このことから，まず，薄膜の形
成温度は，使用環境温度に近いほど薄膜の耐久性向上に
有効であることが分かる。さらに，必ずしも使用環境温
度（８００℃）にまで上げなくても，少なくとも６５０
℃以上の高温で薄膜を形成すれば，実用可能な優れた耐
久性が得られるということもわかった。

【００４４】実施形態例４次に，本例においては，熱線遮断ガラスにおいて従来よ
り評価項目とされている薄膜の表面抵抗値（Ω／□）と
熱線遮断効果との関係を調査した。上記薄膜の表面抵抗
値は，従来よりこの値が小さいほど熱線遮断効果に優れ
ていると考えられていた。そのため，まず本例において
は，薄膜の形成温度と得られた薄膜の表面抵抗値との関
係を測定した。

【００４５】具体的には，実施形態例１に示したＣＶＤ
法により，ガラス基板を５００℃，６００℃，８００℃
の３種類の条件に加熱して薄膜を形成した。また，その
他の薄膜形成条件は同じ条件とした。そして，得られた
薄膜の表面抵抗値をそれぞれ測定した。また，表面抵抗
値の測定は，四端子法を用いて各条件毎に５回ずつ行っ
た。

【００４６】測定結果を図５に示す。同図は横軸に蒸着
温度（℃）を，縦軸に表面抵抗（Ω／□）をとった。同
図より知られるごとく，表面抵抗値は，蒸着温度が高い
ほど低い値となることがわかる。

【００４７】次に，本例においては，８００℃において
形成（蒸着）した薄膜において，その表面抵抗値と赤外
線反射率の経時的変化を，８００℃の熱負荷状態におい
て測定した。測定用の試料としては，上記ＣＶＤ法にお
けるガス流量等を変化させて膜厚等の異なる３種類の試
料Ｅ４１，Ｅ４２，Ｅ４３を作製した。各試料は，その
表面抵抗値が，試料Ｅ４１は低抵抗（５０Ω／□以
下），試料Ｅ４２は中抵抗（５０〜１００Ω／□），試
料Ｅ４３は高抵抗（２００Ω／□以上），となるように
作製したものである。

【００４８】各試料の表面抵抗値の測定及び赤外線反射
率の測定は，いずれも上記と同様にして行った。測定結
果を図６，図７に示す。図６は，横軸に熱負荷時間（Ｈ
ｒ）を，縦軸に表面抵抗値（Ω／□）をとったものであ
る。また図７は横軸に熱負荷時間（Ｈｒ）を，縦軸に赤
外線反射率（％）をとったものである。

【００４９】図６より知られるごとく，表面抵抗値は，
初期の値が低いほど最後まで低い値を示すと共に，変化
も少なかった。しかしながら，いずれの試料も時間の経
過と共に表面抵抗値は増加した。特に高抵抗の試料Ｅ４
３は，熱負荷時間５時間経過後から急激に表面抵抗値が
増加した。

【００５０】一方，図７より知られるごとく，赤外線反
射率は，いずれの試料においてもほとんど経時的変化が
なかった。即ち，上記のごとく表面抵抗値が増加しても
赤外線反射率は低下しなかった。これらの結果は，表面
抵抗値が低いほど熱線遮断効果に優れるという従来の認
識と一見矛盾するようにも思われる。しかしながら，本
例の結果からは，少なくとも，８００℃という高温で薄
膜を形成した場合には，それと同等の熱負荷（８００
℃）を与えられても，初期の表面抵抗値に見合った熱線
遮断効果を長期間維持することができるということがわ
かる。

【００５１】実施形態例５次に，本例においては，実施形態例１と同様の方法によ
って，ガラス基板１０として白色結晶化ガラスを用いた
耐熱性熱線遮断ガラス（試料Ｅ５）を作製し，その性能
を評価した。なお，白色結晶化ガラスは，軟化点が１２
００℃以上であり，かつ熱膨張係数が＋５〜＋１５×１
０^-7／℃であるという特徴を有している。そのため，白
色結晶化ガラスは，熱線遮断効果を備えることによっ
て，例えばダストを嫌う電子部品用加熱炉において省エ
ネ効果を備えた内壁として用いることもできる。

【００５２】評価項目の１つは，波長が２．６μｍと
３．６μｍの赤外線反射率の，種々の熱負荷条件におけ
る経時的変化である。熱負荷条件は，２００〜８００℃
の間において２００℃ピッチで設定した。もう１つの評
価項目は，上記と同様の熱負荷条件における表面抵抗値
（Ω／□）の経時的変化である。なお，この場合には，
参考のために実施形態例１における耐熱性熱線遮断ガラ
ス１（試料Ｅ１）も一緒に測定した。

【００５３】まず，表面抵抗値の測定結果を図８〜図１
１に示す。これらの図は，いずれも横軸に熱負荷時間
（Ｈｒ），縦軸に表面抵抗値（Ω／□）をとったもので
ある。また，熱負荷条件は，図８が２００℃，図９が４
００℃，図１０が６００℃，図１１が８００℃である。
なお，熱負荷８００℃においては，試験の便宜上，試料
Ｅ５のみ測定した。

