JP2593624B2 - 複素環式ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン及びそれから製造されるポリカーボネート - Google Patents
複素環式ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン及びそれから製造されるポリカーボネートInfo
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- C08G64/08—Aromatic polycarbonates not containing aliphatic unsaturation containing atoms other than carbon, hydrogen or oxygen
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規組成の物質、特に新
規ポリカーボネート及びそれらの前駆体に関するもので
ある。
規ポリカーボネート及びそれらの前駆体に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】ポリカーボネートは光学的透明度、高い
延性及びその他の有利な性質を保有することを特徴とす
る高性能エンジニアリング樹脂の一群である。これらの
樹脂は透明性であるのでレンズ及び窓としてしばしば使
用されている。ビスフェノールＡポリカーボネートはこ
の型の商業的に入手し得る主要な樹脂である。この樹脂
は２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンか
ら誘導されるものであり、典型的には約１５０℃のガラ
ス転移温度をもつ。
延性及びその他の有利な性質を保有することを特徴とす
る高性能エンジニアリング樹脂の一群である。これらの
樹脂は透明性であるのでレンズ及び窓としてしばしば使
用されている。ビスフェノールＡポリカーボネートはこ
の型の商業的に入手し得る主要な樹脂である。この樹脂
は２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンか
ら誘導されるものであり、典型的には約１５０℃のガラ
ス転移温度をもつ。
【０００３】ビスフェノールＡポリカーボネートの延性
を保持しながらより高いガラス転移温度をもつ、したが
って加熱に際してより高い耐軟化性を示すポリカーボネ
ートの製造についての関心が高まっている。かゝるポリ
カーボネートの典型的な使用領域は自動車のヘッドラン
プ用のレンズの製造―これらのレンズは次第に寸法が小
型化しつゝあり、したがって該レンズは熱発生性光源に
より一層接近して設置されるという特徴をもつ―及び高
い高度で操縦する航空機用の窓―その場合太陽熱による
影響が顕著であり得る―に存する。
を保持しながらより高いガラス転移温度をもつ、したが
って加熱に際してより高い耐軟化性を示すポリカーボネ
ートの製造についての関心が高まっている。かゝるポリ
カーボネートの典型的な使用領域は自動車のヘッドラン
プ用のレンズの製造―これらのレンズは次第に寸法が小
型化しつゝあり、したがって該レンズは熱発生性光源に
より一層接近して設置されるという特徴をもつ―及び高
い高度で操縦する航空機用の窓―その場合太陽熱による
影響が顕著であり得る―に存する。
【０００４】
【発明の概要】本発明はビスフェノールＡポリカーボネ
ートのガラス転移温度よりも少なくとも３５℃から８４
℃まで高いガラス転移温度をもち、しかも延性であるこ
とが期待されるポリカーボネートの一群を提供するもの
である。また、本発明はさらに、該ポリカーボネートに
転化し得る一連のビスフェノールを提供するものであ
る。
ートのガラス転移温度よりも少なくとも３５℃から８４
℃まで高いガラス転移温度をもち、しかも延性であるこ
とが期待されるポリカーボネートの一群を提供するもの
