JPH11108939A - 光ファイバプローブの製造方法及び光ファイバプローブ - Google Patents

光ファイバプローブの製造方法及び光ファイバプローブ

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JPH11108939A
JPH11108939A JP26686897A JP26686897A JPH11108939A JP H11108939 A JPH11108939 A JP H11108939A JP 26686897 A JP26686897 A JP 26686897A JP 26686897 A JP26686897 A JP 26686897A JP H11108939 A JPH11108939 A JP H11108939A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高分解能を持ち光学画像を得ることができる
光ファイバプローブの製造方法及び光ファイバプローブ
を提供する。 【解決手段】 まず、フッ酸緩衝溶液を用いた2段階エ
ッチング法によって、光ファイバの一端を先鋭化する
(第1の工程)。続いて、先鋭化した光ファイバの一端
に対してイオンビーム(Ga+)を照射する(第2の工
程)。さらに、フッ酸緩衝溶液により、エッチングを行
う(第3の工程)。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばプローブ走
査型顕微鏡の一つである近接場光学顕微鏡においてエバ
ネッセント光を検出する光プローブ等として使用される
光ファイバプローブの製造方法及び光ファイバプローブ
に関する。
【0002】
【従来の技術】通常の光学顕微鏡により得られる画像の
分解能は、回折限界(光の波長)によって制限される。
【0003】これに対して、ナノメートルサイズの構造
を持つプローブを備えた近接場光学顕微鏡を用いれば、
光の波長を超えた分解能を持つ光学画像を得ることがで
きる。さらに、この近接場光学顕微鏡技術を利用するこ
とにより、ナノメートル級の分解能で、例えば生体試
料、半導体試料、光メモリ材料、感光性材料等の物体の
形状測定や分光計測、さらにはメモリ操作(書き込み/
読み出し/消去)、光加工などを行うことができる。
【0004】ここで、近接場光学顕微鏡の一例を図6に
示す。この近接場光学顕微鏡100は、物体表面からの
距離が光の波長よりも小さい、極めて近接した領域に局
在するエバネッセント光を検出して物体の形状を測定す
るものである。
【0005】具体的には、この近接場光学顕微鏡100
では、全反射条件下で物体103にレーザ光102が照
射されることにより生じたエバネッセント光102a
を、プローブ104のナノメートルサイズの先鋭部5の
先端によって散乱させる。この近接場光学顕微鏡100
では、プローブ104が光ファイバで構成されており、
この光ファイバプローブ104の先鋭部105によって
散乱された光が当該先鋭部105を通じて光ファイバの
コアに導かれる。そして、コア内に導かれた光は、コア
内を伝搬し、光ファイバのもう一方の端部(出射端)か
ら出射し、検出器により検出される。そして、このと
き、光ファイバプローブ104を物体103上で走査さ
せることにより、2次元的な検出光の画像を得ることが
できる。
【0006】また、この近接場光学顕微鏡100で用い
られる光ファイバプローブ104としては、円錐状に形
成された先鋭部の先端がナノメートルサイズとなされた
もの(いわゆるチッププローブ)の他、例えば図7に示
すような先鋭部105の先端を除いて金属等からなる遮
光性被膜層106を形成したもの(いわゆる開口プロー
ブ)も使用することができる。この開口プローブでは、
遮光性被膜層106が形成された部分では散乱光が通過
せず、遮光性被膜層106が形成されていない先端のみ
を光が通過する。つまり、先鋭部5を被覆する遮光性被
膜層106の開口部6aから露出した先端をもつファイ
バが上述の光ファイバプローブ104として使用され
る。
【0007】以上に説明したように近接場光学顕微鏡で
は、物体上に生成したエバネッセント光をプローブによ
