JP3201209B2 - 建築物用ガラス - Google Patents
建築物用ガラスInfo
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- JP3201209B2 JP3201209B2 JP06446895A JP6446895A JP3201209B2 JP 3201209 B2 JP3201209 B2 JP 3201209B2 JP 06446895 A JP06446895 A JP 06446895A JP 6446895 A JP6446895 A JP 6446895A JP 3201209 B2 JP3201209 B2 JP 3201209B2
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- glass
- substrate
- film
- antimony
- coating
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Special Wing (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は建築物用ガラスに関す
る。さらに詳しくは、汚れ付着性および電波反射性の観
点から、また、日射遮蔽性、可視光反射性等の観点から
特に建築物窓部への使用に適したガラスに関する。
る。さらに詳しくは、汚れ付着性および電波反射性の観
点から、また、日射遮蔽性、可視光反射性等の観点から
特に建築物窓部への使用に適したガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、建築物、特に高層部を有するビル
建築物には種々の観点から多種多様のガラスが使用され
るようになってきている。例えば、冷房負荷の軽減及び
太陽光線による熱暑感の低減を目的としては熱線反射ガ
ラス等が、建築物高層化に伴う周辺住宅ＴＶ受像機への
いわゆるゴースト現象等を考慮しては電波反射性を低減
したガラスが、高層窓部の清掃回数低減を狙いとしては
汚れの付着しにくいガラスが、それぞれ開発され使用さ
れてきている。
建築物には種々の観点から多種多様のガラスが使用され
るようになってきている。例えば、冷房負荷の軽減及び
太陽光線による熱暑感の低減を目的としては熱線反射ガ
ラス等が、建築物高層化に伴う周辺住宅ＴＶ受像機への
いわゆるゴースト現象等を考慮しては電波反射性を低減
したガラスが、高層窓部の清掃回数低減を狙いとしては
汚れの付着しにくいガラスが、それぞれ開発され使用さ
れてきている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来、
個々の観点から開発され使用されてきたガラスは、建築
物用として必要とされる特性を総合的に勘案すれば、必
ずしも十分な性能を有するものではなかった。本発明
は、建築物に一般的に求められるようになってきた諸々
の特性を考慮し、これに適したガラスを提供することを
目的とする。
個々の観点から開発され使用されてきたガラスは、建築
物用として必要とされる特性を総合的に勘案すれば、必
ずしも十分な性能を有するものではなかった。本発明
は、建築物に一般的に求められるようになってきた諸々
の特性を考慮し、これに適したガラスを提供することを
目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明に係る建築物用ガ
ラスは、ガラス基板とこのガラス基板の表面上に形成し
たアンチモンおよび錫を含有する酸化物被膜からなり、
この被膜の表面抵抗値は１０4〜１０7Ω／スクエアであ
り、この被膜を形成した前記ガラス基板の表面への入射
についての可視光反射率は１０〜２５％であることを特
徴とする。
ラスは、ガラス基板とこのガラス基板の表面上に形成し
たアンチモンおよび錫を含有する酸化物被膜からなり、
この被膜の表面抵抗値は１０4〜１０7Ω／スクエアであ
り、この被膜を形成した前記ガラス基板の表面への入射
についての可視光反射率は１０〜２５％であることを特
徴とする。
【０００５】ここで、前記被膜は、厚さ４ｍｍの無色の
ソーダライムシリカガラスを前記ガラス基板として被膜
形成ガラスを構成したときに、この被膜形成ガラスにつ
いての可視光透過率は５０％以上となり、日射透過率は
７０％以下となる被膜であることが好ましい。
ソーダライムシリカガラスを前記ガラス基板として被膜
形成ガラスを構成したときに、この被膜形成ガラスにつ
いての可視光透過率は５０％以上となり、日射透過率は
７０％以下となる被膜であることが好ましい。
【０００６】また、透過色は以下の範囲であることが好
ましい。
ましい。
【０００７】−３≦ａ* ≦１ および −５≦ｂ* ≦５ ここで、ａ* およびｂ* は、ＪＩＳ Ｚ ８７２９−１
９８０において規定されるＬ*ａ*ｂ* 表色系のクロマテ
ィクネス指数である。
９８０において規定されるＬ*ａ*ｂ* 表色系のクロマテ
ィクネス指数である。
【０００８】さらに、前記被膜は、被膜形成用原料を５
００℃以上のガラス基板上で熱分解酸化反応させること
により形成されることが好ましい。
００℃以上のガラス基板上で熱分解酸化反応させること
により形成されることが好ましい。
【０００９】
【作用】本発明による建築物用ガラスは、被膜抵抗値が
１０7 Ω／スクエア以下であるため、汚れの原因となる
ほこりが静電引力により吸着しにくく、その一方、被膜
抵抗が１０4 Ω／スクエア以上であるため、例えば、透
明高屈折率層／銀層／透明高屈折率層からなる薄膜を形
成したガラスを用いたときに問題となり得る電波反射障
害は低減される。
１０7 Ω／スクエア以下であるため、汚れの原因となる
ほこりが静電引力により吸着しにくく、その一方、被膜
抵抗が１０4 Ω／スクエア以上であるため、例えば、透
明高屈折率層／銀層／透明高屈折率層からなる薄膜を形
成したガラスを用いたときに問題となり得る電波反射障
害は低減される。
【００１０】また、可視光反射率が２５％以下であるた
め、例えば、酸化チタンの薄膜を形成した建築物窓部に
