JPH11100341A - ビスフェノール化合物の精製方法 - Google Patents
ビスフェノール化合物の精製方法Info
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- JPH11100341A JPH11100341A JP26353997A JP26353997A JPH11100341A JP H11100341 A JPH11100341 A JP H11100341A JP 26353997 A JP26353997 A JP 26353997A JP 26353997 A JP26353997 A JP 26353997A JP H11100341 A JPH11100341 A JP H11100341A
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- bisphenol compound
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポリカーボネートやエポキシ樹脂の原料など
に供しうる、色相の優れたヒンダードフェノール骨格を
有するビスフェノールを提供する。この色相の優れたビ
スフェノールより、色相の優れたポリカーボネートやエ
ポキシ樹脂を製造することができる。 【解決手段】 下記式（２）で表されるリン化合物 （式中Ｒa、Ｒb、Ｒcのいずれか１つは炭素数４以上２
０以下の３級アルキル基であり、残りの２つは、それぞ
れ独立に水素原子及び、炭素数１から２０のアルキル基
から選ばれる。）をビスフェノール化合物１００重量部
に対し、０．００１〜１０重量部添加して再結晶する。
に供しうる、色相の優れたヒンダードフェノール骨格を
有するビスフェノールを提供する。この色相の優れたビ
スフェノールより、色相の優れたポリカーボネートやエ
ポキシ樹脂を製造することができる。 【解決手段】 下記式（２）で表されるリン化合物 （式中Ｒa、Ｒb、Ｒcのいずれか１つは炭素数４以上２
０以下の３級アルキル基であり、残りの２つは、それぞ
れ独立に水素原子及び、炭素数１から２０のアルキル基
から選ばれる。）をビスフェノール化合物１００重量部
に対し、０．００１〜１０重量部添加して再結晶する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特定のビスフェノ
ール化合物の精製方法に関する。
ール化合物の精製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニ
ル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）などのビスフェ
ノール類はポリカーボネート樹脂の原料やエポキシ樹脂
の原料等、多くの樹脂の原料として用いられている。そ
の際、色相や耐熱性に優れた樹脂を得るためには、原料
中の不純物を取り除く必要がある。ビスフェノール化合
物は一般に高沸点であり、高温で酸化されやすく、通常
再結晶により精製を行っている。しかし、ヒンダードフ
ェノール骨格を有するビスフェノール化合物は、非常に
酸化されやすく、再結晶精製によっても、不純物を除く
ことは困難なことが多い。
ル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）などのビスフェ
ノール類はポリカーボネート樹脂の原料やエポキシ樹脂
の原料等、多くの樹脂の原料として用いられている。そ
の際、色相や耐熱性に優れた樹脂を得るためには、原料
中の不純物を取り除く必要がある。ビスフェノール化合
物は一般に高沸点であり、高温で酸化されやすく、通常
再結晶により精製を行っている。しかし、ヒンダードフ
ェノール骨格を有するビスフェノール化合物は、非常に
酸化されやすく、再結晶精製によっても、不純物を除く
ことは困難なことが多い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ポリカーボ
ネートやエポキシ樹脂の原料などに供しうる、色相の優
れたヒンダードフェノール骨格を有するビスフェノール
を提供することを目的とする。この色相の優れたビスフ
ェノールより、色相の優れたポリカーボネートやエポキ
シ樹脂を製造することができる。
ネートやエポキシ樹脂の原料などに供しうる、色相の優
れたヒンダードフェノール骨格を有するビスフェノール
を提供することを目的とする。この色相の優れたビスフ
ェノールより、色相の優れたポリカーボネートやエポキ
シ樹脂を製造することができる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記問題点を
解決するために鋭意研究を重ねた結果、ヒンダードフェ
ノール骨格を有するビスフェノール類を精製する際に、
特定のリン化合物の存在下再結晶精製を行うことによ
り、ポリカーボネートやエポキシ樹脂の原料などに供し
うる、色相の優れたヒンダードフェノール骨格を有する
ビスフェノールが得られることを見出した。
解決するために鋭意研究を重ねた結果、ヒンダードフェ