って集めるものであり、コレクションモードと称され
る。
【0008】この他、近接場光学顕微鏡としては、プロ
ーブの先端に生じされたエバネッセント光によって物体
を局所的に照らすことにより光学画像を得るイルミネー
ションモードや、プローブの先端に生じさせたエバネッ
セント光で物体を局所的に照らすとともに、プローブの
先端によって散乱された光をプローブを通じて検出する
イルミネーション・コレクションモードが知られてい
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
近接場光学顕微鏡における物体とプローブの間のエネル
ギーの移動の現象は、それらの分極間の近距離相互作用
として理解される。物体とプローブの間で効果的な相互
作用が生じる条件としては、第1に物体とプローブと大
きさが近いこと、第2に物体とプローブの間の距離がプ
ローブの大きさ以下であることである。ここでプローブ
の大きさとは、上記近接場光学顕微鏡100において
は、先鋭部5の先端径を意味する。従って、近接場光学
顕微鏡の最高分解能は、プローブの先端径によって決定
される。このことから、近接場光学顕微鏡では、高分解
能を得るために先端をより先鋭化したプローブが求めら
れている。
【0010】本発明は、このような実情を鑑みてなされ
たものであり、高分解能を持つ光学画像を得ることがで
きる光ファイバプローブの製造方法及び光ファイバプロ
ーブを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明に係る光ファイバプローブの製造方法は、
コアの周りにクラッドが設けられた光ファイバの一端
に、コアが円錐状に突出した先鋭部を形成する第1の工
程と、上記先鋭部に対して、先端側から軸方向にイオン
ビームを照射する第2の工程とを有することを特徴とす
る。
【0012】この光ファイバプローブの製造方法では、
形成した先鋭部に対してイオンビームを照射し、光ファ
イバの一端を先鋭化する。
【0013】また、本発明に係る光ファイバプローブの
製造方法は、化学エッチングを行って、クラッドに対し
てコアが円錐状に突出した先鋭部を形成することを特徴
とする。
【0014】この光ファイバプローブの製造方法では、
化学エッチングにより形成した先鋭部に対してイオンビ
ームを照射し、光ファイバの一端を先鋭化する。
【0015】また、本発明に係る光ファイバプローブの
製造方法は、光ファイバプローブの一端に化学エッチン
グを行って、3つの傾斜角をもった先鋭部を形成する第
3の工程を有することを特徴とする。
【0016】この光ファイバプローブの製造方法では、
化学エッチングを行って形成した先鋭部に対してイオン
ビームを照射して光ファイバの一端を先鋭化した後、さ
らに化学エッチングを行って、3つの傾斜角を持つ先鋭
部を形成する。この光ファイバプローブの製造方法で
は、上記先鋭部の先端側から1段目のテーパ面の根元径
がコア径より短く、2段目の傾斜角が1段目の傾斜角よ
り大きくなっている。
【0017】本発明に係る光ファイバプローブは、コア
の周りにクラッドが設けられた光ファイバよりなり、そ
の一端に、クラッドに対してコアが円錐状に突出し、根
元径がコア径より短い先鋭部を有することを特徴とす
る。
【0018】この光ファイバプローブでは、光ファイバ
の一端が先鋭化されている。
【0019】本発明に係る光ファイバプローブは、コア
の周りにクラッドが設けられた光ファイバよりなり、そ
の一端に、3つの傾斜角をもち3段階に傾斜され、クラ
ッドに対しコアが突出した先鋭部を有し、上記先鋭部の
先端側から1段目のテーパ面の根元径がコア径より短い
ことを特徴とする。
【0020】この光ファイバプローブでは、光ファイバ
の一端が先鋭化され、上記先鋭部の先端側から1段目の
テーパ面の根元径がコア径より短く、2段目の傾斜角が
1段目の傾斜角より大きくなっている。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。
【0022】まず、後に説明する製造工程に基づき形成
される光ファイバプローブについて説明する。
【0023】この実施の形態に係る光ファイバプローブ