用いたときに問題となることもある近隣へのいわゆる反
射光害は抑制される。その一方、可視光反射率が１０％
以上であり、アンチモン添加による着色効果もあるた
め、従来の熱線反射ガラスの特徴である美的外観上の付
加価値をも有するものである。
め、例えば、酸化チタンの薄膜を形成した建築物窓部に
用いたときに問題となることもある近隣へのいわゆる反
射光害は抑制される。その一方、可視光反射率が１０％
以上であり、アンチモン添加による着色効果もあるた
め、従来の熱線反射ガラスの特徴である美的外観上の付
加価値をも有するものである。
【００１１】
（実施例１）大きさが１００×１００ｍｍ厚みが４ｍｍ
の無色のソーダライムシリカガラス（可視光透過率８
９．５％）を洗浄、乾燥し基板とした。この基板に、四
塩化錫（無水）、水蒸気、酸素ガス、五塩化アンチモン
の蒸気および窒素ガスの調整された混合気体を用いＣＶ
Ｄ法により所定の温度に加熱されたガラス基板上にアン
チモンおよび錫を含む酸化物からなる被膜を形成した。
得られた膜のアンチモン組成比をプラズマ発光分析及び
蛍光Ｘ線により測定した。表１に錫、アンチモンの膜中
組成比、得られた膜の光学特性、膜厚、表面抵抗値を示
す。尚、表１における可視光反射率は、被膜を形成した
ガラス表面についての測定値である。
の無色のソーダライムシリカガラス（可視光透過率８
９．５％）を洗浄、乾燥し基板とした。この基板に、四
塩化錫（無水）、水蒸気、酸素ガス、五塩化アンチモン
の蒸気および窒素ガスの調整された混合気体を用いＣＶ
Ｄ法により所定の温度に加熱されたガラス基板上にアン
チモンおよび錫を含む酸化物からなる被膜を形成した。
得られた膜のアンチモン組成比をプラズマ発光分析及び
蛍光Ｘ線により測定した。表１に錫、アンチモンの膜中
組成比、得られた膜の光学特性、膜厚、表面抵抗値を示
す。尚、表１における可視光反射率は、被膜を形成した
ガラス表面についての測定値である。
【００１２】（実施例２）実施例１と同様のソーダライ
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
に、モノブチル錫トリクロライドの蒸気、水蒸気、酸素
ガス、五塩化アンチモンの蒸気および窒素ガスの調整さ
れた混合気体を用いＣＶＤ法により所定の温度に加熱さ
れたガラス基板上にアンチモンおよび錫を含有する酸化
物被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様
にして測定した結果を表１に示す。
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
に、モノブチル錫トリクロライドの蒸気、水蒸気、酸素
ガス、五塩化アンチモンの蒸気および窒素ガスの調整さ
れた混合気体を用いＣＶＤ法により所定の温度に加熱さ
れたガラス基板上にアンチモンおよび錫を含有する酸化
物被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様
にして測定した結果を表１に示す。
【００１３】（実施例３）実施例１と同様のソーダライ
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してモノブチル錫トリクロラ
イド、メタノール、水、三塩化アンチモンを混合した原
料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き付け
て、アンチモンおよび錫を含有する酸化物被膜を形成し
た。得られた膜の特性を実施例１と同様にして測定した
結果を表１に示す。
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してモノブチル錫トリクロラ
イド、メタノール、水、三塩化アンチモンを混合した原
料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き付け
て、アンチモンおよび錫を含有する酸化物被膜を形成し
た。得られた膜の特性を実施例１と同様にして測定した
結果を表１に示す。
【００１４】（実施例４）実施例１と同様のソーダライ
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してジオクチル錫ジアセテー
ト、トルエン、キシレン、三塩化アンチモンを混合した
原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き付け
て、アンチモンおよび錫を含有する酸化物被膜を形成し
た。得られた膜の特性を実施例１と同様にして測定した
結果を表１に示す。
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してジオクチル錫ジアセテー
ト、トルエン、キシレン、三塩化アンチモンを混合した
原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き付け
て、アンチモンおよび錫を含有する酸化物被膜を形成し
た。得られた膜の特性を実施例１と同様にして測定した
結果を表１に示す。
【００１５】（実施例５）実施例１と同様のソーダライ
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してジオクチル錫ジアセテー
ト、トルエン、キシレン、トリフェニルアンチモンを混
合した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹
き付けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からな
る被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様
にして測定した結果を表１に示す。
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してジオクチル錫ジアセテー
ト、トルエン、キシレン、トリフェニルアンチモンを混
