JPH1097237A - 描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】斜め線の線幅１ドット及び太ベクトルを高速に
描画できるようにすること。 【解決手段】クリップ枠で選択されたベクトルの描画範
囲を描画する第１の描画部２０と、第１の描画部２０で
作成された描画結果をビットマップメモリ１０へ転送す
る第２の描画部９ａと、第１及び第２の描画部２０、９
ａの制御を行う制御部３ａとを備え、制御部３ａは、入
力されたベクトルを４５度を境界にしてＸ軸に近いグル
ープとＹ軸に近いグループに分け、Ｘ軸に近いベクトル
のグループの場合は、第１の描画部２０に描画依頼する
クリップ枠のＸ軸方向サイズを第１の描画部２０に設定
できる最大値とし、Ｙ軸に近いベクトルのグループの場
合は、第１の描画部２０に描画依頼するクリップ枠のＹ
軸方向サイズを第１の描画部２０に設定できる最大値と
することにより、描画するクリップ枠を設定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高速にベクトルの
描画を行うことを可能にした描画装置に関する。表示装
置において解像度が上がることにより、ベクトル描画を
行う場合、線幅のドット数の多いベクトル描画をする必
要が増してきた。このため、高速な太いベクトル描画が
必要とされている。

【０００２】

【従来の技術】図５０は従来例の説明図であり、図５０
（Ａ）は線分の説明、図５０（Ｂ）は１ドットベクトル
の場合の説明、図５０（Ｃ）は太ベクトルの場合の説明
である。

【０００３】図５０（Ａ）において、線の開始点を
（ｓ）、終了点を（ｅ）とすると線の長さはＬ（線長）
となり、Ｘ軸方向の長さはΔＸ、Ｙ軸方向の長さはΔＹ
となる。また、線のＸ軸との角度はθ（≦４５°）とな
る。

【０００４】図５０（Ｂ）において、開始点（ｓ）から
終了点（ｅ）までをドットで接続する演算（以下、ＤＤ
Ａ計算という）を行い得られた連続する水平（垂直）の
ドット列を外部に表示するためのビットマップメモリ
（ＢＭＭ）に描画する。この描画の順序は図示の→
→のように行われていた。

【０００５】図５０（Ｃ）において、太ベクトルの描画
は輪郭となるドットの座標を計算して求め、水平（垂
直）ベクトルで輪郭を結ぶことでビットマップメモリに
描画する。この描画の順序は図示の→→→→
のように行われていた。

【０００６】このように、ビットマップメモリに描画す
るためハードレジスタに、描画開始位置（ｓ）と終了位
置（ｅ）等を前記〜のように複数回設定して描画す
るのでありウエイトが乗るため、高速性を要求される処
理には不的確であった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】前記のような従来のも
のにおいては、次のような課題があった。 ：ＤＤＡの計算を１ドット単位で行っているため、処
理速度が遅くなっていた。

【０００８】：ビットマップメモリに描画する描画部
であるビットマップ描画ＬＳＩ（大規模集積回路）に１
ドット単位に起動をかけるので、処理速度が遅くなって
いた。

【０００９】本発明は、このような従来の課題を解決
し、斜め線の線幅１ドット及び太ベクトルを高速に描画
できるようにすることを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】図１は本発明の原理説明
図である。図１中、３ａは制御部、９ａは第２の描画
部、１０はビットマップメモリ（ＢＭＭ）、２０は第１
の描画部、ＬＭはローカルメモリである。

【００１１】本発明は前記従来の課題を解決するため次
のように構成した。 （１）：クリップ枠で選択されたベクトルの描画範囲を
描画する第１の描画部２０と、前記第１の描画部２０で
作成された描画結果をビットマップメモリ１０へ転送す
る第２の描画部９ａと、前記第１及び第２の描画部２
０、９ａの制御を行う制御部３ａとを備え、前記制御部
３ａは、入力されたベクトルを４５度を境界にしてＸ軸
に近いグループとＹ軸に近いグループに分け、前記Ｘ軸
に近いベクトルのグループの場合は、前記第１の描画部
２０に描画依頼するクリップ枠のＸ軸方向サイズを前記
第１の描画部２０に設定できる最大値とし、前記Ｙ軸に
近いベクトルのグループの場合は、前記第１の描画部２
０に描画依頼するクリップ枠のＹ軸方向サイズを前記第
１の描画部２０に設定できる最大値とすることにより、
描画するクリップ枠を設定する。

【００１２】（２）：前記（１）の描画装置において、
前記制御部３ａは、前記クリップ枠のＸ軸方向サイズか
らＹ軸方向サイズを算出、又は、Ｙ軸方向サイズからＸ
軸方向サイズを算出する場合、ベクトルの前記クリップ
枠への進入方向及び角度によって、クリップ枠内の開始
座標と終了座標を切捨て又は切上げを行って描画するク
リップ枠を設定する。

【００１３】（３）：クリップ枠で選択されたベクトル
の描画範囲を描画し、該描画されたベクトルで囲まれた
内部を面塗りする第１の描画部２０と、前記第１の描画
部２０で作成された描画結果をビットマップメモリ１０
へ転送する第２の描画部９ａと、前記第１及び第２の描
画部２０、９ａの制御を行う制御部３ａとを備え、前記
制御部３ａは、入力された太ベクトルを構成する一辺の
ベクトルに対して４５度を境界にしてＸ軸に近いグルー
プとＹ軸に近いグループに分け、前記Ｘ軸に近いベクト
ルのグループの場合は、前記第１の描画部２０に描画依
頼するクリップ枠のＸ軸方向サイズを前記第１の描画部
２０に設定できる最大値とし、前記Ｙ軸に近いベクトル
のグループの場合は、前記第１の描画部２０に描画依頼
するクリップ枠のＹ軸方向サイズを前記第１の描画部２
０に設定できる最大値とすることにより、クリップ枠を
算出し、該クリップ枠を算出したベクトルに対する辺の
ベクトルとぶつかるまで延長させた枠を描画するクリッ
プ枠とする。

【００１４】（４）：前記（３）の描画装置において、
前記クリップ枠を算出したベクトルに対する辺のベクト
ルとぶつかるまで延長させた描画するクリップ枠が、前
記第１の描画部２０に設定できる最大値を越える場合、
前記制御部３ａは、前記第１の描画部２０に、このクリ
ップ枠内を前記第１の描画部２０に設定できる最大の大
きさで満たされるまで繰り返して描画を行わせる。

【００１５】（５）：クリップ枠で選択されたベクトル
の描画範囲を描画し、該描画されたベクトルで囲まれた
内部を面塗りする第１の描画部２０と、前記第１の描画
部２０で作成された描画結果をビットマップメモリ１０
へ転送する第２の描画部９ａと、前記第１及び第２の描
画部２０、９ａの制御を行う制御部３ａとを備え、前記
制御部３ａは、入力された太ベクトルを構成する４点の
開始・終了Ｘ座標又は４点の開始・終了Ｙ座標が、前記
第１の描画部２０の描画可能な範囲を越えないベクトル
において、前記４点を含むクリップ枠を一つだけ設定
し、前記第１の描画部２０に、このクリップ枠内を前記
第１の描画部２０に設定できる最大の大きさで満たされ
るまで繰り返して描画を行わせる。

【００１６】（６）：クリップ枠で選択されたベクトル
の描画範囲を描画し、該描画されたベクトルで囲まれた
内部を面塗りする第１の描画部２０と、前記第１の描画
部２０で作成された描画結果をビットマップメモリ１０
へ転送する第２の描画部９ａと、前記第１及び第２の描
画部２０、９ａの制御を行う制御部３ａとを備え、前記
制御部３ａは、入力された太ベクトルを構成する進行方
向の２辺のベクトル各々に対して４５度を境界にしてＸ
軸に近いグループとＹ軸に近いグループに分け、前記Ｘ
軸に近いベクトルのグループの場合は、前記第１の描画
部２０に描画依頼するクリップ枠のＸ軸方向サイズを前
記第１の描画部２０に設定できる最大値とし、前記Ｙ軸
に近いベクトルのグループの場合は、前記第１の描画部
２０に描画依頼するクリップ枠のＹ軸方向サイズを前記
第１の描画部２０に設定できる最大値とすることによ
り、描画するクリップ枠を算出して前記第１の描画部２
０で描画を行い、前記２辺のベクトル内部の矩形域を前
記第２の描画部９ａのビットマップ転送機能を用いて塗
りつぶす。

【００１７】（作用）前記構成に基づく作用を説明す
る。制御部３ａで、入力されたベクトルを４５度を境界
にしてＸ軸に近いグループとＹ軸に近いグループに分
け、前記Ｘ軸に近いベクトルのグループの場合は、第１
の描画部２０に描画依頼するクリップ枠のＸ軸方向サイ
ズを前記第１の描画部２０に設定できる最大値とし、前
記Ｙ軸に近いベクトルのグループの場合は、前記第１の
描画部２０に描画依頼するクリップ枠のＹ軸方向サイズ
を前記第１の描画部２０に設定できる最大値とすること
により、描画するクリップ枠を設定する。このため、複
数のクリップ枠だけを複数の前記第１の描画部２０に描
画依頼することができ、斜め線を高速に描画することが
できる。

【００１８】また、前記制御部３ａは、前記クリップ枠
のＸ軸方向サイズからＹ軸方向サイズを算出、又は、Ｙ
軸方向サイズからＸ軸方向サイズを算出する場合、ベク
トルの前記クリップ枠への進入方向及び角度によって、
クリップ枠内の開始座標と終了座標を切捨て又は切上げ
を行って描画するクリップ枠を設定する。このため、Ｄ
ＤＡ計算によらないで、また、異なるＤＤＡ方式におい
ても対応したクリップ枠を設定することができる。

【００１９】さらに、制御部３ａで、入力された太ベク
トルを構成する一辺のベクトルに対して４５度を境界に
してＸ軸に近いグループとＹ軸に近いグループに分け、
前記Ｘ軸に近いベクトルのグループの場合は、第１の描
画部２０に描画依頼するクリップ枠のＸ軸方向サイズを
前記第１の描画部２０に設定できる最大値とし、前記Ｙ
軸に近いベクトルのグループの場合は、前記第１の描画
部２０に描画依頼するクリップ枠のＹ軸方向サイズを前
記第１の描画部２０に設定できる最大値とすることによ
り、クリップ枠を算出し、該クリップ枠を算出したベク
トルに対する辺のベクトルとぶつかるまで延長させた枠
を描画するクリップ枠とする。このため、太ベクトルと
交差する４座標を求めることなく、また、異なるＤＤＡ
方式においても対応したクリップ枠を設定することがで
きる。

【００２０】また、前記クリップ枠を算出したベクトル
に対する辺のベクトルとぶつかるまで延長させた描画す
るクリップ枠が、前記第１の描画部２０に設定できる最
大値を越える場合、前記制御部３ａは、前記第１の描画
部２０に、このクリップ枠内を前記第１の描画部２０に
設定できる最大の大きさで満たされるまで繰り返して描
画を行わせる。このため、途中の繰り返しクリップ枠の
情報（座標及びＸ、Ｙ軸方向サイズ）を作らないで描画
を行うことができる。

【００２１】さらに、制御部３ａは、入力された太ベク
トルを構成する４点の開始・終了Ｘ座標又は４点の開始
・終了Ｙ座標が、前記第１の描画部２０の描画可能な範
囲を越えないベクトルにおいて、前記４点を含むクリッ
プ枠を一つだけ設定し、第１の描画部２０に、このクリ
ップ枠内を前記第１の描画部２０に設定できる最大の大
きさで満たされるまで繰り返して描画を行わせる。この
ため、途中の繰り返しクリップ枠の情報（座標及びＸ、
Ｙ軸方向サイズ）を作らないで描画を行うことができ
る。