である。また、本発明はさらに、該ポリカーボネートに
転化し得る一連のビスフェノールを提供するものであ
る。
【０００５】本発明の一形態によれば、本発明は、式：
【０００６】
【化３】
【０００７】（式中、ＸはＳ、ＳＯ、ＳＯ2 又はＮ−Ｏ
ＣＯＲでありそしてＲはＣ1-4 第一級又は第二級アルキ
ル基又はＣ6-8 芳香族基である）をもつ複素環式ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン（以下、場
合によっては単に“複素環式ビスフェノール”という）
を包含する。本発明の複素環式ビスフェノールにおける
Ｘ基は硫黄、スルホン基又はアシル化窒素原子であり得
る。該アシル化窒素原子において、Ｒはメチル、エチ
ル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブ
チル又は２−メチルプロピル基のようなアルキル基又は
フェニル、トリル又はキシリル基のような芳香族基であ
り得る。メチル基が好ましい。
ＣＯＲでありそしてＲはＣ1-4 第一級又は第二級アルキ
ル基又はＣ6-8 芳香族基である）をもつ複素環式ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン（以下、場
合によっては単に“複素環式ビスフェノール”という）
を包含する。本発明の複素環式ビスフェノールにおける
Ｘ基は硫黄、スルホン基又はアシル化窒素原子であり得
る。該アシル化窒素原子において、Ｒはメチル、エチ
ル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブ
チル又は２−メチルプロピル基のようなアルキル基又は
フェニル、トリル又はキシリル基のような芳香族基であ
り得る。メチル基が好ましい。
【０００８】
【発明の詳細な開示】Ｘが硫黄又はアシル化窒素原子で
ある場合の本発明の複素環式ビスフェノールは、フェノ
ールとテトラヒドロチオピラン−４−オン又はアシル化
４−ピペリドンとを酸性触媒の存在下で反応させること
によって製造し得る。さらに、反応促進剤としてメルカ
プタンも存在させることが好ましい。Ｘが硫黄である該
複素環式ビスフェノールは適当な酸化剤で酸化すること
によって、たとえば酸性媒質、典型的には氷酢酸中で、
過酢酸のような過カルボン酸を用いて酸化することによ
って、ＸがＳＯ及び／又はＳＯ2 である対応する複素環
式ビスフェノール化合物に転化し得る。
ある場合の本発明の複素環式ビスフェノールは、フェノ
ールとテトラヒドロチオピラン−４−オン又はアシル化
４−ピペリドンとを酸性触媒の存在下で反応させること
によって製造し得る。さらに、反応促進剤としてメルカ
プタンも存在させることが好ましい。Ｘが硫黄である該
複素環式ビスフェノールは適当な酸化剤で酸化すること
によって、たとえば酸性媒質、典型的には氷酢酸中で、
過酢酸のような過カルボン酸を用いて酸化することによ
って、ＸがＳＯ及び／又はＳＯ2 である対応する複素環
式ビスフェノール化合物に転化し得る。
【０００９】つぎに、本発明の複素環式ビスフェノール
の製造を実施例によって説明する。分子構造は1 Ｈ及び
13Ｃ核磁気共鳴スペクトル分析及び質量スペクトル分析
によって決定した。実施例１ テトラヒドロチオピラン−４−オン１０ｇ（８６ミリモ
ル）、フェノール８１ｇ（８６０ミリモル）及び４ミリ
当量／ｇの水素イオン濃度をもち、０．８ミリ当量／ｇ
の割合のチオール促進剤で変性された酸型のカチオン交
換樹脂１０ｇの混合物を７５℃で４時間加熱した。得ら
れる橙色の溶液をガラス漏斗を通じて熱濾過した。冷却
すると固形物が生成し、これを濾過により分離した。濾
液を塩化メチレン１００ｍｌと混合すると第二の固形物
が析出し、これを濾過により捕集した。
の製造を実施例によって説明する。分子構造は1 Ｈ及び
13Ｃ核磁気共鳴スペクトル分析及び質量スペクトル分析
によって決定した。実施例１ テトラヒドロチオピラン−４−オン１０ｇ（８６ミリモ