合した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹
き付けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からな
る被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様
にして測定した結果を表１に示す。
【００１６】（実施例６）実施例１と同様のソーダライ
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してジオクチル錫ジアセテー
ト、トルエン、キシレン、アンチモンブトキシドを混合
した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き
付けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる
被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様に
して測定した結果を表１に示す。
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してジオクチル錫ジアセテー
ト、トルエン、キシレン、アンチモンブトキシドを混合
した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き
付けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる
被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様に
して測定した結果を表１に示す。
【００１７】（実施例７）実施例１と同様のソーダライ
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してモノブチル錫トリクロラ
イド、メタノール、アンチモンエトキシドを混合した原
料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き付け
て、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる被膜
を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様にして
測定した結果を表１に示す。
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してモノブチル錫トリクロラ
イド、メタノール、アンチモンエトキシドを混合した原
料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き付け
て、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる被膜
を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様にして
測定した結果を表１に示す。
【００１８】（実施例８）実施例１と同様のソーダライ
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してモノブチル錫トリクロラ
イド、ブタノール、アンチモンブトキシドを混合した原
料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き付け
て、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる被膜
を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様にして
測定した結果を表１に示す。
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出してモノブチル錫トリクロラ
イド、ブタノール、アンチモンブトキシドを混合した原
料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き付け
て、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる被膜
を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様にして
測定した結果を表１に示す。
【００１９】（実施例９）実施例１と同様のソーダライ
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出して（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（ＯＣ
ＯＣ7Ｈ15）2 、トリフェニルアンチモン、トルエン、
イソプロピルアルコールを混合した原料液を市販のスプ
レーガンを用いて基板上に吹き付けて、アンチモンおよ
び錫を含む酸化物被膜からなる被膜を形成した。得られ
た膜の特性を実施例１と同様にして測定した結果を表１
に示す。
ムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板を
吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内に
５分間保持した後、取り出して（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（ＯＣ
ＯＣ7Ｈ15）2 、トリフェニルアンチモン、トルエン、
イソプロピルアルコールを混合した原料液を市販のスプ
レーガンを用いて基板上に吹き付けて、アンチモンおよ
び錫を含む酸化物被膜からなる被膜を形成した。得られ
た膜の特性を実施例１と同様にして測定した結果を表１
に示す。
【００２０】（実施例１０）実施例１と同様のソーダラ
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出して（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（Ｏ