【００２２】また、制御部３ａで、入力された太ベクト
ルを構成する進行方向の２辺のベクトル各々に対して４
５度を境界にしてＸ軸に近いグループとＹ軸に近いグル
ープに分け、前記Ｘ軸に近いベクトルのグループの場合
は、第１の描画部２０に描画依頼するクリップ枠のＸ軸
方向サイズを前記第１の描画部２０に設定できる最大値
とし、前記Ｙ軸に近いベクトルのグループの場合は、前
記第１の描画部２０に描画依頼するクリップ枠のＹ軸方
向サイズを前記第１の描画部２０に設定できる最大値と
することにより、描画するクリップ枠を算出して前記第
１の描画部２０で描画を行い、前記２辺のベクトル内部
の矩形域を第２の描画部９ａのビットマップ転送機能を
用いて塗りつぶす。このため、第２の描画部９ａのビッ
トマップ転送機能を用いてベクトル展開処理時間を減ら
すことができ、高速に太ベクトル全体を描画することが
できる。

【００２３】

【発明の実施の形態】図２〜図４９は本発明の実施の形
態を示した図である。以下、図面に基づいて本発明の実
施の形態を説明する。 （１）：描画装置の説明 図２は描画装置の説明図である。図２において、描画装
置には、ＭＰＵ（マイクロプロセッサユニット）３、ロ
ーカルメモリ４、アウトラインフォントジェネレータＯ
ＦＧ（ＯＦＧ１、ＯＦＧ２、ＯＦＧ３、ＯＦＧ４）、Ｌ
Ｍ（ローカルメモリ）５、ＬＭ６、ＬＭ７、ＬＭ８、Ｒ
ＩＯ（ラスタイメージオペレータ）９、ＢＭＭ（ビット
マップメモリ）１０、出力部１１が設けてある。

【００２４】ＭＰＵ３は、上位装置等の外部２からベク
トル描画依頼を受け付け、ＯＦＧ１〜ＯＦＧ４、ＲＩＯ
９等の制御を行うものである。ローカルメモリ４は、Ｍ
ＰＵ３が使用するメモリである。

【００２５】ＯＦＧ１は、専用のＬＭ５に指定された座
標のベクトル描画と面塗りを行うものである。ＯＦＧ２
は、専用のＬＭ６に指定された座標のベクトル描画と面
塗りを行うものである。ＯＦＧ３は、専用のＬＭ７に指
定された座標のベクトル描画と面塗りを行うものであ
る。ＯＦＧ４は、専用のＬＭ８に指定された座標のベク
トル描画と面塗りを行うものである。

【００２６】ＬＭ５は、ＯＦＧ１が描画を行うメモリで
ある。ＬＭ６は、ＯＦＧ２が描画を行うメモリである。
ＬＭ７は、ＯＦＧ３が描画を行うメモリである。ＬＭ８
は、ＯＦＧ４が描画を行うメモリである。

【００２７】ＲＩＯ９は、ＯＦＧが描画したローカルメ
モリ上のデータをＢＭＭ１０に転送する描画部である。
ＢＭＭ１０は、外部に表示を行うための１画素単位の書
き込みが可能なメモリである。出力部１１は、表示、印
刷処理等の出力部である。

【００２８】このような、描画装置のＭＰＵ３は、外部
２からベクトル描画の依頼を受けるとＯＦＧ１〜ＯＦＧ
４を起動し、ＯＦＧ１〜ＯＦＧ４にそれずれの専用のロ
ーカルメモリであるＬＭ５〜ＬＭ８にベクトルを描画さ
せ、描画終了の割り込みをトリガにしてＲＩＯ９を起動
し、ＢＭＭ１０にＯＲモード（下面を消さないで上に書
く）で描画する。なお、ＯＦＧ１〜ＯＦＧ４は、４つ独
立して存在するものであり、ＯＦＧの個数が多いほど性
能が上がる可能性がある。

【００２９】このように、ベクトル描画結果を文字のよ
うに扱うことにより高速な処理が実現できる。なお、以
下の説明において、ＬＭ５〜ＬＭ８のサイズは、例えば
８０×８０ドット等の全て同じサイズとして説明する。

【００３０】（２）：ＯＦＧの説明 図３はＯＦＧの説明図であり、図３（Ａ）はＯＦＧの説
明、図３（Ｂ）はＯＦＧ座標系の説明である。

【００３１】図３（Ａ）において、図２のＯＦＧ１〜Ｏ
ＦＧ４の１つを示している。ＯＦＧには、コマンド受け
付け部２１、ベクトル描画部２２、塗り潰し処理部２
３、ローカルメモリＬＭ（図２のＬＭ５〜ＬＭ８のいず
れかに相当）が設けてある。

【００３２】コマンド受け付け部２１は、ＭＰＵ３から
コマンドを受け付けるもである。ベクトル描画部２２
は、指定されたＯＦＧ座標にベクトルを描画するもので
ある。塗り潰し処理部２３は、ベクトルにより一筆書き
で書かれた閉鎖領域を塗り潰すものである。但し、この
塗り潰しは指定されたクリップ領域のみであり、クリッ
プ領域の最大値はＬＭサイズである。

【００３３】図３（Ｂ）において、ＯＦＧ座標系の点線
で示している塗り潰し処理を行うクリップ領域は、任意
指定が可能なものである。 （３）：ＯＦＧのクリップの説明 図４はＯＦＧのクリップの説明図であり、図４（Ａ）は
マッピング枠の説明、図４（Ｂ）はクリップ機能の説明
である。

【００３４】図４（Ａ）において、太線はマッピング枠
を示しており、○はマッピング原点を示している。この
ＯＦＧの座標系でマッピング原点○をずらすことによっ
て任意の部分が見れる窓のようになっている。このマッ
ピング枠の大きさは可変であるが、最大値はＬＭサイズ
である。

【００３５】図４（Ｂ）において、太線枠内であるマッ
ピング枠をずらすことによって任意の部分が見れる窓の
ようになっており、太線枠内の部分だけを取り出すこと
をＯＦＧのクリップ機能という。

【００３６】（４）：ＯＦＧ起動フローの説明 図５はＯＦＧ起動フローの説明図である。以下、図５の
ステップＳ１〜ステップＳ４に従って説明する。

【００３７】Ｓ１：ＭＰＵ３は、ＯＦＧに座標データ、
マッピング原点、マッピング枠の大きさ等を与えて、Ｏ
ＦＧを起動する。ＯＦＧは、専用のローカルメモリＬＭ
にベクトルを展開（描画）し、展開終了で割り込みを発
生させＲＩＯ９を起動する。

【００３８】Ｓ２：ＲＩＯ９は、ＯＦＧの専用ローカル
メモリＬＭを転送元とし、ＯＦＧの専用ローカルメモリ
ＬＭのデータを読み出し、ＢＭＭ１０を転送先として、
データを転送する。

【００３９】Ｓ３：ＭＰＵ３は、ＲＩＯ９の転送処理終
了を待つ。 Ｓ４：ＭＰＵ３は、ＲＩＯ９の転送処理が終了し、マッ
ピング原点をずらしてＯＦＧを起動したいなら、ステッ
プＳ１に戻る（ＪＵＭＰに飛ぶ）。

【００４０】（５）：１ドットベクトル描画の説明 ：ＭＰＵ３は、長い１ドットベクトルの描画依頼を受
信すると、ベクトル作成座標の計算を行って、ＯＦＧに
作成依頼するデータに変換する（マッピング枠ごとに行
う）。以下、図６、図７に基づいて、ベクトル作成座標
の計算を説明する。

【００４１】図６はＢＭＭ→ＯＦＧ座標変換の説明図で
あり、図６（Ａ）はＢＭＭ座標系の説明、図６（Ｂ）は
ＯＦＧ座標系の説明である。図６（Ａ）のように、ＭＰ
Ｕ３は、開始点（ｓ）と終了点（ｅ）のベクトルの描画
依頼をＢＭＭ座標で受信し、マッピング枠毎にＯＦＧに
作成依頼するデータに変換するため図６（Ｂ）のＯＦＧ
座標系に変換する。図６（Ｂ）において、ＯＦＧ座標系
における開始点（ｓ）から終了点（ｅ）までを区切った
マッピング枠（点線で示す）が示されている。このマッ
ピング枠はできるだけ小さくするため次のようにする。

【００４２】図７はマッピング枠の説明図であり、図７
（Ａ）はＸ軸方向の区切りの説明、図７（Ｂ）はマッピ
ング枠の配置の説明である。図７（Ａ）において、開始
点（ｓ）からＸ軸方向にＯＦＧのＬＭサイズＸ（ＬＭの
最大サイズ）でマッピング枠を区切っていく。次に、図
７（Ｂ）のように、マッピング枠内の開始・終了座標か
らｙを算出し、小数点以下を切り上げ、切り捨てをして
マッピング枠座標及びサイズを決定する。図では、マッ
ピング（１）〜（３）と３つのマッピング枠が示されて
いる。

【００４３】：ＭＰＵ３は、ＯＦＧにベクトル作成依
頼を行う（全マッピングの依頼）。例えば、マッピング
（１）をＯＦＧ１に依頼し、マッピング（２）をＯＦＧ
２に依頼し、マッピング（３）をＯＦＧ３に依頼する。

【００４４】：ＭＰＵ３は、ＯＦＧからベクトル作成
終了割り込みを受け付けたら、ＲＩＯ９に割り込みを受
けたＯＦＧのＬＭからＢＭＭ１０にマッピング枠分の転
送依頼を行う。

【００４５】図８はＯＦＧのＬＭ→ＢＭＭへの転送の説
明図である。図８において、例えば、ＲＩＯ９は、マッ
ピング（１）をＯＦＧ１のＬＭ５からＢＭＭ１０の位置
（１）に転送し、マッピング（２）をＯＦＧ２のＬＭ６
からＢＭＭ１０の位置（２）に転送し、マッピング
（３）をＯＦＧ３のＬＭ７からＢＭＭ１０の位置（３）
に転送する。

【００４６】：マッピング枠設定の詳細な説明 マッピング枠のサイズは、ＯＦＧの展開時間、ＲＩＯ９
の転送時間をできるだけ少なくするため、ＯＦＧのクリ
ップ領域の最大であるＬＭサイズを越えないで、かつ、
できるだけ小さく設定する。

【００４７】ａ）ベクトルのグループ分けの説明 図９はベクトルのグループ分けの説明図である。図９に
おいて、ベクトルの方向によりグループＡとグループＢ
に区別する。

【００４８】グループＡは、ベクトル、等の角度Ａ
の範囲に含まれるＸ方向に延びる（Ｘ軸に近い）グルー
プのベクトルである。グループＢは、ベクトル、等
の角度Ｂの範囲に含まれるＹ方向に延びる（Ｙ軸に近
い）グループのベクトルである。

【００４９】ｂ）グループＡの場合の説明 図１０はマッピング枠の説明図であり、図１０（Ａ）は
Ｘ軸方向の区切りの説明、図１０（Ｂ）はマッピング枠
の説明である。

【００５０】図１０（Ａ）において、開始点（ｓ）から
Ｘ軸方向にＯＦＧのＬＭサイズＸ（ＬＭの最大サイズ）
でマッピング枠を、、のように区切っていく。先
ず、マッピング枠のｙを求める。

【００５１】図１０（Ｂ）のように、マッピング枠の
開始ｘはｘ０、マッピング枠の終了ｘはｘ１−１とし、
直線の式ｙ＝ａｘ＋ｂよりｙを求める。このｙの値をｙ
００、ｙ０１とする。この求めたｙの値は、通常小数部
をもった値が算出される。このため、ＤＤＡ方式により
４捨５入又は５捨６入をして、小数部は切上げ又は切捨
てられることになる。

【００５２】しかし、小数部を切上げ又は切捨てのどち
らで扱うかの判定は、計算が複雑で、かつ、マッピング
枠毎に計算をしていたのでは性能的にも問題となる。そ
こで、前記算出したｙを強制的に切上げ又は切捨てして
ＤＤＡ方式によらないクリップ枠の開始座標及び終了座
標を決定する。即ち、ｙ００は切上げ、ｙ０１は切り捨
てることになる。

