JPH11102540A - 光ディスク製造方法 - Google Patents
光ディスク製造方法Info
- Publication number
- JPH11102540A JPH11102540A JP21332698A JP21332698A JPH11102540A JP H11102540 A JPH11102540 A JP H11102540A JP 21332698 A JP21332698 A JP 21332698A JP 21332698 A JP21332698 A JP 21332698A JP H11102540 A JPH11102540 A JP H11102540A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- master
- photoresist layer
- latent image
- manufacturing
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡素な工程にて再生信号のＣＮ比の高い光デ
ィスクを製造する方法を提供する。 【解決手段】 ガラス基板の主面上にポジ型フォトレジ
スト層を形成した原盤の該フォトレジスト層上に、レー
ザー光を集光して微小凹部の潜像を形成し、原盤をアル
カリ水溶液に接触させ潜像の部分を除去して現像し、原
盤上に微小凹部を形成する工程を含む光ディスク製造方
法において、原盤の現像はアルカリ水溶液の規定度の範
囲が０．１７〜０．２１Ｎの範囲で行う。
ィスクを製造する方法を提供する。 【解決手段】 ガラス基板の主面上にポジ型フォトレジ
スト層を形成した原盤の該フォトレジスト層上に、レー
ザー光を集光して微小凹部の潜像を形成し、原盤をアル
カリ水溶液に接触させ潜像の部分を除去して現像し、原
盤上に微小凹部を形成する工程を含む光ディスク製造方
法において、原盤の現像はアルカリ水溶液の規定度の範
囲が０．１７〜０．２１Ｎの範囲で行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気ディスクな
どの光ディスクの製造方法に関する。
どの光ディスクの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から光ディスクの製造方法として
は、図５のフロ−チャ−トに示す如き方法が知られてい
る。かかる製造方法によれば、まず、図６（ａ1）に示
すようにガラス盤１の主面上にプリベークをなしたポジ
型フォトレジスト層２を形成したフォトレジスト原盤を
用意して、レーザーカッティング工程Ｓ0において、所
定情報に対応し明滅するレーザービームＬａをフォトレ
ジスト層２上に集光せしめ原盤に対し螺旋又は同心円状
に相対移動させて、所定情報に対応した溝またはスポッ
ト列の潜像をフォトレジスト層２に形成する。
は、図５のフロ−チャ−トに示す如き方法が知られてい
る。かかる製造方法によれば、まず、図６（ａ1）に示
すようにガラス盤１の主面上にプリベークをなしたポジ
型フォトレジスト層２を形成したフォトレジスト原盤を
用意して、レーザーカッティング工程Ｓ0において、所
定情報に対応し明滅するレーザービームＬａをフォトレ
ジスト層２上に集光せしめ原盤に対し螺旋又は同心円状
に相対移動させて、所定情報に対応した溝またはスポッ
ト列の潜像をフォトレジスト層２に形成する。
【０００３】次に、現像工程Ｓ1において、現像装置に
露光したフォトレジスト原盤を装着しこれを現像して潜
像部分を除去し、フォトレジスト原盤上に記録すべき信
号に対応する溝またはピットなど凹部を設け、図６（ａ
2）に示す如き、情報に対応するピットを有するフォト
レジスト層２とガラス盤１とからなる現像原盤を得る。
露光したフォトレジスト原盤を装着しこれを現像して潜
像部分を除去し、フォトレジスト原盤上に記録すべき信
号に対応する溝またはピットなど凹部を設け、図６（ａ
2）に示す如き、情報に対応するピットを有するフォト
レジスト層２とガラス盤１とからなる現像原盤を得る。
【０００４】次に、ポストベーク工程Ｓ2において、か
かる現像原盤のフォトレジスト層２を乾燥させガラス盤
１上に定着させて、図６（ｂ）に示す如き乾燥した原盤
を得る。次に、導電膜形成工程Ｓ3において、フォトレ
ジスト層２上にニッケル又は銀などの導電膜をスパッタ
リング又は蒸着などの方法によって形成し、図６（ｃ）
に示す如き積層されたマスタリング原盤３ａを得る。こ
のように、フォトレジスト層上に金属薄膜を形成するこ
とにより、情報記録面を導電化する。以上の工程がマス
タリング原盤作成工程である。