ＣＯＣ7Ｈ15）2 、トルエン、イソプロピルアルコール
キシレン、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｂ（ＯＣＯＣ9Ｈ19）2 を混合
した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き
付けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる
被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様に
して測定した結果を表１に示す。
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出して（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（Ｏ
ＣＯＣ7Ｈ15）2 、トルエン、イソプロピルアルコール
キシレン、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｂ（ＯＣＯＣ9Ｈ19）2 を混合
した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き
付けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる
被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様に
して測定した結果を表１に示す。
【００２１】（実施例１１）実施例１と同様のソーダラ
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してジブチル錫ジラウレー
ト、トリフェニルアンチモン、トルエン、イソプロピル
アルコールを混合した原料液を市販のスプレーガンを用
いて基板上に吹き付けて、アンチモンおよび錫を含む酸
化物被膜からなる被膜を形成した。得られた膜の特性を
実施例１と同様にして測定した結果を表１に示す。
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してジブチル錫ジラウレー
ト、トリフェニルアンチモン、トルエン、イソプロピル
アルコールを混合した原料液を市販のスプレーガンを用
いて基板上に吹き付けて、アンチモンおよび錫を含む酸
化物被膜からなる被膜を形成した。得られた膜の特性を
実施例１と同様にして測定した結果を表１に示す。
【００２２】（実施例１２）実施例１と同様のソーダラ
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してジブチル錫ジラウレー
ト、トルエン、イソプロピルアルコール、（Ｃ6Ｈ5）3
Ｓｂ（ＯＣＯＣ9Ｈ19）2 を混合した原料液を市販のス
プレーガンを用いて基板上に吹き付けて、アンチモンお
よび錫を含む酸化物被膜からなる被膜を形成した。得ら
れた膜の特性を実施例１と同様にして測定した結果を表
１に示す。
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してジブチル錫ジラウレー
ト、トルエン、イソプロピルアルコール、（Ｃ6Ｈ5）3
Ｓｂ（ＯＣＯＣ9Ｈ19）2 を混合した原料液を市販のス
プレーガンを用いて基板上に吹き付けて、アンチモンお
よび錫を含む酸化物被膜からなる被膜を形成した。得ら
れた膜の特性を実施例１と同様にして測定した結果を表
１に示す。
【００２３】（実施例１３）実施例１と同様のソーダラ
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してジオクチル錫ジラウリ
ン酸、トルエン、イソプロピルアルコール、トリフェニ
ルアンチモンを混合した原料液を市販のスプレーガンを
用いて基板上に吹き付けて、アンチモンおよび錫を含む
酸化物被膜からなる被膜を形成した。得られた膜の特性
を実施例１と同様にして測定した結果を表１に示す。
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してジオクチル錫ジラウリ
ン酸、トルエン、イソプロピルアルコール、トリフェニ
ルアンチモンを混合した原料液を市販のスプレーガンを
用いて基板上に吹き付けて、アンチモンおよび錫を含む
酸化物被膜からなる被膜を形成した。得られた膜の特性
を実施例１と同様にして測定した結果を表１に示す。
【００２４】（実施例１４）実施例１と同様のソーダラ
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してジオクチル錫ジラウリ
ン酸、トルエン、イソプロピルアルコール、（Ｃ6Ｈ5）
3Ｓｂ（ＯＣＯＣ9Ｈ19）2 を混合した原料液を市販のス
プレーガンを用いて基板上に吹き付けて、アンチモンお
よび錫を含む酸化物被膜からなる被膜を形成した。得ら
れた膜の特性を実施例１と同様にして測定した結果を表
１に示す。
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してジオクチル錫ジラウリ
ン酸、トルエン、イソプロピルアルコール、（Ｃ6Ｈ5）
3Ｓｂ（ＯＣＯＣ9Ｈ19）2 を混合した原料液を市販のス
プレーガンを用いて基板上に吹き付けて、アンチモンお
よび錫を含む酸化物被膜からなる被膜を形成した。得ら
れた膜の特性を実施例１と同様にして測定した結果を表
１に示す。
【００２５】（実施例１５）実施例１と同様のソーダラ
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してモノブチル錫脂肪酸、
トルエン、イソプロピルアルコール、トリフェニルアン
チモン、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｂ（ＯＣＯＣ9Ｈ19）2 を混合し
た原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き付
けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる被
膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様にし
て測定した結果を表１に示す。
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してモノブチル錫脂肪酸、
トルエン、イソプロピルアルコール、トリフェニルアン
チモン、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｂ（ＯＣＯＣ9Ｈ19）2 を混合し
た原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き付
けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる被
膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様にし
て測定した結果を表１に示す。
【００２６】（実施例１６）大きさが１００×１００ｍ
ｍ厚みが４ｍｍの無色のソーダライムシリカガラス（可
視光透過率８９．５％）を洗浄、乾燥し基板とした。こ
の基板を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電
気炉内に５分間保持した後、取り出してジオクチル酸ジ
アセテート、トルエン、キシレン、アンチモンブトキシ
ドを混合した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板
上に吹き付けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜
からなる被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１
と同様にして測定した結果を表１に示す。
ｍ厚みが４ｍｍの無色のソーダライムシリカガラス（可
視光透過率８９．５％）を洗浄、乾燥し基板とした。こ
の基板を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電
気炉内に５分間保持した後、取り出してジオクチル酸ジ
アセテート、トルエン、キシレン、アンチモンブトキシ
ドを混合した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板
上に吹き付けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜
からなる被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１
と同様にして測定した結果を表１に示す。
【００２７】（実施例１７）実施例１と同様のソーダラ
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出して（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（Ｏ
ＣＯＣ7Ｈ15）2 、トリフェニルアンチモン、トルエ
ン、イソプロピルアルコール、トリフルオロ酢酸を混合
した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き
付けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる
被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様に
して測定した結果を表１に示す。また、膜中にフッ素が
入っている様子を２次イオン質量分析法により測定した
結果を図２に示す。
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出して（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（Ｏ
ＣＯＣ7Ｈ15）2 、トリフェニルアンチモン、トルエ
ン、イソプロピルアルコール、トリフルオロ酢酸を混合
した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板上に吹き
付けて、アンチモンおよび錫を含む酸化物被膜からなる
被膜を形成した。得られた膜の特性を実施例１と同様に
して測定した結果を表１に示す。また、膜中にフッ素が
入っている様子を２次イオン質量分析法により測定した
結果を図２に示す。
【００２８】（実施例１８）実施例１と同様のソーダラ
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してモノブチル錫脂肪酸
塩、トリフェニルアンチモン、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｂ（ＯＣ
ＯＣ9Ｈ19）2 、トルエン、イソプロピルアルコール、
トリフルオロ酢酸を混合した原料液を市販のスプレーガ
ンを用いて基板上に吹き付けて、アンチモンおよび錫を
含む酸化物被膜からなる被膜を形成した。得られた膜の
特性を実施例１と同様にして測定した結果を表１に示
す。また、膜中にフッ素が入っている様子を２次イオン
質量分析法により測定した結果を図３に示す。
イムシリカガラスを洗浄、乾燥し基板とした。この基板
を吊具によって固定し、所定の温度に設定した電気炉内
に５分間保持した後、取り出してモノブチル錫脂肪酸
塩、トリフェニルアンチモン、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｂ（ＯＣ
ＯＣ9Ｈ19）2 、トルエン、イソプロピルアルコール、
トリフルオロ酢酸を混合した原料液を市販のスプレーガ
ンを用いて基板上に吹き付けて、アンチモンおよび錫を
含む酸化物被膜からなる被膜を形成した。得られた膜の
特性を実施例１と同様にして測定した結果を表１に示
す。また、膜中にフッ素が入っている様子を２次イオン
質量分析法により測定した結果を図３に示す。
【００２９】上記実施例では、日射透過率が７０％以下
