JPS6210071A - ビス−キノキサリンおよびその製造方法 - Google Patents
ビス−キノキサリンおよびその製造方法Info
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- JPS6210071A JPS6210071A JP61155212A JP15521286A JPS6210071A JP S6210071 A JPS6210071 A JP S6210071A JP 61155212 A JP61155212 A JP 61155212A JP 15521286 A JP15521286 A JP 15521286A JP S6210071 A JPS6210071 A JP S6210071A
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- C07D241/36—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D241/38—Heterocyclic compounds containing 1,4-diazine or hydrogenated 1,4-diazine rings condensed with carbocyclic rings or ring systems with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atoms
- C07D241/40—Benzopyrazines
- C07D241/42—Benzopyrazines with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to carbon atoms of the hetero ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/04—Aromatic polycarbonates
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
式中、基Rは相互に独立して、4−ヒドロキシアリール
または3−ヒドロキシアリール基であり、該基は随時1
個またはそれ以上のフルキル、アルコキシ、71ノ−ル
またはハロゲン置換基をもっていてもよく、モしてAr
は好ましくは炭素原子6〜30個を有し、且つ単核また
は多核であることができる4価の芳香族基であり、該多
核基は随時融合及び/または架橋していてもよいか、或
いは架橋員としてヘテロ原子またはカルボニル基が81
能し、そして該4価のAr基はアルキル、アルコキシ、
アリールまたはハロゲン置換基をもつことができる、 のビス−キノキサリン類に関する。
または3−ヒドロキシアリール基であり、該基は随時1
個またはそれ以上のフルキル、アルコキシ、71ノ−ル
またはハロゲン置換基をもっていてもよく、モしてAr
は好ましくは炭素原子6〜30個を有し、且つ単核また
は多核であることができる4価の芳香族基であり、該多
核基は随時融合及び/または架橋していてもよいか、或
いは架橋員としてヘテロ原子またはカルボニル基が81
能し、そして該4価のAr基はアルキル、アルコキシ、
アリールまたはハロゲン置換基をもつことができる、 のビス−キノキサリン類に関する。
これに関連するアルキル置換基は好ましくはメチル、エ
チル、n−プロビル、イソプロビル、n−ブチル、イン
ブチルまたはtert.−ブチル基であり;アルコキシ
置換基はメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、インプ
ロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシまたはtert
、−ブトキシ基であり;アリール置換基は7エ二ル、ト
リル、クロロフェニルまたはす7チル基であり;そして
ハロゲン置換基はフッ素、塩素または臭素である。
チル、n−プロビル、イソプロビル、n−ブチル、イン
ブチルまたはtert.−ブチル基であり;アルコキシ
置換基はメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、インプ
ロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシまたはtert
、−ブトキシ基であり;アリール置換基は7エ二ル、ト
リル、クロロフェニルまたはす7チル基であり;そして
ハロゲン置換基はフッ素、塩素または臭素である。
適当なヒドロキシアリール基Rはヒドロキシフェニル、
クレシル、ヒドロキシビフェニル、ヒドロキシメトキシ
フェニル、ヒドロキシクロロフェニル及びヒドロキシ7
エ二ルである。
クレシル、ヒドロキシビフェニル、ヒドロキシメトキシ
フェニル、ヒドロキシクロロフェニル及びヒドロキシ7
エ二ルである。
適当な4価の芳香族^「基はフェニレン、ナフチレン、
ビフェニレン、スルホ−ビス(フェニレン)、オキシ−
ビス(フェニレン)及びカルボニル−ビス(フェニレン
)並びに対応するアルキル−、アルコキシ−またはハロ
ゲン−置換された4価の芳香族Ar基である。
ビフェニレン、スルホ−ビス(フェニレン)、オキシ−
ビス(フェニレン)及びカルボニル−ビス(フェニレン
)並びに対応するアルキル−、アルコキシ−またはハロ
ゲン−置換された4価の芳香族Ar基である。
基Rの例は4−ヒドロキシフェニル、3−ヒドロキシ7
エ二ル、4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル、4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル、3−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル、5−ヒドロキシ−2−ビフェニル、4
−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル、4−ヒドロキシ
−3−クロロフェニル及び4′−ヒドロキシナフチ−1
−イルである。
エ二ル、4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル、4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル、3−ヒドロキシ−5−
メチルフェニル、5−ヒドロキシ−2−ビフェニル、4
−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル、4−ヒドロキシ
−3−クロロフェニル及び4′−ヒドロキシナフチ−1
−イルである。
^「基の例はL2t4t5−フェニレン、2,3.0.
7−す7チレン、3.3’ 、4.4’−ビフェニレン
、2.2’ 、3.3’ −ビフェニレン、スルホ−ビ
ス(3,4−7ヱニレン)、スルホ−ビス(2,3−フ
ェニレン)、オキシ−ビス(3,4−7ヱニレン)、オ
キシ−ビス(2,3−フェニレン)、カルボニル−ビス
(3,4−フェニレン)及びカルボニル−ビス(2゜3
−フェニレン)である。
7−す7チレン、3.3’ 、4.4’−ビフェニレン
、2.2’ 、3.3’ −ビフェニレン、スルホ−ビ
ス(3,4−7ヱニレン)、スルホ−ビス(2,3−フ
ェニレン)、オキシ−ビス(3,4−7ヱニレン)、オ
キシ−ビス(2,3−フェニレン)、カルボニル−ビス
(3,4−フェニレン)及びカルボニル−ビス(2゜3
−フェニレン)である。
式Iの化合物の例は次のものである:z*z’ 13.
3′ −テトラ−(4−ヒドロキシフェニル)−6,6
’ −ビス−キノキサリン、2.2’ 、3.3’ −
テトラ−(3−ヒドロキシフェニル)−6,6’−ビス
−キノキサリン、2.2’ 、3.3’−テトラ−(4
−ヒドロキシ7ヱニル)−5゜5′−ビス−キノキサリ
ン、2.2’ 、3.3’ −テトラ−(3−ヒドロキ
シフェニル)−5,5’ −ビス−キノキサリン、6.
6′ −スルホニル−ビス(2,3−シー[ヒドロキシ
7エ二ル]−キノキサリン)、6.6’ −スルホニル
−ビス(2゜3−ノー[3−ヒドロキシフェニル1−キ
ノキサリン)、5゜5′−スルホニル−ビス(2,3−
ノー[4−ヒドロキシ7エ二ル1−キノキサリン)、5
.5’ −スルホニル−ビス(2゜3−ノー[3−ヒド
ロキシフェニル]−キノキサリン)、6曾6′−オキシ
−ビス(2,3−ジー[4−ヒドロキシフェニル]−キ
ノキサリン)、6.6′ −オキシ−ビス(2,3−シ
ー[3−ヒトロキシフエニル]−キノキサリン)、5.