ル）、フェノール８１ｇ（８６０ミリモル）及び４ミリ
当量／ｇの水素イオン濃度をもち、０．８ミリ当量／ｇ
の割合のチオール促進剤で変性された酸型のカチオン交
換樹脂１０ｇの混合物を７５℃で４時間加熱した。得ら
れる橙色の溶液をガラス漏斗を通じて熱濾過した。冷却
すると固形物が生成し、これを濾過により分離した。濾
液を塩化メチレン１００ｍｌと混合すると第二の固形物
が析出し、これを濾過により捕集した。
【００１０】これらの粗製固形物の合計量は２８．６ｇ
であった。これらをクロルベンゼンから再結晶化して所
望の４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）チオピラ
ンを淡黄褐色結晶として得た。収量は１８．３５ｇ（理
論値の７５％）であった。実施例２ フェノール１００ｇ（１．０６モル）及びドデシルチオ
ール３ｍｌの混合物を窒素雰囲気下で５０℃に加熱し、
そしてガス状塩化水素を該混合物中に１５分間通送し
た。塩化水素の通送は１−アセチル−４−ピペリドン１
５ｇ（１０６ミリモル）を５分間かけて添加している間
続けた。塩化水素処理を２０分間続けた後、この混合物
を７５℃で２０時間撹拌した。ついで、それを室温まで
冷却しそして酢酸エチル及び飽和炭酸水素ナトリウム溶
液で希釈すると粗生成物が白色固体として沈殿した。こ
れを濾過によって集めそして水で中性になるまで洗浄し
た。粗生成物の収量は２５．９ｇ（理論値の７８％）で
あった。この粗生成物の一部を氷酢酸から再結晶化しそ
して所望の４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
１−アセチルピペリジンとして同定した。実施例３ 氷酢酸２０ｍｌ中の実施例１の生成物５ｇ（１７ミリモ
ル）のスラリーを氷酢酸中の過酢酸の３２重量％溶液
８．８６ｇ（３７．２ミリモル）に氷浴温度で２０分か
けて添加した。この混合物を１４時間で室温まで加温す
ると不透明になった。沈殿した固体をガラス漏斗を通じ
て濾過しそして氷酢酸で２回洗浄した。所望の４，４−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタメチレンスルホ
ンの粗生成物収量は４．２５ｇ（理論値の７７％）であ
った。この生成物をメタノール及び水から再結晶化して
純粋な生成物３．５ｇ（理論値の６３％）を得た。
であった。これらをクロルベンゼンから再結晶化して所
望の４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）チオピラ
ンを淡黄褐色結晶として得た。収量は１８．３５ｇ（理
論値の７５％）であった。実施例２ フェノール１００ｇ（１．０６モル）及びドデシルチオ
ール３ｍｌの混合物を窒素雰囲気下で５０℃に加熱し、
そしてガス状塩化水素を該混合物中に１５分間通送し
た。塩化水素の通送は１−アセチル−４−ピペリドン１
５ｇ（１０６ミリモル）を５分間かけて添加している間
続けた。塩化水素処理を２０分間続けた後、この混合物
を７５℃で２０時間撹拌した。ついで、それを室温まで
冷却しそして酢酸エチル及び飽和炭酸水素ナトリウム溶
液で希釈すると粗生成物が白色固体として沈殿した。こ
れを濾過によって集めそして水で中性になるまで洗浄し
た。粗生成物の収量は２５．９ｇ（理論値の７８％）で
あった。この粗生成物の一部を氷酢酸から再結晶化しそ
して所望の４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
１−アセチルピペリジンとして同定した。実施例３ 氷酢酸２０ｍｌ中の実施例１の生成物５ｇ（１７ミリモ
ル）のスラリーを氷酢酸中の過酢酸の３２重量％溶液
８．８６ｇ（３７．２ミリモル）に氷浴温度で２０分か
けて添加した。この混合物を１４時間で室温まで加温す
ると不透明になった。沈殿した固体をガラス漏斗を通じ