は、物体上にエバネッセント光を励起し、そのエバネッ
セント光の散乱光を検出することにより光の画像を得る
近接場光学顕微鏡に使用される。
【0024】この光ファイバプローブは、イルミネーシ
ョンモードの近接場光学顕微鏡においては、光の波長よ
り小さい波長領域において物体を照らすための照明、す
なわちエバネッセント光の照明として機能する。また、
コレクションモードの近接場光学顕微鏡においては、物
体上に励起されたエバネッセント光を散乱する散乱物と
して機能するとともに、散乱光を検出器に導くための導
波路として働く。また、イルミネーション・コレクショ
ンモードにおいては、照明と散乱物の両方として働く。
【0025】また、この光ファイバプローブは、例え
ば、図1に示すような構造となっている。すなわち、こ
の光ファイバプローブ10は、コア11の周りにクラッ
ド12が形成されてなる光ファイバよりなっている。そ
して、この光ファイバプローブ10の一端には、3つの
傾斜角を持つ3段階に傾斜された先鋭部13が形成され
ている。以下、この先鋭部13を構成する各傾斜角α,
β,γを有する面を、先端側から第1のテーパ面13
a、第2のテーパ面13b、第3のテーパ面13cと称
する。
【0026】このように3つの傾斜角を持つ3段階に傾
斜された光ファイバプローブ10の先鋭部13では、第
1のテーパ面13aの傾斜角αを小さい角度にすること
で実効的な開口径が微小化し、分解能が向上する。この
とき、先鋭部13が1つの傾斜角で円錐状に先鋭化され
ている場合には、この傾斜角が小さくなるほど、光の損
失が大きくなり透過効率が低下する。これに対して、こ
のように3つの傾斜角を有する3段階に傾斜された先鋭
部13では、第1のテーパ面13aの傾斜角αを小さい
角度にしても、第2のテーパ面13bの傾斜角βを調整
することで光の透過効率を上げることができる。つま
り、この光ファイバプローブ10では、光の透過効率を
充分に得ながら、分解能の増強を図ることができる。こ
のような効果を得るためには、第2のテーパ面13bの
傾斜角βが例えば30゜〜90゜がよく、第1のテーパ
面13aの傾斜角αと第3のテーパ面13cの傾斜角γ
がこの傾斜角βよりも小さい角度であるのが望ましい。
【0027】なお、例えば、第1のテーパ面13a、第
2のテーパ面13b、第3のテーパ面13cの傾斜角や
外径は、次の範囲となされるのが良い。
【0028】まず、第2のテーパ面13bでは、上述の
如く傾斜角30゜〜90゜であるのが望ましい。また、
第2のテーパ面の根元径d2は、伝搬される光の波長以
上であるのが望ましい。
【0029】例えば、第1のテーパ面13aでは、傾斜
角αが30゜以下であるのが望ましい。また、第1のテ
ーパ面13aの根元径d1は、第2のテーパ面13bの
根元径d2以下でありかつ伝搬される光の波長以下、例
えば、50〜100nm程度であるのが望ましい。
【0030】さらに、第3のテーパ面13cでは、傾斜
角γが例えば10゜〜30゜程度であるのが望ましい。
【0031】次に、このような3つの傾斜角を持つ3段
階に傾斜された先鋭部13を有する光ファイバプローブ
10の製造方法について、図2及び図3を用いて説明す
る。具体的には、光ファイバ15は、図2(a)に示す
ようにコア16の周りにクラッド17が設けられた単一
コアでありかつ単一クラッドで構成される光ファイバ1
5を用いて製造する方法について説明する。なお、本発
明に係る光ファイバプローブの製造方法では、光ファイ
バの構造は特に限定されない。
【0032】ここで、光ファイバ15の材料構成は、具
体的には、次の通りである。
【0033】 コア16 :GeO2添加SiO2 クラッド17:純粋SiO2 コア径 :3μm クラッド径 :125μm また、以下に説明する第1の工程と第3の工程では、光
ファイバ15の先鋭化を行うため、化学エッチングを行
うが、これらの工程で用いられるエッチング液は、次の
ようなものが適当である。
【0034】40重量%NH4F水溶液:50重量%F
H酸:H2O(体積比)がX:1:1のフッ酸緩衝溶液 このような光ファイバ15に対し、上述したフッ酸緩衝
溶液を用いることにより、コア16の溶解速度をR1