5’ −オキシ−ビス(2,3−シー[4−ヒドロキシ
フェニル]−キノキサリン)、5,5′ −オキシ−ビ
ス(2,3−シー[3−ヒドロキシフェニル]−キノキ
サリン)、ate’ −カルボニル−ビス(2,3−ジ
ー14−ヒドロキシフェニル11ノキサリン)、6.6
′ −カルボニル−ビス(2,3−ノー[3−ヒトロキ
シフエニル]−キノキサリン)、5.5’−カルボニル
−ビス(2,3−ノー[4−ヒドロキシフェニル]−キ
ノキサリン)、5.5″−カルボニル−ビス(2,3−
ノー13−ヒドロキシフェニル1−キノキサリン)、2
.2’ 。
3′ −テトラ−(4−ヒドロキシフェニル)−6,6
’ −ビス−キノキサリン、2.2’ 、3.3’ −
テトラ−(3−ヒドロキシフェニル)−6,6’−ビス
−キノキサリン、2.2’ 、3.3’−テトラ−(4
−ヒドロキシ7ヱニル)−5゜5′−ビス−キノキサリ
ン、2.2’ 、3.3’ −テトラ−(3−ヒドロキ
シフェニル)−5,5’ −ビス−キノキサリン、6.
6′ −スルホニル−ビス(2,3−シー[ヒドロキシ
7エ二ル]−キノキサリン)、6.6’ −スルホニル
−ビス(2゜3−ノー[3−ヒドロキシフェニル1−キ
ノキサリン)、5゜5′−スルホニル−ビス(2,3−
ノー[4−ヒドロキシ7エ二ル1−キノキサリン)、5
.5’ −スルホニル−ビス(2゜3−ノー[3−ヒド
ロキシフェニル]−キノキサリン)、6曾6′−オキシ
−ビス(2,3−ジー[4−ヒドロキシフェニル]−キ
ノキサリン)、6.6′ −オキシ−ビス(2,3−シ
ー[3−ヒトロキシフエニル]−キノキサリン)、5.
5’ −オキシ−ビス(2,3−シー[4−ヒドロキシ
フェニル]−キノキサリン)、5,5′ −オキシ−ビ
ス(2,3−シー[3−ヒドロキシフェニル]−キノキ
サリン)、ate’ −カルボニル−ビス(2,3−ジ
ー14−ヒドロキシフェニル11ノキサリン)、6.6
′ −カルボニル−ビス(2,3−ノー[3−ヒトロキ
シフエニル]−キノキサリン)、5.5’−カルボニル
−ビス(2,3−ノー[4−ヒドロキシフェニル]−キ
ノキサリン)、5.5″−カルボニル−ビス(2,3−
ノー13−ヒドロキシフェニル1−キノキサリン)、2
.2’ 。
3.3′ −テトラ(4−ヒドロキシ−3−メチル7ヱ
ニル)−6,6′−ビス−キノキサリン、2.2’ 、
3.3’ −テトラ(4−トドワキシー2−メチルフェ
ニル)−6,8’−ビス−キノキサリン、2.2’ 、
3.3’ −テトラ(4−ヒドロキシ−3−メトキシフ
ェニル)−6,6’ −ビス−キノキサリン、2.2″
、3.3’ −テトラ(4−ヒドロキシ−2−メトキシ
フェニル)−6,6’−ビス−キノキサリン、2.2’
。
ニル)−6,6′−ビス−キノキサリン、2.2’ 、
3.3’ −テトラ(4−トドワキシー2−メチルフェ
ニル)−6,8’−ビス−キノキサリン、2.2’ 、
3.3’ −テトラ(4−ヒドロキシ−3−メトキシフ
ェニル)−6,6’ −ビス−キノキサリン、2.2″
、3.3’ −テトラ(4−ヒドロキシ−2−メトキシ
フェニル)−6,6’−ビス−キノキサリン、2.2’
。
3.3′ −テトラ(4−ヒドロキシ−3−クロロフェ
ニル)−6,6′−ビス−キノキサリン、2.2’ 、
3.3’ −テトラ(4−ヒドロキシ−2−クロロフェ
ニル) −6、6’−ビスーキノキサリン、2.2’
、3.3’ −テトラ(6−ヒドロキシ−3−ビフェニ
ル)−6,6’ −ビス−キノキサリン、及び 式Iの好ましい化合物は である。
ニル)−6,6′−ビス−キノキサリン、2.2’ 、
3.3’ −テトラ(4−ヒドロキシ−2−クロロフェ
ニル) −6、6’−ビスーキノキサリン、2.2’
、3.3’ −テトラ(6−ヒドロキシ−3−ビフェニ
ル)−6,6’ −ビス−キノキサリン、及び 式Iの好ましい化合物は である。
式Iの新規なビス−キノキサリンは好ましくは式■
F12N Nil□
^「 ■
1128 N112
の対応するテトラ−アミノ化合物と式■R
N /
1 (■)
、−\
R
式中、^「及1/Rは式Iの場合に述べた意味を有する
、 の対応するa−ジケトンとを1:2の■:■のモル比に
おいて、20℃乃至200℃間、好ましくは40℃乃至
100℃間の温度で反応させることによって製造され、
また適当ならば、酸触媒を用いることができる。
、 の対応するa−ジケトンとを1:2の■:■のモル比に
おいて、20℃乃至200℃間、好ましくは40℃乃至
100℃間の温度で反応させることによって製造され、
また適当ならば、酸触媒を用いることができる。
r!2用し得る溶媒は低級アルコール、例えばメタノー
ル、エタノール及びインプロパツール、脂肪族エーテル
、例えばジエチルエーテル、環式エーテル、例えばテト
ラヒドロ7ラン及びノオキサン、ハロデノ炭化水素、例
えばクロロホルム、塩化メチレン及びジクロロエタン、
或いはエステル、例えば酢酸エチルである。この溶媒は
各々の場合に、反応体、即ち、テトラアミン化合物及び
a−ジケトンの十分な溶解が起こるように選ばれる。
ル、エタノール及びインプロパツール、脂肪族エーテル
、例えばジエチルエーテル、環式エーテル、例えばテト
ラヒドロ7ラン及びノオキサン、ハロデノ炭化水素、例
えばクロロホルム、塩化メチレン及びジクロロエタン、
或いはエステル、例えば酢酸エチルである。この溶媒は
各々の場合に、反応体、即ち、テトラアミン化合物及び
a−ジケトンの十分な溶解が起こるように選ばれる。
この反応を触媒の不存在下において行うことができるか
、或いは弱酸、例えば酢酸、プロピオン酸、安息香酸ま
たはP−)ルエンスルホン酸によって触媒させることが
できる。
、或いは弱酸、例えば酢酸、プロピオン酸、安息香酸ま
たはP−)ルエンスルホン酸によって触媒させることが
できる。
