JPH09255368A

JPH09255368A - 建築物用ガラス

Info

Publication number: JPH09255368A
Application number: JP61997A
Authority: JP
Inventors: Akira Fujisawa; 章藤沢; Koichi Ataka; 功一安宅
Original assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Current assignee: Nippon Sheet Glass Co Ltd
Priority date: 1996-01-09
Filing date: 1997-01-07
Publication date: 1997-09-30

Abstract

(57)【要約】【課題】特に建築物に適したガラスを得る。【解決手段】ガラス板上に、本質的に、Ｓｎの酸化
物、Ｓｂの酸化物およびＴｉの酸化物の混合部からなる
被膜を形成したガラス。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特に建築物に適し
た被膜付ガラスに関し、さらに詳しくは、電波反射性、
可視光透過率等の観点から建築物窓部への使用に適した
ガラスに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、冷房負荷の軽減および太陽光線に
よる熱暑感の低減を目的として、熱線反射ガラスが特に
高層部を有する建築物に広く用いられている。熱線反射
ガラスは、太陽輻射エネルギーの約４６％を占める近赤
外線のほか、同エネルギーの約５０％を占める可視光線
をも一定限度反射するものであるが、室内の快適性を維
持するためなどの理由から可視光透過率は高いほうが好
ましい。可視光透過率が比較的高い熱線反射ガラスとし
ては、金、銀の金属薄膜層の片面または両面を透明誘電
体で覆った積層体をガラス板上に形成したものが知られ
ている（例えば、特公昭４０−２８６７２号）。また、
本発明者らは、可視光透過率が高く、他の特性も建築物
に適したガラスとして、表面にアンチモンおよび錫を含
有する酸化物被膜を形成したガラスを発明した（特願平
７−６４４６８号）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
公昭４０−２８６７２号に記載されたような金属薄膜の
反射吸収を利用したガラスは、耐久性が十分でないとい
う問題があった。

【０００４】また、上記特願平７−６４４６８号に記載
したガラスは、建築物用としてはバランスのとれた特性
を有するものであるが、被膜が２成分系であること等に
より、光学特性、被膜特性値等について適宜調整するこ
とが必ずしも容易ではなかった。

【０００５】本発明は、可視光透過率、同反射率、被膜
抵抗値、耐久性等の観点から建築物用として適してお
り、かつ、上記光学特性等を調整することが容易な被膜
形成ガラスを提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記酸化錫−
酸化アンチモン被膜の熱線吸収性能を大きく低下させる
ことなく、可視光反射率、電波反射性等を調整しうる適
切な添加物がＴｉ酸化物であることを発見して為された
ものである。すなわち、本発明に係る建築物用ガラス
は、ガラス基板上に酸化物からなる被膜を形成してなる
建築物用ガラスにおいて、前記被膜が本質的にＳｎの酸
化物とＳｂの酸化物とＴｉの酸化物との混合物からなる
ことを特徴とする。

【０００７】本発明は、Ｓｂの酸化物とＳｎの酸化物と
の混合物とからなる被膜の特徴を生かしつつ、Ｔｉ酸化
物を上記被膜に混合することによって、ガラスの各特性
を建築物用途にさらに適正化したものである。

【０００８】Ｔｉ酸化物の混入により、上記被膜の可視
光反射率および被膜抵抗値は増加する。従って、本発明
により、可視光反射率の適当な増加による熱線遮蔽性能
および美感の向上、被膜抵抗値の増加によるゴースト現
象等の電波障害回避が容易に達成されうる。

【０００９】本発明に係る被膜においては、被膜中の全
金属量に占める各金属の割合がそれぞれ、Ｓｂが２〜５
０％、Ｓｎが１０〜９７．９％、Ｔｉが０．１〜７５％
であることが好ましい。なお、本明細書において、特に
断らない限り金属量を示す％はすべて重量％である。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の被膜は、スパッタリング
法、真空蒸着法、塗布法等によって成膜することができ
るが、化学気相法（以下、「ＣＶＤ法」という。）およ
び溶液スプレー法、分散液スプレー法、粉末スプレー法
等のスプレー法が生産性および被膜耐久性の観点から好
ましい。

【００１１】上記方法の中で、溶液スプレー法において
は、Ｓｎ、ＳｂおよびＴｉの化合物を含む溶液を高温の
ガラス基板上に噴霧すればよく、分散液スプレー法また
は粉末スプレー法においては、上記溶液の代わりにＳ
ｎ、ＳｂおよびＴｉの化合物を含む微粒子を溶液や溶剤
に分散させた分散液を、またはＳｎ、ＳｂおよびＴｉの
化合物を含む粉末を用いればよい。尚、これらスプレー
法としては、予め各成分を混合した液を微小な液滴・粉
末として噴霧してもよいし、各成分を別個に液滴・粉末
として同時に噴霧・反応させてもよい。また、ＣＶＤ法
においては、上述の化合物を含む各層形成用の蒸気を用
いればよい。

【００１２】スプレー法やＣＶＤ法のようないわゆる熱
分解法について用いることができる原料を以下に例示す
る。Ｓｎ原料としては、四塩化錫、ジメチル錫ジクロラ
イド、ジブチル錫ジクロライド、テトラブチル錫、ジオ
クチル錫ジクロライド、テトラオクチル錫、ジブチル錫
オキサイド、ジオクチル錫ジラウレート、ジブチル錫脂
肪酸、モノブチル錫トリクロライド、ジブチル錫ジアセ
テート、ジオクチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジラ
ウレート等が、Ｓｂ原料としては、三塩化アンチモン、
五塩化アンチモン、トリフェニルアンチモン、アンチモ
ンメトキシド、アンチモンエトキシド、アンチモンブト
キシド、アンチモン脂肪酸、酢酸アンチモン、オキシ塩
化アンチモン等が挙げられる。尚、Ｓｂ原料としては、
Ｓｂ₂Ｏ₅、ＨＣｌを加えた溶媒の組み合わせでもかまわ
ない。

【００１３】Ｔｉ原料としては、四塩化チタン、チタン
テトラエトキシド、アセチルアセトンチタニル、硫酸第
一チタン、硫酸第二チタン、チタンテトラブトキシド、
チタンイソプロポキサイド、チタンメトキシド、チタニ
ウムジイソプロポキサイド、チタニウムジイソプロポキ
シビスオクチレングリコキシド、チタニウムジノルマル
プロポキシビスオクチレングリコキシド、チタニウムジ
イソプロポキシモノオクチチレングリコキシアセチルア
セトナート、チタニウムジノルマルブトキシモノオクチ
レングリコキシジアセチルアセトナート、チタニウムテ
トラオクチレングリコキシド、チタニウムジノルマルプ
ロポキシビスアセチルアセトナート等が挙げられる。

【００１４】本発明に係る建築物用ガラスの被膜抵抗値
は、好ましくは１０⁵Ω／□である。一般には、被膜抵
抗値を１０⁴Ω／□以上とすればゴースト現象等を引き
起こす電波反射障害は抑制される。しかし、電波反射障
害は近年特に問題となっているため、被膜抵抗値を１０
⁵Ω／□以上、さらには１０⁶Ω／□以上とすることが好
ましい。本発明によれば、Ｔｉを添加することにより、
１０⁵Ω／□以上の被膜抵抗値を容易に得ることができ
る。本発明では、後述の実施例で示すように、被膜中の
全金属量に対し、Ｔｉが１０％以上含まれる範囲で被膜
抵抗値を１０⁶Ω／□以上にできることが確認された。

【００１５】Ｔｉ添加量の増加により可視光反射率も増
加する。本発明に係る建築物用ガラスの可視光反射率
（被膜を形成した側の表面についての反射率をいう。以
下、同じ。）は、好ましくは２０％以上である。一般に
は、可視光反射率を１０％程度以上とすることにより熱
線反射ガラスの特徴である美的外観上の付加価値が認め
られるようになる。しかし、このような付加価値をさら
に強調したい場合や熱線遮蔽性能を向上させたい場合に
は、可視光反射率を２０％以上とすることが好ましい。
本発明によれば、Ｔｉ添加量を適切に調整することによ
り、２０％以上の可視光反射率を容易に得ることができ
る。

【００１６】Ｔｉ添加量の増加により被膜抵抗値が１０
⁶Ω／□以上となる範囲では、可視光反射率が２５％を
超える場合がある。いわゆる建築物近隣への反射光害防
止の観点からは同反射率が２５％以下であることが好ま
しいが、電波反射障害等が重視される場合には、被膜表
面抵抗値を１０⁶Ω／□以上、可視光反射率を２０〜３
５％程度とすることが好ましい。

【００１７】上述のように、本発明による被膜の耐久性
は、熱分解法により形成したときのほうがスパッタリン
グ法等それ以外の方法により形成したときよりも優れて
いる。すなわち、本発明に係る建築物用ガラスは、被膜
を熱分解法により形成したものであることが好ましい。
具体的には、フロート法によるガラス製造ライン上で被
膜を連続的に製造することにより、生産性よく耐久性の
よい膜を得ることができる。

【００１８】しかし、さらに被膜耐久性を向上させるた
めには、被膜の全金属量に占めるＳｂの占める割合を５
％以上とすることが好ましい。

【００１９】また、本発明においては、得られる建築物
用ガラスの色調、光学特性、被膜耐久性を調整するため
に、コバルト、鉄、マンガン、ニッケル、クロム、バナ
ジウム、ビスマス、銅、ジルコニウム、亜鉛、アルミニ
ウム、シリコン、インジウム等の金属塩や、フッ素、塩
素、臭素等のハロゲン元素を本発明の目的を損なわない
範囲で被膜中に含ませてもよい。

【００２０】尚、本発明の被膜の膜厚としては、１０〜
２００ｎｍが好ましいが、さらに好ましくは２０〜７０
ｎｍである。

【００２１】ガラス基板としては、ソーダライムシリカ
ガラス基板が一般的であり、高い可視光透過率を得やす
いが、グレー、ブロンズ、ブルー、グリーン等に着色さ
れたソーダライムシリカガラスを用いることによって、
透過色、可視光透過率等を調整することとしてもよい。

【００２２】

【実施例】

（実施例１）大きさが１５０×１５０ｍｍ、厚さが６ｍ
ｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、乾燥し、基板と
した。この基板を吊具によって固定し、６５０℃に設定
した電気炉内に５分間保持した後、取り出してモノブチ
ル錫トリクロライド２８．２５ｇ、メタノール１００ｍ
ｌ、水３ｍｌ、三塩化アンチモン９．１４ｇ、チタニウ
ムジノルマルプロポキシビスアセチルアセトナート０．
４４ｇを混合した原料液を市販のスプレーガンを用いて
基板に吹き付けて、Ｓｎ、ＳｂおよびＴｉの酸化物の混
合物からなる被膜を形成した。得られたガラスの可視光
透過率、可視光反射率、吸収率（１００％から可視光透
過率と可視光反射率を引いた値）、表面抵抗値および膜
厚を表１に示す。また、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｉ金属量をプラ
ズマ発光分析および蛍光Ｘ線分析で測定した。被膜中の
全金属量のうちＳｂおよびＴｉの割合も併せて表１に示
す。

【００２３】（実施例２）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジオクチル錫ジアセテート、トルエン、キシレ
ン、トリフェニルアンチモン、チタニウムジノルマルプ
ロポキシビスアセチルアセトナートを、被膜中の全金属
量に占めるＳｎおよびＴｉの割合が表１に示した数値と
なるように混合した原料液を、市販のスプレーガンを用
いて基板に吹き付けて、Ｓｎ、ＳｂおよびＴｉの酸化物
の混合物からなる被膜を形成した。このガラスにつき実
施例１と同様の特性値を表１に示す。

【００２４】（実施例３）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジオクチル錫ジアセテート、トルエン、キシレ
ン、チタニウムジノルマルプロポキシビスアセチルアセ
トナート、アンチモンブトキシドを、被膜中の全金属量
に占めるＳｎおよびＴｉの割合が表１に示した数値とな
るように混合した原料液を市販のスプレーガンを用いて
基板に吹き付けて、Ｓｎ，ＳｂおよびＴｉの酸化物の混
合物からなる被膜を形成した。このガラスにつき実施例
１と同様の特性値を表１に示す。

【００２５】（実施例４）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC₇H₁₅)₂）、ト
ルエン、キシレン、イソプロピルアルコール、チタニウ
ムジノルマルプロポキシビスアセチルアセトナート、ト
リフェニルアンチモンを、被膜中の全金属量に占めるＳ
ｎおよびＴｉの割合が表１に示した数値となるように混
合した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板に吹き
付けて、Ｓｎ、ＳｂおよびＴｉの酸化物の混合物からな
る被膜を形成した。このガラスにつき実施例１と同様の
特性値を表１に示す。

【００２６】表１に示したように、実施例１〜４による
建築物用ガラスは、ガラス基板として厚さ６ｍｍのソー
ダライムシリカガラスを用いた場合に可視光透過率が６
０％以上であり、可視光反射率は２０〜２５％であり、
吸収率は１４％以上であり、被膜の表面抵抗値は１０⁵
〜１０⁷Ω／□である。

【００２７】（比較例１、比較例２）大きさが１５０×
１５０ｍｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラス
を洗浄、乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって
固定し、６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した
後、取り出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC
₇H₁₅)₂）、トルエン、キシレン、イソプロピルアルコー
ル、トリフェニルアンチモンを、被膜中の全金属量に占
めるＳｎおよびＴｉの割合が表１に示した数値となるよ
うに混合した原料液を市販のスプレーガンを用いて基板
に吹き付けて、ＳｎおよびＳｂの酸化物の混合物からな
る被膜を形成した。また、原料液の割合を変えた被膜も
形成した。これらのガラスにつき、各実施例と同様の特
性値を表１に示す。

【００２８】（比較例３）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC₇H₁₅)₂）、ト
ルエン、キシレン、イソプロピルアルコール、コバルト
アセチルアセトナート、トリフェニルアンチモンを、被
膜中の全金属量に占めるＳｎおよびＴｉの割合が表１に
示した数値となるように混合した原料液を市販のスプレ
ーガンを用いて基板に吹き付けて、Ｓｎ、ＳｂおよびＣ
ｏの酸化物の混合物からなる被膜を形成した。このガラ
スにつき、各実施例と同様の特性値を表１に示す。尚、
表１には、Ｔｉの割合の代わりに、Ｃｏの割合を示す
（以下の比較例においても、Ｔｉの代わりに混合した金
属の割合を示す。）。

【００２９】（比較例４）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC₇H₁₅)₂）、ト
ルエン、キシレン、イソプロピルアルコール、ニッケル
アセチルアセトナート、トリフェニルアンチモンを、被
膜中の全金属量に占めるＳｎおよびＴｉの割合が表１に
示した数値となるように混合した原料液を市販のスプレ
ーガンを用いて基板に吹き付けて、Ｓｎ、ＳｂおよびＮ
ｉの酸化物の混合物からなる被膜を形成した。このガラ
スにつき、各実施例と同様の特性値を表１に示す。

【００３０】（比較例５）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC₇H₁₅)₂）、ト
ルエン、キシレン、イソプロピルアルコール、鉄アセチ
ルアセトナート、トリフェニルアンチモンを、被膜中の
全金属量に占めるＳｎおよびＴｉの割合が表１に示した
数値となるように混合した原料液を市販のスプレーガン
を用いて基板に吹き付けて、Ｓｎ、ＳｂおよびＦｅの酸
化物の混合物からなる被膜を形成した。このガラスにつ
き、各実施例と同様の特性値を表１に示す。

【００３１】（比較例６）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC₇H₁₅)₂）、ト
ルエン、キシレン、イソプロピルアルコール、クロムア
セチルアセトナート、トリフェニルアンチモンを、被膜
中の全金属量に占めるＳｎおよびＴｉの割合が表１に示
した数値となるように混合した原料液を市販のスプレー
ガンを用いて基板に吹き付けて、Ｓｎ、ＳｂおよびＣｒ
の酸化物の混合物からなる被膜を形成した。このガラス
につき、各実施例と同様の特性値を表１に示す。

【００３２】表１によると、Ｓｎ酸化物−Ｓｂ酸化物被
膜への混合物として、Ｔｉ酸化物を添加した実施例で
は、Ｃｏ酸化物、Ｆｅ酸化物等を添加した比較例のよう
に、吸収率が顕著に低下しないことがわかる。Ｔｉ酸化
物を添加した場合は、表面抵抗率が顕著に上昇してい
る。

【００３３】

【表１】

【００３４】次に、Ｔｉ酸化物の割合を大きくして被膜
抵抗値を１０⁶ Ω／□以上とした実施例を示す。（実施例５）大きさが１５０×１５０ｍｍ、厚さが１０
ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、乾燥し、基板
とした。この基板を吊具によって固定し、６５０℃に設
定した電気炉内に５分間保持した後、取り出してモノブ
チル錫トリクロライド２８．２５ｇ、メタノール１００
ｍｌ、水５ｍｌ、三塩化アンチモン９．１４ｇ、チタニ
ウムジノルマルプロポキシビスアセチルアセトナート４
３．５３ｇを混合した原料液を市販のスプレーガンを用
いて基板に吹き付けて、Ｓｎ、ＳｂおよびＴｉの酸化物
の混合物からなる被膜を形成した。得られたガラスの可
視光透過率、可視光反射率、表面抵抗値および膜厚を表
２に示す。また、被膜中のＳｎ、Ｓｂ、Ｔｉ金属量をプ
ラズマ発光分析および蛍光Ｘ線分析で測定した。全金属
量のうちＳｂおよびＴｉの割合も併せて表２に示す。さ
らに、４０℃、１規定の硫酸または水酸化ナトリウム水
溶液中にサンプルを浸し、耐薬品性の評価を行った。２
日後に膜の変化が観察されなかったものを○、１日後に
変化はなかったが２日後に膜が変化したものを△、１日
後に変化が観察されたものを×とした。これらの結果も
表２に示す。

【００３５】（実施例６）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC₇H₁₅)₂）８．
１１ｇ、トルエン１３．９ｇ、キシレン４．３３ｇ、イ
ソプロピルアルコール５．６ｇ、チタニウムジノルマル
プロポキシビスアセチルアセトナート４．３３ｇ、トリ
フェニルアンチモン５．５ｇを混合した原料液を市販の
スプレーガンを用いて基板に吹き付けて、Ｓｎ、Ｓｂお
よびＴｉの酸化物の混合物からなる被膜を形成した。こ
のガラスにつき実施例５と同様の特性値を表２に示す。

【００３６】（実施例７）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC₇H₁₅)₂）８．
１１ｇ、トルエン１３．９ｇ、キシレン８．６７ｇ、イ
ソプロピルアルコール５．６ｇ、チタニウムジノルマル
プロポキシビスアセチルアセトナート８．６７ｇ、トリ
フェニルアンチモン５．５ｇを混合した原料液を市販の
スプレーガンを用いて基板に吹き付けて、Ｓｎ、Ｓｂお
よびＴｉの酸化物の混合物からなる被膜を形成した。こ
のガラスにつき実施例５と同様の特性値を表２に示す。

【００３７】（実施例８）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC₇H₁₅)₂）８．
１１ｇ、トルエン１３．９ｇ、キシレン１７．３３ｇ、
イソプロピルアルコール５．６ｇ、チタニウムジノルマ
ルプロポキシビスアセチルアセトナート１７．３３ｇ、
トリフェニルアンチモン５．５ｇを混合した原料液を市
販のスプレーガンを用いて基板に吹き付けて、Ｓｎ、Ｓ
ｂおよびＴｉの酸化物の混合物からなる被膜を形成し
た。このガラスにつき実施例５と同様の特性値を表２に
示す。

【００３８】（実施例９）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC₇H₁₅)₂）８．
１１ｇ、トルエン１３．９ｇ、キシレン４３．３３ｇ、
イソプロピルアルコール５．６ｇ、チタニウムジノルマ
ルプロポキシビスアセチルアセトナート４３．３３ｇ、
トリフェニルアンチモン５．５ｇを混合した原料液を市
販のスプレーガンを用いて基板に吹き付けて、Ｓｎ、Ｓ
ｂおよびＴｉの酸化物の混合物からなる被膜を形成し
た。このガラスにつき実施例５と同様の特性値を表２に
示す。

【００３９】（実施例１０〜１２）大きさが１５０×１
５０ｍｍ、厚さが１０ｍｍのソーダライムシリカガラス
を洗浄、乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって
固定し、６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した
後、取り出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC
₇H₁₅)₂）、トルエン、キシレン、イソプロピルアルコー
ル、チタニウムジノルマルプロポキシビスアセチルアセ
トナート、トリフェニルアンチモンを、被膜中の全金属
量に占めるＳｎおよびＴｉの割合が表２に示した数値と
なるように混合した原料液を市販のスプレーガンを用い
て基板に吹き付けて、Ｓｎ、ＳｂおよびＴｉの酸化物の
混合物からなる被膜を形成した。これらのガラスにつき
実施例５と同様の特性値を表２に示す。

【００４０】（比較例７）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してジブチル錫脂肪酸（(C₄H₉)₂Sn(OCOC₇H₁₅)₂）、ト
ルエン、キシレン、イソプロピルアルコール、チタニウ
ムジノルマルプロポキシビスアセチルアセトナートを、
被膜中の全金属量に占めるＳｎおよびＴｉの割合が表２
に示した数値となるように混合した原料液を市販のスプ
レーガンを用いて基板に吹き付けて、ＳｎおよびＴｉの
酸化物の混合物からなる被膜を形成した。このガラスに
つき実施例５と同様の特性値を表２に示す。

【００４１】（比較例８）大きさが１５０×１５０ｍ
ｍ、厚さが６ｍｍのソーダライムシリカガラスを洗浄、
乾燥し、基板とした。この基板を吊具によって固定し、
６５０℃に設定した電気炉内に５分間保持した後、取り
出してトルエン、キシレン、イソプロピルアルコール、
チタニウムジノルマルプロポキシビスアセチルアセトナ
ートを、被膜中の全金属量に占めるＳｎおよびＴｉの割
合が表２に示した数値となるように混合した原料液を市
販のスプレーガンを用いて基板に吹き付けて、Ｔｉの酸
化物の混合物からなる被膜を形成した。このガラスにつ
き実施例５と同様の特性値を表２に示す。

【００４２】尚、表２には、比較例２により得られたガ
ラスについての特性値も併せて示す。

【００４３】

【表２】

【００４４】表２に示したように、実施例５〜１２によ
る建築物用ガラスは、ガラス基板として厚さ６ｍｍまた
は１０ｍｍのソーダライムシリカガラスを用いた場合に
可視光透過率が６０％以上であり、可視光反射率は２０
〜３５％であり、被膜の表面抵抗値は１０⁶Ω／□を超
える値である。また、Ｓｂの割合を５％以上とすれば、
被膜の化学的耐久性が向上することがわかる。

【００４５】

【発明の効果】本発明によれば、可視光透過率、同反射
率、被膜抵抗値、耐久性等の観点から建築物用として適
しており、かつ、上記光学特性等を調整することが容易
な被膜形成ガラスを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るガラスの模式的断面図。

【符号の説明】

１：被膜付ガラス、２：被膜、３：ガラス基板

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス基板上に酸化物からなる被膜を形
成してなる建築物用ガラスにおいて、前記被膜が本質的にＳｎの酸化物とＳｂの酸化物とＴｉ
の酸化物との混合物からなることを特徴とする建築物用
ガラス。
【請求項２】前記被膜の表面抵抗値が１０⁵Ω／□以
上であることを特徴とする請求項１に記載の建築物用ガ
ラス。
【請求項３】前記被膜に含まれる全金属量に対し、Ｓ
ｂが５重量％以上であることを特徴とする請求項１また
は２に記載の建築物用ガラス。
【請求項４】前記被膜の膜厚が１０〜２００ｎｍであ
ることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載
の建築物用ガラス。