クラッド17の溶解速度をR2とした場合、R1<R2
条件を満たすこととなる。すなわち、本発明において
は、エッチング溶液は、光ファイバの材料構成により選
択され、コアの溶解速度がクラッドの溶解速度より遅く
なるように選択される。
【0035】まず、光ファイバプローブの製造方法にお
ける第1の工程では、光ファイバ15の一端に対して、
上記フッ酸緩衝溶液を用いた2段階エッチングを行い、
光ファイバ15の先端部分の先鋭化を行う。第1段階で
は、フッ酸緩衝溶液の体積比のXを1.7とし、60分
間エッチングを行い、第2段階では、フッ酸緩衝溶液の
体積比のXを10とし、60分間エッチングを行う。
【0036】このような第1の工程の処理を光ファイバ
15の一端に施すことにより、図2(b)に示すよう
に、エッチングにより除去されたクラッド17の端面1
7aからコア16が円錐状に突出した先鋭部16aが形
成される。このときの円錐状に突出した先鋭部16aの
根元径は、コア径とほぼ同一であり、先鋭角は、約20
゜程度になる。
【0037】続いて、光ファイバプローブの製造方法に
おける第2の工程では、上記第1の工程で形成された先
鋭部16aに対して、集束イオンビーム(Ga+)を照
射する。照射範囲は、例えば、光ファイバ15の中心軸
に対して3μm×3μmの範囲である。このイオンビー
ム(Ga+)は、例えば、集束イオンビーム試作作成装
置(JFIB−2100)により照射することができ、
例えば、ビーム径30nm、ドーズ量0.5μC/μm
2の条件でイオンビームを照射する。なお、この集束イ
オンビーム試作作成装置の性能の要点は、以下の通りで
ある。
【0038】最小10nm以下のイオンビーム径(10
nm〜4nm) チャップ御タイプ試作保持機構 チャージニュートラライザ標準装備の精密加工精度 EWSによる加工工程のプログラム化 高性能試料ステージ 長い寿命のイオンソース(1500時間以上) このような第2の工程の処理を光ファイバ15に施すこ
とにより、図2(c)に示すように、図2(b)に示し
た先鋭部16aが、さらに先鋭化された、クラッド17
の端面17aに対して円錐状に突出した先鋭部16bが
形成される。このときの円錐状に突出した先鋭部16b
の根元径は、コア径よりも短いものである。このことに
より、光ファイバプローブの先鋭化を図ることができ、
高分解能を持つ光学画像を得ることができる光ファイバ
プローブを製造することができる。また、光ファイバの
構成に依存せず光ファイバの一端を先鋭化することがで
きる。すなわち、多重クラッド又は多重コア等の光ファ
イバを用いずに、単一のクラッド及びコアの光ファイバ
を用いて一端が先鋭化した光ファイバプローブを製造す
ることができる。
【0039】続いて、光ファイバプローブの製造方法に
おける第3の工程では、上記第2の工程で先鋭部16b
が形成された光ファイバ15の一端に対して、上記フッ
酸緩衝溶液を用いたエッチングを行い、3つの傾斜角を
持つ3段階に傾斜された先鋭部を形成する。この第3の
工程では、例えば、フッ酸緩衝溶液の体積比のXを10
とし、30分間エッチングを行う。
【0040】このような第3の工程の処理を光ファイバ
15の一端に施すことにより、図3(a)に示すような
形状を経て、図3(b)に示すような、クラッド17の
端面17aに対して突出した3つの傾斜角を持つ3段階
に傾斜された先鋭部16cが形成される。この先鋭部1
6cは、上記図1で示したように、3つのテーパ面が形
成され、各傾斜角α,β,γを有する第1のテーパ面1
6c-1、第2のテーパ面16c-2、第3のテーパ面1
6c-3が形成される。
【0041】以上のように、この光ファイバプローブの
製造方法では、3つの傾斜角を持つ3段階に傾斜された
先鋭部を有する光ファイバプローブを製造することがで
きる。この光ファイバプローブの製造方法では、例え
ば、第1の傾斜角αが30゜、第2の傾斜角βが50
゜、先端曲率半径が10nm以下の光ファイバプローブ
を製造することができる。従って、この光ファイバプロ
ーブの製造方法では、高分解能かつ高効率で、光学画像
を得ることができる光ファイバプローブを製造すること
ができる。また、この光ファイバプローブの製造方法で