【００５３】図１１はｙ値の切上げ・切捨ての説明図で
あり、図１１（Ａ）はｙ００の説明、図１１（Ｂ）はｙ
０１の説明、図１１（Ｃ）はマッピング枠、の説明
である。

【００５４】〔ｙ００の説明〕ｙ００は、ＤＤＡ計算に
より算出された値となるか、１ドット上の値となる。図
１１（Ａ）において、左の図はｙ００の切上げ値とＤＤ
Ａ値が同じ場合であり、右の図はｙ００の切上げ値がＤ
ＤＡ値より１ドット上になった場合である。なお、図の
下方向がｙの増加する方向である。

【００５５】〔ｙ０１の説明〕ｙ０１は、ＤＤＡ計算に
より算出された値となるか、１ドット下の値となる。図
１１（Ｂ）において、左の図はｙ０１の切捨て値とＤＤ
Ａ値が同じ場合であり、右の図はｙ００の切捨て値がＤ
ＤＡ値より１ドット下（図では上）になった場合であ
る。

【００５６】〔マッピング枠の説明〕マッピング枠
の開始ｘはｘ１、マッピング枠の終了ｘはｘ２−１と
し、式ｙ＝ａｘ＋ｂより求めたｙの開始、終了の値をｙ
１０、ｙ１１とする。図１１（Ｃ）の左の図において、
ｙ１０は強制的に切上げ、ｙ１１は強制的に切り捨てる
ことになる。なお、このｘ１、ｘ２−１のような座標を
マッピング枠内開始・終了座標と呼ぶ。

【００５７】〔マッピング枠の説明〕マッピング枠
の開始ｘはｘ２、マッピング枠の終了ｘはｘ３−１と
し、式ｙ＝ａｘ＋ｂより求めたｙの開始、終了の値をｙ
２０、ｙ２１とする。図１１（Ｃ）の右の図において、
ｙ２０は強制的に切上げ、ｙ２１は強制的に切り捨てる
ことになる。

【００５８】〔具体的な例による説明〕図１２はＤＤＡ
方式によらないマッピング枠の例の説明図であり、図１
２（Ａ）はｘの値に対するｙの値の説明、図１２（Ｂ）
は４捨５入の場合のＤＤＡの説明、図１２（Ｃ）は５捨
６入の場合のＤＤＡの説明である。

【００５９】図１２（Ａ）において、ｘの値５９〜６７
に対するｙの値４．７〜３．１が示してあり、ｘの値６
３と６４の間でマッピング枠が区切られる場合を次に説
明する。

【００６０】図１２（Ｂ）において、ＤＤＡ計算で４捨
５入されるためｘ＝６４でｙ＝４となり、マッピング枠
の切上げ値とＤＤＡ計算により算出された値とが同じと
なっている。

【００６１】図１２（Ｃ）において、ＤＤＡ計算で５捨
６入されるためｘ＝６４でｙ＝３となり、マッピング枠
の切上げ値はＤＤＡ計算により算出された値より１ドッ
ト上の値となっている。

【００６２】〔ベクトルの方向によるｙ値の切上げ・切
捨ての説明〕ベクトルの方向によって、マッピング枠内
開始・終了座標の、切上げ・切捨てが決まる。

【００６３】図１３はベクトルの方向によるｙ値の切上
げ・切捨ての説明図である。図１３において、グループ
Ａに属する各ベクトルの方向の例を図１３（Ａ）〜
（Ｄ）で示している。

【００６４】図１３（Ａ）において、マッピング枠内開
始座標ｘｍではｙ値を切上げ、マッピング枠内終了座標
ｘｎではｙ値を切捨てている。図１３（Ｂ）において、
座標ｘｍではｙ値を切捨て、座標ｘｎではｙ値を切上げ
ている。図１３（Ｃ）において、座標ｘｍではｙ値を切
上げ、座標ｘｎではｙ値を切捨てている。図１３（Ｄ）
において、座標ｘｍではｙ値を切捨て、座標ｘｎではｙ
値を切上げている。

【００６５】このように、ベクトルが必ず含まれるよう
に、ｙ値が最大１ドット大きめのマッピング枠を設定す
ることとなる。 ｃ）グループＢの説明 基本的な処理は、前記グループＡと同じである。

【００６６】〔マッピング枠の説明〕図１４はマッピン
グ枠の説明図であり、図１４（Ａ）はＹ軸方向の区切り
の説明、図１４（Ｂ）は１つのマッピング枠の説明であ
る。

【００６７】図１４（Ａ）において、開始点（ｓ）ｙ０
からＹ軸方向にＯＦＧのＬＭサイズＹ（ＬＭの最大サイ
ズ）でｙ１，ｙ２，ｙ３のようにマッピング枠を設定し
ていく。そして、マッピング枠のｘを求める。

【００６８】図１４（Ｂ）のように、１つのマッピング
枠の開始ｙをｙ１、マッピング枠の終了ｙをｙ２−１と
し、直線の式ｘ＝ａｙ＋ｂよりそれぞれのｘを求める。
このｘの値をｘ１０、ｘ１１とする。この求めたｘの値
は、通常小数部をもった値が算出される。そこで、前記
算出したｘを強制的に切上げ又は切捨てしてＤＤＡ方式
によらないクリップ枠の開始座標及び終了座標を決定す
る。即ち、ｘ１０は切捨て、ｘ１１は切上げることにな
る。

【００６９】〔ベクトルの方向によるｘ値の切上げ・切
捨ての説明〕ベクトルの方向によって、マッピング枠内
開始・終了座標の、切上げ・切捨てが決まる。

【００７０】図１５はベクトルの方向によるｘ値の切上
げ・切捨ての説明図である。図１５において、グループ
Ｂに属する各ベクトルの方向の例を図１５（Ａ）〜
（Ｄ）で示している。

【００７１】図１５（Ａ）において、マッピング枠内開
始座標ｙｍではｘ値を切捨て、マッピング枠内終了座標
ｙｎではｘ値を切上げている。図１４（Ｂ）において、
座標ｙｍではｘ値を切上げ、座標ｙｎではｘ値を切捨て
ている。図１５（Ｃ）において、座標ｙｍではｘ値を切
捨て、座標ｙｎではｘ値を切上げている。図１５（Ｄ）
において、座標ｙｍではｘ値を切上げ、座標ｙｎではｘ
値を切捨てている。

【００７２】このように、ベクトルが必ず含まれるよう
に、ｘ値が最大１ドット大きめのマッピング枠を設定す
ることとなる。 ：１ドットベクトル描画処理の流れの説明 図１６は１ドットベクトルの描画処理フローの説明図
（１）、図１７は１ドットベクトルの描画処理フローの
説明図（２）、図１８は１ドットベクトルの描画処理フ
ローの説明図（３）である。以下、図１６〜図１８のス
テップＳ１１〜ステップＳ２８に従って説明する。

【００７３】Ｓ１１：ＭＰＵ３は、ベクトル描画依頼待
ちの状態で、外部から開始座標〔Ｘ _S ，Ｙ_S 〕、終了座
標〔Ｘ_E ，Ｙ_E 〕のベクトル描画依頼を受信する（ＢＭ
Ｍ座標値）。

【００７４】Ｓ１２：ＭＰＵ３は、ベクトル文字化計
算、即ち、ＢＭＭ座標値をＯＦＧ座標値にずらせる処理
を行う。このため、基準点座標を求める。基準点座標
は、Ｘ_S、Ｘ_E とＹ_S 、Ｙ_E の内、小さい値（Ｘ、Ｙと
も）となる。

【００７５】Ｓ１３：ＭＰＵ３は、Ｘ軸方向に延びるベ
クトル（グループＡのベクトル）かどうか判断する。こ
の判断でＸ軸方向に延びるベクトルの場合はステップＳ
１４に移り、もしＸ軸方向に延びるベクトルで無い場合
はステップＳ１７に移る。

【００７６】Ｓ１４：ＭＰＵ３は、ＯＦＧのＬＭサイズ
（横方向の最大のサイズ）を基準に、マッピング枠を決
めるため、基準点ｘが、開始Ｘ_s と終了Ｘ_e の大きい方
の値を越えるまで、ステップＳ１５、ステップＳ１６を
繰り返す。

【００７７】Ｓ１５：ＭＰＵ３は、マッピング枠内の開
始ｘと終了ｘからそれぞれのｙを算出する。このｙの値
は直線の式ｙ＝ａｘ＋ｂを使用して、ベクトルの方向に
より、強制的に切上げ・切捨てを行う。

【００７８】Ｓ１６：ＭＰＵ３は、求めた分割領域（マ
ッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テーブル
に格納し、各サイズも格納する。なお、分割領域テーブ
ルには、左上座標〔Ｘ，Ｙ〕、サイズＸ、Ｙ、転送終了
フラグが設けてある。

【００７９】Ｓ１７：前記ステップＳ１３の判断でＸ軸
方向に延びるベクトルで無い場合は、Ｙ軸方向に延びる
ベクトル（グループＢのベクトル）と判断し、ＭＰＵ３
は、ＯＦＧのＬＭサイズ（縦方向の最大のサイズ）を基
準に、マッピング枠を決めるため、基準点ｙが、開始Ｙ
_s と終了Ｙ_e の大きい方の値を越えるまで、ステップＳ
１８、ステップＳ１９を繰り返す。

【００８０】Ｓ１８：ＭＰＵ３は、マッピング枠内の開
始ｙと終了ｙからそれぞれのｘを算出する。このｘの値
は直線の式ｘ＝ａｙ＋ｂを使用して、ベクトルの方向に
より、強制的に切上げ・切捨てを行う。

【００８１】Ｓ１９：ＭＰＵ３は、求めた分割領域（マ
ッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テーブル
に格納し、各サイズも格納する。なお、分割領域テーブ
ルには、左上座標〔Ｘ，Ｙ〕、サイズＸ、Ｙ、転送終了
フラグが設けてある。

【００８２】Ｓ２０：ステップＳ２１、ステップＳ２２
を分割領域の個数分繰り返す。 Ｓ２１：ＭＰＵ３は、ＯＦＧ描画依頼データを作成する
ため、ＯＦＧクリップ座標を求める（分割領域テーブル
の〔Ｘ，Ｙ〕から基準点座標を引いた結果がＯＦＧクリ
ップ座標になる）。

【００８３】Ｓ２２：ＭＰＵ３は、起動できるＯＦＧが
存在するかどうか判断する。この判断で起動できるＯＦ
Ｇが存在する場合はステップＳ２３に移り、もし存在し
ない場合はステップＳ２４に移る。

【００８４】Ｓ２３：ＭＰＵ３は、ＯＦＧを起動する
（クリップ指定してベクトル描画依頼を行う）。 Ｓ２４：ＭＰＵ３は、前記ステップＳ２２で起動できる
ＯＦＧが存在しない場合はＯＦＧの終了待ちとなり、Ｒ
ＩＯ９でＯＦＧのＬＭからベクトルをＢＭＭ１０に転送
する。

【００８５】Ｓ２５：ＭＰＵ３は、ＯＦＧを起動する
（クリップ指定してベクトル描画依頼を行う）。 Ｓ２６：ＭＰＵ３は、ＲＩＯ９で未転送のＯＦＧが有る
間ステップＳ２７、ステップＳ２８を繰り返す。

【００８６】Ｓ２７：ＭＰＵ３は、ＯＦＧのベクトル描
画終了を待つ。 Ｓ２８：ＭＰＵ３は、ＲＩＯ９でＯＦＧのＬＭからベク
トルをＢＭＭ１０に転送する。

【００８７】（６）：太ベクトル描画の説明 ：ＭＰＵ３は、長い太ベクトルの描画依頼を受信する
と、ベクトル作成座標の計算を行って、ＯＦＧに作成依
頼するデータに変換する（マッピング枠ごとに行う）。
以下、図１９〜図２１に基づいて、ベクトル作成座標の
計算を説明する。

【００８８】ａ）ＢＭＭ→ＯＦＧの座標変換の説明 図１９はＢＭＭ→ＯＦＧ座標変換の説明図であり、図１
９（Ａ）はＢＭＭ座標系の説明、図１９（Ｂ）はＯＦＧ
座標系の説明である。