て濾過しそして氷酢酸で２回洗浄した。所望の４，４−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタメチレンスルホ
ンの粗生成物収量は４．２５ｇ（理論値の７７％）であ
った。この生成物をメタノール及び水から再結晶化して
純粋な生成物３．５ｇ（理論値の６３％）を得た。
【００１１】本発明の複素環式ビスフェノールは慣用の
技術を用いてホスゲン又はジメチルカーボネートのよう
なカーボネート源と反応させることによってポリカーボ
ネートに転化し得る。これらの技術は溶融重合、界面重
合及びビスクロルホルメートへの界面転化とそれに続く
重合を包含する。フェノールのような連鎖停止剤も使用
し得る。
技術を用いてホスゲン又はジメチルカーボネートのよう
なカーボネート源と反応させることによってポリカーボ
ネートに転化し得る。これらの技術は溶融重合、界面重
合及びビスクロルホルメートへの界面転化とそれに続く
重合を包含する。フェノールのような連鎖停止剤も使用
し得る。
【００１２】かゝるポリカーボネートは本発明の別の一
形態を構成する。これらは式：
形態を構成する。これらは式：
【００１３】
【化４】
【００１４】（式中、Ｘは前記の意義を有する）のヘテ
ロシクロヘキシリデンビスフェノール構造単位を含んで
なる。ＸがＳＯ及び／又はＳＯ2 である本発明のポリカ
ーボネートはまたＸがＳである対応するポリカーボネー
トから適当な酸化剤、典型的には過酸、を用いる酸化に
よっても製造し得る。
ロシクロヘキシリデンビスフェノール構造単位を含んで
なる。ＸがＳＯ及び／又はＳＯ2 である本発明のポリカ
ーボネートはまたＸがＳである対応するポリカーボネー
トから適当な酸化剤、典型的には過酸、を用いる酸化に
よっても製造し得る。
【００１５】本発明のポリカーボネートは単独ポリカー
ボネート及び共ポリカーボネートの両者を包含する。共
ポリカーボネートはヘテロシクロヘキシリデンビスフェ
ノールの１種類より多い分子種の構造単位を含み得る。
共ポリカーボネートはまた、こゝに参考文献として引用
する米国特許第４，２１７，４３８号明細書中に名称又
は式（一般的又は特定的な）によって開示されているジ
ヒドロキシ化合物に対応する単位も含有し得る。かゝる
共ポリカーボネートは典型的には約２５−７５個数％
（単位数に基づく％）のビス（４−ヒドロキシビフェニ
リル）アルカン単位を含有し、残部は他の単位である。
ボネート及び共ポリカーボネートの両者を包含する。共
ポリカーボネートはヘテロシクロヘキシリデンビスフェ
ノールの１種類より多い分子種の構造単位を含み得る。
共ポリカーボネートはまた、こゝに参考文献として引用
する米国特許第４，２１７，４３８号明細書中に名称又
は式（一般的又は特定的な）によって開示されているジ
ヒドロキシ化合物に対応する単位も含有し得る。かゝる
共ポリカーボネートは典型的には約２５−７５個数％
（単位数に基づく％）のビス（４−ヒドロキシビフェニ
リル）アルカン単位を含有し、残部は他の単位である。
【００１６】該他の単位は式： （式中、Ａ1 及びＡ2 の各々は単環式の二価芳香族基で
ありそしてＹは１個又は２個の原子によってＡ1 をＡ2
から分離する型の架橋基である）をもつ単位を包含す
る。式（III)中の遊離原子価結合は通常Ｙに関してＡ1
及びＡ2 のメタ位又はパラ位にある。
ありそしてＹは１個又は２個の原子によってＡ1 をＡ2
から分離する型の架橋基である）をもつ単位を包含す
る。式（III)中の遊離原子価結合は通常Ｙに関してＡ1
及びＡ2 のメタ位又はパラ位にある。
【００１７】Ａ1 基及びＡ2 基は非置換フェニレン基又
はその置換誘導体基であることができる。その置換基
（１個又はそれ以上）の例はアルキル、アルケニル、ハ
ロ（特にクロル及び／又はブロム）、ニトロ、アルコキ
シ基等である。非置換フェニレン基が好ましい。基Ａ1
及びＡ2 がともにｐ−フェニレン基であることが好まし
いが、両者はともにｏ−又はｍ−フェニレン基であるこ
ともでき、あるいは一方がｏ−又はｍ−フェニレン基