であって冷房負荷軽減等の効果が得られ、同時に、可視
光透過率が５０％以上であるため、建築物内部からの眺
望が確保され、室内空間の快適性が損なわれることはな
い。
であって冷房負荷軽減等の効果が得られ、同時に、可視
光透過率が５０％以上であるため、建築物内部からの眺
望が確保され、室内空間の快適性が損なわれることはな
い。
【００３０】上記実施例１〜実施例１８のうち、実施例
１〜実施例３、実施例４〜実施例６、実施例１０〜実施
例１４、実施例１６については可視光反射率が２０％以
下である。また、実施例２〜実施例６、実施例９〜実施
例１５、実施例１７、実施例１８については可視光透過
率が６０％以上であり、特に、実施例２、実施例１１〜
実施例１５については可視光透過率が６５％以上であ
る。さらに、実施例１〜実施例３、実施例５〜実施例１
０、実施例１５〜実施例１８については日射透過率が６
５％以下であり、特に、実施例１、実施例３、実施例
９、実施例１６については日射透過率が６０％以下であ
る。
１〜実施例３、実施例４〜実施例６、実施例１０〜実施
例１４、実施例１６については可視光反射率が２０％以
下である。また、実施例２〜実施例６、実施例９〜実施
例１５、実施例１７、実施例１８については可視光透過
率が６０％以上であり、特に、実施例２、実施例１１〜
実施例１５については可視光透過率が６５％以上であ
る。さらに、実施例１〜実施例３、実施例５〜実施例１
０、実施例１５〜実施例１８については日射透過率が６
５％以下であり、特に、実施例１、実施例３、実施例
９、実施例１６については日射透過率が６０％以下であ
る。
【００３１】また、上記実施例すべてについて、透過色
が−２≦ａ* ≦１および−３≦ｂ*≦３であり、表面抵
抗率が１０4 〜１０6 Ω／スクエアである。
が−２≦ａ* ≦１および−３≦ｂ*≦３であり、表面抵
抗率が１０4 〜１０6 Ω／スクエアである。
【００３２】本発明による被膜は、膜厚が１０〜１４０
ｎｍで全てＳｂ2Ｏ3として算定したときの被膜中のアン
チモンが１５〜８０重量％であれば、被膜の表面抵抗が
１０4〜１０7Ω／スクエアとなるが、他の性能とのバラ
ンス等を考慮すれば、膜厚が３０〜１００ｎｍで上記と
同様にして算定される被膜中のアンチモンが２０〜５０
重量％が好ましく、さらには、膜厚が４０〜６５ｎｍで
上記と同様にして算定される被膜中のアンチモンが２５
〜４０重量％が好ましい。
ｎｍで全てＳｂ2Ｏ3として算定したときの被膜中のアン
チモンが１５〜８０重量％であれば、被膜の表面抵抗が
１０4〜１０7Ω／スクエアとなるが、他の性能とのバラ
ンス等を考慮すれば、膜厚が３０〜１００ｎｍで上記と
同様にして算定される被膜中のアンチモンが２０〜５０
重量％が好ましく、さらには、膜厚が４０〜６５ｎｍで
上記と同様にして算定される被膜中のアンチモンが２５
〜４０重量％が好ましい。
【００３３】本発明に係る建築物用ガラスは、熱分解酸
化反応、即ち、いわゆるスプレー法やＣＶＤ法により製
造されるため、フロート法によるガラス製造ライン上で
被膜形成を行うことにより低コストで製造できる。ま
た、かかる製法により形成された被膜は耐久性に優れて
おり、上記汚れ付着低減の効果をより発現すべく被膜を
室外側にして使用しても支障はない。即ち、本発明に係
る建築物用ガラスは、建築物開口部に被膜面を室外側に
して嵌め込んだ建築物窓構造としても使用できる。
化反応、即ち、いわゆるスプレー法やＣＶＤ法により製
造されるため、フロート法によるガラス製造ライン上で
被膜形成を行うことにより低コストで製造できる。ま
た、かかる製法により形成された被膜は耐久性に優れて
おり、上記汚れ付着低減の効果をより発現すべく被膜を
室外側にして使用しても支障はない。即ち、本発明に係
る建築物用ガラスは、建築物開口部に被膜面を室外側に
して嵌め込んだ建築物窓構造としても使用できる。
【００３４】本発明において使用する錫原料としては、
上記の他、ジブチル錫ジクロライド、テトラブチル錫、
ジオクチル錫ジクロライド、テトラオクチル錫、ジブチ
ル錫オキサイド、ジブチル錫ジアセテート、ジオクチル
錫ジラウレート、ジメチル錫ジクロライド、テトラメチ
ル錫、モノブチル錫トリアセテート、モノブチル錫トリ
プロピオネート、モノブチル錫トリイソプロポキサイ
ド、ジブチル錫ジメトキサイド、ジオクチル錫オキサイ
ド、テトラブトキシ錫等が、一方、アンチモンの原料と
しては、アンチモンメトキシド、酢酸アンチモン、オキ
シ塩化アンチモン、アンチモン脂肪酸塩、トリフェニル
アンチモン脂肪酸塩等が例示できる。
上記の他、ジブチル錫ジクロライド、テトラブチル錫、
ジオクチル錫ジクロライド、テトラオクチル錫、ジブチ
ル錫オキサイド、ジブチル錫ジアセテート、ジオクチル
錫ジラウレート、ジメチル錫ジクロライド、テトラメチ
ル錫、モノブチル錫トリアセテート、モノブチル錫トリ
プロピオネート、モノブチル錫トリイソプロポキサイ
ド、ジブチル錫ジメトキサイド、ジオクチル錫オキサイ
ド、テトラブトキシ錫等が、一方、アンチモンの原料と
しては、アンチモンメトキシド、酢酸アンチモン、オキ
シ塩化アンチモン、アンチモン脂肪酸塩、トリフェニル
アンチモン脂肪酸塩等が例示できる。
【００３５】スプレー法により被膜を形成する場合は、
上記原料のうち、塩素を含む原料液は、装置の腐食の原
因となる等の問題があるため、かかる観点からは、錫原
料としてはジオクチル酸ジアセテート、ジブチル錫ジラ
ウレート、ジオクチル酸ジラウリン酸、モノブチル錫脂
肪酸塩、（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（ＯＣＯＣ7Ｈ15）2 等が、ア
ンチモン原料としてはトリフェニルアンチモン、アンチ
モンエトキシド、アンチモンブトキシド、（Ｃ6Ｈ5）3
Ｓｂ（ＯＣＯＣ9Ｈ19）2 等が、フッ素原料としてはト
リフルオロ酢酸等が好ましく、これらの原料をキシレン
・トルエン等の有機溶剤に溶解させたものを使用するの
が好ましい。
上記原料のうち、塩素を含む原料液は、装置の腐食の原
因となる等の問題があるため、かかる観点からは、錫原