かる現像原盤のフォトレジスト層２を乾燥させガラス盤
１上に定着させて、図６（ｂ）に示す如き乾燥した原盤
を得る。次に、導電膜形成工程Ｓ3において、フォトレ
ジスト層２上にニッケル又は銀などの導電膜をスパッタ
リング又は蒸着などの方法によって形成し、図６（ｃ）
に示す如き積層されたマスタリング原盤３ａを得る。こ
のように、フォトレジスト層上に金属薄膜を形成するこ
とにより、情報記録面を導電化する。以上の工程がマス
タリング原盤作成工程である。
【０００５】次に、Ｎｉスタンパ作成工程においては、
まずＮｉ電鋳工程Ｓ4において、ニッケル電鋳槽中に得
られたマスタリング原盤を浸してニッケル（Ｎｉ）を銀
導電膜３上にメッキして肉厚のニッケル層４すなわちニ
ッケルスタンパを形成して、図６（ｄ）に示す如き構成
のものを得る。次に、スタンパ分離工程Ｓ5において
は、図６（ｅ）に示す如くニッケル層であるスタンパ４
をガラス盤１から分離する。
まずＮｉ電鋳工程Ｓ4において、ニッケル電鋳槽中に得
られたマスタリング原盤を浸してニッケル（Ｎｉ）を銀
導電膜３上にメッキして肉厚のニッケル層４すなわちニ
ッケルスタンパを形成して、図６（ｄ）に示す如き構成
のものを得る。次に、スタンパ分離工程Ｓ5において
は、図６（ｅ）に示す如くニッケル層であるスタンパ４
をガラス盤１から分離する。
【０００６】次に、後処理工程Ｓ6において、ニッケル
スタンパ４上に残ったフォトレジスト層２及び銀などの
導電膜３を除去して図６（ｆ）に示す如きニッケルスタ
ンパ４を得る。フォトレジストの除去には、アルカリ溶
液が用いられる。次に、スタンパ加工工程Ｓ7において
得られたニッケルスタンパ４の周囲及び裏面を加工して
図６（ｇ）に示す如きニッケルスタンパ４を得る。以上
の工程がニッケルスタンパ作成工程である。
スタンパ４上に残ったフォトレジスト層２及び銀などの
導電膜３を除去して図６（ｆ）に示す如きニッケルスタ
ンパ４を得る。フォトレジストの除去には、アルカリ溶
液が用いられる。次に、スタンパ加工工程Ｓ7において
得られたニッケルスタンパ４の周囲及び裏面を加工して
図６（ｇ）に示す如きニッケルスタンパ４を得る。以上
の工程がニッケルスタンパ作成工程である。
【０００７】次に、レプリカ作成工程としての例えば射
出成形装置を用いた射出成形工程に入る前に、図６
（ｈ）に示す如く、射出成形装置における金型５の所定
位置にニッケルスタンパ４を取り付ける （スタンパ取
付工程Ｓ8）。次に、図６（ｉ）に示す如く型締め後
に、かかる射出成形装置を作動させて溶融したＰＭＭＡ
（ポリメタアクリレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）
等の透明樹脂材料をニッケルスタンパ４上に射出して、
樹脂材料の硬化後これを取り出して、図６（ｊ）に示す
如き所定情報記録面を有した光ディスク基板６のレプリ
カが作成される（射出成形工程Ｓ9）。以上の工程がレ
プリカ作成工程である。
出成形装置を用いた射出成形工程に入る前に、図６
（ｈ）に示す如く、射出成形装置における金型５の所定
位置にニッケルスタンパ４を取り付ける （スタンパ取
付工程Ｓ8）。次に、図６（ｉ）に示す如く型締め後
に、かかる射出成形装置を作動させて溶融したＰＭＭＡ
（ポリメタアクリレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）
等の透明樹脂材料をニッケルスタンパ４上に射出して、
樹脂材料の硬化後これを取り出して、図６（ｊ）に示す
如き所定情報記録面を有した光ディスク基板６のレプリ
カが作成される（射出成形工程Ｓ9）。以上の工程がレ
プリカ作成工程である。
【０００８】このようにして得られた光ディスク基板６
上に例えば保護膜（Ｓｉ3Ｎ4）、記録層（非晶質希土類
−遷移金属）、保護膜（Ｓｉ3Ｎ4）、反射膜（Ａｌ）、
オーバーコート層（２Ｐ）を順次積層した２枚のディス
クを貼り合わせると、光磁気ディスクが作成される。光
磁気ディスクにおける情報の再生は、カー効果等の磁気
光学現象を利用する。すなわち、直線偏光のレーザ光を
記録膜に入射すると、磁化の向きによって反射光の偏光
面がわずかな角度だけ回転し、この反射光を検光子に通
すと回転に応じた光量変化となり、信号が再生される。
上に例えば保護膜（Ｓｉ3Ｎ4）、記録層（非晶質希土類
−遷移金属）、保護膜（Ｓｉ3Ｎ4）、反射膜（Ａｌ）、
オーバーコート層（２Ｐ）を順次積層した２枚のディス
クを貼り合わせると、光磁気ディスクが作成される。光
磁気ディスクにおける情報の再生は、カー効果等の磁気
光学現象を利用する。すなわち、直線偏光のレーザ光を