反応は好ましくはa−ジケトン■を上記溶媒の1種に溶
解し、テトラアミン■のモル量の1分を加えることによ
って行なわれる。式■の化合物のモル数を基準にしてo
、oot〜0.1モル%の量で上記触媒を添加した後、
混合物を0.5時間乃至5時間反応させる。これによっ
て反応生成物が沈殿する。このものを吸引濾過によって
単離することができる。
解し、テトラアミン■のモル量の1分を加えることによ
って行なわれる。式■の化合物のモル数を基準にしてo
、oot〜0.1モル%の量で上記触媒を添加した後、
混合物を0.5時間乃至5時間反応させる。これによっ
て反応生成物が沈殿する。このものを吸引濾過によって
単離することができる。
精製はアルカリ、例えば希釈水酸化ナトリウム溶液また
はアンモニア溶液に溶解し、次に生成物を酸中に沈殿さ
せるか、或いは普通の溶媒、例えばノオキサンから再結
晶化によって行うことがで外る。
はアンモニア溶液に溶解し、次に生成物を酸中に沈殿さ
せるか、或いは普通の溶媒、例えばノオキサンから再結
晶化によって行うことがで外る。
かくして、また本発明は、式■のテトラアミンと式■の
ジケトンとを1:2の■:■のモル比において有極性有
機溶媒中で、20乃至200℃間の温度で0゜5〜51
Li間にわたって反応させることを特徴とする式■のビ
ス−キノキサリン類の111!遣方法に関し、適当なら
ば、式■の化合物のモル数を基準にして触媒0.001
〜0.1モル%の添加によって反応を促進させることが
できる。
ジケトンとを1:2の■:■のモル比において有極性有
機溶媒中で、20乃至200℃間の温度で0゜5〜51
Li間にわたって反応させることを特徴とする式■のビ
ス−キノキサリン類の111!遣方法に関し、適当なら
ば、式■の化合物のモル数を基準にして触媒0.001
〜0.1モル%の添加によって反応を促進させることが
できる。
適当なテトラ−アミノ化合物■の例は次のものである:
1,2,4.5−テトラ7ミ/ベンゼン、2.3,5
゜6−テトラアミノピリジン、LL516−チトラアミ
ノナフタL/ン、3.3’ 、4.4’−テトラアミ/
ジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノベンジジン、
3!3′嘗4.4’ −f )ラアミノジフェニルスル
ホン、313’ 1414′−テトラアミノベンゾフェ
ノン、24’ t313′−テトラアミノビフェニル、
2.2’ 、3.3″−テトラアミ/ジフェニルエーテ
ル、2.2’ 、3.3’ −テトラアミ/ベンゾフェ
ノン、2.2’ 、3.3’ −テトラアミ7シフエニ
ルスルホン、1,2,7.8−テトラアミノナフタレン
及び2,3,6.7−テトラアミノナフタレン。好まし
いテトラアミノ化合物は3,3′ −ジアミノベンジノ
ンである。
1,2,4.5−テトラ7ミ/ベンゼン、2.3,5
゜6−テトラアミノピリジン、LL516−チトラアミ
ノナフタL/ン、3.3’ 、4.4’−テトラアミ/
ジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノベンジジン、
3!3′嘗4.4’ −f )ラアミノジフェニルスル
ホン、313’ 1414′−テトラアミノベンゾフェ
ノン、24’ t313′−テトラアミノビフェニル、
2.2’ 、3.3″−テトラアミ/ジフェニルエーテ
ル、2.2’ 、3.3’ −テトラアミ/ベンゾフェ
ノン、2.2’ 、3.3’ −テトラアミ7シフエニ
ルスルホン、1,2,7.8−テトラアミノナフタレン
及び2,3,6.7−テトラアミノナフタレン。好まし
いテトラアミノ化合物は3,3′ −ジアミノベンジノ
ンである。
テトラアミノ化合物■は文献から公知のものであるか(
例えばWo 84101161,45〜59頁参照)、
或いは文献から公知の方法によって製造することができ
る。
例えばWo 84101161,45〜59頁参照)、
或いは文献から公知の方法によって製造することができ
る。
適当なa−ジケトン■の例は次のものである=4゜4′
−ジヒドロキシベンジル、4.4’ −ジヒドロキシ−
2,2’−ツメチルペンシル、4.4’−ジヒドロキシ
−2,2′−ジエチルベンジル、4,4′ −ジヒドロ
キシ−2゜2′−ジプロピルベンノル、4.4’ −ジ
ヒドロキシ−2゜2′−ジイソプロピルベンジル、4.
4’ −ジヒドロキシ−2,2′−ジプチルベンジル、
4.4’ −ジヒドロキシ−2雪2゛−ノーtert、
−ブチルベンシルドロキシ−2g2′−ノフェニルペン
シル、4,4′ −ジヒドロキシ−2,2′−ジクロロ
ベンノル、 4.4’ −ジヒドロキシ−2,2′−ジ
ブロモベンノル、3.3′ −ジヒドロキシベンジル、
3.3’ −ジヒドロキン−5.5′−ツメチルペンシ
ル、3.3’ −ジヒドロキシ−5.5’ −ジエチル
ペンシル、3.3’−ジヒドロキシ−5.5’ −ジプ
ロピルベンジル、3.3’ −ジヒドロキシ−5,5′
−シイソプロピルベンジル、3.3’ −ジヒドロキシ
−5,5′−ジプチルベンノル、3.3′ −ジヒドロ
キシ−5f5′−ノーtert、−ブチルベンジル、3
,3′ −ジヒドロキシ−5,5′−ジフエニルベンノ
ル、3,3′ −ジヒドロキシ−5,5′−ジクロロベ
ンノル、3.3’−ジヒドロキシ−5,5′−ジブロモ
ベンジル、ビス−1,2−(4−ヒドロキシナフチ−1
−イル)−エタンジオン及びビス−1,2−(6−ビト
ロキシナフチ−2−イル)−エタンジオン。好ましいa
−ノヶトンは4,4′ −ノヒドロキシベンジルである
。
−ジヒドロキシベンジル、4.4’ −ジヒドロキシ−
2,2’−ツメチルペンシル、4.4’−ジヒドロキシ
−2,2′−ジエチルベンジル、4,4′ −ジヒドロ
キシ−2゜2′−ジプロピルベンノル、4.4’ −ジ
ヒドロキシ−2゜2′−ジイソプロピルベンジル、4.