【００８９】図１９（Ａ）のように、ＭＰＵ３は、上側
のベクトルの開始点（ｂ）と終了点（ｄ）、下側のベク
トルの開始点（ａ）と終了点（ｃ）のベクトルの描画依
頼をＢＭＭ座標系で受信し、マッピング枠毎にＯＦＧに
作成依頼するデータに変換するため図１９（Ｂ）のＯＦ
Ｇ座標系に変換する。図１９（Ｂ）において、ＯＦＧ座
標系における太ベクトルを区切ったマッピング枠（点線
で示す）が示されている。このマッピング枠はできるだ
け小さくするため次のようにする。

【００９０】ｂ）マッピング枠の説明 図２０はマッピング枠の説明図であり、図２０（Ａ）は
Ｘ軸方向の区切りの説明、図２０（Ｂ）はマッピング枠
の配置の説明である。

【００９１】図２０（Ａ）において、開始点（ｂ）から
上側のベクトルに関して、Ｘ軸方向にＯＦＧのＬＭサイ
ズＸ（ＬＭの最大サイズ）でマッピング枠を区切ってい
く。次に、図２０（Ｂ）のように、マッピング枠内の開
始・終了座標からｙを算出し、小数点以下を切り上げ、
切り捨てをしてマッピング枠座標及びサイズを決定す
る。図では、マッピング（１）〜（３）と３つのマッピ
ング枠が示されている。

【００９２】ｃ）マッピング枠の延長の説明 図２１はマッピング枠延長の説明図であり、図２１
（Ａ）はマッピング枠延長前の説明、図２１（Ｂ）はマ
ッピング枠延長後の説明である。

【００９３】図２１（Ａ）において、上側の直線をｙ＝
ａ１ｘ＋ｂ１、下側の直線をｙ＝ａ２＋ｂ２と表現した
時、上側の直線と下側の直線の差分ｂは次のようにな
る。 ｂ＝｜ｂ２−ｂ１｜ この差分ｂの大きさ分、マッピング枠を下（矢印で示
す）に延長する。このように延長したマッピング枠を図
２１（Ｂ）の（１）〜（３）で示してある。

【００９４】：ＭＰＵ３は、図２１（Ｂ）のマッピン
グ枠（１）〜（３）毎にＯＦＧにベクトル作成依頼を行
う（全マッピングの依頼）。また、ベクトルで囲まれた
内部を面塗りする処理も依頼する。

【００９５】例えば、マッピング（１）をＯＦＧ１に依
頼し、マッピング（２）をＯＦＧ２に依頼し、マッピン
グ（３）をＯＦＧ３に依頼する。 ：ＭＰＵ３は、ＯＦＧからベクトル作成終了割り込み
を受け付けたら、ＲＩＯ９に割り込みを受けたＯＦＧの
ＬＭからＢＭＭ１０にマッピング枠分の転送依頼を行
う。

【００９６】図２２はＯＦＧのＬＭ→ＢＭＭへの転送の
説明図である。図２２において、例えば、ＲＩＯ９は、
マッピング（１）をＯＦＧ１のＬＭ５からＢＭＭ１０の
位置（１）に転送し、マッピング（２）をＯＦＧ２のＬ
Ｍ６からＢＭＭ１０の位置（２）に転送し、マッピング
（３）をＯＦＧ３のＬＭ７からＢＭＭ１０の位置（３）
に転送する。

【００９７】：太ベクトル描画処理の流れの説明 図２３は太ベクトルの描画処理フローの説明図（１）、
図２４は太ベクトルの描画処理フローの説明図（２）、
図２５は太ベクトルの描画処理フローの説明図（３）で
ある。以下、図２３〜図２５のステップＳ３１〜ステッ
プＳ５０に従って説明する。

【００９８】Ｓ３１：ＭＰＵ３は、ベクトル描画依頼待
ちの状態で、外部から上側のベクトルの開始座標〔Ｘ
_S1，Ｙ_S1〕、終了座標〔Ｘ_E1，Ｙ_E1〕と下側のベクトル
の開始座標〔Ｘ_S2，Ｙ_S2〕、終了座標〔Ｘ_E2，Ｙ_E2〕
の太ベクトル描画依頼を受信する（ＢＭＭ座標値）。

【００９９】Ｓ３２：ＭＰＵ３は、ベクトル文字化計
算、即ち、ＢＭＭ座標値をＯＦＧ座標値にずらせる処理
を行う。このため、基準点座標を求める。基準点座標
は、Ｘ_S1、Ｘ_S2、Ｘ_E1、Ｘ_E2とＹ_S1、Ｙ_S2、Ｙ_E1、Ｙ_E2
の内、最も小さい値（Ｘ、Ｙとも）となる。

【０１００】Ｓ３３：ＭＰＵ３は、Ｘ軸方向に延びるベ
クトル（グループＡのベクトル）かどうか判断する。こ
の判断でＸ軸方向に延びるベクトルの場合はステップＳ
３４に移り、もしＸ軸方向に延びるベクトルで無い場合
はステップＳ３７に移る。

【０１０１】Ｓ３４：ＭＰＵ３は、ＯＦＧのＬＭサイズ
（横方向の最大のサイズ）を基準に、マッピング枠を決
めるため、基準点ｘが、開始Ｘ_s と終了Ｘ_e の大きい方
の値を越えるまで、ステップＳ３５、ステップＳ３６を
繰り返す。

【０１０２】Ｓ３５：ＭＰＵ３は、マッピング枠内の開
始ｘと終了ｘからそれぞれのｙを算出する。このｙの値
は直線の式ｙ＝ａ１ｘ＋ｂ１を使用して、ベクトルの方
向により、強制的に切上げ・切捨てを行う。

【０１０３】Ｓ３６：ＭＰＵ３は、求めた分割領域（マ
ッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テーブル
に格納し、各サイズも格納する。なお、分割領域テーブ
ルには、左上座標〔Ｘ，Ｙ〕、サイズＸ、Ｙ、転送終了
フラグが設けてある。

【０１０４】Ｓ３７：前記ステップＳ３３の判断でＸ軸
方向に延びるベクトルで無い場合は、Ｙ軸方向に延びる
ベクトル（グループＢのベクトル）と判断し、ＭＰＵ３
は、ＯＦＧのＬＭサイズ（縦方向の最大のサイズ）を基
準に、マッピング枠を決めるため、基準点ｙが、開始Ｙ
_s と終了Ｙ_e の大きい方の値を越えるまで、ステップＳ
３８、ステップＳ３９を繰り返す。

【０１０５】Ｓ３８：ＭＰＵ３は、マッピング枠内の開
始ｙと終了ｙからそれぞれのｘを算出する。このｘの値
は直線の式ｘ＝ａ１ｙ＋ｂ１を使用して、ベクトルの方
向により、強制的に切上げ・切捨てを行う。

【０１０６】Ｓ３９：ＭＰＵ３は、求めた分割領域（マ
ッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テーブル
に格納し、各サイズも格納する。なお、分割領域テーブ
ルには、左上座標〔Ｘ，Ｙ〕、サイズＸ、Ｙ、転送終了
フラグが設けてある。

【０１０７】Ｓ４０：ＭＰＵ３は、上端側のベクトルと
下端側のベクトルとの差分ｂ（｜ｂ２−ｂ１｜）を算出
する。 Ｓ４１：ＭＰＵ３は、分割領域テーブルの、サイズＹ
（グループＢのベクトルではサイズＸ）に前記算出した
差分ｂを加算する。

【０１０８】Ｓ４２：ステップＳ４３、ステップＳ４４
を分割領域の個数分繰り返す。 Ｓ４３：ＭＰＵ３は、ＯＦＧ描画依頼データを作成する
ため、ＯＦＧクリップ座標を求める（分割領域テーブル
の座標〔Ｘ，Ｙ〕から基準点座標を引いた結果がＯＦＧ
クリップ座標になる。）。

【０１０９】Ｓ４４：ＭＰＵ３は、起動できるＯＦＧが
存在するかどうか判断する。この判断で起動できるＯＦ
Ｇが存在する場合はステップＳ４５に移り、もし存在し
ない場合はステップＳ４６に移る。

【０１１０】Ｓ４５：ＭＰＵ３は、ＯＦＧを起動する
（クリップ指定してベクトル描画依頼を行う）。 Ｓ４６：ＭＰＵ３は、前記ステップＳ２２で起動できる
ＯＦＧが存在しない場合は、ＯＦＧの描画終了待ちとな
り、ＲＩＯ９でＯＦＧのＬＭからベクトルをＢＭＭ１０
に転送する。

【０１１１】Ｓ４７：ＭＰＵ３は、ＯＦＧを起動する
（クリップ指定してベクトル描画依頼を行う）。 Ｓ４８：ＭＰＵ３は、ＲＩＯ９で未転送のＯＦＧが有る
間ステップＳ４９、ステップＳ５０を繰り返す。

【０１１２】Ｓ４９：ＭＰＵ３は、ＯＦＧのベクトル描
画終了を待つ。 Ｓ５０：ＯＦＧの描画が終了すると、ＲＩＯ９でＯＦＧ
のＬＭからベクトルをＢＭＭ１０に転送する。

【０１１３】このように、太ベクトルを構成する一辺に
対してクリップ枠を算出し、そのクリップ枠を設定した
ベクトルに対する辺のベクトルとぶつかるまで延長させ
た枠を描画するクリップ枠とすることで、太ベクトルと
矩形域の交差する４座標を求めることなく、また、異な
ったＤＤＡ方式にも対応したクリップ枠を設定すること
ができる。

【０１１４】（７）：長いかつとても太い太ベクトル描
画の説明 ：ＭＰＵ３は、長いかつとても太い太ベクトルの描画
依頼を受信すると、ベクトル作成座標の計算を行って、
ＯＦＧに作成依頼するデータに変換する（マッピング枠
ごとに行う）。以下、図２６〜図２８に基づいて、ベク
トル作成座標の計算を説明する。

【０１１５】ａ）ＢＭＭ→ＯＦＧの座標変換の説明 図２６はＢＭＭ→ＯＦＧ座標変換の説明図であり、図２
６（Ａ）はＢＭＭ座標系の説明、図２６（Ｂ）はＯＦＧ
座標系の説明である。

【０１１６】図２６（Ａ）のように、ＭＰＵ３は、上側
のベクトルの開始点（ｂ）と終了点（ｄ）、下側のベク
トルの開始点（ａ）と終了点（ｃ）のベクトルの描画依
頼をＢＭＭ座標系で受信し、マッピング枠毎にＯＦＧに
作成依頼するデータに変換するため図２６（Ｂ）のＯＦ
Ｇ座標系に変換する。図２６（Ｂ）において、ＯＦＧ座
標系における太ベクトルを区切ったマッピング枠（点線
で示す）が示されている。このマッピング枠はできるだ
け小さくするため次のようにする。

【０１１７】ｂ）マッピング枠の説明 図２７はマッピング枠の説明図であり、図２７（Ａ）は
Ｘ軸方向の区切りの説明、図２７（Ｂ）はマッピング枠
の配置の説明である。

【０１１８】図２７（Ａ）において、開始点（ｂ）から
上側のベクトルに関して、Ｘ軸方向にＯＦＧのＬＭサイ
ズＸ（ＬＭの最大サイズ）でマッピング枠を区切ってい
く。次に、図２７（Ｂ）のように、マッピング枠内の開
始・終了座標からｙを算出し、小数点以下を切り上げ、
切り捨てをしてマッピング枠座標及びサイズを決定す
る。図では、マッピング（１）〜（３）と３つのマッピ
ング枠が示されている。

【０１１９】ｃ）マッピング枠の延長の説明 図２８はマッピング枠延長の説明図であり、図２８
（Ａ）はマッピング枠延長前の説明、図２８（Ｂ）はマ
ッピング枠延長後の説明である。

【０１２０】図２８（Ａ）において、上側の直線をｙ＝
ａ１ｘ＋ｂ１、下側の直線をｙ＝ａ２＋ｂ２と表現した
時、上側の直線と下側の直線の差分ｂは次のようにな
る。 ｂ＝｜ｂ２−ｂ１｜ この差分ｂの大きさ分、マッピング枠を下（矢印で示
す）に延長する。このように延長したマッピング枠を図
２８（Ｂ）の（１）〜（３）で示してある。