記録膜に入射すると、磁化の向きによって反射光の偏光
面がわずかな角度だけ回転し、この反射光を検光子に通
すと回転に応じた光量変化となり、信号が再生される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光磁気
デイスクはわずかな回転角を検出しているため、再生信
号量が非常に小さく信号対雑音比（Ｃ／Ｎ比）が小さい
という問題があった。本発明の目的は、簡素な工程にて
再生信号のＣ／Ｎ比の高い光ディスクを製造する方法を
提供することにある。
デイスクはわずかな回転角を検出しているため、再生信
号量が非常に小さく信号対雑音比（Ｃ／Ｎ比）が小さい
という問題があった。本発明の目的は、簡素な工程にて
再生信号のＣ／Ｎ比の高い光ディスクを製造する方法を
提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明による光ディスク
製造方法は、ガラス基板の主面上にポジ型フォトレジス
ト層を形成した原盤の該フォトレジスト層上に、レーザ
ー光を集光して微小凹部の潜像を形成し、前記原盤をア
ルカリ水溶液に接触させ前記潜像の部分を除去して現像
し、前記原盤上に微小凹部を形成する工程を含む光ディ
スク製造方法であって、前記原盤の現像は前記アルカリ
水溶液の規定度の範囲が０．１７〜０．２１Ｎの範囲で
行うことを特徴とする。
製造方法は、ガラス基板の主面上にポジ型フォトレジス
ト層を形成した原盤の該フォトレジスト層上に、レーザ
ー光を集光して微小凹部の潜像を形成し、前記原盤をア
ルカリ水溶液に接触させ前記潜像の部分を除去して現像
し、前記原盤上に微小凹部を形成する工程を含む光ディ
スク製造方法であって、前記原盤の現像は前記アルカリ
水溶液の規定度の範囲が０．１７〜０．２１Ｎの範囲で
行うことを特徴とする。
【００１１】フォトレジストにはネガ型とポジ型があ
る。いずれのフォトレジストも光照射部分と未照射部分
との現像液に対する溶解度の差を利用して現像すなわち
パターン形成がおこなわれている。一般に、解像度が高
いポジ型フォトレジストが光ディスク製造において広く
使用されている。ポジ型フォトレジストでは、光照射部
分は現像液のアルカリ水溶液に可溶となり、未照射部分
は不溶なので当該アルカリ水溶液に浸すことによって光
照射部分が除去される。ポジ型フォトレジストは、アル
カリ不溶性キノンアジド系感光剤とアルカリ可溶性フェ
ノール樹脂と有機溶剤とからなっている。ポジ型フォト
レジスト自体は全体としてアルカリ不溶性であるが、光
照射によりキノンアジド系感光剤がアルカリ可溶性とな
り、よって光照射部分がアルカリ可溶性となる。
る。いずれのフォトレジストも光照射部分と未照射部分
との現像液に対する溶解度の差を利用して現像すなわち
パターン形成がおこなわれている。一般に、解像度が高
いポジ型フォトレジストが光ディスク製造において広く
使用されている。ポジ型フォトレジストでは、光照射部
分は現像液のアルカリ水溶液に可溶となり、未照射部分
は不溶なので当該アルカリ水溶液に浸すことによって光
照射部分が除去される。ポジ型フォトレジストは、アル
カリ不溶性キノンアジド系感光剤とアルカリ可溶性フェ
ノール樹脂と有機溶剤とからなっている。ポジ型フォト
レジスト自体は全体としてアルカリ不溶性であるが、光
照射によりキノンアジド系感光剤がアルカリ可溶性とな
り、よって光照射部分がアルカリ可溶性となる。
【００１２】現像液のアルカリ水溶液は水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウムなどを主成分とする無機アルカリ
水溶液が主に用いられている。
ム、水酸化ナトリウムなどを主成分とする無機アルカリ
水溶液が主に用いられている。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に、本発明を図面を参照しつ
つ説明する。ポジ型フォトレジストによるレーザーカッ
ティング工程において、図１に示すような強度分布を有
し所定情報に対応し明滅するレーザービームＬａを図２
（ａ）に示すようにガラス円盤１上のフォトレジスト層
２上に集光せしめ溝またはスポット列の潜像１０をフォ
トレジスト層２に形成する。ここで、レーザビームは収
束はしているがその周囲においても多少の光が漏れるの
で、フォトレジスト層の未露光部分１１の潜像１０の周
囲の表面１１ａも多少感光している。
つ説明する。ポジ型フォトレジストによるレーザーカッ
ティング工程において、図１に示すような強度分布を有
し所定情報に対応し明滅するレーザービームＬａを図２
（ａ）に示すようにガラス円盤１上のフォトレジスト層