ノール骨格を有するビスフェノール類を精製する際に、
特定のリン化合物の存在下再結晶精製を行うことによ
り、ポリカーボネートやエポキシ樹脂の原料などに供し
うる、色相の優れたヒンダードフェノール骨格を有する
ビスフェノールが得られることを見出した。
【０００５】すなわち、下記式（１）で表されるビスフ
ェノール化合物
ェノール化合物
【０００６】
【化４】
【０００７】［式中Ｒ1は炭素数４から２０の３級アル
キル基であり、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立に、
水素原子、炭素数１から２０のアルキル基、炭素数１か
ら２０のアルコキシル基、炭素数５から２０のシクロア
ルキル基、炭素数６から２０のアリール基、炭素数７か
ら２０のアラルキル基、炭素数６から２０のシクロアル
コキシル基、炭素数６から２０のアリールオキシ基また
は炭素数７から２０のアラルキルオキシ基を表し、
キル基であり、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立に、
水素原子、炭素数１から２０のアルキル基、炭素数１か
ら２０のアルコキシル基、炭素数５から２０のシクロア
ルキル基、炭素数６から２０のアリール基、炭素数７か
ら２０のアラルキル基、炭素数６から２０のシクロアル
コキシル基、炭素数６から２０のアリールオキシ基また
は炭素数７から２０のアラルキルオキシ基を表し、
【０００８】
【化５】
【０００９】（ここでＲ5とＲ6は同一または異なり、水
素原子または炭素数１から１２の炭化水素基を表し、Ｒ
７ は、炭素数３から１０の置換されていてもよいアル
キレン基を表す。）］を再結晶精製する際に、
素原子または炭素数１から１２の炭化水素基を表し、Ｒ
７ は、炭素数３から１０の置換されていてもよいアル
キレン基を表す。）］を再結晶精製する際に、
【００１０】
【化６】 （２）
【００１１】（式中Ｒa、Ｒb、Ｒcのいずれか１つは炭
素数４以上２０以下の３級アルキル基であり、残りの２
つは、それぞれ独立に水素原子及び、炭素数１から２０
のアルキル基から選ばれる。）を上記ビスフェノール化
合物１００重量部に対し、０．００１〜１０重量部添加
して行うことを特徴とする精製方法である。
素数４以上２０以下の３級アルキル基であり、残りの２
つは、それぞれ独立に水素原子及び、炭素数１から２０
のアルキル基から選ばれる。）を上記ビスフェノール化
合物１００重量部に対し、０．００１〜１０重量部添加
して行うことを特徴とする精製方法である。
【００１２】本発明におけるビスフェノール化合物とし
ては、
ては、
【００１３】
【化７】
【００１４】［式中Ｒ1は炭素数４から２０の３級アル
キル基であり、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立に、
水素原子、炭素数１から２０のアルキル基、炭素数１か
ら２０のアルコキシル基、炭素数５から２０のシクロア
ルキル基、炭素数６から２０のアリール基、炭素数７か
ら２０のアラルキル基、炭素数６から２０のシクロアル
コキシル基、炭素数６から２０のアリールオキシ基また
は炭素数７から２０のアラルキルオキシ基を表す。
キル基であり、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立に、
水素原子、炭素数１から２０のアルキル基、炭素数１か
ら２０のアルコキシル基、炭素数５から２０のシクロア
ルキル基、炭素数６から２０のアリール基、炭素数７か
ら２０のアラルキル基、炭素数６から２０のシクロアル
コキシル基、炭素数６から２０のアリールオキシ基また
は炭素数７から２０のアラルキルオキシ基を表す。
【００１５】
【化８】
【００１６】（ここでＲ5とＲ6は同一または異なり、水
素原子または炭素数１から１２の炭化水素基を表し、Ｒ
7は、炭素数３から１０の置換されていてもよいアルキ
レン基を表す。）］である。式（１）中のＲ1として
は、炭素数から２０の３級アルキル基として、ｔｅｒｔ
−ブチル基、２，２−ジメチルブチル基、２−メチル−
２−エチルブチル基、２，２−ジメチルヘキシル基など
が例示される。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4としては、炭素数１から
２０のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基など、炭素数１から２０のアルコキシル
基としてメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基など、炭素数５から２０のシクロアルキル基とし
てシクロペンチル基、シクロヘキシル基など、炭素数６
から２０のアリール基としてフェニル基、トリル基、メ
フチル基など、炭素数７から２０のアラルキル基として
ベンジル基、ジメチルベンジル基など、炭素数６から２
０のシクロアルコキシル基としてシクロヘキシロキシ基
など、炭素数６から２０のアリールオキシ基としてフェ
ノキシ基、ナフトキシ基など、炭素数７から２０のアラ