【０１２１】：ＭＰＵ３は、図２８（Ｂ）のマッピン
グ枠（１）〜（３）毎にＯＦＧにベクトル作成依頼を行
う（全マッピングの依頼）。また、ベクトルで囲まれた
内部を面塗りする処理も依頼する。しかし、ＯＦＧが１
回の起動で展開可能なサイズ（ＬＭサイズ）には限界が
ある。ここでは太らせたドットがとても大きいので、マ
ッピング枠とＯＦＧは１対１とならない。そこで、各マ
ッピング枠を分割してＯＦＧに展開させる。

【０１２２】例えば、マッピング（１）をマッピング
（１）−１、マッピング（１）−２、マッピング（１）
−３と分割し、マッピング（２）をマッピング（２）−
１、マッピング（２）−２、マッピング（２）−３と分
割し、マッピング（３）をマッピング（３）−１、マッ
ピング（３）−２、マッピング（３）−３と分割する。
従って、ＯＦＧへの依頼は、次のようになる。

【０１２３】 ＯＦＧ１ ← マッピング（１）−１ ＯＦＧ２ ← マッピング（１）−２ ＯＦＧ３ ← マッピング（１）−３ ＯＦＧ４ ← マッピング（２）−１ ＯＦＧ１ ← マッピング（２）−２ ＯＦＧ２ ← マッピング（２）−３ ＯＦＧ３ ← マッピング（３）−１ ＯＦＧ４ ← マッピング（３）−２ ＯＦＧ１ ← マッピング（３）−３ ：ＭＰＵ３は、ＯＦＧからベクトル作成終了割り込み
を受け付けたら、ＲＩＯ９に割り込みを受けたＯＦＧの
ＬＭからＢＭＭ１０にマッピング枠分の転送依頼を行
う。

【０１２４】図２９はＯＦＧのＬＭ→ＢＭＭ転送の説明
図である。図２９において、例えば、ＲＩＯ９は、マッ
ピング（１）−１をＯＦＧ１のＬＭ５からＢＭＭ１０の
位置（１）−１に転送し、マッピング（２）−１をＯＦ
Ｇ４のＬＭ８からＢＭＭ１０の位置（２）−１に転送
し、マッピング（３）−２をＯＦＧ４のＬＭ８からＢＭ
Ｍ１０の位置（３）−２に転送する。

【０１２５】：長いかつとても太い太ベクトル描画処
理の流れの説明 図３０は長いかつとても太い太ベクトル描画処理フロー
の説明図（１）、図３１は長いかつとても太い太ベクト
ル描画処理フローの説明図（２）、図３２は長いかつと
ても太い太ベクトル描画処理フローの説明図（３）であ
る。以下、図３０〜図３２のステップＳ６１〜ステップ
Ｓ８５に従って説明する。

【０１２６】Ｓ６１：ＭＰＵ３は、ベクトル描画依頼待
ちの状態で、外部から上側のベクトルの開始座標〔Ｘ
_S1，Ｙ_S1〕、終了座標〔Ｘ_E1，Ｙ_E1〕と下側のベクトル
の開始座標〔Ｘ_S2，Ｙ_S2〕、終了座標〔Ｘ_E2，Ｙ_E2〕
の太ベクトル描画依頼を受信する（ＢＭＭ座標値）。

【０１２７】Ｓ６２：ＭＰＵ３は、ベクトル文字化計
算、即ち、ＢＭＭ座標値をＯＦＧ座標値にずらせる処理
を行う。このため、基準点座標を求める。基準点座標
は、Ｘ_S1、Ｘ_S2、Ｘ_E1、Ｘ_E2とＹ_S1、Ｙ_S2、Ｙ_E1、Ｙ_E2
の内、最も小さい値（Ｘ、Ｙとも）となる。

【０１２８】Ｓ６３：ＭＰＵ３は、Ｘ軸方向に延びるベ
クトル（グループＡのベクトル）かどうか判断する（図
９参照）。この判断でＸ軸方向に延びるベクトルの場合
はステップＳ６４に移り、もしＸ軸方向に延びるベクト
ルで無い場合はステップＳ６７に移る。

【０１２９】Ｓ６４：ＭＰＵ３は、ＯＦＧのＬＭサイズ
Ｘ（横方向の最大のサイズ）を基準に、マッピング枠を
決めるため、基準点ｘが、開始Ｘ_s と終了Ｘ_e の大きい
方の値を越えるまで、ステップＳ６５、ステップＳ６６
を繰り返す。

【０１３０】Ｓ６５：ＭＰＵ３は、マッピング枠内の開
始ｘと終了ｘからそれぞれのｙを算出する。このｙの値
は直線の式ｙ＝ａ１ｘ＋ｂ１を使用して、ベクトルの方
向により、強制的に切上げ・切捨てを行う。

【０１３１】Ｓ６６：ＭＰＵ３は、求めた分割領域（マ
ッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テーブル
に格納し、各サイズも格納する。なお、分割領域テーブ
ルには、左上座標〔Ｘ，Ｙ〕、サイズＸ、Ｙ、転送終了
フラグが設けてある。

【０１３２】Ｓ６７：前記ステップＳ６３の判断でＸ軸
方向に延びるベクトルで無い場合は、Ｙ軸方向に延びる
ベクトル（グループＢのベクトル）と判断し、ＭＰＵ３
は、ＯＦＧのＬＭサイズＹ（縦方向の最大のサイズ）を
基準に、マッピング枠を決めるため、基準点ｙが、開始
Ｙ_s と終了Ｙ_e の大きい方の値を越えるまで、ステップ
Ｓ６８、ステップＳ６９を繰り返す。

【０１３３】Ｓ６８：ＭＰＵ３は、マッピング枠内の開
始ｙと終了ｙからそれぞれのｘを算出する。このｘの値
は直線の式ｘ＝ａ１ｙ＋ｂ１を使用して、ベクトルの方
向により、強制的に切上げ・切捨てを行う。

【０１３４】Ｓ６９：ＭＰＵ３は、求めた分割領域（マ
ッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テーブル
に格納し、各サイズも格納する。なお、分割領域テーブ
ルには、左上座標〔Ｘ，Ｙ〕、サイズＸ、Ｙ、転送終了
フラグが設けてある。

【０１３５】Ｓ７０：ＭＰＵ３は、上端側のベクトルと
下端側のベクトルとの差分ｂ（｜ｂ２−ｂ１｜）を算出
する。 Ｓ７１：ＭＰＵ３は、分割領域テーブルの、サイズＹ
（グループＢのベクトルではサイズＸ）に前記ステップ
Ｓ７０で算出した差分ｂを加算する。

【０１３６】Ｓ７２：ステップＳ７３〜ステップＳ８３
を分割領域の個数分繰り返す。 Ｓ７３：ＭＰＵ３は、分割領域テーブルから対象分割デ
ータの一つを処理中テーブルへコピーする。

【０１３７】Ｓ７４：ＭＰＵ３は、処理中テーブルのデ
ータが無くなるまで、ステップＳ７６〜ステップＳ８２
を繰り返す。 Ｓ７５：ＭＰＵ３は、処理中テーブルのデータはＯＦＧ
のＬＭサイズのＹ軸方向の最大値を越えるかどうか判断
する。この判断で最大値を越える場合はステップＳ７６
に移り、もし越えない場合はステップＳ７７に移る。

【０１３８】Ｓ７６：ＭＰＵ３は、ＯＦＧのＬＭサイズ
Ｙは最大値とする。 Ｓ７７：前記ステップＳ７６で最大値を越えない場合、
ＭＰＵ３は、処理中テーブルの残りをそのままＯＦＧの
ＬＭサイズとする。これで処理中テーブルデータは無し
とする。

【０１３９】Ｓ７８：ＭＰＵ３は、ＯＦＧ描画依頼デー
タを作成するため、ＯＦＧクリップ座標を求める（分割
領域テーブルの座標〔Ｘ，Ｙ〕から基準点座標を引いた
結果がＯＦＧクリップ座標になる）。

【０１４０】Ｓ７９：ＭＰＵ３は、起動できるＯＦＧが
存在するかどうか判断する。この判断で起動できるＯＦ
Ｇが存在する場合はステップＳ８０に移り、もし存在し
ない場合はステップＳ８１に移る。

【０１４１】Ｓ８０：ＭＰＵ３は、ＯＦＧを起動する
（クリップ指定してベクトル描画依頼を行う）。 Ｓ８１：ＭＰＵ３は、前記ステップＳ７９の判断で起動
できるＯＦＧが存在しない場合はＯＦＧの終了待ちとな
り、ＲＩＯ９でＯＦＧのＬＭからベクトルをＢＭＭ１０
に転送する。

【０１４２】Ｓ８２：ＭＰＵ３は、ＯＦＧを起動する
（クリップ指定してベクトル描画依頼を行う）。 Ｓ８３：ＭＰＵ３は、ＲＩＯ９で未転送のＯＦＧが有る
間ステップＳ８４、ステップＳ８５を繰り返す。

【０１４３】Ｓ８４：ＭＰＵ３は、ＯＦＧのベクトル描
画終了を待つ。 Ｓ８５：ＯＦＧの描画が終了すると、ＲＩＯ９でＯＦＧ
のＬＭからベクトルをＢＭＭ１０に転送する。

【０１４４】このように、ベクトル幅がローカルメモリ
ＬＭの描画可能な範囲の最大を越える太ベクトル描画に
おいて、前記（５）１ドットベクトルの描画方式でロー
カルメモリの最大を越えるクリップ枠を設定し、このク
リップ枠内をローカルメモリＬＭの描画可能な範囲の最
大の大きさで満たされるまで繰り返すことによって描画
を行うものである。これにより、途中の繰り返しクリッ
プ枠の情報（座標及びＸ、Ｙサイズ）を作らないで描画
を行うことができる。

【０１４５】（８）：長いかつ垂直に近い太ベクトル描
画の説明 ：ＭＰＵ３は、長いかつ垂直に近い太ベクトルの描画
依頼を受信すると、ベクトル作成座標の計算を行って、
ＯＦＧに作成依頼するデータに変換する（マッピング枠
ごとに行う）。以下、図３３、図３４に基づいて、ベク
トル作成座標の計算を説明する。

【０１４６】ａ）ＢＭＭ→ＯＦＧの座標変換の説明 図３３はＢＭＭ→ＯＦＧ座標変換の説明図であり、図３
３（Ａ）はＢＭＭ座標系の説明、図３３（Ｂ）はＯＦＧ
座標系の説明である。

【０１４７】図３３（Ａ）のように、ＭＰＵ３は、上側
のベクトルの開始点（ｂ）と終了点（ｄ）、下側のベク
トルの開始点（ａ）と終了点（ｃ）のベクトルの描画依
頼をＢＭＭ座標系で受信し、マッピング枠毎にＯＦＧに
作成依頼するデータに変換するため図３３（Ｂ）のＯＦ
Ｇ座標系に変換する。図３３（Ｂ）において、ＯＦＧ座
標系における太ベクトルのマッピング枠（点線で示す）
が示されている。このマッピング枠は次のようにして作
成する。なお、（ｓ）はベクトルの開始点、（ｅ）はベ
クトルの終了点を示している。

【０１４８】ｂ）マッピング枠の説明 図３４はマッピング枠作成の説明図であり、図３４
（Ａ）は一つ目のマッピング枠決定の説明、図３４
（Ｂ）はマッピング枠を上に延長する説明、図３４
（Ｃ）はマッピング枠延長後の説明である。

【０１４９】図３４（Ａ）において、開始点（ａ）から
ＯＦＧのＬＭサイズで決定される一つ目のマッピング枠
（点線で示す）を決定する。次に、図３４（Ｂ）のよう
に、矢印の方向（上方向）にマッピング枠を延長する。
このように延長したマッピング枠を図３４（Ｃ）の
（１）で示してある。

【０１５０】：ＭＰＵ３は、図３４（Ｃ）のマッピン
グ枠（１）にＯＦＧにベクトル作成依頼を行う（全マッ
ピングの依頼）。また、ベクトルで囲まれた内部を面塗
りする処理も依頼する。しかし、ＯＦＧが１回の起動で
展開可能なサイズ（ＬＭサイズ）には限界がある。ここ
では太らせたドットがとても大きいので、マッピング枠
とＯＦＧは１対１とならない。そこで、各マッピング枠
を分割してＯＦＧに展開させる。