4’ −ジヒドロキシ−2,2′−ジプチルベンジル、
4.4’ −ジヒドロキシ−2雪2゛−ノーtert、
−ブチルベンシルドロキシ−2g2′−ノフェニルペン
シル、4,4′ −ジヒドロキシ−2,2′−ジクロロ
ベンノル、 4.4’ −ジヒドロキシ−2,2′−ジ
ブロモベンノル、3.3′ −ジヒドロキシベンジル、
3.3’ −ジヒドロキン−5.5′−ツメチルペンシ
ル、3.3’ −ジヒドロキシ−5.5’ −ジエチル
ペンシル、3.3’−ジヒドロキシ−5.5’ −ジプ
ロピルベンジル、3.3’ −ジヒドロキシ−5,5′
−シイソプロピルベンジル、3.3’ −ジヒドロキシ
−5,5′−ジプチルベンノル、3.3′ −ジヒドロ
キシ−5f5′−ノーtert、−ブチルベンジル、3
,3′ −ジヒドロキシ−5,5′−ジフエニルベンノ
ル、3,3′ −ジヒドロキシ−5,5′−ジクロロベ
ンノル、3.3’−ジヒドロキシ−5,5′−ジブロモ
ベンジル、ビス−1,2−(4−ヒドロキシナフチ−1
−イル)−エタンジオン及びビス−1,2−(6−ビト
ロキシナフチ−2−イル)−エタンジオン。好ましいa
−ノヶトンは4,4′ −ノヒドロキシベンジルである
。
a−ノヶトンmは同様に文献から公知のものであるか、
或いは文献から公知の方法によって製造することができ
る。
或いは文献から公知の方法によって製造することができ
る。
本発明によるビス−キノキサリン類は分枝鎖状ポリカル
ボネートを製造する際に殊に適する分枝F+! tbr
anclling agents)である。これによっ
て得られる分枝鎖状ポリカルボネートは溶融糸(wel
d 5trand)の負荷の下で^度の安定性(溶融安
定性)を有し、従ってこれらのものは押出プロー成形法
(extrusion blou+ mouldiB
process)によって大容量の穴あき製品の製造に
適している。
ボネートを製造する際に殊に適する分枝F+! tbr
anclling agents)である。これによっ
て得られる分枝鎖状ポリカルボネートは溶融糸(wel
d 5trand)の負荷の下で^度の安定性(溶融安
定性)を有し、従ってこれらのものは押出プロー成形法
(extrusion blou+ mouldiB
process)によって大容量の穴あき製品の製造に
適している。
かくして、また本発明は分枝鎖状の熱塑性芳香族ポリカ
ルボネートを製造する際に式Iのビス−キノキサリン類
の用途に関する。
ルボネートを製造する際に式Iのビス−キノキサリン類
の用途に関する。
本発明に従って得られるポリカルボネート類は普通のポ
リカルボネート溶媒、例えばCH2Cl2に可溶性であ
る。
リカルボネート溶媒、例えばCH2Cl2に可溶性であ
る。
分枝鎖状ポリカルボネートの*iは公知である[例えば
米国再発行特許明細書第27,682号(Le^1G
076−US−CIl”Re)、DE−OS(ドイツ国
特許出願公開明細書)第2.113,347号(Le^
13638 )、同ttS2,254,918号(Le
^14711)、同第2,254,917号(Le^1
4719)及び同第2,500.092号(Le A
16142)参照】。
米国再発行特許明細書第27,682号(Le^1G
076−US−CIl”Re)、DE−OS(ドイツ国
特許出願公開明細書)第2.113,347号(Le^
13638 )、同ttS2,254,918号(Le
^14711)、同第2,254,917号(Le^1
4719)及び同第2,500.092号(Le A
16142)参照】。
式(1)のビス−キノキサリンを原則として全ての3種
の公知のポリカルボネート製造方法によって、相−境界
法、均質溶液法及び溶融エステル転位法によって熱塑性
ポリカルボネート中に配合することができる。相−境界
法が好ましい方法である。
の公知のポリカルボネート製造方法によって、相−境界
法、均質溶液法及び溶融エステル転位法によって熱塑性
ポリカルボネート中に配合することができる。相−境界
法が好ましい方法である。
本発明による式(1)のビス−キノキサリン類で分枝し
たポリカルボネートは顕著な構造粘性特性を有し、従っ
て、同一タイプのポリカルボネートが押出法及び注入形
成法に対して待に適している。
たポリカルボネートは顕著な構造粘性特性を有し、従っ
て、同一タイプのポリカルボネートが押出法及び注入形
成法に対して待に適している。
本発明によって得られる分枝したポリカルボネートは、
押出法及び注入成形法に適する変形速度の範囲において
、変形の特定の速度に関してその見掛は溶融粘度の顕著
な依存性を示す。その見掛は溶融粘度は低変形速度で高
く(押出)、そして高変形速度で低い(注入成形法)。
押出法及び注入成形法に適する変形速度の範囲において
、変形の特定の速度に関してその見掛は溶融粘度の顕著
な依存性を示す。その見掛は溶融粘度は低変形速度で高
く(押出)、そして高変形速度で低い(注入成形法)。
かくして、また本発明は分枝剤として式(1)のビス−
キノキサリンを用いることを4)徴とする相−境界法ま
たは均質溶液法の条件下で、ジフェノール類、ジフェノ
ール類のモル数を基準にして分枝剤0.01〜10モル
%、ジフェノール類のモル数を基準にしてモノフェノー
ル[1停止剤0゜1〜8.0モル%及びホスゲンかC)
、或いは溶融エステル転位法の条件下で、ジフェノール
類、ジフェノール類のモル数を基準にして分枝剤0.0
1〜1モル%及びジフェノール類のモル数を基準にして
炭i’i!ノアリールエステル95〜120モル%から
分枝した熱塑性芳香族ポリカルボネートの製造方法に関
する。
キノキサリンを用いることを4)徴とする相−境界法ま
たは均質溶液法の条件下で、ジフェノール類、ジフェノ
ール類のモル数を基準にして分枝剤0.01〜10モル
%、ジフェノール類のモル数を基準にしてモノフェノー
ル[1停止剤0゜1〜8.0モル%及びホスゲンかC)
、或いは溶融エステル転位法の条件下で、ジフェノール
類、ジフェノール類のモル数を基準にして分枝剤0.0
1〜1モル%及びジフェノール類のモル数を基準にして
炭i’i!ノアリールエステル95〜120モル%から
分枝した熱塑性芳香族ポリカルボネートの製造方法に関
する。
また本発明は本発明における方法によって得られる分枝
した熱塑性芳香族ポリカルボネート類に関する。