ルキルオキシ基としてベンジルオキシ基などが挙げられ
る。
素原子または炭素数１から１２の炭化水素基を表し、Ｒ
7は、炭素数３から１０の置換されていてもよいアルキ
レン基を表す。）］である。式（１）中のＲ1として
は、炭素数から２０の３級アルキル基として、ｔｅｒｔ
−ブチル基、２，２−ジメチルブチル基、２−メチル−
２−エチルブチル基、２，２−ジメチルヘキシル基など
が例示される。Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4としては、炭素数１から
２０のアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基など、炭素数１から２０のアルコキシル
基としてメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基など、炭素数５から２０のシクロアルキル基とし
てシクロペンチル基、シクロヘキシル基など、炭素数６
から２０のアリール基としてフェニル基、トリル基、メ
フチル基など、炭素数７から２０のアラルキル基として
ベンジル基、ジメチルベンジル基など、炭素数６から２
０のシクロアルコキシル基としてシクロヘキシロキシ基
など、炭素数６から２０のアリールオキシ基としてフェ
ノキシ基、ナフトキシ基など、炭素数７から２０のアラ
ルキルオキシ基としてベンジルオキシ基などが挙げられ
る。
【００１７】Ｒ5、Ｒ6の炭化水素基としては、炭素数１
から１２の脂肪族炭化水素基あるいは炭素数６〜１２の
芳香族炭化水素基が好ましい。かかる脂肪族炭化水素基
として、アルキル基、アルケニル基などが挙げられ、メ
チル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。また
芳香族基として置換もしくは非置換のフェニル基、ナフ
チル基などが挙げられる。Ｒ7のアルキレン基として、
ブチレン基、ペンチレン基などが例示される。
から１２の脂肪族炭化水素基あるいは炭素数６〜１２の
芳香族炭化水素基が好ましい。かかる脂肪族炭化水素基
として、アルキル基、アルケニル基などが挙げられ、メ
チル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。また
芳香族基として置換もしくは非置換のフェニル基、ナフ
チル基などが挙げられる。Ｒ7のアルキレン基として、
ブチレン基、ペンチレン基などが例示される。
【００１８】上記のビスフェノール化合物としては、ビ
ス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、１，１−ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン、２，２−ビス（３−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（５−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）エタン、１，１
−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）ブタン、ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３、５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、３，
３’，５，５‘−テトラ−ｔ−ブチル−４，４’−ジヒ
ドロキシ（１，１’−ビフェニル）などが例示される。
ス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、１，１−ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）エタン、２，２−ビス（３−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（５−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）エタン、１，１
−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）ブタン、ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３、５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、１，１−ビス（３−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、３，
３’，５，５‘−テトラ−ｔ−ブチル−４，４’−ジヒ
ドロキシ（１，１’−ビフェニル）などが例示される。
【００１９】本発明におけるリン化合物としては、
【００２０】
【化９】
【００２１】で表され、式中Ｒa、Ｒb、Ｒcのいずれか
１つは炭素数４以上２０以下の３級アルキル基であり、
残りの２つは、それぞれ独立に水素原子及び、炭素数１
から２０のアルキル基から選ばれる。