で、他方がｐ−フェニレン基であることもできる。
はその置換誘導体基であることができる。その置換基
（１個又はそれ以上）の例はアルキル、アルケニル、ハ
ロ（特にクロル及び／又はブロム）、ニトロ、アルコキ
シ基等である。非置換フェニレン基が好ましい。基Ａ1
及びＡ2 がともにｐ−フェニレン基であることが好まし
いが、両者はともにｏ−又はｍ−フェニレン基であるこ
ともでき、あるいは一方がｏ−又はｍ−フェニレン基
で、他方がｐ−フェニレン基であることもできる。
【００１８】架橋基Ｙは１個又は２個の原子、好ましく
は１個の原子によってＡ1 をＡ2 から分離する型の架橋
基である。該架橋基は多くの場合炭化水素基、特に飽和
炭化水素基、たとえばメチレン、シクロヘキシルメチレ
ン、２−［２．２．１］−ビシクロヘプチルメチレン、
エチレン、イソプロピリデン、ネオペンチリデン、シク
ロヘキシリデン、シクロペンタデシリデン、シクロドデ
シリデン又はアダマンチリデン、特にｇｅｍ−アルキレ
ン（アルキリデン）基である。しかしながら、不飽和基
及び炭素及び水素以外の原子を含む基、たとえば２，２
−ジクロルエチリデン、カルボニル、フタリジリデン、
オキシ、チオ、スルホキシ及びスルホン基も包含され
る。入手容易性及び本発明の目的に特に適当であるとい
う理由で、式（III)の好ましい単位は２，２−ビス（４
−フェニレン）プロパンカーボネート単位、すなわちビ
スフェノールＡから誘導される、Ｙがイソプロピリデン
基でありそしてＡ1 及びＡ2 がそれぞれｐ−フェニレン
基である単位、である。
は１個の原子によってＡ1 をＡ2 から分離する型の架橋
基である。該架橋基は多くの場合炭化水素基、特に飽和
炭化水素基、たとえばメチレン、シクロヘキシルメチレ
ン、２−［２．２．１］−ビシクロヘプチルメチレン、
エチレン、イソプロピリデン、ネオペンチリデン、シク
ロヘキシリデン、シクロペンタデシリデン、シクロドデ
シリデン又はアダマンチリデン、特にｇｅｍ−アルキレ
ン（アルキリデン）基である。しかしながら、不飽和基
及び炭素及び水素以外の原子を含む基、たとえば２，２
−ジクロルエチリデン、カルボニル、フタリジリデン、
オキシ、チオ、スルホキシ及びスルホン基も包含され
る。入手容易性及び本発明の目的に特に適当であるとい
う理由で、式（III)の好ましい単位は２，２−ビス（４
−フェニレン）プロパンカーボネート単位、すなわちビ
スフェノールＡから誘導される、Ｙがイソプロピリデン
基でありそしてＡ1 及びＡ2 がそれぞれｐ−フェニレン
基である単位、である。
【００１９】本発明のポリカーボネートの製造をつぎの
実施例によって説明する。分子量はポリスチレンを標準
としてゲル透過クロマトグラフィーによって測定した。実施例４−９ 種々のビスフェノール混合物を８．４２ｗ／ｖ％の割合
で塩化メチレンと及び次記の容量％の他の物質と混合し
た。こゝで使用するすべての％は該塩化メチレンに基づ
くものである。
実施例によって説明する。分子量はポリスチレンを標準
としてゲル透過クロマトグラフィーによって測定した。実施例４−９ 種々のビスフェノール混合物を８．４２ｗ／ｖ％の割合
で塩化メチレンと及び次記の容量％の他の物質と混合し
た。こゝで使用するすべての％は該塩化メチレンに基づ
くものである。
【００２０】水 ― ９０％ 塩化メチレン中の５ｗ／ｖ％トリエチルアミン溶液 ―
１．５％ 塩化メチレン中の５ｗ／ｖ％フェノール溶液 ― ２％ この混合物中に、撹拌下、ホスゲンを１０分間、合計で
６ｗ／ｖ％通送し、その間水性相のｐＨ値を１０％水酸
化ナトリウム水溶液の添加によって１０ないし１１の値
に保持した。この混合物をついで窒素で１５分間パージ
しそして有機相を分離し、３％塩酸水溶液で２回洗浄
し、ついで水で４回洗浄しそして硫酸マグネシウム上で
乾燥した。乾燥した溶液をメタノール中に注入しそして
沈殿した固体を塩化メチレン中に再溶解し、アセトニト
リルの添加によって沈殿させ、再び塩化メチレン中に溶