２上に集光せしめ溝またはスポット列の潜像１０をフォ
トレジスト層２に形成する。ここで、レーザビームは収
束はしているがその周囲においても多少の光が漏れるの
で、フォトレジスト層の未露光部分１１の潜像１０の周
囲の表面１１ａも多少感光している。
【００１４】その後、図２（ｂ）に示すように、現像工
程においては、アルカリ水溶液中におけるフォトレジス
ト層２の未露光部分１１と潜像部分１０との溶解度の差
により、先に潜像部分１０が急速に除去される。ここで
は無機アルカリ水溶液を用いるのが好ましい。さらに図
２（ｃ）に示すようにピット及び溝が形成されたときフ
ォトレジスト層２の未露光部分１１も多少アルカリ水溶
液中に溶解している。
程においては、アルカリ水溶液中におけるフォトレジス
ト層２の未露光部分１１と潜像部分１０との溶解度の差
により、先に潜像部分１０が急速に除去される。ここで
は無機アルカリ水溶液を用いるのが好ましい。さらに図
２（ｃ）に示すようにピット及び溝が形成されたときフ
ォトレジスト層２の未露光部分１１も多少アルカリ水溶
液中に溶解している。
【００１５】発明者は、例えば溝間のランド部に情報の
記録であるが、原盤の露光再生を行なう光磁気ディスク
を形成する場合に、かかるランド部すなわち現像後の未
露光部分１１の表面の平滑性が再生信号のＣＮ比に影響
することを知見し、アルカリ水溶液の濃度を低くして長
時間の現像時間をかけて現像を行ことが未露光部分１１
の表面の平滑性を高め、これによりかかるＣＮ比が向上
することを見出だした故に、本発明に至っている。
記録であるが、原盤の露光再生を行なう光磁気ディスク
を形成する場合に、かかるランド部すなわち現像後の未
露光部分１１の表面の平滑性が再生信号のＣＮ比に影響
することを知見し、アルカリ水溶液の濃度を低くして長
時間の現像時間をかけて現像を行ことが未露光部分１１
の表面の平滑性を高め、これによりかかるＣＮ比が向上
することを見出だした故に、本発明に至っている。
【００１６】本実施例による光ディスク製造方法は、従
来の方法と同様であるが、原盤の露光したポジ型フォト
レジスト層を、従来より低い濃度である規定度の範囲が
０．１７〜０．２１Ｎのアルカリ水溶液に接触させ光照
射部分すなわち潜像の部分を除去して、記録すべき信号
に対応する微小凹部を形成することに特徴がある。かか
る範囲の規定度のアルカリ水溶液によって長時間をかけ
てゆっくりと現像を行うことで未露光部分１１の表面の
平滑性は高まる。ここで０．１７Ｎ未満であると時間を
かけて現像を行っても十分な深さのピットを形成するこ
とが困難となる。また０．２１Ｎを超えると粗面となっ
てしまい平滑性の向上は望めない。
来の方法と同様であるが、原盤の露光したポジ型フォト
レジスト層を、従来より低い濃度である規定度の範囲が
０．１７〜０．２１Ｎのアルカリ水溶液に接触させ光照
射部分すなわち潜像の部分を除去して、記録すべき信号
に対応する微小凹部を形成することに特徴がある。かか
る範囲の規定度のアルカリ水溶液によって長時間をかけ
てゆっくりと現像を行うことで未露光部分１１の表面の
平滑性は高まる。ここで０．１７Ｎ未満であると時間を
かけて現像を行っても十分な深さのピットを形成するこ
とが困難となる。また０．２１Ｎを超えると粗面となっ
てしまい平滑性の向上は望めない。
【００１７】
【実施例】実施例として案内溝付きの光ディスクを製造
した。使用したポジ型フォトレジストはＡＺ−１３５０
（ヘキスト社製）であり、使用したアルカリ水溶液はＡ
Ｚデベロッパ（ヘキスト社製；比重１．０５±０．０１
５；規定度０．６±０．０１Ｎ）で、通常５０％希釈液
とし現像時間を４０〜８０秒として使用するものであ
る。
した。使用したポジ型フォトレジストはＡＺ−１３５０
（ヘキスト社製）であり、使用したアルカリ水溶液はＡ
Ｚデベロッパ（ヘキスト社製；比重１．０５±０．０１
５；規定度０．６±０．０１Ｎ）で、通常５０％希釈液
とし現像時間を４０〜８０秒として使用するものであ
る。
【００１８】しかしながら、本実施例においてはＡＺデ
ベロッパで、３０％希釈液（規定度０．１８Ｎ）とし現
像時間を２００秒として使用した。具体的には、スピン
型現像装置によって以下の条件及び工程で原盤のフォト
レジスト層を現像した。まず、レーザーカッティングで
案内溝の潜像を形成した３００mm直径の原盤を、そのフ
ォトレジスト層を上に向け回転テーブル上に載置して１
００ｒｐｍで回転させその上に界面活性剤を供給し親水
液層に形成した。原盤表面のアルカリ水溶液に対する濡
れ性を良くするためである。
ベロッパで、３０％希釈液（規定度０．１８Ｎ）とし現