１つは炭素数４以上２０以下の３級アルキル基であり、
残りの２つは、それぞれ独立に水素原子及び、炭素数１
から２０のアルキル基から選ばれる。
【００２２】炭素数４以上２０以下の３級アルキル基と
してはｔｅｒｔ−ブチル、２，２−ジメチルブチル、２
−メチル−２−エチルブチル、２，２−ジメチルヘキシ
ルなどが例示される。また、炭素数１から２０のアルキ
ル基としては、直鎖であっても、分岐していてもよく、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチ
ル基などが例示される。
してはｔｅｒｔ−ブチル、２，２−ジメチルブチル、２
−メチル−２−エチルブチル、２，２−ジメチルヘキシ
ルなどが例示される。また、炭素数１から２０のアルキ
ル基としては、直鎖であっても、分岐していてもよく、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチ
ル基などが例示される。
【００２３】上記の化合物としては、トリス（２，４−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、トリ
ス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスフ
ァイト、トリス（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチル
フェニル）フォスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）フォスファイト、
トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイ
トなどが例示され、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）フォスファイトをより好ましいものとし
て挙げることができる。
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、トリ
ス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスフ
ァイト、トリス（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチル
フェニル）フォスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）フォスファイト、
トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイ
トなどが例示され、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）フォスファイトをより好ましいものとし
て挙げることができる。
【００２４】リン化合物の使用量としては、ビスフェノ
ール１００重量部に対し、０．００１から１０重量部、
好ましくは０．１から５重量部の範囲で選ばれる。それ
以下であると効果が現れず、それ以上であると、結晶が
析出しにくくなるため、好ましくない。
ール１００重量部に対し、０．００１から１０重量部、
好ましくは０．１から５重量部の範囲で選ばれる。それ
以下であると効果が現れず、それ以上であると、結晶が
析出しにくくなるため、好ましくない。
【００２５】再結晶精製に用いる溶媒としては、従来か
らビスフェノールの精製に使用される溶媒に準ずればよ
いが、精製後に結晶中に残存するリン化合物を低く抑え
ることができることから、リン化合物の溶解性が高いも
のが好ましい。
らビスフェノールの精製に使用される溶媒に準ずればよ
いが、精製後に結晶中に残存するリン化合物を低く抑え
ることができることから、リン化合物の溶解性が高いも
のが好ましい。
【００２６】以下、再結晶に用いる溶媒を例示するが、
特にこれらの溶媒に限定されない。ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ペンテン、シクロヘキ
サンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエ
チルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン
などのケトン類、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、
シクロヘキサノールなどのアルコール類、ジエチルエー
テル、ジオキサン、ジオキソラン、ジフェニルエーテル
などのエーテル類、ぎ酸メチル、ぎ酸エチル、ぎ酸ブチ
ル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステ
ル類、アセトニトリル、ピリジン、石油エーテル、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフランなどを例示す
ることができ、これらの溶媒を２種以上混合して用いて
も構わない。
特にこれらの溶媒に限定されない。ベンゼン、トルエ