解させ、そしてメタノールの添加によって再び沈殿させ
た。得られる共ポリカーボネートを恒量まで乾燥した。
これらの本性（組成）及び性質を次表に示す。
１．５％ 塩化メチレン中の５ｗ／ｖ％フェノール溶液 ― ２％ この混合物中に、撹拌下、ホスゲンを１０分間、合計で
６ｗ／ｖ％通送し、その間水性相のｐＨ値を１０％水酸
化ナトリウム水溶液の添加によって１０ないし１１の値
に保持した。この混合物をついで窒素で１５分間パージ
しそして有機相を分離し、３％塩酸水溶液で２回洗浄
し、ついで水で４回洗浄しそして硫酸マグネシウム上で
乾燥した。乾燥した溶液をメタノール中に注入しそして
沈殿した固体を塩化メチレン中に再溶解し、アセトニト
リルの添加によって沈殿させ、再び塩化メチレン中に溶
解させ、そしてメタノールの添加によって再び沈殿させ
た。得られる共ポリカーボネートを恒量まで乾燥した。
これらの本性（組成）及び性質を次表に示す。
【００２１】 実施例 ビスフェノール、モル％ Ｍｗ Ｍｗ／Ｍｎ Tg. ℃ ４ 実施例１ 100 50,000 1.91 209 ５ 実施例１ 50 90,500 1.68 186 ビスフェノールＡ 50 ６ 実施例１ 50 ―― ―― 234 実施例３ 50 ７ 実施例２ 100 ―― ―― 221 ８ 実施例２ 50 70,000 1.74 207 ビスフェノールＡ 50 ９ 実施例３ 50 50,800 1.57 185 ビスフェノールＡ 50 塩化メチレン中の３．５ｗ／ｖ％のビスフェノールＡ稀
溶液を使用しかつトリエチルアミン、フェノール及びホ
スゲンをそれぞれ０．７５％、１％及び３％の低割合で
使用して上記と同様の結果を得た。実施例１０ 塩化メチレン５０ｍｌ中の実施例４のポリカーボネート
３００ｍｇ及びｍ−クロル過安息香酸１１６ｍｇ（０．
６７ミリモル）の溶液を室温で１時間撹拌し、その後に
生成物をメタノール中に沈殿させ、濾過しそして真空炉
中で乾燥することによって単離した。この生成物は所望
のヘテロシクロヘキシリデンビスフェノールスルホキシ
ド／スルホン共ポリカーボネートであり、２８３℃のガ
ラス転移温度を有していた。
溶液を使用しかつトリエチルアミン、フェノール及びホ
スゲンをそれぞれ０．７５％、１％及び３％の低割合で
使用して上記と同様の結果を得た。実施例１０ 塩化メチレン５０ｍｌ中の実施例４のポリカーボネート
３００ｍｇ及びｍ−クロル過安息香酸１１６ｍｇ（０．
６７ミリモル）の溶液を室温で１時間撹拌し、その後に
生成物をメタノール中に沈殿させ、濾過しそして真空炉
中で乾燥することによって単離した。この生成物は所望
のヘテロシクロヘキシリデンビスフェノールスルホキシ
ド／スルホン共ポリカーボネートであり、２８３℃のガ
ラス転移温度を有していた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 米国特許3395186（ＵＳ，Ａ) ＤＩＥＤＥＲＩＣＨ，ＦＲＡＮＣＯＩ Ｓ；ＣＡＲＣＡＮＡＧＵＥ，ＤＡＮＩＥ Ｌ Ｒ．：ＨＥＬＶ．ＣＨＩＭ．ＡＣＴ Ａ（1994），77（３），800−18
Claims (18)
- 【請求項１】 式： 【化１】 （式中、ＸはＳ、ＳＯ、ＳＯ2 又はＮ−ＯＣＯＲであり
そしてＲはＣ1-4 第一級又は第二級アルキル基又はＣ
6-8 芳香族基である）のヘテロシクロヘキシリデンビス
フェノール。 - 【請求項２】 ＸがＳである請求項１記載のヘテロシク
ロヘキシリデンビスフェノール。 - 【請求項３】 ＸがＳＯである請求項１記載のヘテロシ
クロヘキシリデンビスフェノール。 - 【請求項４】 ＸがＳＯ2 である請求項１記載のヘテロ
シクロヘキシリデンビスフェノール。 - 【請求項５】 ＸがＮ−ＯＣＯＲである請求項１記載の
ヘテロシクロヘキシリデンビスフェノール。 - 【請求項６】 Ｒがメチル基である請求項５記載のヘテ
ロシクロヘキシリデンビスフェノール。 - 【請求項７】 式： 【化２】 （式中、ＸはＳ、ＳＯ、ＳＯ2 又はＮ−ＯＣＯＲであり