【０１５１】例えば、マッピング（１）をマッピング
（１）−１、マッピング（１）−２、マッピング（１）
−３、マッピング（１）−４と分割する。従って、ＯＦ
Ｇへの依頼は、次のようになる。

【０１５２】 ＯＦＧ１ ← マッピング（１）−１ ＯＦＧ２ ← マッピング（１）−２ ＯＦＧ３ ← マッピング（１）−３ ＯＦＧ４ ← マッピング（１）−４ ：ＭＰＵ３は、ＯＦＧからベクトル作成終了割り込み
を受け付けたら、ＲＩＯ９に割り込みを受けたＯＦＧの
ＬＭからＢＭＭ１０にマッピング枠分の転送依頼を行
う。

【０１５３】図３５はＯＦＧのＬＭ→ＢＭＭ転送の説明
図である。図３５において、例えば、ＲＩＯ９は、マッ
ピング（１）−１をＯＦＧ１のＬＭ５からＢＭＭ１０の
位置（１）−１に転送し、マッピング（１）−２をＯＦ
Ｇ２のＬＭ６からＢＭＭ１０の位置（１）−２に転送
し、マッピング（１）−３をＯＦＧ３のＬＭ７からＢＭ
Ｍ１０の位置（１）−３に転送し、マッピング（１）−
４をＯＦＧ４のＬＭ８からＢＭＭ１０の位置（１）−４
に転送する。

【０１５４】：長いかつ垂直に近い太ベクトル描画処
理の流れの説明 図３６は長いかつ垂直に近い太ベクトル描画処理フロー
の説明図（１）、図３７は長いかつ垂直に近い太ベクト
ル描画処理フローの説明図（２）、図３８は長いかつ垂
直に近い太ベクトル描画処理フローの説明図（３）、図
３９は長いかつ垂直に近い太ベクトル描画処理フローの
説明図（４）である。以下、図３６〜図３９のステップ
Ｓ９１〜ステップＳ１１６に従って説明する。

【０１５５】Ｓ９１：ＭＰＵ３は、ベクトル描画依頼待
ちの状態で、外部から上側のベクトルの開始座標〔Ｘ
_S1，Ｙ_S1〕、終了座標〔Ｘ_E1，Ｙ_E1〕と下側のベクトル
の開始座標〔Ｘ_S2，Ｙ_S2〕、終了座標〔Ｘ_E2，Ｙ_E2〕
の太ベクトル描画依頼を受信する（ＢＭＭ座標値）。

【０１５６】Ｓ９２：ＭＰＵ３は、ベクトル文字化計
算、即ち、ＢＭＭ座標値をＯＦＧ座標値にずらせる処理
を行う。このため、基準点座標を求める。基準点座標
は、Ｘ_S1、Ｘ_S2、Ｘ_E1、Ｘ_E2とＹ_S1、Ｙ_S2、Ｙ_E1、Ｙ_E2
の内、最も小さい値（Ｘ、Ｙとも）となる。

【０１５７】Ｓ９３：ＭＰＵ３は、Ｙ軸に近い太ベクト
ルかどうか判断する。この判断でＹ軸に近い太ベクトル
の場合はステップＳ９４に移り、もしＹ軸に近い太ベク
トルで無い場合はステップＳ９７に移る。

【０１５８】Ｓ９４：ＭＰＵ３は、ベクトル開始点にＯ
ＦＧのＬＭサイズで決定される一番目の分割領域を決定
する。 Ｓ９５：この太ベクトルは垂直に近いベクトルなので、
分割領域はＸ方向にずれない。そこでＭＰＵ３は、分割
領域を縦方向に延長する。

【０１５９】Ｓ９６：ＭＰＵ３は、求めた分割領域（マ
ッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テーブル
に格納し、サイズも格納する。このときサイズＹは延長
した分を加算する。なお、分割領域テーブルには、左上
座標〔Ｘ，Ｙ〕（１）、サイズＸ、Ｙ、転送終了フラグ
が設けてある。

【０１６０】Ｓ９７：前記ステップＳ９３の判断でＹ軸
に近い太ベクトルで無い場合は、ＭＰＵ３は、ベクトル
開始点にＯＦＧのＬＭサイズで決定される一番目の分割
領域を決定する。

【０１６１】Ｓ９８：この太ベクトルは水平に近いベク
トルなので、分割領域はＹ軸方向にずれない。そこでＭ
ＰＵ３は、分割領域を横方向に延長する。 Ｓ９９：ＭＰＵ３は、求めた分割領域（マッピング枠）
の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テーブルに格納し、サ
イズも格納する。このときサイズＸは延長した分を加算
する。なお、分割領域テーブルには、左上座標〔Ｘ，
Ｙ〕（１）、サイズＸ、Ｙ、転送終了フラグが設けてあ
る。

【０１６２】Ｓ１００：ＭＰＵ３は、分割領域テーブル
を処理中テーブルとみなす。 Ｓ１０１：ＭＰＵ３は、処理中テーブルのＸサイズがＬ
Ｍサイズ以下になるまで、ステップＳ１０２〜ステップ
Ｓ１１６を繰り返す。

【０１６３】Ｓ１０２：ＭＰＵ３は、処理中テーブルサ
イズＸがＯＦＧのＬＭサイズを越えるかどうか判断す
る。この判断でＬＭサイズを越える場合はステップＳ１
０３に移り、もし越えない場合はステップＳ１０４に移
る。

【０１６４】Ｓ１０３：ＭＰＵ３は、処理中テーブル１
を処理中テーブルのＸサイズをＬＭサイズＸとしたもの
とする。 Ｓ１０４：ＭＰＵ３は、前記ステップＳ１０４の判断で
ＬＭサイズを越えない場合、ＭＰＵ３は、処理中テーブ
ルをそのまま処理中テーブル１とする。

【０１６５】Ｓ１０５：ＭＰＵ３は、処理中テーブル１
のデータが無くなるまで、ステップＳ１０６〜ステップ
Ｓ１１２を繰り返す。 Ｓ１０６：ＭＰＵ３は、処理中テーブルのデータはＯＦ
ＧのＬＭサイズのＹ軸方向の最大値を越えるかどうか判
断する。この判断で最大値を越える場合はステップＳ１
０７に移り、もし越えない場合はステップＳ１０８に移
る。

【０１６６】Ｓ１０７：ＭＰＵ３は、ＯＦＧのＬＭサイ
ズＹは最大値とする。 Ｓ１０８：前記ステップＳ１０６の判断で最大値を越え
ない場合、ＭＰＵ３は、処理中テーブルの残りをそのま
まＯＦＧのＬＭサイズとする。これで処理中テーブルデ
ータは無しとする。

【０１６７】Ｓ１０９：ＭＰＵ３は、ＯＦＧ描画依頼デ
ータを作成するため、ＯＦＧクリップ座標を求める（分
割領域テーブルの座標〔Ｘ，Ｙ〕から基準点座標を引い
た結果がＯＦＧクリップ座標になる）。

【０１６８】Ｓ１１０：ＭＰＵ３は、起動できるＯＦＧ
が存在するかどうか判断する。この判断で起動できるＯ
ＦＧが存在する場合はステップＳ１１１に移り、もし存
在しない場合はステップＳ１１２に移る。

【０１６９】Ｓ１１１：ＭＰＵ３は、ＯＦＧを起動する
（クリップ指定してベクトル描画依頼を行う）。 Ｓ１１２：ＭＰＵ３は、前記ステップＳ１１０の判断で
起動できるＯＦＧが存在しない場合はＯＦＧの描画終了
待ちとなり、ＲＩＯ９でＯＦＧのＬＭからベクトルをＢ
ＭＭ１０に転送する。

【０１７０】Ｓ１１３：ＭＰＵ３は、ＯＦＧを起動する
（クリップ指定してベクトル描画依頼を行う）。 Ｓ１１４：ＭＰＵ３は、ＲＩＯ９で未転送のＯＦＧが有
る間ステップＳ１１５、ステップＳ１１６を繰り返す。

【０１７１】Ｓ１１５：ＭＰＵ３は、ＯＦＧのベクトル
描画終了を待つ。 Ｓ１１６：ＯＦＧの描画が終了すると、ＲＩＯ９でＯＦ
ＧのＬＭからベクトルをＢＭＭ１０に転送する。

【０１７２】このように、太ベクトルを構成する４点の
開始・終了Ｘ座標又は開始・終了Ｙ座標がＬＭの描画可
能な範囲の最大の大きさを越えないベクトルにおいて、
４点を含むクリップ枠を一つだけ設定し、このクリップ
枠内をＬＭの描画可能な範囲で満たされるまで繰り返す
ことによって描画を行うことで、途中の繰り返しクリッ
プ枠の情報（座標及びＸ、Ｙサイズ）をつくらずに描画
を行うことができる。

【０１７３】（９）：長いかつとても太い太ベクトル描
画の説明 ：ＭＰＵ３は、長いかつとても太い太ベクトルの描画
依頼を受信すると、ベクトル作成座標の計算を行って、
ＯＦＧに作成依頼するデータに変換する（マッピング枠
ごとに行う）。以下、図４０〜図４２に基づいて、ベク
トル作成座標の計算を説明する。

【０１７４】ａ）ＢＭＭ→ＯＦＧの座標変換の説明 図４０はＢＭＭ→ＯＦＧ座標変換の説明図であり、図４
０（Ａ）はＢＭＭ座標系の説明、図４０（Ｂ）はＯＦＧ
座標系の説明である。

【０１７５】図４０（Ａ）のように、ＭＰＵ３は、上側
のベクトルの開始点（ｂ）と終了点（ｄ）、下側のベク
トルの開始点（ａ）と終了点（ｃ）の太ベクトルの描画
依頼をＢＭＭ座標系で受信し、マッピング枠毎にＯＦＧ
に作成依頼するデータに変換するため図４０（Ｂ）のＯ
ＦＧ座標系に変換する。図４０（Ｂ）において、ＯＦＧ
座標系における太ベクトルのマッピング枠（点線で示
す）が示されている。このマッピング枠は次のようにし
て作成する。なお、（ｓ）はベクトルの開始点、（ｅ）
はベクトルの終了点を示している。

【０１７６】ｂ）マッピング枠の説明 図４１はマッピング枠の説明図（１）であり、図４１
（Ａ）はマッピング枠の区切りの説明、図４１（Ｂ）は
マッピング枠配置１の説明である。図４２はマッピング
枠の説明図（２）であり、図４２（Ａ）はマッピング枠
配置２の説明、図４２（Ｂ）はマッピング枠配置３の説
明である。

【０１７７】図４１（Ａ）において、開始点（ｂ）から
上側のベクトルに関し、Ｘ軸方向にＯＦＧのＬＭサイズ
Ｘでマッピング枠を区切る。次に、図４１（Ｂ）のよう
に、マッピング枠内開始・終了座標ｘからｙを算出し、
切上げ・切捨てしてマッピング枠座標及びそのサイズを
決定する。なお、点線でマッピング枠（１）−１、
（１）−２、（１）−３、（１）−４を示してある。

【０１７８】図４２（Ａ）において、上側のベクトルと
同様に、下側のベクトルもマッピング枠内開始・終了座
標ｘからｙを算出し、切上げ・切捨てしてマッピング枠
座標及びそのサイズを決定する。なお、点線でこのマッ
ピング枠（４）−１、（４）−２、（４）−３、（４）
−４を示してある。

【０１７９】更に、図４２（Ｂ）において、左右のベク
トルは、ＯＦＧのＬＭサイズで分割する。なお、太線枠
でこのマッピング枠（２）−１、（２）−２、（２）−
３、（３）−１、（３）−２、（３）−３を示してあ
る。

【０１８０】：ＭＰＵ３は、図４２（Ｂ）のマッピン
グ枠毎にＯＦＧにベクトル作成依頼を行う（全マッピン
グの依頼）。また、ベクトルで囲まれた内部を面塗りす
る処理も依頼する。例えば、ＯＦＧへの依頼は、次のよ
うになる。