ン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、
ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ペンテン、シクロヘキ
サンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、アセトン、メチルエ
チルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン
などのケトン類、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、
シクロヘキサノールなどのアルコール類、ジエチルエー
テル、ジオキサン、ジオキソラン、ジフェニルエーテル
などのエーテル類、ぎ酸メチル、ぎ酸エチル、ぎ酸ブチ
ル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステ
ル類、アセトニトリル、ピリジン、石油エーテル、クロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、塩化メチレン、クロロ
ホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフランなどを例示す
ることができ、これらの溶媒を２種以上混合して用いて
も構わない。
【００２７】特にベンゼン、トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素系溶媒や、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒を好ましいものと
して挙げることができる。
芳香族炭化水素系溶媒や、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサンなどの脂肪族炭化水素系溶媒を好ましいものと
して挙げることができる。
【００２８】精製条件としては、従来からビスフェノー
ルの再結晶精製に使用されている条件に準ずればよく、
上記リン化合物の存在下、ビスフェノールの再結晶精製
を行えばよい。例えばビスフェノール、リン化合物、再
結晶溶媒を混合、攪拌しながら、昇温し、ビスフェノー
ル化合物を溶解後、冷却する。析出した結晶をろ過分離
後、必要に応じて、溶媒にて結晶を洗浄後、溶媒を分
離、乾燥する。
ルの再結晶精製に使用されている条件に準ずればよく、
上記リン化合物の存在下、ビスフェノールの再結晶精製
を行えばよい。例えばビスフェノール、リン化合物、再
結晶溶媒を混合、攪拌しながら、昇温し、ビスフェノー
ル化合物を溶解後、冷却する。析出した結晶をろ過分離
後、必要に応じて、溶媒にて結晶を洗浄後、溶媒を分
離、乾燥する。
【００２９】また、再結晶精製の際に、通常用いる活性
炭、および／または活性白土等の助剤を併用することも
より好ましい。これらの助剤の使用量としては通常再結
晶精製に用いられる範囲で良い。例えば粉末状活性炭で
は、ビスフェノール１００重量部に対し、０．０１から
１０重量部を好ましい範囲として挙げることができる。
炭、および／または活性白土等の助剤を併用することも
より好ましい。これらの助剤の使用量としては通常再結
晶精製に用いられる範囲で良い。例えば粉末状活性炭で
は、ビスフェノール１００重量部に対し、０．０１から
１０重量部を好ましい範囲として挙げることができる。
【００３０】
【実施例】次に本発明を実施例および比較例により、さ
らに詳しく説明する。
らに詳しく説明する。
【００３１】［実施例１］ジオール成分として１，１−
ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）ブタン１００重量部とリン化合物として
トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォ
スファイト１．０重量部、溶媒としてキシレン３５７重
量部を攪拌装置、還流塔を備えた再結晶槽に仕込み、窒
素置換をした後、加熱し、内温を１２０℃として溶解し
た。３０分攪拌後、窒素雰囲気下で目開き５μｍのろ過
床で熱時ろ過した後、ろ液を室温まで冷却した。十分に
結晶を析出させた後、目開き５μｍのろ過床で結晶をろ
別し、結晶を約２００重量部のキシレンにて洗浄した
後、８０℃、５０ｍｍＨｇで５時間乾燥した。得られた
結晶を大気中で約２２０℃として溶融させたところ、ほ
ぼ無色透明な液体であった。
ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニル）ブタン１００重量部とリン化合物として
トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォ
スファイト１．０重量部、溶媒としてキシレン３５７重
量部を攪拌装置、還流塔を備えた再結晶槽に仕込み、窒
素置換をした後、加熱し、内温を１２０℃として溶解し
た。３０分攪拌後、窒素雰囲気下で目開き５μｍのろ過
床で熱時ろ過した後、ろ液を室温まで冷却した。十分に