した熱塑性芳香族ポリカルボネート類に関する。
公知の如く、相−境界法の条件は水性アルカリ相及び生
ずるポリカルボネートを溶解する有機性の非水和性相の
組合せであり、適当なアルカリは例えばNaOHであり
、適当な有機溶媒は例えばCH2Cl2またはクロロベ
ンゼン、或いはCH2Cl2とクロロベンゼンとの混合
物であり、反応温度は約20℃乃至80℃闇であり、第
三アミン溶媒、例えばトリエチルアミンまたはN−エチ
ルピペリジン、或いは第四級アンモニウム塩触媒、例え
ば臭化テトラブチル7ンモニウムを同時に使用する。
ずるポリカルボネートを溶解する有機性の非水和性相の
組合せであり、適当なアルカリは例えばNaOHであり
、適当な有機溶媒は例えばCH2Cl2またはクロロベ
ンゼン、或いはCH2Cl2とクロロベンゼンとの混合
物であり、反応温度は約20℃乃至80℃闇であり、第
三アミン溶媒、例えばトリエチルアミンまたはN−エチ
ルピペリジン、或いは第四級アンモニウム塩触媒、例え
ば臭化テトラブチル7ンモニウムを同時に使用する。
使用するホスゲンの量を、相−境界法の反応条件下でカ
ルボネート基を生ずる他の化合物、例えば用いるジフェ
ノール類のモノ−またはビスクロロ炭酸エステル、或い
はCOB r 2によって一部または全部換えることが
できる。
ルボネート基を生ずる他の化合物、例えば用いるジフェ
ノール類のモノ−またはビスクロロ炭酸エステル、或い
はCOB r 2によって一部または全部換えることが
できる。
フェノール性OI(基当りのホスゲンのモル量または2
つのハロデ/−Co基の当量は45乃至90モル%問、
好ましくは60乃至70モル%開テある。
つのハロデ/−Co基の当量は45乃至90モル%問、
好ましくは60乃至70モル%開テある。
公知の如く、均質相における方法の条件はピリジンまた
は他の有機塩基と有機ポリカルボネート溶媒、例えば0
112Cl□との無水混合物及び約20℃乃至80℃間
の反応温度である。
は他の有機塩基と有機ポリカルボネート溶媒、例えば0
112Cl□との無水混合物及び約20℃乃至80℃間
の反応温度である。
上記の如く、用いるホスゲンの量を、該方法の反応条件
下でカルボネート基を生ずる他の化合物によって一部ま
たは全部換えることができ、そして相−境界法における
条件にほぼ対応する。
下でカルボネート基を生ずる他の化合物によって一部ま
たは全部換えることができ、そして相−境界法における
条件にほぼ対応する。
公知の溶融エステル転位法においては、ジフェノール類
が分枝剤0.01〜1.0モル%及び塩基触媒、例えば
ナトリウムビスフェノールの存在下:二おいて150〜
300℃の温度及び真空を適用して炭酸)7リールエス
テルと同様に反応し、エステル転位中に得られるフェノ
ール成分を同時に留去するが、但し、適当な反応方法に
よって、鎖停止剤に必要なジフェノールのモル数を基準
にして0.1〜8モル%のモ/7エ/−ルの特定量が反
応融成物中に残ることを確実にし、かくして、フェノー
ル性頷停止剤の別個の添加が不必要となる。得られるポ
リカルボネートを精製せずに融成物を介して単離する。
が分枝剤0.01〜1.0モル%及び塩基触媒、例えば
ナトリウムビスフェノールの存在下:二おいて150〜
300℃の温度及び真空を適用して炭酸)7リールエス
テルと同様に反応し、エステル転位中に得られるフェノ
ール成分を同時に留去するが、但し、適当な反応方法に
よって、鎖停止剤に必要なジフェノールのモル数を基準
にして0.1〜8モル%のモ/7エ/−ルの特定量が反
応融成物中に残ることを確実にし、かくして、フェノー
ル性頷停止剤の別個の添加が不必要となる。得られるポ
リカルボネートを精製せずに融成物を介して単離する。
使用し得る炭酸ノアリールエステルは例えば炭酸ジフェ
ニル、炭酸シー(ハロデジフェニル)、例えば炭酸シー
(クロロフェニル)、炭酸シー(ブロモフェニル)、炭
酸シー(トリクロロフェニル>、R’NIシー(トリブ
ロモフェニル)等、炭酸ノー(アルキルフェニル)、例
えば炭酸シー(トリル)等、炭酸シー(す7チル)、炭
酸シー(クロロナフチル)、炭酸7エ二ルトリル、炭酸
クロロフェニルクロロナフチルまたはこれらの混合物で
ある。
ニル、炭酸シー(ハロデジフェニル)、例えば炭酸シー
(クロロフェニル)、炭酸シー(ブロモフェニル)、炭
酸シー(トリクロロフェニル>、R’NIシー(トリブ
ロモフェニル)等、炭酸ノー(アルキルフェニル)、例
えば炭酸シー(トリル)等、炭酸シー(す7チル)、炭
酸シー(クロロナフチル)、炭酸7エ二ルトリル、炭酸
クロロフェニルクロロナフチルまたはこれらの混合物で
ある。
適当なモノフェニノール性鎖停止剤の例はフェノール、
m−及(7p−メ千ルフェノール、ta−及びp−エチ
ルフェニー/ル、麟−及びp−プロピルフェノール、e
e−及(/p−イソプロピルフェノール、p−ブロモフ
ェノール、論−及びp−ブチルフェノール、並びにp−
terL、−ブチル7エ/−ルであり、後者が好ましい
。
m−及(7p−メ千ルフェノール、ta−及びp−エチ
ルフェニー/ル、麟−及びp−プロピルフェノール、e
e−及(/p−イソプロピルフェノール、p−ブロモフ
ェノール、論−及びp−ブチルフェノール、並びにp−
terL、−ブチル7エ/−ルであり、後者が好ましい
。
適当なジフェノールの例はヒドロキノン、レゾルシノー
ル、4.4−ジヒドロキシジフェニル及びビス(ヒドロ
キシフェニル)−アルカン、−ジクロフルカン、スル7
フイド、エーテル、ケトン、スルホキシドまたはスルホ
ン、更にata−ビス(ヒドロキシフェニル)−ジイソ
プロピルベンゼン並びに対応する核−フルキル化または
核−ハロゲン化された化合物である。好ましいノ7工/
−ルは4.4’−ジヒドロキシ−2,2−ジフェニルプ
ロパン(ビス7エ/−ルA)、テトラクロロビスフェノ
ールA、テトラブロモビスフェノールA1テトラメチル
ビスフエノールA及びこれらの化合物の混合物である。
ル、4.4−ジヒドロキシジフェニル及びビス(ヒドロ
キシフェニル)−アルカン、−ジクロフルカン、スル7
フイド、エーテル、ケトン、スルホキシドまたはスルホ
ン、更にata−ビス(ヒドロキシフェニル)−ジイソ
プロピルベンゼン並びに対応する核−フルキル化または
核−ハロゲン化された化合物である。好ましいノ7工/
−ルは4.4’−ジヒドロキシ−2,2−ジフェニルプ