像時間を２００秒として使用した。具体的には、スピン
型現像装置によって以下の条件及び工程で原盤のフォト
レジスト層を現像した。まず、レーザーカッティングで
案内溝の潜像を形成した３００mm直径の原盤を、そのフ
ォトレジスト層を上に向け回転テーブル上に載置して１
００ｒｐｍで回転させその上に界面活性剤を供給し親水
液層に形成した。原盤表面のアルカリ水溶液に対する濡
れ性を良くするためである。
【００１９】次に、規定度０．１８Ｎの上記アルカリ水
溶液を一定流量１５０〜２００ｍｌ／分の割合で２００
秒間フォトレジスト層上に供給し現像した。現像時間終
了後、純水をフォトレジスト層上に滴下し原盤を洗浄し
た。その後、従来と同様な方法によって光ディスクを形
成した。図３に得られた光ディスク基板６の案内溝部分
１２を示す。図７に図３に対応する本実施例の光ディス
ク基板の案内溝部分表面を撮影した電子顕微鏡写真を示
す。比較例として、上記アルカリ水溶液を規定度０．６
Ｎの５０％希釈液とし現像時間を４０秒で現像した原盤
から光ディスク基板６ａを製造した。図４にその案内溝
部分１３を示す。図８に図４に対応する比較例の光ディ
スク基板の案内溝部分表面を撮影した電子顕微鏡写真を
示す。本実施例の案内溝近傍の未露光部分Ａの方が比較
例の未露光部分Ｂより凹凸が少なく滑らかであった。
溶液を一定流量１５０〜２００ｍｌ／分の割合で２００
秒間フォトレジスト層上に供給し現像した。現像時間終
了後、純水をフォトレジスト層上に滴下し原盤を洗浄し
た。その後、従来と同様な方法によって光ディスクを形
成した。図３に得られた光ディスク基板６の案内溝部分
１２を示す。図７に図３に対応する本実施例の光ディス
ク基板の案内溝部分表面を撮影した電子顕微鏡写真を示
す。比較例として、上記アルカリ水溶液を規定度０．６
Ｎの５０％希釈液とし現像時間を４０秒で現像した原盤
から光ディスク基板６ａを製造した。図４にその案内溝
部分１３を示す。図８に図４に対応する比較例の光ディ
スク基板の案内溝部分表面を撮影した電子顕微鏡写真を
示す。本実施例の案内溝近傍の未露光部分Ａの方が比較
例の未露光部分Ｂより凹凸が少なく滑らかであった。
【００２０】また、本実施例の光ディスクの再生信号に
おけるＣＮ比は、比較例のそれと比べて約２ｄＢ高くな
った。
おけるＣＮ比は、比較例のそれと比べて約２ｄＢ高くな
った。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、光ディスク製造方法に
おいてレーザーカッティング後の原盤の現像が規定度
０．１７〜０．２１Ｎのアルカリ水溶液で行われるので
光ディスクの情報記録面における微小凹以外の凸部の上
面すなわち未感光部を平滑にすることができる。
おいてレーザーカッティング後の原盤の現像が規定度
０．１７〜０．２１Ｎのアルカリ水溶液で行われるので
光ディスクの情報記録面における微小凹以外の凸部の上
面すなわち未感光部を平滑にすることができる。
【図１】 光ディスク製造方法のレーザーカッティング
工程でのレーザビームの強度分布を示すグラフ。
工程でのレーザビームの強度分布を示すグラフ。
【図２】 光ディスクの現像原盤の拡大部分概略断面
図。
図。
【図３】 本発明により得られた光ディスク基板の案内
溝部分を示す拡大部分概略断面図。
溝部分を示す拡大部分概略断面図。
【図４】 従来の製造方法により得られた光ディスク基
板の案内溝部分を示す拡大部分概略断面図。
板の案内溝部分を示す拡大部分概略断面図。
【図５】 光ディスクの製造方法を示すフローチャー
ト。
ト。
【図６】 図５の各工程における部材の概略断面図。
【図７】 図３に対応する本実施例の光ディスク基板の
案内溝部分表面を示す電子顕微鏡写真。
案内溝部分表面を示す電子顕微鏡写真。
【図８】 図４に対応する比較例の光ディスク基板の案
内溝部分表面を示す電子顕微鏡写真。
内溝部分表面を示す電子顕微鏡写真。
１ ガラス盤 ２ ポジ型フォトレジスト層 １０ 潜像部分 １１ 未露光部分
Claims (1)
- 【請求項１】 ガラス基板の主面上にポジ型フォトレジ
スト層を形成した原盤の該フォトレジスト層上に、レー
ザー光を集光して微小凹部の潜像を形成し、前記原盤を
アルカリ水溶液に接触させ前記潜像の部分を除去して現
像し、前記原盤上に微小凹部を形成する工程を含む光デ
ィスク製造方法であって、前記原盤の現像は前記アルカ
リ水溶液の規定度の範囲が０．１７〜０．２１Ｎの範囲