結晶を析出させた後、目開き５μｍのろ過床で結晶をろ
別し、結晶を約２００重量部のキシレンにて洗浄した
後、８０℃、５０ｍｍＨｇで５時間乾燥した。得られた
結晶を大気中で約２２０℃として溶融させたところ、ほ
ぼ無色透明な液体であった。
【００３２】ジオール成分として上記のように再結晶し
て得られた１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタンの結晶３０６
重量部（０．８モル）と２，２―ビス（３―ｔｅｒｔ―
ブチル―４―ヒドロキシフェニル）プロパン６８重量部
（０．２モル）を用い、炭酸エステル形成性化合物とし
てジフェニルカーボネート２２５重量部（１．０５モ
ル）、および触媒としてテトラメチルアンモニウムヒド
ロキシドを９．１×１０−３重量部と水酸化ナトリウム
４×１０−４重量部を撹拌装置、精溜塔および減圧装置
を備えた反応槽に仕込み窒素置換をした後、加熱溶融し
た。３０分撹拌後、内温を１８０℃に昇温しつつ徐々に
減圧し、生成するフェノールを溜去しながら１００ｍｍ
Ｈｇで３０分間反応させた。
て得られた１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタンの結晶３０６
重量部（０．８モル）と２，２―ビス（３―ｔｅｒｔ―
ブチル―４―ヒドロキシフェニル）プロパン６８重量部
（０．２モル）を用い、炭酸エステル形成性化合物とし
てジフェニルカーボネート２２５重量部（１．０５モ
ル）、および触媒としてテトラメチルアンモニウムヒド
ロキシドを９．１×１０−３重量部と水酸化ナトリウム
４×１０−４重量部を撹拌装置、精溜塔および減圧装置
を備えた反応槽に仕込み窒素置換をした後、加熱溶融し
た。３０分撹拌後、内温を１８０℃に昇温しつつ徐々に
減圧し、生成するフェノールを溜去しながら１００ｍｍ
Ｈｇで３０分間反応させた。
【００３３】次に２００℃に昇温した後、徐々に減圧
し、フェノールを溜去しながら５０ｍｍＨｇで２０分間
反応させた。さらに２２０℃／３０ｍｍＨｇまで徐々に
昇温、減圧し、同温、同圧で２０分、さらに２４０℃／
１０ｍｍＨｇ、２８０℃／１ｍｍＨｇ以下にまで上記と
同じ手順で昇温、減圧を繰り返して反応を続行し、最終
的に２８０℃／１ｍｍＨｇ以下で２時間反応せしめ、ポ
リカーボネートを合成した。その結果、得られた重合体
のガラス転移温度はデュポン製熱分析装置（２０００型
ＤＳＣ）で測定したところ１５０℃であった。さらに2
ｍｍ厚の射出成形板をシリンダー温度３００℃射出圧力
１００ｋｇ／ｃｍ2金型温度９０℃で成形し、Ｘ、Ｙ、
Ｚ値を日本電色工業製Ｃｏｌｏｒ ａｎｄ Ｃｏｌｏｒ
Ｄｅｆｆｅｒｅｎｃｅ Ｍｅｔｅｒ ＮＤ−１００１
ＤＰで透過法でＬ／ｂを測定した。その結果、得られた
成形板の色相は９４／２．４であった。（以下同様の方
法により評価した。）
し、フェノールを溜去しながら５０ｍｍＨｇで２０分間
反応させた。さらに２２０℃／３０ｍｍＨｇまで徐々に
昇温、減圧し、同温、同圧で２０分、さらに２４０℃／
１０ｍｍＨｇ、２８０℃／１ｍｍＨｇ以下にまで上記と
同じ手順で昇温、減圧を繰り返して反応を続行し、最終
的に２８０℃／１ｍｍＨｇ以下で２時間反応せしめ、ポ
リカーボネートを合成した。その結果、得られた重合体
のガラス転移温度はデュポン製熱分析装置（２０００型
ＤＳＣ）で測定したところ１５０℃であった。さらに2
ｍｍ厚の射出成形板をシリンダー温度３００℃射出圧力
１００ｋｇ／ｃｍ2金型温度９０℃で成形し、Ｘ、Ｙ、
Ｚ値を日本電色工業製Ｃｏｌｏｒ ａｎｄ Ｃｏｌｏｒ
Ｄｅｆｆｅｒｅｎｃｅ Ｍｅｔｅｒ ＮＤ−１００１
ＤＰで透過法でＬ／ｂを測定した。その結果、得られた
成形板の色相は９４／２．４であった。（以下同様の方
法により評価した。）
【００３４】［実施例２］１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ
−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタ
ン１００重量部に対し、粉末状活性炭１．０重量部をジ
オール、リン化合物とともに用いた他は、実施例１と同
様の操作により精製を行った。得られた結晶を大気中で
約２２０℃として溶融させたところ、ほぼ無色透明な液
体であった。実施例１と同様にして得られた１，１−ビ
ス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタンをモノマー成分とするポリカーボネ
ートを合成した。その結果、得られた重合体のガラス転
移温度は１５０℃であった。さらに成形板の色相は９５
／１．０であった。
−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタ
ン１００重量部に対し、粉末状活性炭１．０重量部をジ
オール、リン化合物とともに用いた他は、実施例１と同
様の操作により精製を行った。得られた結晶を大気中で
約２２０℃として溶融させたところ、ほぼ無色透明な液
体であった。実施例１と同様にして得られた１，１−ビ