料としてはジオクチル酸ジアセテート、ジブチル錫ジラ
ウレート、ジオクチル酸ジラウリン酸、モノブチル錫脂
肪酸塩、（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（ＯＣＯＣ7Ｈ15）2 等が、ア
ンチモン原料としてはトリフェニルアンチモン、アンチ
モンエトキシド、アンチモンブトキシド、（Ｃ6Ｈ5）3
Ｓｂ（ＯＣＯＣ9Ｈ19）2 等が、フッ素原料としてはト
リフルオロ酢酸等が好ましく、これらの原料をキシレン
・トルエン等の有機溶剤に溶解させたものを使用するの
が好ましい。
【００３６】尚、スプレー法としては、溶液スプレー
法、分散液スプレー法、粉末スプレー法等を用いること
ができる。また、原料については、あらかじめ各成分を
混合したものを用いてもよいし、各成分を別個にスプレ
ーしてもよい。
法、分散液スプレー法、粉末スプレー法等を用いること
ができる。また、原料については、あらかじめ各成分を
混合したものを用いてもよいし、各成分を別個にスプレ
ーしてもよい。
【００３７】上記実施例による被膜は、本質的にアンチ
モンおよび錫の酸化物からなり、または、本質的にアン
チモン、錫およびフッ素の酸化物からなるが、得られる
被膜の色調や光学特性および耐久性を調整するために、
コバルト、鉄、マンガン、ニッケル、クロム、チタン、
バナジウム，ビスマス、銅、ジルコニウム、亜鉛、アル
ミニウム、シリコン、インジウムなどの金属塩や塩素、
臭素などのハロゲン元素を本発明の目的を損なわない範
囲で被膜中に含ませてもよい。
モンおよび錫の酸化物からなり、または、本質的にアン
チモン、錫およびフッ素の酸化物からなるが、得られる
被膜の色調や光学特性および耐久性を調整するために、
コバルト、鉄、マンガン、ニッケル、クロム、チタン、
バナジウム，ビスマス、銅、ジルコニウム、亜鉛、アル
ミニウム、シリコン、インジウムなどの金属塩や塩素、
臭素などのハロゲン元素を本発明の目的を損なわない範
囲で被膜中に含ませてもよい。
【００３８】尚、本実施例においては、ガラス基板とし
ては、原則として最も一般的な無色のソーダライムシリ
カガラスを用いたが、実施例１６のように微量着色成分
を添加した各種色板ガラス（例えば、グレー、ブロン
ズ、ブルー、グリーン等に着色したソーダライムシリカ
ガラス）等を用いてもよい。即ち、ガラス基板自体に可
視光吸収機能または日射吸収機能を付加して可視光透過
率または日射吸収率を調整してもよい。
ては、原則として最も一般的な無色のソーダライムシリ
カガラスを用いたが、実施例１６のように微量着色成分
を添加した各種色板ガラス（例えば、グレー、ブロン
ズ、ブルー、グリーン等に着色したソーダライムシリカ
ガラス）等を用いてもよい。即ち、ガラス基板自体に可
視光吸収機能または日射吸収機能を付加して可視光透過
率または日射吸収率を調整してもよい。
【００３９】上記実施例によれば、汚れ付着性、日射遮
蔽性、可視光反射性及び電波反射性のいずれの観点から
も建築物、特にビル建築物の高層窓部に適したガラスを
提供することができる。
蔽性、可視光反射性及び電波反射性のいずれの観点から
も建築物、特にビル建築物の高層窓部に適したガラスを
提供することができる。
【００４０】これらの汚れ付着性、電波反射性、日射遮
蔽性及び可視光反射性における特徴は、建築物、特にビ
ル建築物の高層窓部に使用した場合にその効果を発揮す
るものであり、また、ガラス製造ライン上で被膜を形成
すれば、例えば、スパッタリング法等によりオフライン
で膜付けを行う場合のように膜付け装置による寸法の制
約を受けないため、特にビル建築物の大寸法窓部への使
用に適している。
蔽性及び可視光反射性における特徴は、建築物、特にビ
ル建築物の高層窓部に使用した場合にその効果を発揮す
るものであり、また、ガラス製造ライン上で被膜を形成
すれば、例えば、スパッタリング法等によりオフライン
で膜付けを行う場合のように膜付け装置による寸法の制
約を受けないため、特にビル建築物の大寸法窓部への使
用に適している。
【００４１】本発明は、建築用ガラスに要求される諸特
性を考慮してなされたものであるが、これに限ることな
く、車両用産業用等の他の用途に使用することに特に制
限はない。
性を考慮してなされたものであるが、これに限ることな
く、車両用産業用等の他の用途に使用することに特に制
限はない。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【発明の効果】本発明によれば、総合的な観点から建築
物窓部への使用に適したガラスを提供することができ
る。
物窓部への使用に適したガラスを提供することができ
る。
【図１】本発明に係る建築物用ガラスの模式的断面図で
ある。
ある。
【図２】実施例１７において作製した被膜形成ガラスを
２次イオン質量分析法により測定した結果である。
２次イオン質量分析法により測定した結果である。
【図３】実施例１８において作製した被膜形成ガラスを
２次イオン質量分析法により測定した結果である。
２次イオン質量分析法により測定した結果である。
１：ガラス基板、２：被膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平３−103339（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−58363（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−90345（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−213630（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−294674（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03C 15/00 - 23/00
Claims (5)
- 【請求項１】 ガラス基板とこのガラス基板の表面上に
形成したアンチモンおよび錫を含有する酸化物被膜から