で行うことを特徴とする光ディスク製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21332698A JPH11102540A (ja) | 1989-12-21 | 1998-07-28 | 光ディスク製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1331587A JP2957213B2 (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 光ディスク製造方法 |
| JP21332698A JPH11102540A (ja) | 1989-12-21 | 1998-07-28 | 光ディスク製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1331587A Division JP2957213B2 (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 光ディスク製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11102540A true JPH11102540A (ja) | 1999-04-13 |
Family
ID=18245317
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1331587A Expired - Fee Related JP2957213B2 (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 光ディスク製造方法 |
| JP21332698A Pending JPH11102540A (ja) | 1989-12-21 | 1998-07-28 | 光ディスク製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1331587A Expired - Fee Related JP2957213B2 (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 光ディスク製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JP2957213B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1511026A2 (en) * | 2003-08-26 | 2005-03-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing a master of an optical information recording medium, method for forming a pattern, a mater, a stamper, an optical information recording medium and a resist |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0081649B1 (en) * | 1981-12-11 | 1987-01-14 | Discovision Associates | Method for forming optical discs |
-
1989
- 1989-12-21 JP JP1331587A patent/JP2957213B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-07-28 JP JP21332698A patent/JPH11102540A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1511026A2 (en) * | 2003-08-26 | 2005-03-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing a master of an optical information recording medium, method for forming a pattern, a mater, a stamper, an optical information recording medium and a resist |
| EP1511026A3 (en) * | 2003-08-26 | 2006-07-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing a master of an optical information recording medium, method for forming a pattern, a mater, a stamper, an optical information recording medium and a resist |