【０１８１】 ＯＦＧ１ ← マッピング（１）−１ ＯＦＧ２ ← マッピング（１）−２ ＯＦＧ３ ← マッピング（１）−３ ＯＦＧ４ ← マッピング（１）−４ ＯＦＧ１ ← マッピング（２）−１ ＯＦＧ２ ← マッピング（２）−２ ＯＦＧ３ ← マッピング（２）−３ ＯＦＧ４ ← マッピング（３）−１ ＯＦＧ１ ← マッピング（３）−２ ＯＦＧ２ ← マッピング（３）−３ ＯＦＧ３ ← マッピング（４）−１ ＯＦＧ４ ← マッピング（４）−２ ＯＦＧ１ ← マッピング（４）−３ ＯＦＧ２ ← マッピング（４）−４ ：ＭＰＵ３は、ＯＦＧからベクトル作成終了割り込み
を受け付けたら、ＲＩＯ９に割り込みを受けたＯＦＧの
ＬＭからＢＭＭ１０にマッピング枠分の転送依頼を行
う。

【０１８２】図４３はＯＦＧのＬＭ→ＢＭＭ転送の説明
図である。図４３において、ＲＩＯ９は、マッピング
（１）−１〜（４）−４をそれぞれのＯＦＧのＬＭから
ＢＭＭ１０の所定の位置に転送する。

【０１８３】：矩形域の転送の説明 図４４は矩形域の塗りつぶしの説明図である。図４４に
おいて、ＯＦＧを用いて転送を行った部分以外は、縦長
の矩形域（太線枠で示す）である。この矩形域をＲＩＯ
９の矩形域を塗りつぶす機能（転送論理演算Ｄ＝１：ベ
タ黒）を用いてＲＩＯ９のみ（ＯＦＧ未使用）で描画を
行い、太ベクトルを完成させる。

【０１８４】：長いかつとても太い太ベクトル描画処
理の流れの説明 図４５は長いかつとても太い太ベクトル描画処理フロー
の説明図（１）、図４６は長いかつとても太い太ベクト
ル描画処理フローの説明図（２）、図４７は長いかつと
ても太い太ベクトル描画処理フローの説明図（３）、図
４８は長いかつとても太い太ベクトル描画処理フローの
説明図（４）、図４９は長いかつとても太い太ベクトル
描画処理フローの説明図（５）である。以下、図４５〜
図４９のステップＳ１２１〜ステップＳ１４９に従って
説明する。

【０１８５】Ｓ１２１：ＭＰＵ３は、ベクトル描画依頼
待ちの状態で、外部から上側のベクトルの開始座標
〔Ｘ_S1，Ｙ_S1〕、終了座標〔Ｘ_E1，Ｙ_E1〕と下側のベク
トルの開始座標〔Ｘ_S2，Ｙ_S2〕、終了座標〔Ｘ_E2，Ｙ
_E2〕の太ベクトル描画依頼を受信する（ＢＭＭ座標
値）。

【０１８６】Ｓ１２２：ＭＰＵ３は、ベクトル文字化計
算、即ち、ＢＭＭ座標値をＯＦＧ座標値にずらせる処理
を行う。このため、基準点座標を求める。基準点座標
は、Ｘ _S1、Ｘ_S2、Ｘ_E1、Ｘ_E2とＹ_S1、Ｙ_S2、Ｙ_E1、Ｙ_E2
の内、最も小さい値（Ｘ、Ｙとも）となる。

【０１８７】Ｓ１２３：ＭＰＵ３は、Ｘ軸方向に延びる
ベクトル（グループＡのベクトル）かどうか判断する。
この判断でＸ軸方向に延びるベクトルの場合はステップ
Ｓ１２４に移り、もしＸ軸方向に延びるベクトルで無い
場合はステップＳ１３２に移る。

【０１８８】Ｓ１２４：ＭＰＵ３は、上側のベクトルに
関して、ＯＦＧのＬＭサイズＸ（横方向の最大のサイ
ズ）を基準に、マッピング枠を決めるため、基準点ｘ
が、開始Ｘ_s と終了Ｘ_e の大きい方の値を越えるまで、
ステップＳ１２５、ステップＳ１２６を繰り返す。

【０１８９】Ｓ１２５：ＭＰＵ３は、マッピング枠内の
開始ｘと終了ｘからそれぞれのｙを算出する。このｙの
値は直線の式ｙ＝ａｘ＋ｂを使用して、ベクトルの方向
により、強制的に切上げ・切捨てを行う。

【０１９０】Ｓ１２６：ＭＰＵ３は、求めた分割領域
（マッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テー
ブルに格納し、各サイズも格納する。なお、分割領域テ
ーブルには、左上座標〔Ｘ，Ｙ〕、サイズＸ、Ｙ、転送
終了フラグが設けてある。

【０１９１】Ｓ１２７：ＭＰＵ３は、下側のベクトルに
関して、ＯＦＧのＬＭサイズＸ（横方向の最大のサイ
ズ）を基準に、マッピング枠を決めるため、基準点ｘ
が、開始Ｘ_s と終了Ｘ_e の大きい方の値を越えるまで、
ステップＳ１２８、ステップＳ１２９を繰り返す。

【０１９２】Ｓ１２８：ＭＰＵ３は、マッピング枠内の
開始ｘと終了ｘからそれぞれのｙを算出する。このｙの
値は直線の式ｙ＝ａｘ＋ｂを使用して、ベクトルの方向
により、強制的に切上げ・切捨てを行う。

【０１９３】Ｓ１２９：ＭＰＵ３は、求めた分割領域
（マッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テー
ブルに格納し、各サイズも格納する。なお、分割領域テ
ーブルには、左上座標〔Ｘ，Ｙ〕、サイズＸ、Ｙ、転送
終了フラグが設けてある。

【０１９４】Ｓ１３０：ＭＰＵ３は、左右のベクトルを
ＯＦＧのＬＭの最大の大きさで分割する。 Ｓ１３１：ＭＰＵ３は、前記分割して求めた分割領域
（マッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テー
ブルに格納し、各サイズも格納する。なお、分割領域テ
ーブルには、左上座標〔Ｘ，Ｙ〕、サイズＸ、Ｙ、転送
終了フラグが設けてある。

【０１９５】Ｓ１３２：前記ステップＳ１２３の判断で
Ｘ軸方向に延びるベクトルで無い場合は、Ｙ軸方向に延
びるベクトル（グループＢのベクトル）と判断し、ＭＰ
Ｕ３は、上側のベクトルに関して、ＯＦＧのＬＭサイズ
Ｙ（縦方向の最大のサイズ）を基準に、マッピング枠を
決めるため、基準点ｙが、開始Ｙ_s と終了Ｙ_e の大きい
方の値を越えるまで、ステップＳ１３３、ステップＳ１
３４を繰り返す。

【０１９６】Ｓ１３３：ＭＰＵ３は、マッピング枠内の
開始ｙと終了ｙからそれぞれのｘを算出する。このｘの
値は直線の式ｘ＝ａｙ＋ｂを使用して、ベクトルの方向
により、強制的に切上げ・切捨てを行う。

【０１９７】Ｓ１３４：ＭＰＵ３は、求めた分割領域
（マッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テー
ブルに格納し、各サイズも格納する。なお、分割領域テ
ーブルには、左上座標〔Ｘ，Ｙ〕、サイズＸ、Ｙ、転送
終了フラグが設けてある。

【０１９８】Ｓ１３５：ＭＰＵ３は、下側のベクトルに
関して、ＯＦＧのＬＭサイズＹ（縦方向の最大のサイ
ズ）を基準に、マッピング枠を決めるため、基準点ｙ
が、開始Ｙ_s と終了Ｙ_e の大きい方の値を越えるまで、
ステップＳ１３６〜ステップＳ１３８を繰り返す。

【０１９９】Ｓ１３６：ＭＰＵ３は、マッピング枠内の
開始ｙと終了ｙからそれぞれのｘを算出する。このｘの
値は直線の式ｘ＝ａｙ＋ｂを使用して、ベクトルの方向
により、強制的に切上げ・切捨てを行う。

【０２００】Ｓ１３７：ＭＰＵ３は、上下のベクトルを
ＯＦＧのＬＭの最大の大きさで分割する。 Ｓ１３８：ＭＰＵ３は、前記分割して求めた分割領域
（マッピング枠）の左上座標（ＢＭＭ）を分割領域テー
ブルに格納し、各サイズも格納する。なお、分割領域テ
ーブルには、左上座標〔Ｘ，Ｙ〕、サイズＸ、Ｙ、転送
終了フラグが設けてある。

【０２０１】Ｓ１３９：ＭＰＵ３は、ステップＳ１４
０、ステップＳ１４１を分割領域の個数分繰り返す。 Ｓ１４０：ＭＰＵ３は、ＯＦＧ描画依頼データを作成す
るため、ＯＦＧクリップ座標を求める（分割領域テーブ
ルの〔Ｘ，Ｙ〕から基準点座標を引いた結果がＯＦＧク
リップ座標になる）。

【０２０２】Ｓ１４１：ＭＰＵ３は、起動できるＯＦＧ
が存在するかどうか判断する。この判断で起動できるＯ
ＦＧが存在する場合はステップＳ１４２に移り、もし存
在しない場合はＯＦＧの終了を待ちステップＳ１４３に
移る。

【０２０３】Ｓ１４２：ＭＰＵ３は、ＯＦＧを起動する
（クリップ指定してベクトル描画依頼を行う）。 Ｓ１４３：前記ステップＳ１４１で起動できるＯＦＧが
存在しない場合はＯＦＧ終了待ちとなり、ＲＩＯ９でＯ
ＦＧのＬＭからベクトルをＢＭＭ１０に転送する。

【０２０４】Ｓ１４４：ＭＰＵ３は、ＯＦＧを起動する
（クリップ指定してベクトル描画依頼を行う）。 Ｓ１４５：ＭＰＵ３は、ＲＩＯ９で未転送のＯＦＧが有
る間ステップＳ１４６、ステップＳ１４７を繰り返す。

【０２０５】Ｓ１４６：ＭＰＵ３は、ＯＦＧのベクトル
描画終了を待つ。 Ｓ１４７：ＲＩＯ９でＯＦＧのＬＭからベクトルをＢＭ
Ｍ１０に転送する。 Ｓ１４８：ＭＰＵ３は、矩形域の個数分ステップＳ１４
９を繰り返す。

【０２０６】Ｓ１４９：ＭＰＵ３は、矩形域をＲＩＯ９
を用いて塗りつぶす。 このように、ベクトル幅がＬＭの描画可能な範囲の最大
値を越える太ベクトル描画において、太ベクトルを構成
している進行方向の２辺のベクトルを各々クリップ枠を
分割し描画を行い、その内部の複数の矩形域をＲＩＯ９
のビットマップメモリ転送機能を用いて塗りつぶしを行
うことによって、ベクトル展開処理時間を減らすことで
高速に太ベクトル全体を描画することができる。

【０２０７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば次
のような効果がある。 （１）：制御部で、入力されたベクトルを４５度を境界
にしてＸ軸に近いグループとＹ軸に近いグループに分
け、前記Ｘ軸に近いベクトルのグループの場合は、第１
の描画部に描画依頼するクリップ枠のＸ軸方向サイズを
前記第１の描画部に設定できる最大値とし、前記Ｙ軸に
近いベクトルのグループの場合は、前記第１の描画部に
描画依頼するクリップ枠のＹ軸方向サイズを前記第１の
描画部に設定できる最大値とすることにより、描画する
クリップ枠を設定するため、複数のクリップ枠だけを複
数の前記第１の描画部に描画依頼することができ、斜め
線を高速に描画することができる。

【０２０８】（２）：制御部は、前記クリップ枠のＸ軸
方向サイズからＹ軸方向サイズを算出、又は、Ｙ軸方向
サイズからＸ軸方向サイズを算出する場合、ベクトルの
前記クリップ枠への進入方向及び角度によって、クリッ
プ枠内の開始座標と終了座標を切捨て又は切上げを行っ
て描画するクリップ枠を設定するため、ＤＤＡ計算によ
らないで、また、異なるＤＤＡ方式においても対応した
クリップ枠を設定することができる。