ロパン(ビス7エ/−ルA)、テトラクロロビスフェノ
ールA、テトラブロモビスフェノールA1テトラメチル
ビスフエノールA及びこれらの化合物の混合物である。
ビスフェノールAが殊に好ましい。
好ましい混合物はビスフェノールA80〜99゜5モル
%、好ましくは90〜98モル%及びテトラハロデノビ
スフェノールA20〜0.5モル%、好ましくは10〜
20モル%からなる。
%、好ましくは90〜98モル%及びテトラハロデノビ
スフェノールA20〜0.5モル%、好ましくは10〜
20モル%からなる。
他のジフェノール類は例えば米国特許第3.028.3
65号及び同第3.OG 2.781号に記載されてい
る。
65号及び同第3.OG 2.781号に記載されてい
る。
それ自体公知の相−境界縮合によってポリカルボネート
を製造するために、例えば式(1)のビス−キノキサリ
ンをジフェノール成分と共に水酸化ナトリウム溶液に溶
解し、そして非水和性溶媒例えば塩化メチレン、ククロ
ロエタンまたはクロロベンゼンを加える。室温でホスゲ
ンを導入した後、本発明によるポリカルボネートが分枝
剤の最大の配合に伴って有機相から、このものを洗浄し
た後、溶媒の留去または沈澱化によって高収率で直接単
離される。ポリカルボネートの鎖長は鎖停止剤の。
を製造するために、例えば式(1)のビス−キノキサリ
ンをジフェノール成分と共に水酸化ナトリウム溶液に溶
解し、そして非水和性溶媒例えば塩化メチレン、ククロ
ロエタンまたはクロロベンゼンを加える。室温でホスゲ
ンを導入した後、本発明によるポリカルボネートが分枝
剤の最大の配合に伴って有機相から、このものを洗浄し
た後、溶媒の留去または沈澱化によって高収率で直接単
離される。ポリカルボネートの鎖長は鎖停止剤の。
添加によって調節される。この重縮合は第三アミン、例
えばトリエチルアミンによって更に促進される。
えばトリエチルアミンによって更に促進される。
同様に原則として公知である溶液縮合においては、例え
ばホスゲン化は水の不存在下において補溶媒例えば塩化
メチレンと共に、用いるホスゲンを基準にしで少なくと
も2倍モル量のピリジンを用いて溶液中で行なわれる。
ばホスゲン化は水の不存在下において補溶媒例えば塩化
メチレンと共に、用いるホスゲンを基準にしで少なくと
も2倍モル量のピリジンを用いて溶液中で行なわれる。
対応する塩化ビリノニウム及び過剰量のピリジンを希釈
無機酸で洗浄して除去し、得られるポリカルボネート溶
液を普通の方法で処理する。
無機酸で洗浄して除去し、得られるポリカルボネート溶
液を普通の方法で処理する。
本発明に従って得られる熱塑性の高分子量可溶性且つ分
枝したポリカルボネートは相対粘度+7re1 1.2
3〜1.80(25℃で塩化メチレン100tal中の
生成物0.5gの溶液について測定)、平均分子量M
io、ooo〜200,000及IS 見掛は溶融粘度5 X 10’−102Pa、s(30
0℃及び1s−1乃至5 X 103s−1間の変形速
度で測定)を有している。
枝したポリカルボネートは相対粘度+7re1 1.2
3〜1.80(25℃で塩化メチレン100tal中の
生成物0.5gの溶液について測定)、平均分子量M
io、ooo〜200,000及IS 見掛は溶融粘度5 X 10’−102Pa、s(30
0℃及び1s−1乃至5 X 103s−1間の変形速
度で測定)を有している。
ポリカルボネートに対する普通の添加物、例えば染料、
顔料、離型剤、水分、熱及びUV線の作用に対する安定
剤、潤滑剤、及び充填剤、例えばガラス粉末、石英製品
またはグラファイト、硫化モリブテン、金属粉末、高融
点プラスティクス粉末、例えばポリテトラプルオロエチ
レン粉末、天然繊維、例えば綿、シサル麻及び石綿、更
に極めて種々なタイプのガラス繊維、金属フィラメント
及び重縮合の融成物中で抵抗に対して安定な且つ重縮合
に顕著な損害を与えぬaa*を本発明に従って得られる
ポリカルボネートにその製造前、製造中または製造後に
加えることができる。
顔料、離型剤、水分、熱及びUV線の作用に対する安定
剤、潤滑剤、及び充填剤、例えばガラス粉末、石英製品
またはグラファイト、硫化モリブテン、金属粉末、高融
点プラスティクス粉末、例えばポリテトラプルオロエチ
レン粉末、天然繊維、例えば綿、シサル麻及び石綿、更
に極めて種々なタイプのガラス繊維、金属フィラメント
及び重縮合の融成物中で抵抗に対して安定な且つ重縮合
に顕著な損害を与えぬaa*を本発明に従って得られる
ポリカルボネートにその製造前、製造中または製造後に
加えることができる。
溶融糸のすぐれた安定特性のために、本発明によるポリ
カルボネートはブロー成形法によって穴あき製品を製造
する際に殊に適当である。またすぐれた構造粘性特性が
、例えば容易な方法で得るために、電気及び自動車の分
野において使用し得る機械的特性及び減じられたストレ
ス・クラッキングをもつ押出しフィルムにすることがで
きる。
カルボネートはブロー成形法によって穴あき製品を製造
する際に殊に適当である。またすぐれた構造粘性特性が
、例えば容易な方法で得るために、電気及び自動車の分
野において使用し得る機械的特性及び減じられたストレ
ス・クラッキングをもつ押出しフィルムにすることがで
きる。
全てのタイプの成形品及び型、例えば住宅、スプール(
spools)、おおい、家庭用具等を注入成形によっ
て製造することができる。
spools)、おおい、家庭用具等を注入成形によっ
て製造することができる。
実施例に述べた百分率含有量は、特記せぬ限り、重量に
関する。相対粘度?telは25℃で塩化メチレン中の
0.5%溶液について測定した。示した特定の変形速度
(S−’ )で見掛は溶融粘度[パスカル・秒(Pa、
s)]は300℃で測定した。更に詳細は実施例中に見
出すことができる。
関する。相対粘度?telは25℃で塩化メチレン中の
0.5%溶液について測定した。示した特定の変形速度
(S−’ )で見掛は溶融粘度[パスカル・秒(Pa、
s)]は300℃で測定した。更に詳細は実施例中に見
出すことができる。
び −
A:2,2’、3.3’−テトラ−(ヒドロキシフェニ
ル)−6,6′−ビス−キノキサリンの製゛ 4.4′−ジヒドロキシベンノル48.8.をメタノー
ル300曽!に溶解し、メタノール700鎗i中の3.