は、光ファイバの構成に依存せず光ファイバの一端を先
鋭化することができる。すなわち、この光ファイバプロ
ーブの製造方法では、多重クラッド又は多重コア等の光
ファイバを用いずに、単一のクラッド及びコアの光ファ
イバを用いて一端が先鋭化した光ファイバプローブを製
造することができる。従って、安価な光ファイバプロー
ブを製造することができる。
【0042】なお、上述した光ファイバプローブの製造
方法では、第2の工程において、ビーム径が30nmの
集束イオンビームを用いた場合を説明したが、例えば、
ビーム径が1μm程度のイオンビームを用いても先鋭化
することができる。従って、光ファイバにイオンビーム
を照射する場合において、安価な装置により処理を行う
ことができる。また、イオン照射時間も大幅に軽減する
ことができ、光ファイバプローブの量産の効率も良くす
ることができる。
【0043】さらに、この光ファイバプローブの製造方
法では、第1の工程でエッチングを行った後にイオンビ
ームを照射する場合について説明したが、例えば、第1
の工程で、プラー等により光ファイバを引き延ばして先
鋭化し、それにイオンビームを照射してさらに先鋭化を
行っても良い。
【0044】また、この光ファイバプローブの製造方法
では、第2の工程のイオンビームの照射量を、すなわ
ち、ドーズ量を変化させることにより、第3の工程を行
った後に形成される光ファイバプローブの形状を制御す
ることができる。これにより、プローブの長さをさらに
短くすることができ、透過効率を高くすることができ
る。例えば、第2の工程におけるイオンビームのドーズ
量を1nC/μm2とし、第3の工程におけるエッチン
グ時間を10分とした場合、図4に示すような光ファイ
バプローブ20を形成することができる。
【0045】この図4に示す光ファイバプローブ20
は、傾斜角αが15゜、傾斜角βが75゜となる。そし
て、この光ファイバプローブ20は、プローブの頂点か
ら先鋭化部のテーパ面が最初に屈折する位置までの高さ
が300nmとなり、プローブの頂点からこの先鋭化部
の根元までの高さが1μmとなる。そして、この先鋭化
部の根元径が2μmとなる。
【0046】図5は、この光ファイバープローブ20の
透過効率と、先鋭角が約20゜の一段のテーパ面を有す
る従来の光ファイバプローブの透過効率を示す図であ
る。
【0047】このような光ファイバープローブ20は、
この図5に示すように、先鋭角が約20゜の一段のテー
パ面を有する従来の光ファイバプローブと比較して、開
口径100nm以下において、透過効率が100倍以上
となる。
【0048】
【発明の効果】本発明に係る光ファイバプローブの製造
方法では、形成した先鋭部に対してイオンビームを照射
し、光ファイバの一端を先鋭化する。
【0049】このことにより、本発明に係る光ファイバ
プローブの製造方法では、高分解能を持つ光学画像を得
ることができる光ファイバプローブを製造することがで
きる。
【0050】また、この光ファイバプローブの製造方法
では、光ファイバの構成に依存せず光ファイバの一端を
先鋭化することができる。すなわち、この光ファイバプ
ローブの製造方法では、多重クラッド又は多重コア等の
光ファイバを用いずに、単一のクラッド及びコアの光フ
ァイバを用いて一端が先鋭化した光ファイバプローブを
製造することができる。従って、安価な光ファイバプロ
ーブを製造することができる。
【0051】本発明に係る光ファイバプローブの製造方
法では、化学エッチングを行って形成した先鋭部に対し
てイオンビームを照射して光ファイバの一端を先鋭化し
た後、さらに化学エッチングを行って、3つの傾斜角を
持つ先鋭部を形成する。この光ファイバプローブの製造
方法では、上記先鋭部の先端側から1段目のテーパ面の
根元径がコア径より短く、2段目の傾斜角が1段目の傾
斜角より大きくなっている。
【0052】このことにより本発明に係る光ファイバプ
ローブの製造方法では、高分解能かつ高効率で、光学画
像を得ることができる光ファイバプローブを製造するこ
とができる。
【0053】また、この光ファイバプローブの製造方法
では、光ファイバの構成に依存せず光ファイバの一端を