そしてＲはＣ1-4 第一級又は第二級アルキル基又はＣ
6-8 芳香族基である）のヘテロシクロヘキシリデンビス
フェノール構造単位を含んでなるポリカーボネート。 - 【請求項８】 単独ポリカーボネートである請求項７記
載のポリカーボネート。 - 【請求項９】 ＸがＳである請求項８記載の単独ポリカ
ーボネート。 - 【請求項１０】 ＸがＮ−ＯＣＯＲである請求項８記載
の単独ポリカーボネート。 - 【請求項１１】 Ｒがメチル基である請求項１０記載の
単独ポリカーボネート。 - 【請求項１２】 共ポリカーボネートである請求項７記
載のポリカーボネート。 - 【請求項１３】 ＸがＳＯである単位及びＸがＳＯ2 で
ある単位を含んでなる請求項７記載の共ポリカーボネー
ト。 - 【請求項１４】 約２５−７５個数％のヘテロシクロヘ
キシリデンビスフェノール構造単位を含んでなる請求項
１２記載の共ポリカーボネート。 - 【請求項１５】 さらに式： （式中、Ａ1 及びＡ2 の各々は単環式の二価芳香族基で
ありそしてＹは１個又は２個の原子によってＡ1 をＡ2
から分離する型の架橋基である）の構造単位を含有する
請求項１２記載の共ポリカーボネート。 - 【請求項１６】 ＸがＳである請求項１２記載の共ポリ
カーボネート。 - 【請求項１７】 ＸがＮ−ＯＣＯＲである請求項１２記
載の共ポリカーボネート。 - 【請求項１８】 Ｒがメチル基である請求項１２記載の
共ポリカーボネート。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
| US07/989,316 US5300622A (en) | 1992-12-11 | 1992-12-11 | Polycarbonate from heterocyclic bis(4-hydroxyphenyl)cycloalkane |
| US989316 | 1992-12-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06263863A JPH06263863A (ja) | 1994-09-20 |
| JP2593624B2 true JP2593624B2 (ja) | 1997-03-26 |
Family
ID=25535003
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP5309604A Expired - Lifetime JP2593624B2 (ja) | 1992-12-11 | 1993-12-10 | 複素環式ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン及びそれから製造されるポリカーボネート |
Country Status (5)
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|---|---|
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| EP (1) | EP0606722B1 (ja) |
| JP (1) | JP2593624B2 (ja) |
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-
1994
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Non-Patent Citations (1)
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| ＤＩＥＤＥＲＩＣＨ，ＦＲＡＮＣＯＩＳ；ＣＡＲＣＡＮＡＧＵＥ，ＤＡＮＩＥＬ Ｒ．：ＨＥＬＶ．ＣＨＩＭ．ＡＣＴＡ（１９９４），７７（３），８００−１８ |
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