3′−ジアミノベンジシン21.4gをli+下した。
ル)−6,6′−ビス−キノキサリンの製゛ 4.4′−ジヒドロキシベンノル48.8.をメタノー
ル300曽!に溶解し、メタノール700鎗i中の3.
3′−ジアミノベンジシン21.4gをli+下した。
反応混合物を最初に室温で30分間攪拌し、この開に黄
色固体が徐々に沈澱した。還流下で2時間加熱して反応
を終了させた1反応生成物を吸引炉別し、ジオキサンか
ら再結晶させ、水流ポンプによる真空下にて100℃で
乾燥した。
色固体が徐々に沈澱した。還流下で2時間加熱して反応
を終了させた1反応生成物を吸引炉別し、ジオキサンか
ら再結晶させ、水流ポンプによる真空下にて100℃で
乾燥した。
収 量:53.3[+(=理論量の85%)元素分析二
04゜826N、04(626,67)に対する計算値
:C76,784,18N8.94%実測値: 76
.6 4.07 8,98%以下の実施例において
キノキサリンテトラ7エ/−ルと称する2、2’、3.
3’−テトラ(4−ヒドロキシフェニル)−6,6’−
ビス−キノキサリンは次の式に対応する: 実施例 1 ビスフェノールA(BPA)45.6g及びキノキサリ
ンテトラフェノール0.12511(ビスフェノールA
を基準にして分枝剤0.1モル%)を窒素下で6.2%
水酸化ナトリウム溶液680.に溶解した。安定化して
ない塩化メチレン900g中の7エノール0.677g
の溶液を加え、25℃ではげしく攪拌しながら30分間
にわたりpH値12〜13で、全体の反応混合物中にホ
ス2ン41.6gを通した。その後、トリエチルアミン
0.2gを加え、混合物を更に1時間後−反応させた。
04゜826N、04(626,67)に対する計算値
:C76,784,18N8.94%実測値: 76
.6 4.07 8,98%以下の実施例において
キノキサリンテトラ7エ/−ルと称する2、2’、3.
3’−テトラ(4−ヒドロキシフェニル)−6,6’−
ビス−キノキサリンは次の式に対応する: 実施例 1 ビスフェノールA(BPA)45.6g及びキノキサリ
ンテトラフェノール0.12511(ビスフェノールA
を基準にして分枝剤0.1モル%)を窒素下で6.2%
水酸化ナトリウム溶液680.に溶解した。安定化して
ない塩化メチレン900g中の7エノール0.677g
の溶液を加え、25℃ではげしく攪拌しながら30分間
にわたりpH値12〜13で、全体の反応混合物中にホ
ス2ン41.6gを通した。その後、トリエチルアミン
0.2gを加え、混合物を更に1時間後−反応させた。
有機相を分離し、2%リン酸で2回、または水相が電解
質を含まなくなるまで、水で3回洗浄した。溶媒を留去
した後、相対粘度りrel 1.346を有するポリ
カルボネー) 43.2gが得られた。
質を含まなくなるまで、水で3回洗浄した。溶媒を留去
した後、相対粘度りrel 1.346を有するポリ
カルボネー) 43.2gが得られた。
ポリカルボネート融成物を300℃に20分間加熱した
後、溶液粘度に変化は検出されなかった。
後、溶液粘度に変化は検出されなかった。
かくして、分枝したポリカルボネートは熱に対して安定
であった。
であった。
実施例 2
BPA45.6g及C/キノキサリンテトラフェノール
0.251g(ビスフェノールAを基準にして分枝剤0
.2モル%)を6.2%水酸化ナトリウム溶液680g
に窒素下で溶解し、フェノール0.677g及び安定化
してない塩化メチレン900g力’らなる溶液を加えた
。ホスゲン41.6gをはげしく攪拌しながら室温で1
時間にわたって通して(溶液のpH値:12〜13)、
)リエチルアミン0.2gの添加後、混合物を更に1時
間反応させた。アルカリ相からビスフェノールAを除去
した際、相を分離し、有機相を2%リン酸で2回、そし
て水−°:回、または洗浄水中に電解質がもはや検出で
きなくなるまで洗浄した。溶媒を留去した後、有機相か
ら分枝したポリカルボネートが得られた。
0.251g(ビスフェノールAを基準にして分枝剤0
.2モル%)を6.2%水酸化ナトリウム溶液680g
に窒素下で溶解し、フェノール0.677g及び安定化
してない塩化メチレン900g力’らなる溶液を加えた
。ホスゲン41.6gをはげしく攪拌しながら室温で1
時間にわたって通して(溶液のpH値:12〜13)、
)リエチルアミン0.2gの添加後、混合物を更に1時
間反応させた。アルカリ相からビスフェノールAを除去
した際、相を分離し、有機相を2%リン酸で2回、そし
て水−°:回、または洗浄水中に電解質がもはや検出で
きなくなるまで洗浄した。溶媒を留去した後、有機相か
ら分枝したポリカルボネートが得られた。
ηrel=1.378 M =38.700is
MLs=105,000 MLs=光故l!iしによっ
て測定した分子量。
て測定した分子量。
比較実験 1
実施例2における如き同一の方法でポリカルボネートを
製造したが、但し、分枝剤としてキノキサリンテトラフ
ェノールを加えなかった。
製造したが、但し、分枝剤としてキノキサリンテトラフ
ェノールを加えなかった。
+7rel=1,256 M =26,500i
s M =27,000 S 実施例2及び比較実WJ1は、粘度及び光散乱測定を介
して決定された分子量における差異から知り得るように
、ポリカルボネートにおけるキノキサンテトラフェノー
ルの共縮合によって達成された高度の分枝を例証してい
る。
s M =27,000 S 実施例2及び比較実WJ1は、粘度及び光散乱測定を介
して決定された分子量における差異から知り得るように
、ポリカルボネートにおけるキノキサンテトラフェノー
ルの共縮合によって達成された高度の分枝を例証してい
る。
実施例 3
ビスフェノールA22,8.、炭酸ジフェニル22.7
g及びキノキサリンテトラ7エ/−ル0.0626g(
ビスフェノールAを基準にして0.1モル%)を、R素
を含まぬ雰囲気下でナトリウムビスフェノレー)0.0
2mgと共に溶融し、5時間にわたって温度を200℃
〜300℃に上昇させ、そして圧力を1100IIII
IHからlmmHgに減少させた。エステル転位中に生
じたフェノールを留去した後、相対粘度?tel=1,
247を有する透明なポリカルボネートが得られた。
g及びキノキサリンテトラ7エ/−ル0.0626g(
ビスフェノールAを基準にして0.1モル%)を、R素
を含まぬ雰囲気下でナトリウムビスフェノレー)0.0
2mgと共に溶融し、5時間にわたって温度を200℃
〜300℃に上昇させ、そして圧力を1100IIII
IHからlmmHgに減少させた。エステル転位中に生
じたフェノールを留去した後、相対粘度?tel=1,
247を有する透明なポリカルボネートが得られた。
実施例 4
本発明によるポリカルボネートの顕著な構造粘性を説明
するために、実施例2及び比較実験1で製造したポリカ
ルボネートについて、すり速度における見掛は溶融粘度
の依存性を300℃で測定した(/ズルL/D=20)
。
するために、実施例2及び比較実験1で製造したポリカ
ルボネートについて、すり速度における見掛は溶融粘度
の依存性を300℃で測定した(/ズルL/D=20)
。
a、実施例2によるポリカルボネート
変形速度(s−’) 10’ 5X10’ 1G’
5X10210コb、比較実験1によるポリカルボネー
ト変形速度(S″″’) 10’ 5X10’ 10
” 5XIG210コ見掛は溶融粘度
5X10210コb、比較実験1によるポリカルボネー
ト変形速度(S″″’) 10’ 5X10’ 10
” 5XIG210コ見掛は溶融粘度
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、基Rは相互に独立して、4−ヒドロキシアリール
または3−ヒドロキシアリール基であり、該基は随時1
個またはそれ以上のアルキル、アルコキシ、アリールま
たはハロゲン置換基をもっていてもよく、そしてArは
単核または多核の4価の芳香族基であり、該多核基は随
時融合及び/または架橋していてもよく、架橋貝として
ヘテロ原子またはカルボニル基が機能し、そして該4価
のAr基は随時アルキル、アルコキシ、アリールまたは
ハロゲン置換基を含んでいてもよい、のビス−キノキサ
リン。 2、芳香族基Arが炭素原子6〜30個を有する特許請
求の範囲第1項記載のビス−キノキサリン。 3、R及び/またはArにおける置換基がメチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、tert、−ブチル、メトキシ、エトキシ、n−
プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブト
キシ、tert、−ブトキシ、フェニル、トリル、クロ
ロフェニル、ナフチル、フッ素、塩素または臭素から選
ばれる特許請求の範囲第1項または第2項記載のビス−
キノキサリン。 4、基Rがヒドロキシフェニル、クレシル、ヒドロキシ
ビフェニル、ヒドロキシメトキシフェニル、ヒドロキシ
クロロフェニル及びヒドロキシナフチルから選ばれる特
許請求の範囲第1項記載のビス−キノキサリン。 5、Arがフェニレン、ナフチレン、ビフェニレン、ス
ルホ−ビス(フェニレン)、オキシビス(フェニレン)
及びカルボニル−ビス(フェニレン)から選ばれた4価
の芳香族基である特許請求の範囲第1項または第4項記
載のビス−キノキサリン。 6、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の特許請求の範囲第1項記載の化合物。 7、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Arは特許請求の範囲第1項記載の意味を有する
、 のテトラアミンと一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、Rは特許請求の範囲1項記載の意味を有する、 のジケトンとを(II):(III)=1:2のモル比にお
いて有極性有機溶媒中にて20乃至200℃間の温度で
0.5〜5時間にわたって反応させることを特徴とする
特許請求の範囲第1〜6項のいずれかに記載のビス−キ
ノキサリンの製造方法。 8、反応を式(II)の化合物のモル数を基準にして酸触
媒0.001〜0.1モル%の添加によって促進させる
特許請求の範囲第7項記載の方法。 9、触媒を酢酸、プロピオン酸、安息香酸及びp−トル
エンスルホン酸から選ぶ特許請求の範囲第8項記載の方
法。 10、反応を40℃乃至100℃間の温度で行う特許請
求の範囲第7〜9項のいずれかに記載の方法。 11、溶媒をメタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン及び
酢酸エチルから選ぶ特許請求の範囲第7〜10項のいず
れかに記載の方法。 12、特許請求の範囲第7〜11項のいずれかに記載の
方法で製造した特許請求の範囲第1項記載のビス−キノ
キサリン。 13、分枝剤として特許請求の範囲第1〜6項及び第1
2項のいずれかに記載のビス−キノキサリンを用いるこ
とを特徴とする相−境界法または均質溶液法の条件下で
、ジフエノール(複数)、シフエノール(複数)のモル
数に関して分枝剤0.01〜1モル%、ジフエノール(
複数)のモル数に関してモノフェノール性鎖末端剤0.
1〜8.0モル%及びホスゲンから、或いは溶融エステ
ル転位法の条件下でジフェノール(複数)、ジフエノー
ル(複数)のモル数に関して分枝剤0.01〜1モル%
及びジフエノール(複数)のモル数に関してアリールカ
ルボネート95〜120モル%から分枝した熱塑性芳香
族ポリカルボネートの製造方法。 14、特許請求の範囲第13項記載の方法によって得ら
れる分枝した熱塑性芳香族ポリカルボネート。
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