ス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチ
ルフェニル）ブタンをモノマー成分とするポリカーボネ
ートを合成した。その結果、得られた重合体のガラス転
移温度は１５０℃であった。さらに成形板の色相は９５
／１．０であった。
【００３５】［比較例１］リン化合物、トリス（２，４
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトを用
いなかった他は、実施例１と同様の操作により精製を行
った。得られた結晶を大気中で約２２０℃として溶融さ
せたところ、薄く黄色い透明な液体であった。実施例１
と同様にして得られた１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタンを
モノマー成分とするポリカーボネートを合成した。その
結果、得られた重合体のガラス転移温度は１５０℃であ
った。さらに成形板の色相は９１／４．６であった。
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトを用
いなかった他は、実施例１と同様の操作により精製を行
った。得られた結晶を大気中で約２２０℃として溶融さ
せたところ、薄く黄色い透明な液体であった。実施例１
と同様にして得られた１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタンを
モノマー成分とするポリカーボネートを合成した。その
結果、得られた重合体のガラス転移温度は１５０℃であ
った。さらに成形板の色相は９１／４．６であった。
【００３６】［比較例２］リン化合物、トリス（２，４
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトを用
いなかった他は、実施例２と同様に精製を行った。得ら
れた結晶を大気中で約２２０℃として溶融させたとこ
ろ、薄くやや黄色い透明な液体であった。実施例１と同
様にして得られた１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタンをモノ
マー成分とするポリカーボネートを合成した。その結
果、得られた重合体のガラス転移温度は１５０℃であっ
た。さらに成形板の色相は９２／３．０であった。
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトを用
いなかった他は、実施例２と同様に精製を行った。得ら
れた結晶を大気中で約２２０℃として溶融させたとこ
ろ、薄くやや黄色い透明な液体であった。実施例１と同
様にして得られた１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル
−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタンをモノ
マー成分とするポリカーボネートを合成した。その結
果、得られた重合体のガラス転移温度は１５０℃であっ
た。さらに成形板の色相は９２／３．０であった。
【００３７】
【発明の効果】本発明は、ポリカーボネートやエポキシ
樹脂の原料などに供しうる、色相の優れたヒンダードフ
ェノール骨格を有するビスフェノールを提供することが
できる。この色相の優れたビスフェノールより、色相の
優れたポリカーボネートやエポキシ樹脂を製造すること
ができる。
樹脂の原料などに供しうる、色相の優れたヒンダードフ
ェノール骨格を有するビスフェノールを提供することが
できる。この色相の優れたビスフェノールより、色相の
優れたポリカーボネートやエポキシ樹脂を製造すること
ができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 43/295 Ｃ０７Ｃ 43/295 Ａ 45/81 45/81 49/83 49/83 Ａ 49/84 49/84 Ｅ 315/06 315/06 317/22 317/22 319/28 319/28 323/20 323/20
Claims (2)
- 【請求項１】 下記式（１）で表されるビスフェノール
化合物 【化１】 ［式中Ｒ1は炭素数４から２０の３級アルキル基であ
り、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立に、水素原子、
炭素数１から２０のアルキル基、炭素数１から２０のア
ルコキシル基、炭素数５から２０のシクロアルキル基、
炭素数６から２０のアリール基、炭素数７から２０のア
ラルキル基、炭素数６から２０のシクロアルコキシル
基、炭素数６から２０のアリールオキシ基または炭素数
７から２０のアラルキルオキシ基を表す。］ 【化２】 （ここでＲ5とＲ6は同一または異なり、水素原子または
炭素数１から１２の炭化水素基を表し、Ｒ7は、炭素数
３から１０の置換されていてもよいアルキレン基を表
す。）］を再結晶し精製する方法において、下記式
（２）で表されるリン化合物 【化３】 （式中Ｒa、Ｒb、Ｒcのいずれか１つは炭素数４以上２
０以下の３級アルキル基であり、残りの２つは、それぞ
れ独立に水素原子及び、炭素数１から２０のアルキル基
から選ばれる。）を上記ビスフェノール化合物１００重
量部に対し、０．００１〜１０重量部添加して再結晶す
ることを特徴とするビスフェノール化合物の精製方法。 - 【請求項２】 ビスフェノール化合物１００重量部に対
し、リン化合物と共に活性炭および／または活性白土を
０．０１から１０重量部添加して再結晶することを特徴
とする請求項１記載の精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26353997A JPH11100341A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | ビスフェノール化合物の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26353997A JPH11100341A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | ビスフェノール化合物の精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11100341A true JPH11100341A (ja) | 1999-04-13 |
Family
ID=17390955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26353997A Pending JPH11100341A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | ビスフェノール化合物の精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11100341A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008115192A (ja) * | 2007-12-28 | 2008-05-22 | Honshu Chem Ind Co Ltd | アルキルフェノール類の安定化方法 |
| CN102718797A (zh) * | 2012-07-05 | 2012-10-10 | 营口市风光化工有限公司 | 一种抗氧剂168的纯化方法 |
| JP2020007285A (ja) * | 2018-07-11 | 2020-01-16 | 三菱ケミカル株式会社 | ビスフェノールの製造方法及びポリカーボネート樹脂の製造方法 |
| WO2020158708A1 (ja) * | 2019-01-31 | 2020-08-06 | 第一工業製薬株式会社 | ２，２'－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，１'－ビナフタレン化合物及びその製造方法 |
| WO2021039970A1 (ja) * | 2019-08-29 | 2021-03-04 | 三菱ケミカル株式会社 | 熱可塑性樹脂組成物及び成形品 |
-
1997
- 1997-09-29 JP JP26353997A patent/JPH11100341A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008115192A (ja) * | 2007-12-28 | 2008-05-22 | Honshu Chem Ind Co Ltd | アルキルフェノール類の安定化方法 |
| CN102718797A (zh) * | 2012-07-05 | 2012-10-10 | 营口市风光化工有限公司 | 一种抗氧剂168的纯化方法 |
| JP2020007285A (ja) * | 2018-07-11 | 2020-01-16 | 三菱ケミカル株式会社 | ビスフェノールの製造方法及びポリカーボネート樹脂の製造方法 |
| WO2020158708A1 (ja) * | 2019-01-31 | 2020-08-06 | 第一工業製薬株式会社 | ２，２'－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）－１，１'－ビナフタレン化合物及びその製造方法 |
| JP2020121965A (ja) * | 2019-01-31 | 2020-08-13 | 第一工業製薬株式会社 | ２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１’−ビナフタレン化合物及びその製造方法 |
| WO2021039970A1 (ja) * | 2019-08-29 | 2021-03-04 | 三菱ケミカル株式会社 | 熱可塑性樹脂組成物及び成形品 |
| CN114302905A (zh) * | 2019-08-29 | 2022-04-08 | 三菱化学株式会社 | 热塑性树脂组合物和成型品 |
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