先鋭化することができる。すなわち、この光ファイバプ
ローブの製造方法では、多重クラッド又は多重コア等の
光ファイバを用いずに、単一のクラッド及びコアの光フ
ァイバを用いて一端が先鋭化した光ファイバプローブを
製造することができる。従って、安価な光ファイバプロ
ーブを製造することができる。
【0054】本発明に係る光ファイバプローブでは、光
ファイバの一端が先鋭化されている。
【0055】このことにより、本発明に係る光ファイバ
プローブでは、高分解能を持つ光学画像を得ることがで
きる。
【0056】また、この光ファイバプローブでは、光フ
ァイバの構成に依存せず光ファイバの一端が先鋭化され
ている。すなわち、この光ファイバプローブでは、多重
クラッド又は多重コア等の光ファイバによらず、単一の
クラッド及びコアの光ファイバを用いて一端が先鋭化さ
れている。従って、この光ファイバプローブは、コスト
を安くすることができる。
【0057】本発明に係る光ファイバプローブでは、光
ファイバの一端が先鋭化され、上記先鋭部の先端側から
1段目のテーパ面の根元径がコア径より短く、2段目の
傾斜角が1段目の傾斜角より大きくなっている。
【0058】このことにより本発明に係る光ファイバプ
ローブでは、高分解能かつ高効率で、光学画像を得るこ
とができる。
【0059】また、この光ファイバプローブでは、光フ
ァイバの構成に依存せず光ファイバの一端が先鋭化され
ている。すなわち、この光ファイバプローブでは、多重
クラッド又は多重コア等の光ファイバによらず、単一の
クラッド及びコアの光ファイバを用いて一端が先鋭化さ
れている。従って、この光ファイバプローブは、コスト
を安くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】光ファイバプローブの先端形状の一例を示す断
面図である。
【図2】本発明に係る光ファイバプローブの製造方法を
説明する為の各工程における光ファイバの形状を示す断
面図である。
【図3】本発明に係る光ファイバプローブの製造方法を
説明する為の各工程における光ファイバの形状を示す断
面図である。
【図4】本発明に係る光ファイバプローブの製造方法に
より製造した光ファイバプローブの断面図である。
【図5】上記光ファイバプローブの透過効率を説明する
ための図である。
【図6】近接場光学顕微鏡の原理を説明する模式図であ
る。
【図7】開口プローブを示す断面図である。
【符号の説明】
10 光ファイバプローブ、15 光ファイバ、11,
16 コア、12,17 クラッド

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コアの周りにクラッドが設けられた光フ
    ァイバの一端に、コアが円錐状に突出した先鋭部を形成
    する第1の工程と、 上記先鋭部に対して、先端側から軸方向にイオンビーム
    を照射する第2の工程とを有する光ファイバプローブの
    製造方法。
  2. 【請求項2】 上記第1の工程は、化学エッチングを行
    って、クラッドに対してコアが円錐状に突出した先鋭部
    を形成することを特徴とする請求項1に記載の光ファイ
    バプローブの製造方法。
  3. 【請求項3】 上記光ファイバプローブの一端に化学エ
    ッチングを行って、3つの傾斜角をもった先鋭部を形成
    する第3の工程を有することを特徴とする請求項2に記
    載の光ファイバプローブの製造方法。
  4. 【請求項4】 コアの周りにクラッドが設けられた光フ
    ァイバよりなり、その一端に、クラッドに対してコアが
    円錐状に突出し、根元径がコア径より短い先鋭部を有す
    ることを特徴とする光ファイバプローブ。
  5. 【請求項5】 コアの周りにクラッドが設けられた光フ
    ァイバよりなり、 その一端に、3つの傾斜角をもち3段階に傾斜され、ク
    ラッドに対しコアが突出した先鋭部を有し、 上記先鋭部の先端側から1段目のテーパ面の根元径がコ
    ア径より短いことを特徴とする光ファイバプローブ。
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