【０２０９】（３）：制御部で、入力された太ベクトル
を構成する一辺のベクトルに対して４５度を境界にして
Ｘ軸に近いグループとＹ軸に近いグループに分け、前記
Ｘ軸に近いベクトルのグループの場合は、第１の描画部
に描画依頼するクリップ枠のＸ軸方向サイズを前記第１
の描画部に設定できる最大値とし、前記Ｙ軸に近いベク
トルのグループの場合は、前記第１の描画部に描画依頼
するクリップ枠のＹ軸方向サイズを前記第１の描画部に
設定できる最大値とすることにより、クリップ枠を算出
し、該クリップ枠を算出したベクトルに対する辺のベク
トルとぶつかるまで延長させた枠を描画するクリップ枠
とするため、太ベクトルと交差する４座標を求めること
なく、また、異なるＤＤＡ方式においても対応したクリ
ップ枠を設定することができる。

【０２１０】（４）：クリップ枠を算出したベクトルに
対する辺のベクトルとぶつかるまで延長させた描画する
クリップ枠が、第１の描画部に設定できる最大値を越え
る場合、制御部は、前記第１の描画部に、このクリップ
枠内を前記第１の描画部に設定できる最大の大きさで満
たされるまで繰り返して描画を行わせるため、途中の繰
り返しクリップ枠の情報（座標及びＸ、Ｙ軸方向サイ
ズ）を作らないで描画を行うことができる。

【０２１１】（５）：制御部は、入力された太ベクトル
を構成する４点の開始・終了Ｘ座標又は４点の開始・終
了Ｙ座標が、第１の描画部の描画可能な範囲を越えない
ベクトルにおいて、前記４点を含むクリップ枠を一つだ
け設定し、前記第１の描画部に、このクリップ枠内を前
記第１の描画部に設定できる最大の大きさで満たされる
まで繰り返して描画を行わせるため、途中の繰り返しク
リップ枠の情報（座標及びＸ、Ｙ軸方向サイズ）を作ら
ないで描画を行うことができる。 （６）：制御部で、入力された太ベクトルを構成する進
行方向の２辺のベクトル各々に対して４５度を境界にし
てＸ軸に近いグループとＹ軸に近いグループに分け、前
記Ｘ軸に近いベクトルのグループの場合は、第１の描画
部に描画依頼するクリップ枠のＸ軸方向サイズを前記第
１の描画部に設定できる最大値とし、前記Ｙ軸に近いベ
クトルのグループの場合は、前記第１の描画部に描画依
頼するクリップ枠のＹ軸方向サイズを前記第１の描画部
に設定できる最大値とすることにより、描画するクリッ
プ枠を算出して前記第１の描画部で描画を行い、前記２
辺のベクトル内部の矩形域を第２の描画部のビットマッ
プ転送機能を用いて塗りつぶすため、第２の描画部のビ
ットマップ転送機能を用いてベクトル展開処理時間を減
らすことができ、高速に太ベクトル全体を描画すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の原理説明図である。

【図２】実施の形態における描画装置の説明図である。

【図３】実施の形態におけるＯＦＧの説明図である。

【図４】実施の形態におけるＯＦＧのクリップの説明図
である。

【図５】実施の形態におけるＯＦＧ起動フローの説明図
である。

【図６】実施の形態におけるＢＭＭ→ＯＦＧ座標変換の
説明図である。

【図７】実施の形態におけるマッピング枠の説明図であ
る。

【図８】実施の形態におけるＯＦＧのＬＭ→ＢＭＭへの
転送の説明図である。

【図９】実施の形態におけるベクトルのグループ分けの
説明図である。

【図１０】実施の形態におけるマッピング枠の説明図で
ある。

【図１１】実施の形態におけるｙ値の切上げ・切捨ての
説明図である。

【図１２】実施の形態におけるＤＤＡ方式によらないマ
ッピング枠の例の説明図である。

【図１３】実施の形態におけるベクトルの方向によるｙ
値の切上げ・切捨ての説明図である。

【図１４】実施の形態におけるマッピング枠の説明図で
ある。

【図１５】実施の形態におけるベクトルの方向によるｘ
値の切上げ・切捨ての説明図である。

【図１６】実施の形態における１ドットベクトルの描画
処理フローの説明図（１）である。

【図１７】実施の形態における１ドットベクトルの描画
処理フローの説明図（２）である。

【図１８】実施の形態における１ドットベクトルの描画
処理フローの説明図（３）である。

【図１９】実施の形態におけるＢＭＭ→ＯＦＧ座標変換
の説明図である。

【図２０】実施の形態におけるマッピング枠の説明図で
ある。

【図２１】実施の形態におけるマッピング枠延長の説明
図である。

【図２２】実施の形態におけるＯＦＧのＬＭ→ＢＭＭへ
の転送の説明図である。

【図２３】実施の形態における太ベクトルの描画処理フ
ローの説明図（１）である。

【図２４】実施の形態における太ベクトルの描画処理フ
ローの説明図（２）である。

【図２５】実施の形態における太ベクトルの描画処理フ
ローの説明図（３）である。

【図２６】実施の形態におけるＢＭＭ→ＯＦＧ座標変換
の説明図である。

【図２７】実施の形態におけるマッピング枠の説明図で
ある。

【図２８】実施の形態におけるマッピング枠延長の説明
図である。

【図２９】実施の形態におけるＯＦＧのＬＭ→ＢＭＭ転
送の説明図である。

【図３０】実施の形態における長いかつとても太い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（１）である。

【図３１】実施の形態における長いかつとても太い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（２）である。

【図３２】実施の形態における長いかつとても太い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（３）である。

【図３３】実施の形態におけるＢＭＭ→ＯＦＧ座標変換
の説明図である。

【図３４】実施の形態におけるマッピング枠作成の説明
図である。

【図３５】実施の形態におけるＯＦＧのＬＭ→ＢＭＭ転
送の説明図である。

【図３６】実施の形態における長いかつ垂直に近い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（１）である。

【図３７】実施の形態における長いかつ垂直に近い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（２）である。

【図３８】実施の形態における長いかつ垂直に近い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（３）である。

【図３９】実施の形態における長いかつ垂直に近い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（４）である。

【図４０】実施の形態におけるＢＭＭ→ＯＦＧ座標変換
の説明図である。

【図４１】実施の形態におけるマッピング枠の説明図
（１）である。

【図４２】実施の形態におけるマッピング枠の説明図
（２）である。

【図４３】実施の形態におけるＯＦＧのＬＭ→ＢＭＭ転
送の説明図である。

【図４４】実施の形態における矩形域の塗りつぶしの説
明図である。

【図４５】実施の形態における長いかつとても太い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（１）である。

【図４６】実施の形態における長いかつとても太い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（２）である。

【図４７】実施の形態における長いかつとても太い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（３）である。

【図４８】実施の形態における長いかつとても太い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（４）である。

【図４９】実施の形態における長いかつとても太い太ベ
クトル描画処理フローの説明図（５）である。

【図５０】従来例の説明図である。

【符号の説明】

３ａ 制御部 ９ａ 第２の描画部 １０ ビットマップメモリ（ＢＭＭ） ２０ 第１の描画部 ＬＭ ローカルメモリ

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】クリップ枠で選択されたベクトルの描画範
   囲を描画する第１の描画部と、 前記第１の描画部で作成された描画結果をビットマップ
   メモリへ転送する第２の描画部と、 前記第１及び第２の描画部の制御を行う制御部とを備
   え、 前記制御部は、入力されたベクトルを４５度を境界にし
   てＸ軸に近いグループとＹ軸に近いグループに分け、 前記Ｘ軸に近いベクトルのグループの場合は、前記第１
   の描画部に描画依頼するクリップ枠のＸ軸方向サイズを
   前記第１の描画部に設定できる最大値とし、 前記Ｙ軸に近いベクトルのグループの場合は、前記第１
   の描画部に描画依頼するクリップ枠のＹ軸方向サイズを
   前記第１の描画部に設定できる最大値とすることによ
   り、描画するクリップ枠を設定することを特徴とした描
   画装置。
2. 【請求項２】前記制御部は、前記クリップ枠のＸ軸方向
   サイズからＹ軸方向サイズを算出、又は、Ｙ軸方向サイ
   ズからＸ軸方向サイズを算出する場合、ベクトルの前記
   クリップ枠への進入方向及び角度によって、クリップ枠
   内の開始座標と終了座標を切捨て又は切上げを行って描
   画するクリップ枠を設定することを特徴とした請求項１
   記載の描画装置。
3. 【請求項３】クリップ枠で選択されたベクトルの描画範
   囲を描画し、該描画されたベクトルで囲まれた内部を面
   塗りする第１の描画部と、 前記第１の描画部で作成された描画結果をビットマップ
   メモリへ転送する第２の描画部と、 前記第１及び第２の描画部の制御を行う制御部とを備
   え、 前記制御部は、入力された太ベクトルを構成する一辺の
   ベクトルに対して４５度を境界にしてＸ軸に近いグルー
   プとＹ軸に近いグループに分け、前記Ｘ軸に近いベクト
   ルのグループの場合は、前記第１の描画部に描画依頼す
   るクリップ枠のＸ軸方向サイズを前記第１の描画部に設
   定できる最大値とし、前記Ｙ軸に近いベクトルのグルー
   プの場合は、前記第１の描画部に描画依頼するクリップ
   枠のＹ軸方向サイズを前記第１の描画部に設定できる最
   大値とすることにより、クリップ枠を算出し、 該クリップ枠を算出したベクトルに対する辺のベクトル
   とぶつかるまで延長させた枠を描画するクリップ枠とす
   ることを特徴とした描画装置。
4. 【請求項４】前記クリップ枠を算出したベクトルに対す
   る辺のベクトルとぶつかるまで延長させた描画するクリ
   ップ枠が、前記第１の描画部に設定できる最大値を越え
   る場合、 前記制御部は、前記第１の描画部に、このクリップ枠内
   を前記第１の描画部に設定できる最大の大きさで満たさ
   れるまで繰り返して描画を行わせることを特徴とした請
   求項３記載の描画装置。
5. 【請求項５】クリップ枠で選択されたベクトルの描画範
   囲を描画し、該描画されたベクトルで囲まれた内部を面
   塗りする第１の描画部と、 前記第１の描画部で作成された描画結果をビットマップ
   メモリへ転送する第２の描画部と、 前記第１及び第２の描画部の制御を行う制御部とを備
   え、 前記制御部は、入力された太ベクトルを構成する４点の
   開始・終了Ｘ座標又は４点の開始・終了Ｙ座標が、前記
   第１の描画部の描画可能な範囲を越えないベクトルにお
   いて、前記４点を含むクリップ枠を一つだけ設定し、前
   記第１の描画部に、このクリップ枠内を前記第１の描画
   部に設定できる最大の大きさで満たされるまで繰り返し
   て描画を行わせることを特徴とした描画装置。
6. 【請求項６】クリップ枠で選択されたベクトルの描画範
   囲を描画し、該描画されたベクトルで囲まれた内部を面
   塗りする第１の描画部と、 前記第１の描画部で作成された描画結果をビットマップ
   メモリへ転送する第２の描画部と、 前記第１及び第２の描画部の制御を行う制御部とを備
   え、 前記制御部は、入力された太ベクトルを構成する進行方
   向の２辺のベクトル各々に対して４５度を境界にしてＸ
   軸に近いグループとＹ軸に近いグループに分け、 前記Ｘ軸に近いベクトルのグループの場合は、前記第１
   の描画部に描画依頼するクリップ枠のＸ軸方向サイズを
   前記第１の描画部に設定できる最大値とし、前記Ｙ軸に
   近いベクトルのグループの場合は、前記第１の描画部に
   描画依頼するクリップ枠のＹ軸方向サイズを前記第１の
   描画部に設定できる最大値とすることにより、描画する
   クリップ枠を算出して前記第１の描画部で描画を行い、 前記２辺のベクトル内部の矩形域を前記第２の描画部の
   ビットマップ転送機能を用いて塗りつぶすことを特徴と
   した描画装置。