【００５４】図８〜図１０により知られるごとく，熱負
荷条件が６００℃以下の場合には，表面抵抗値は非常に
低い値に維持された。これに対し，図１１より知られる
ごとく，熱負荷が８００℃の場合には，２４時間経過後
において急激に表面抵抗値が増加した。

【００５５】次に，図１２〜図１５に赤外線反射率の測
定結果を示す。これらの図は，いずれも横軸に熱負荷時
間（Ｈｒ），縦軸に赤外線反射率（％）をとったもので
ある。また，熱負荷条件は，図１２が２００℃，図１３
が４００℃，図１４が６００℃，図１５が８００℃であ
る。また，各図には，波長２．６μｍの場合を符号Ｅ５
１，３．６μｍの場合を符号Ｅ５２として示した。

【００５６】図１２〜図１５により知られるごとく，い
ずれの熱負荷条件においても，非常に優れた熱線遮断効
果が長期間維持された。特に，上記のごとく表面抵抗値
が非常に大きく増加した８００℃の熱負荷の場合におい
ても，熱線遮断効果はほぼ初期値が長期間維持された。

【００５７】これらの結果は，実施形態例４における結
果をさらに裏付けるものである。即ち，８００℃という
高温で薄膜を形成した場合には，少なくともその薄膜形
成温度以下の熱負荷を受けても，初期の表面抵抗値に見
合った熱線遮断効果を長期間維持することができるとい
うことが明確となった。

【００５８】

【発明の効果】上述のごとく，本発明によれば，６５０
℃以上の高温下においても優れた熱線遮断機能を発揮し
うる耐熱性熱線遮断ガラス及びその製造方法を提供する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態例１における，耐熱性熱線遮断ガラス
の構造を示す説明図。

【図２】実施形態例２における，薄膜形成前のガラス基
板の赤外線透過率を示す説明図。

【図３】実施形態例２における，耐熱性熱線遮断ガラス
の赤外線透過率を示す説明図。

【図４】実施形態例３における，赤外線反射率の経時変
化を示す説明図。

【図５】実施形態例３における，蒸着温度と表面抵抗値
との関係を示す説明図。

【図６】実施形態例４における，表面抵抗値の経時変化
を示す説明図。

【図７】実施形態例４における，赤外線反射率の経時変
化を示す説明図。

【図８】実施形態例５における，熱負荷２００℃の場合
の表面抵抗値の経時変化を示す説明図。

【図９】実施形態例５における，熱負荷４００℃の場合
の表面抵抗値の経時変化を示す説明図。

【図１０】実施形態例５における，熱負荷６００℃の場
合の表面抵抗値の経時変化を示す説明図。

【図１１】実施形態例５における，熱負荷８００℃の場
合の表面抵抗値の経時変化を示す説明図。

【図１２】実施形態例５における，熱負荷２００℃の場
合の赤外線反射率の経時変化を示す説明図。

【図１３】実施形態例５における，熱負荷４００℃の場
合の赤外線反射率の経時変化を示す説明図。

【図１４】実施形態例５における，熱負荷６００℃の場
合の赤外線反射率の経時変化を示す説明図。

【図１５】実施形態例５における，熱負荷８００℃の場
合の赤外線反射率の経時変化を示す説明図。

【符号の説明】

１．．．耐熱性熱線遮断ガラス，１０．．．ガラス基板，２．．．薄膜，

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス基板の表面に熱線遮断用の薄膜を
有する熱線遮断ガラスにおいて，上記ガラス基板は低熱
膨張性を有すると共にその軟化点が６５０℃以上であ
り，かつ，上記薄膜は６５０℃以上において形成された
酸化錫系皮膜であることを特徴とする耐熱性熱線遮断ガ
ラス。
【請求項２】請求項１において，上記ガラス基板の熱
膨張係数は，−１０〜＋１５×１０^-7／℃であることを
特徴とする耐熱性熱線遮断ガラス。
【請求項３】請求項１又は２において，上記ガラス基
板は，結晶化ガラスまたは石英ガラスであることを特徴
とする耐熱性熱線遮断ガラス。
【請求項４】請求項１〜３のいずれか１項において，
上記薄膜の膜厚は，１００〜１０００ｎｍであることを
特徴とする耐熱性熱線遮断ガラス。
【請求項５】請求項１〜４のいずれか１項において，
上記薄膜は，ドーピング剤としてアンチモンを含有して
いることを特徴とする耐熱性熱線遮断ガラス。
【請求項６】低熱膨張性を有すると共に軟化点が６５
０℃以上のガラス基板を準備し，次いで，該ガラス基板
を６５０℃以上に加熱すると共に，該ガラス基板上にス
プレー法又はＣＶＤ法により酸化錫系の薄膜を形成する
ことを特徴とする耐熱性熱線遮断ガラスの製造方法。
【請求項７】請求項６において，上記ガラス基板の熱
膨張係数は，−１０〜＋１５×１０^-7／℃であることを
特徴とする耐熱性熱線遮断ガラスの製造方法。