| CN100345200C (zh) * | 2003-08-26 | 2007-10-24 | 松下电器产业株式会社 | 制造母板和形成图案的方法、母板和抗蚀剂 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2957213B2 (ja) | 1999-10-04 |
| JPH03192550A (ja) | 1991-08-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI258142B (en) | Manufacturing method of stamper for manufacturing data medium, the stamper, and the stamper spacer with template | |
| JPH11296918A (ja) | 光情報記録媒体用スタンパの製造方法 | |
| JPH05198016A (ja) | 光メモリ素子用原盤及びその製造方法 | |
| US7204188B2 (en) | Method of manufacturing stamper for manufacturing information medium, stamper, and photoresist master | |
| JP2957213B2 (ja) | 光ディスク製造方法 | |
| US4422904A (en) | Method for forming video discs | |
| EP1465174A1 (en) | Method for manufacturing stamper for information medium manufacture, stamper, and photoresist master disk | |
| JP2000113526A (ja) | 光情報記録媒体用スタンパの製造方法 | |
| JPH10241213A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
| EP1460626A1 (en) | Method for manufacturing stamper for information medium manufacture, stamper, and photoresist original disk | |
| JP3749520B2 (ja) | 情報媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ、及び原盤付スタンパ中間体 | |
| JPH11102541A (ja) | 光ディスク用原盤の製造方法 | |
| JP2997384B2 (ja) | マスター原盤の製造方法および光ディスクの製造方法 | |
| EP0081649A2 (en) | Method for forming optical discs | |
| JPH10241214A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
| JPH11350181A (ja) | スタンパの製造方法 | |
| JP3168609B2 (ja) | 光記録媒体用スタンパの製造方法および光記録媒体の製造方法 | |
| JP2001005175A (ja) | 情報記録媒体用フォトレジスト | |
| JP2003272249A (ja) | 情報媒体製造用スタンパの製造方法、スタンパ及びフォトレジスト原盤 | |
| JP2000021017A (ja) | 光学記録媒体と光学記録媒体の製造方法、および光学記録媒体用基板と光学記録媒体用基板の製造方法 | |
| JP2003006943A (ja) | 光ディスク原盤の製造方法及び光ディスク原盤 | |
| JPH01235044A (ja) | 光ディスク基板およびその製造方法 | |
| JP2001220692A (ja) | スタンパ製造方法及び光記録媒体製造方法 | |
| JP2003228889A (ja) | 情報媒体用原盤の製造方法、情報媒体用スタンパーの製造方法、情報媒体用原盤の製造装置、および情報媒体用スタンパーの製造装置 | |
| JPS5914151A (ja) | 情報記憶媒体用原盤およびその製造方法 |