なり、この被膜の表面抵抗値は１０4〜１０7Ω／スクエ
アであり、この被膜を形成した前記ガラス基板の表面へ
の入射についての可視光反射率は１０〜２５％であるこ
とを特徴とする建築物用ガラス。 - 【請求項２】 前記被膜は、厚さ４ｍｍの無色のソーダ
ライムシリカガラスを基板として構成される被膜形成ガ
ラスについての可視光透過率が５０％以上となり、日射
透過率が７０％以下となる被膜であることを特徴とする
請求項１に記載の建築物用ガラス。 - 【請求項３】 前記被膜は、フッ素、アンチモンおよび
錫を含有する酸化物被膜からなることを特徴とする請求
項１または請求項２に記載の建築物用ガラス。 - 【請求項４】 透過色が以下の範囲であることを特徴と
する請求項１〜３のいずれか一つに記載の建築物用ガラ
ス。 −３≦ａ* ≦１ および −５≦ｂ* ≦５ ここで、ａ* およびｂ* は、Ｌ*ａ*ｂ* 表色系のクロマ
ティクネス指数である。 - 【請求項５】 前記被膜は、被膜形成用原料を５００℃
以上のガラス基板上で熱分解酸化反応することにより形
成されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つ
に記載の建築物用ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06446895A JP3201209B2 (ja) | 1994-03-29 | 1995-03-23 | 建築物用ガラス |
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5842894 | 1994-03-29 | ||
| JP15575594 | 1994-07-07 | ||
| JP19516294 | 1994-08-19 | ||
| JP6-195162 | 1994-08-19 | ||
| JP6-58428 | 1994-08-19 | ||
| JP6-155755 | 1994-08-19 | ||
| JP06446895A JP3201209B2 (ja) | 1994-03-29 | 1995-03-23 | 建築物用ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08109042A JPH08109042A (ja) | 1996-04-30 |
| JP3201209B2 true JP3201209B2 (ja) | 2001-08-20 |
Family
ID=27463650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06446895A Expired - Fee Related JP3201209B2 (ja) | 1994-03-29 | 1995-03-23 | 建築物用ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3201209B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008074477A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Ishizuka Glass Co Ltd | 着色ガラス製品の製造方法とそのコーティング液及び着色ガラス製品 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3660372B2 (ja) * | 1994-06-29 | 2005-06-15 | セイコーインスツル株式会社 | 透明導電性薄膜の製造方法 |
| GB2302102B (en) * | 1995-06-09 | 1999-03-10 | Glaverbel | A glazing panel having solar screening properties and a process for making such a panel |
| GB2302101B (en) * | 1995-06-09 | 1999-03-10 | Glaverbel | A glazing panel having solar screening properties |
| US6218018B1 (en) * | 1998-08-21 | 2001-04-17 | Atofina Chemicals, Inc. | Solar control coated glass |
| US6524647B1 (en) * | 2000-03-24 | 2003-02-25 | Pilkington Plc | Method of forming niobium doped tin oxide coatings on glass and coated glass formed thereby |
| US6521295B1 (en) | 2001-04-17 | 2003-02-18 | Pilkington North America, Inc. | Chemical vapor deposition of antimony-doped metal oxide and the coated article made thereby |
-
1995
- 1995-03-23 JP JP06446895A patent/JP3201209B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008074477A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Ishizuka Glass Co Ltd | 着色ガラス製品の製造方法とそのコーティング液及び着色ガラス製品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08109042A (ja) | 1996-04-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |