JP2000086297A - 防汚性熱線遮断ガラス及びその製造方法 - Google Patents

防汚性熱線遮断ガラス及びその製造方法

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JP2000086297A
JP2000086297A JP10258109A JP25810998A JP2000086297A JP 2000086297 A JP2000086297 A JP 2000086297A JP 10258109 A JP10258109 A JP 10258109A JP 25810998 A JP25810998 A JP 25810998A JP 2000086297 A JP2000086297 A JP 2000086297A
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film
antifouling
heat
heat ray
glass
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Toru Nishibe
徹 西部
Tadanobu Okamoto
忠伸 岡本
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Narumi China Corp
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Narumi China Corp
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    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ６５０℃以上の高温下においても優れた防汚
効果及び熱線遮断効果を発揮し，かつ，機械的強度の高
い耐熱性防汚膜を有する防汚性熱線遮断ガラス及びその
製造方法を提供すること。 【解決手段】 ガラス基板１０の表面に熱線遮断膜２を
形成すると共に，その表面に耐熱性防汚膜３を形成した
防汚性熱線遮断ガラス１。ガラス基板１０は低熱膨張性
を有すると共にその軟化点が６５０℃以上である。熱線
遮断膜２は６５０℃以上において形成された酸化錫系皮
膜である。上記耐熱性防汚膜３は６５０℃以上において
形成された酸化珪素，酸化ジルコニウム，酸化チタンの
いずれか一種以上からなる皮膜である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】本発明は，高温下においても優れた防汚効
果及び熱線遮断効果を発揮し，かつ耐久性に優れた防汚
性熱線遮断ガラス及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】従来の防汚ガラスとしては，ガラス基板上
にフッ素基やメチル基を含むシリコン化合物からなる撥
水膜を形成したものがある。上記防汚ガラスは，撥水膜
の表面の化学作用によって汚れの付着を防止している。
【０００３】
【解決しようとする課題】しかし，上記従来の防汚ガラ
スは，比較的低温（４００℃以下）で形成されているた
め，上記撥水膜における原子同士の結びつきが弱く，ま
た，構造も多孔体になり機械的強度が低い。
【０００４】そのため，金属ヘラ，ブラシ，研磨剤等で
こすったり，磨いたりすると上記撥水膜に傷が生ずると
いう問題がある。一方，形成時の温度を４００℃以上と
すると，上記撥水膜を形成するためのシリコン化合物中
のフッ素基やメチル基が揮発するという問題がある。
【０００５】また，高温処理用工業炉の覗き窓，調理用
オーブンや電子レンジ等の前面ガラスやターンテーブ
ル，グリルの覗き窓等，高温状態で用いる設備や機器に
おいては耐熱性の熱線遮断ガラスが用いられる。しか
し，上記熱線遮断ガラスは，使用中に汚れが固着して内
部が見え難くなるという問題がある。そこで，熱線遮断
効果と共に防汚効果にも優れた熱線遮断ガラスが切望さ
れている。
【０００６】本発明は，かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので，６５０℃以上の高温下においても優れた
防汚効果及び熱線遮断効果を発揮し，かつ，機械的強度
の高い耐熱性防汚膜を有する防汚性熱線遮断ガラス及び
その製造方法を提供しようとするものである。
【０００７】
【課題の解決手段】請求項１に記載の発明は，ガラス基
板の表面に熱線遮断膜を形成すると共に，その表面に耐
熱性防汚膜を形成した防汚性熱線遮断ガラスにおいて，
上記ガラス基板は低熱膨張性を有すると共にその軟化点
が６５０℃以上であり，また，上記熱線遮断膜は６５０
℃以上において形成された酸化錫系皮膜であり，かつ，
上記耐熱性防汚膜は６５０℃以上において形成された酸
化珪素，酸化ジルコニウム，酸化チタンのいずれか一種
以上からなる皮膜であることを特徴とする防汚性熱線遮
断ガラスにある。
【０００８】本発明において最も注目すべきことは，上
記ガラス基板及び上記熱線遮断膜が上記のごとく特定さ
れており，かつ上記耐熱性防汚膜は６５０℃以上におい
て焼付形成された酸化珪素，酸化ジルコニウム，酸化チ
タンのいずれか一種以上からなる皮膜であることであ
る。
【０００９】次に，本発明の作用効果につき説明する。
上記防汚性熱線遮断ガラスにおける上記耐熱性防汚膜は
６５０℃以上において形成された酸化珪素，酸化ジルコ
ニウム，酸化チタンのいずれか一種以上からなる皮膜で
ある。
【００１０】即ち，上記耐熱性防汚膜は６５０℃以上の
高温状態において形成されるため，原子同士の結びつき
が強く緻密体となり機械的強度が高く，耐久性，防汚効
果にも優れる。それ故，上記防汚性熱線遮断ガラスの表
面を金属ヘラ，ブラシ，研磨剤等でこすったり，磨いた
りしたとき傷がつき難く，汚れは落ち易い。そのため，
上記耐熱性防汚膜により，その下層の熱線遮断膜は保護
され，該熱線遮断膜の熱線遮断効果が劣化することを防
止することができる（実施形態例２参照）。
【００１１】一方，上記ガラス基板及び上記熱線遮断膜
は上記のごとく特定されている。即ち，上記ガラス基板
は，その軟化点が６５０℃以上である。そのため，６５
０℃以上という高温状態で使用してもガラス基板が軟化
してしまうという不具合が発生しない。
【００１２】また，上記ガラス基板は低熱膨張性であ
る。そのため，耐熱衝撃性，寸法安定性等に優れ，破損
の防止等を図ることができる。即ち，上記ガラス基板
は，例えば急冷温度差が２００℃以上であっても破損し
ないため，上記防汚性熱線遮断ガラスが高温状態にある
ときに水洗浄を行なうこともできる。
【００１３】また，上記熱線遮断膜は６５０℃以上にお
いて形成された酸化錫系皮膜である。従来の酸化錫系皮
膜は約５００℃程度の温度において形成されるものであ
り，その熱線遮断効果は５００℃を超えるような高温に
おいて大幅に劣化してしまう。これに対し，本発明にお
ける６５０℃以上において形成した酸化錫系皮膜は，６
５０℃を超えるような非常に高い温度においても優れた
熱線遮断効果を維持することができる。
【００１４】また，上記熱線遮断膜の成分としては，従
来と同様の酸化錫系皮膜を用いることができる。そのた
め，例えば酸化インジウム系皮膜や，金属膜と金属酸化
物の複合皮膜のような高価な皮膜を採用する必要がな
く，防汚性熱線遮断ガラスの低コスト化を図ることがで
きる。
【００１５】以上のごとく，本発明によれば，６５０℃
以上の高温下においても優れた防汚効果及び熱線遮断効
果を発揮し，かつ，機械的強度の高い耐熱性防汚膜を有
する防汚性熱線遮断ガラスを提供することができる。
【００１６】６５０℃未満において形成した耐熱性防汚
膜では，その防汚性熱線遮断ガラスを例えば６５０℃以
上という高温状態で使用した場合，上記耐熱性防汚膜の
防汚効果が劣化すると共に機械的強度が得られず，傷が
つき易いという問題がある。
【００１７】上記ガラス基板における低熱膨張性とは，
従来の熱線遮断ガラスに用いられていた一般的なガラス
基板よりも熱膨張係数が小さいことを意味する。具体的
には，従来の一般的なガラス基板はソーダガラスや硼珪
酸ガラスからなり，その熱膨張係数は約３０×１０-7／
℃以上である。これに対し，本発明におけるガラス基板
としては，少なくとも３０×１０-7／℃未満の熱膨張係
数を有するガラスを適用する。
【００１８】特に，上記ガラス基板の熱膨張係数は，−
１０〜＋１５×１０-7／℃であることが好ましい。熱膨
張係数がこの範囲内にあれば，ガラス基板の耐熱衝撃
性，寸法安定性等の特性を非常に良好に維持することが
できる。一方，熱膨張係数が上記範囲を超える場合に
は，高温時の寸法変化が大きくなり，適用対象が制限さ
れるという問題がある。
【００１９】また，上記ガラス基板の軟化点は，上記の
ごとく６５０℃以上である。軟化点が６５０℃未満の場
合には，６５０℃以上における使用が困難であるという
問題がある。なお，軟化点の上限値は高い程良い。ここ
で軟化点とは，上記ガラス基板と同じ材料で作製したφ
０．５５〜φ０．７５ｍｍ，長さ２３５ｍｍのガラスフ
ァイバーを用い，その上端を支持して吊り下げ，次い
で，その上部１００ｍｍを５℃／分の速度で温度上昇さ
せた場合に，自重により１ｍｍ／分の速度で伸びる温度
をいい，粘性係数がη＝１０7.6に相当する温度であ
る。
【００２０】また，上記熱線遮断膜は，上記のごとく６
５０℃以上において形成された酸化錫系皮膜である。酸
化錫系皮膜自体は，従来より知られたものであり，熱線
遮断効果を発揮するための種々のドーピング剤を加えた
ものが知られている。ここで重要な点は，上記薄膜は，
単に従来より知られている皮膜を採用したのではなく，
６５０℃以上という高温状態において焼付けして，形成
したものであるということである。
【００２１】６５０℃未満において形成した熱線遮断膜
では，その防汚性熱線遮断ガラスを例えば６５０℃以上
という高温状態で使用した場合には熱線遮断効果が大幅
に劣化するという問題がある。
【００２２】また，上記ガラス基板は，結晶化ガラスま
たは石英ガラスであることが好ましい。結晶化ガラス及
び石英ガラスは，一般に−１０〜＋１５×１０-7／℃の
範囲内の熱膨張率を有し，かつ軟化点が９００℃以上
（石英ガラスは１３００℃以上）である。そのため，上
記ガラス基板に求められる特性を容易に満足することが
でき，上記作用効果を十分に発揮することができる。
【００２３】上記熱線遮断膜の膜厚は，１００〜１００
０ｎｍであることが好ましい。１００ｎｍ未満の場合に
は，上記薄膜が島状になって連続した均一な薄膜構造に
ならないため，十分な熱線遮断効果を発揮し得ない。そ
のため，より好ましくは３００ｎｍ以上がよい。一方，
１０００ｎｍを超える場合には，可視光の透過率が低下
するため，例えば覗き窓のように前方を透視することを
目的とする熱線遮断ガラスには適用困難となるという問
題がある。そのため，より好ましくは，上限は７００ｎ
ｍがよい。
【００２４】また，上記熱線遮断膜が熱線遮断効果を発
揮するためには，該熱線遮断膜に電気伝導性が必要であ
る。電子のプラズマ振動により熱線が反射されるからで
ある。したがって通常は，導電効果を高めるために上記
薄膜にドーピング剤を含有させる。
【００２５】この場合，上記熱線遮断膜は，ドーピング
剤としてアンチモンを含有していることが好ましい。こ
れにより，酸化アンチモンを有する酸化錫系皮膜が形成
され，優れた熱線遮断効果を確実に発揮させることがで
きる。なお，上記ドーピング剤としては，アンチモンに
代えて，フッ素，インジウム等を用いることもできる。
【００２６】次に，請求項２に記載の発明のように，上
記耐熱性防汚膜は６５０〜８５０℃で形成された皮膜で
あることが好ましい。これにより，高温下においても優
れた防汚効果及び熱線遮断効果を発揮し，かつ，機械的
強度の高い耐熱性防汚膜を有する防汚性熱線遮断ガラス
を一層確実に得ることができる。
【００２７】焼付温度が６５０℃未満の場合には，上述
したごとく，上記耐熱性防汚膜の機械的強度が充分得ら
れない。一方，焼付温度が８５０℃を超える場合には，
形成時にガラス基板が白色の結晶化を起こすという不具
合がある。更に好ましい焼付温度は，７５０℃〜８００
℃である。
【００２８】次に，請求項３に記載の発明のように，上
記耐熱性防汚膜の膜厚は１０〜５００ｎｍであることが
好ましい。これにより，防汚効果，耐久性に優れた耐熱
性防汚膜を有する防汚性熱線遮断ガラスを得ることがで
きる。
【００２９】上記膜厚が１０ｎｍ未満の場合には，充分
な防汚効果を得ることができない。一方，上記膜厚が５
００ｎｍを超える場合には，形成過程における上記耐熱
性防汚膜の応力により該耐熱性防汚膜が基板から剥離す
るおそれがある。
【００３０】次に，請求項４に記載の発明のように，ガ
ラス基板の表面に熱線遮断膜を形成すると共に，その表
面に耐熱性防汚膜を形成した防汚性熱線遮断ガラスを製
造するに当って，低熱膨張性を有すると共にその軟化点
が６５０℃以上であるガラス基板を準備し，次いで，該
ガラス基板を６５０℃以上に加熱した状態において該ガ
ラス基板上に酸化錫系の熱線遮断膜を形成し，次いで，
６５０℃以上において該熱線遮断膜の上に酸化珪素，酸
化ジルコニウム，酸化チタンのいずれか一種以上からな
る耐熱性防汚膜を形成することを特徴とする防汚性熱線
遮断ガラスの製造方法がある。
【００３１】本製造方法で最も注目すべきことは，上記
ガラス基板を６５０℃以上に加熱した状態で，上記熱線
遮断膜及び上記耐熱性防汚膜を形成すること，即ち，上
記熱線遮断膜及び上記耐熱性防汚膜の形成温度を６５０
℃以上の高温とすることである。
【００３２】本製造方法においては，上記のごとく，ガ
ラス基板を６５０℃以上の温度に加熱して酸化錫系皮膜
を形成する。そのため，前述した優れた防汚性熱線遮断
ガラスを容易に製造することができる。本製造方法によ
り得られた防汚性熱線遮断ガラスは，６５０℃以上の高
温下においても優れた防汚効果，熱線遮断効果及び耐久
性を発揮する。
【００３３】従って，本発明によれば，６５０℃以上の
高温下においても優れた防汚効果及び熱線遮断効果を発
揮し，かつ，機械的強度の高い耐熱性防汚膜を有する防
汚性熱線遮断ガラスの製造方法を提供することができ
る。
【００３４】次に，請求項５に記載の発明のように，上
記熱線遮断膜は，上記ガラス基板上にスプレー法又はＣ
ＶＤ法により形成することが好ましい。これにより，上
記防汚性熱線遮断ガラスを一層容易に製造することがで
きる。
【００３５】なお，スプレー法は，上記熱線遮断膜の原
料となる溶液を高温状態のガラス基板上に噴霧して，該
ガラス基板上において熱分解酸化反応により熱線遮断膜
を形成するという方法である。また，ＣＶＤ法（化学蒸
着法）は，上記熱線遮断膜の原料を含んだ反応ガスを，
高温状態のガラス基板に接触させ，該ガラス基板上にお
いて熱線遮断膜を蒸着させる方法である。
【００３６】次に，請求項６に記載の発明のように，上
記耐熱性防汚膜は，ゾルゲル法，スプレー法，又はＣＶ
Ｄ法により形成することが好ましい。これにより，上記
防汚性熱線遮断ガラスを一層容易に製造することができ
る。上記ゾルゲル法は，上記耐熱性防汚膜の原料となる
溶液を，ディッピング法，スピンコート法，ロールコー
ト法，カーテンフロー法やハケ筆による塗布法を用い
て，ガラス基板上に塗布し，乾燥後高温で焼成すること
により耐熱性防汚膜を形成するという方法である。
【００３７】次に，請求項７に記載の発明のように，上
記ガラス基板の加熱温度は６５０〜８５０℃であること
が好ましい。これにより，請求項２に記載の発明の説明
で述べたごとく，高温下においても優れた防汚効果及び
熱線遮断効果を発揮し，かつ，機械的強度の高い耐熱性
防汚膜を有する防汚性熱線遮断ガラスを一層確実に製造
することができる。
【００３８】なお，本発明の防汚性熱線遮断ガラスは，
高温処理用工業炉の覗き窓，調理用オーブンや電子レン
ジ等の前面ガラスやターンテーブル，グリルの覗き窓等
として用いられる。
【００３９】
【発明の実施の形態】実施形態例１ 本発明の実施形態例にかかる防汚性熱線遮断ガラス及び
その製造方法につき，図１を用いて説明する。本例の防
汚性熱線遮断ガラス１は，図１に示すごとく，ガラス基
板１０の表面に熱線遮断膜２を形成すると共に，その表
面に耐熱性防汚膜３を焼付形成したものである。
【００４０】上記ガラス基板としては，軟化点が９００
℃以上でありかつ熱膨張係数が５×１０-7／℃である透
明結晶化ガラスを用いた。上記熱線遮断膜２は６５０℃
以上において形成された，ＳｎＯ−１５ｗｔ％Ｓｂより
なる酸化錫系皮膜である。また，上記耐熱性防汚膜３は
６５０℃以上において形成された酸化珪素からなる皮膜
である。
【００４１】次に，本例の防汚性熱線遮断ガラス１の製
造方法につき説明する。まず，上記透明結晶化ガラスか
らなるガラス基板１０を準備すると共に，熱線遮断膜形
成用の薬液及び耐熱性防汚膜形成用の薬液を作製する。
上記熱線遮断膜形成用薬液を作製するに当っては，まず
モル比［Ｓｂ］／［Ｓｎ］が０．１〜０．５となるよう
に塩化第二錫にアンチモンを加えて薬剤を作製した。次
いでこの薬剤をアルコールに溶解して熱線遮断膜形成用
の薬液とした。一方，上記耐熱性防汚膜形成用の薬液を
作成するに当っては，アルコキシシランをアルコール溶
媒に溶解し，加水分解剤としての水と添加剤としての塩
酸を加えて耐熱性防汚膜形成用の薬液とした。
【００４２】次に，熱線遮断膜２を形成するに当って
は，まず上記のガラス基板１０を８００℃に加熱した。
そして，その加熱温度を保持したまま，ガラス基板１０
上に上記熱線遮断膜形成用の薬液をスプレー法により均
一に散布した。これにより，散布された上記熱線遮断膜
形成用の薬液は，８００℃に保持されたガラス基板１０
上において酸化熱分解反応を起こし，酸化錫系皮膜より
なる熱線遮断膜２が焼付形成された。また，上記熱線遮
断膜２は，上記スプレーにより飛散される薬液量を調整
することにより，約６００ｎｍの膜厚に仕上げた。
【００４３】次に，上記耐熱性防汚膜３を形成するに当
っては，上記耐熱性防汚膜形成用の薬液をゾルゲル法の
一種であるディップコーティング法により上記熱線遮断
膜２上に塗布し，８００℃で焼付けた。なお，上記耐熱
性防汚膜３の膜厚は，溶液濃度又はディッピング速度を
調整することにより調整する。
【００４４】これにより，塗布された上記耐熱性防汚膜
形成用の薬液は，８００℃に保持することにより，熱分
解反応を起こし，酸化珪素からなる上記耐熱性防汚膜３
が焼付形成された。上記耐熱性防汚膜３は，約５０ｎｍ
の膜厚に仕上げた。以上により，上記図１に示した，本
例の防汚性熱線遮断ガラス１を製造した。
【００４５】なお，本例においては，上記熱線遮断膜２
を形成後，上記ガラス基板１０を一端冷却し，再度８０
０℃に加熱して上記耐熱性防汚膜３を形成したが，上記
ガラス基板１０の温度を８００℃に保ったまま上記熱線
遮断膜２を形成後，スプレー法，ＣＶＤ法で上記耐熱性
防汚膜３を形成してもよい。
【００４６】次に，本例の防汚性熱線遮断ガラス１の作
用効果につき説明する。上記防汚性熱線遮断ガラス１に
おける上記耐熱性防汚膜３は８００℃において形成され
た酸化珪素からなる皮膜である。
【００４７】即ち，上記耐熱性防汚膜３は８００℃の高
温状態において焼付形成されるため，原子同士の結びつ
きが強く緻密体となり機械的強度が高く，耐久性，防汚
効果にも優れる。それ故，上記防汚性熱線遮断ガラス１
の表面を金属ヘラ，ブラシ，研磨剤等でこすったり，磨
いたりしたとき傷がつき難く，汚れは落ち易い。そのた
め，上記耐熱性防汚膜３により，その下層の熱線遮断膜
２は保護され，該熱線遮断膜２の熱線遮断効果が劣化す
ることを防止することができる（実施形態例２参照）。
【００４８】一方，上記ガラス基板１０は，透明結晶ガ
ラスからなり，その軟化点が９００℃以上である。その
ため，６５０℃以上という高温状態で使用してもガラス
基板１０が軟化してしまうという不具合が発生しない。
【００４９】また，上記ガラス基板１０は低熱膨張性で
ある。そのため，耐熱衝撃性，寸法安定性等に優れ，破
損の防止等を図ることができる。即ち，上記ガラス基板
１０は，急冷温度差が４００℃以上であっても破損しな
いため，上記防汚性熱線遮断ガラス１が高温状態にある
ときに水洗浄を行なうこともできる。
【００５０】また，上記熱線遮断膜２は８００℃におい
て形成された酸化錫系皮膜である。そのため，６５０℃
を超えるような非常に高い温度においても優れた熱線遮
断効果を維持することができる。
【００５１】また，上記熱線遮断膜２の成分としては，
酸化錫系皮膜を用いている。そのため，例えば酸化イン
ジウム系皮膜や，金属膜と金属酸化物の複合皮膜等を用
いる場合に比較して，低コスト化を図ることができる。
【００５２】実施形態例２ 本例は，本発明にかかる防汚性熱線遮断ガラスの諸特性
を試験により確認した例である（表１，図２〜図６）。
即ち，以下に示す実施例１〜４の防汚性熱線遮断ガラス
及び比較例１〜４の熱線遮断ガラスを作製し，それぞれ
について，金属ヘラで擦った傷の有無，洗浄試験後の赤
外線反射率及び傷の有無，３００℃で焦げ付かせた油汚
れ及びチーズ汚れのナイロンヘラでの取れ具合，即ち汚
れの剥離具合を評価した。
【００５３】実施例１ 本例の防汚性熱線遮断ガラスは，耐熱性防汚膜として酸
化珪素（ＳｉＯ2）からなる皮膜を用い，熱線遮断膜及
び耐熱性防汚膜の焼付温度を７９０℃とした。その他
は，実施形態例１の防汚性熱線遮断ガラスと同様であ
る。
【００５４】実施例２ 本例の防汚性熱線遮断ガラスは，耐熱性防汚膜として酸
化ジルコニウム（ＺｒＯ2）からなる皮膜を用い，熱線
遮断膜及び耐熱性防汚膜の焼付温度を７５０℃とした。
その他は，実施形態例１の防汚性熱線遮断ガラスと同様
である。
【００５５】実施例３ 本例の防汚性熱線遮断ガラスは，耐熱性防汚膜として酸
化珪素（ＳｉＯ2）５０ｗｔ％と酸化ジルコニウム（Ｚ
ｒＯ2）５０ｗｔ％からなる皮膜を用い，熱線遮断膜及
び耐熱性防汚膜の焼付温度を８００℃とした。その他
は，実施形態例１の防汚性熱線遮断ガラスと同様であ
る。
【００５６】実施例４ 本例の防汚性熱線遮断ガラスは，耐熱性防汚膜として酸
化チタン（ＴｉＯ2）からなる皮膜を用い，熱線遮断膜
及び耐熱性防汚膜の焼付温度を７８０℃とした。その他
は，実施形態例１の防汚性熱線遮断ガラスと同様であ
る。
【００５７】比較例１ 本例は，耐熱性防汚膜を形成していない熱線遮断ガラス
の例である。即ち，透明結晶化ガラスからなるガラス基
板の表面には熱線遮断膜を形成してあるが，耐熱性防汚
膜を形成しないものである。その他は，実施形態例１と
同様である。
【００５８】比較例２ 本例の防汚性熱線遮断ガラスは，実施形態例１における
耐熱性防汚膜に対応する防汚膜としてＦＡＳ（フルオロ
アルキルシラン）膜を用い，熱線遮断膜及び上記防汚膜
の焼付温度を４００℃とした。その他は，実施形態例１
の防汚性熱線遮断ガラスと同様である。
【００５９】比較例３ 本例の防汚性熱線遮断ガラスは，実施形態例１における
耐熱性防汚膜に対応する防汚膜としてＭＴＥＳ（メチル
トリエトキシシラン）膜を用い，熱線遮断膜及び上記防
汚膜の焼付温度を４００℃とした。その他は，実施形態
例１の防汚性熱線遮断ガラスと同様である。
【００６０】比較例４ 本例の防汚性熱線遮断ガラスは，実施形態例１における
耐熱性防汚膜に対応する防汚膜としてＶＴＥＳ（ビニル
トリエトキシシラン）膜を用い，熱線遮断膜及び上記防
汚膜の焼付温度を４００℃とした。その他は，実施形態
例１の防汚性熱線遮断ガラスと同様である。
【００６１】上記８種類の試料につき上記の試験を行な
い評価を行なった。各試験の評価結果及び総合評価を表
１に示す。総合評価は，Ａ，Ｂ，Ｃの３段階で行ない，
Ａが優れており，ＢはＡに準じており，Ｃが劣ることを
表す。
【００６２】
【表１】
【００６３】次に，上記試験，評価方法を以下に示す。
「金属ヘラによる傷」については，それぞれの試料の表面
を，金属ヘラを用いてほぼ同じ力で１０回擦り，その後
の各試料における表面の傷の有無を確認した。
【００６４】また，洗浄試験においては，市販の液体研
磨剤を付着させた硬質スポンジでそれぞれの試料の無傷
の表面を１００回，５００回，及び１０００回擦ったも
のを評価した。なお，上記液体研磨剤は１００回擦るご
とに１ｇ補充付着させた。評価方法は，各試料に赤外線
を照射し，その反射率を測定した。表１には，洗浄試験
前，１００回研磨後，１０００回研磨後の各試料におけ
る波長１０μｍの赤外線の反射率を示す。また，図１〜
４には，実施例１，実施例２，実施例４，及び比較例１
の各試料につき，洗浄試験（１０００回研磨）後の赤外
線反射率の変化を示す。
【００６５】また，ＳＥＭ（電子顕微鏡）を用いて洗浄
試験（１０００回研磨）後の表面の傷の観察を行なっ
た。その結果を表１に示す。また，図６（Ａ），（Ｂ）
には，実施例１と比較例１の試料の洗浄試験（１０００
回研磨）後の表面状態を表す。なお，図６（Ａ），
（Ｂ）は，３０倍に拡大した表面状態を表す。
【００６６】また，「油汚れの取れ具合」の評価について
は，各試料の表面に油汚れを３００℃で焦げ付かせ，そ
の後ナイロンヘラで表面を擦ることによる油汚れの取れ
具合を比較した。「チーズ汚れの取れ具合」の評価も同様
に行なった。
【００６７】表１から分かるように，実施例１〜４の試
料は比較例１に対し全ての評価において優れている。ま
た，実施例１〜４の試料は，比較例２〜４に対しても油
汚れ，チーズ汚れの取れ具合が同等である以外は，全て
の評価において優れている。即ち，本発明の防汚性熱線
遮断ガラスは，耐熱性防汚膜を設けていない熱線遮断ガ
ラスに比較して，傷がつき難く，熱線遮断効果が劣化せ
ず，即ち赤外線反射率の低下がなく，かつ防汚効果があ
ることが分かる。また，本発明の防汚性熱線遮断ガラス
は，有機系の防汚膜を設けた熱線遮断ガラス（比較例２
〜４）に比較して傷がつき難く熱線遮断効果が劣化しな
いことが分かる。なお，比較例２〜４の熱線遮断ガラス
は，１００回擦った時点で防汚膜が剥がれてしまった。
【００６８】また，図５に示すごとく，比較例１の試料
は，洗浄試験により赤外線反射率が大きく劣化するのに
対し，図２，３に示すごとく，実施例１，実施例２の試
料は殆ど劣化がなく，実施例４の試料も若干劣化する程
度である（図４）。これは，本発明の防汚性熱線遮断ガ
ラスは，機械的強度が高くかつ熱線遮断効果の劣化が少
ないことを示している。
【００６９】また，図６（Ａ），（Ｂ）から明らかなよ
うに，比較例１の試料は洗浄試験により多数の研磨傷４
が付く（図６（Ｂ））のに対し，実施例１の試料は若干
の研磨傷４しか付かない（図６（Ａ））。即ち，本発明
の防汚性熱線遮断ガラスにおける耐熱性防汚膜が熱線遮
断膜を保護していることが分かる。
【００７０】以上の各評価結果より，本発明にかかる防
汚性熱線遮断ガラス（実施例１〜実施例４）は，優れた
防汚効果及び熱線遮断効果を発揮し，かつ，機械的強度
の高い耐熱性防汚膜を有する防汚性熱線遮断ガラスであ
ることが分かる。
【００７１】
【発明の効果】上述のごとく，本発明によれば，６５０
℃以上の高温下においても優れた防汚効果及び熱線遮断
効果を発揮し，かつ，機械的強度の高い耐熱性防汚膜を
有する防汚性熱線遮断ガラス及びその製造方法を提供す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態例１における，防汚性熱線遮断ガラス
の構造を示す説明図。
【図２】実施形態例２における，実施例１の防汚性熱線
遮断ガラスの赤外線反射率の変化を表す線図。
【図３】実施形態例２における，実施例２の防汚性熱線
遮断ガラスの赤外線反射率の変化を表す線図。
【図４】実施形態例２における，実施例４の防汚性熱線
遮断ガラスの赤外線反射率の変化を表す線図。
【図５】実施形態例２における，比較例１の熱線遮断ガ
ラスの赤外線反射率の変化を表す線図。
【図６】実施形態例２における，（Ａ）実施例１の防汚
性熱線遮断ガラスの洗浄試験（１０００回研磨）後の表
面状態，（Ｂ）比較例１の熱線遮断ガラスの洗浄試験後
の表面状態を表す説明図（３０倍拡大相当）。
【符号の説明】
１．．．防汚性熱線遮断ガラス， １０．．．ガラス基板， ２．．．熱線遮断膜， ３．．．耐熱性防汚膜， ４．．．研磨傷，

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ガラス基板の表面に熱線遮断膜を形成す
    ると共に，その表面に耐熱性防汚膜を形成した防汚性熱
    線遮断ガラスにおいて，上記ガラス基板は低熱膨張性を
    有すると共にその軟化点が６５０℃以上であり，また，
    上記熱線遮断膜は６５０℃以上において形成された酸化
    錫系皮膜であり，かつ，上記耐熱性防汚膜は６５０℃以
    上において形成された酸化珪素，酸化ジルコニウム，酸
    化チタンのいずれか一種以上からなる皮膜であることを
    特徴とする防汚性熱線遮断ガラス。
  2. 【請求項２】 請求項１において，上記耐熱性防汚膜は
    ６５０〜８５０℃で形成された皮膜であることを特徴と
    する防汚性熱線遮断ガラス。
  3. 【請求項３】 請求項１又は２において，上記耐熱性防
    汚膜の膜厚は１０〜５００ｎｍであることを特徴とする
    防汚性熱線遮断ガラス。
  4. 【請求項４】 ガラス基板の表面に熱線遮断膜を形成す
    ると共に，その表面に耐熱性防汚膜を形成した防汚性熱
    線遮断ガラスを製造するに当って，低熱膨張性を有する
    と共にその軟化点が６５０℃以上であるガラス基板を準
    備し，次いで，該ガラス基板を６５０℃以上に加熱した
    状態において該ガラス基板上に酸化錫系の熱線遮断膜を
    形成し，次いで，６５０℃以上において該熱線遮断膜の
    上に酸化珪素，酸化ジルコニウム，酸化チタンのいずれ
    か一種以上からなる耐熱性防汚膜を形成することを特徴
    とする防汚性熱線遮断ガラスの製造方法。
  5. 【請求項５】 請求項４において，上記熱線遮断膜は，
    上記ガラス基板上にスプレー法又はＣＶＤ法により形成
    することを特徴とする防汚性熱線遮断ガラスの製造方
    法。
  6. 【請求項６】 請求項４又は５において，上記耐熱性防
    汚膜は，ゾルゲル法，スプレー法，又はＣＶＤ法により
    形成することを特徴とする防汚性熱線遮断ガラスの製造
    方法。
  7. 【請求項７】 請求項４〜６のいずれか一項において，
    上記ガラス基板の加熱温度は６５０〜８５０℃であるこ
    とを特徴とする防汚性熱線遮断ガラスの製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010280556A (ja) * 2009-03-31 2010-12-16 Schott Ag 赤外線を反射するガラス板又はガラスセラミック板
JP2014040367A (ja) * 2008-02-06 2014-03-06 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス物品
CN107500564A (zh) * 2017-08-24 2017-12-22 中航百慕新材料技术工程股份有限公司 玻璃的制作方法

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