JPH109698A - ヘリウム冷凍システム - Google Patents

ヘリウム冷凍システム

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JPH109698A
JPH109698A JP15951496A JP15951496A JPH109698A JP H109698 A JPH109698 A JP H109698A JP 15951496 A JP15951496 A JP 15951496A JP 15951496 A JP15951496 A JP 15951496A JP H109698 A JPH109698 A JP H109698A
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JP
Japan
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cooled
cooling
heat exchanger
temperature
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP15951496A
Other languages
English (en)
Inventor
Kozo Matsumoto
孝三 松本
Ikuo Kawamura
郁生 河村
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Hitachi Ltd
Hitachi Plant Technologies Ltd
Original Assignee
Hitachi Techno Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】被冷却体の予冷を効率良く行なえるHe冷凍シ
ステムを提供する。 【解決手段】被冷却体の予冷用熱交換器を設け、予冷用
供給ガスと戻りガスを予冷用熱交換器で熱交換させ、予
冷用熱交換器を出た戻りガスをコールドボックスの80
Kレベル低圧ガス流に合流させる。 【効果】被冷却体予冷時のコールドボックスLN2消費
量、及び戻りガス加温器の消費電力を低減することがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はヘリウム冷凍システ
ムに係わり、特に被冷却重量の大きな被冷却体を有する
システムに好適なヘリウム冷凍システムに関する。
【0002】
【従来の技術】ヘリウム(He)冷凍システムは常温か
ら4Kレベルの定常状態までの予冷が必要であり、一般
的に、被冷却体の予冷と並行してHe冷凍機系の予冷、
液体ヘリウム(LHe)貯槽への貯液を行ない、被冷却
体予冷の最終段階でLHe貯槽からLHeの増送液を行
ない定常運転に移行する。
【0003】一方、大形の被冷却体では予冷時のサーマ
ル・ストレスの問題があり、予冷速度(温度降下速
度)、被冷却体内部の温度差等の条件を所定値以下にし
ながら予冷を進める必要がある。
【0004】このようなシステムで、従来は常温レベル
の高圧ガス流と液体窒素(LN2)温度レベルの高圧ガ
ス流とLN2温度レベルより低温の高圧ガス流とを合
流、又は切換えることにより被冷却体に供給する予冷ガ
スの温度、流量を調整し、被冷却体からの戻りガスはL
2温度レベルより高い場合は戻りガス加温器で加温し
常温レベルの低圧ガス流に合流させ、LN2温度レベル
に近くなってからLN2温度レベルの低圧ガス流に合流
させていた。
【0005】この種の従来技術として、例えばAdva
nces in Cryogenic Enginee
ring、 Vol. 37 Part A(199
2)P667〜P674、 Fusion Engin
eering and Design 20(199
3) P491〜P498などがある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、被冷
却体からの戻りガス温度が高い場合には、He冷凍機本
体であるコールドボックスのLN2温度レベル以下の熱
バランスが大幅に乱れるのを回避するために戻りガス加
温器(例えば電熱ヒータ)で常温レベルまで加温して低
圧ガス流に合流させている。
【0007】このために被冷却体予冷時にコールドボッ
クスで消費するLN2が多くなると共に、戻りガス加温
器で消費する電力も大きくなりシステムのエネルギー効
率が悪くなるという問題があった。
【0008】例えば、常温レベルを300K、LN2
度レベルを80Kとし被冷却体に供給する予冷ガス温度
を150Kとすると、300Kレベルのガスヘリウム
(GHe)32%と80KレベルGHe68%を合流さ
せて供給することになる。この場合に、供給ガス量を3
00g/s、戻りガス温度を200Kとすると、 LN2消費量 300g/s * 5.2J/g.K *(300−1
50K)/(470−33J/g)= 535g/s ≒2400l/h りガス加温器消費電力 300g/s * 5.2J/g.K *(300−2
00K)/1000 = 156kW になる。尚、供給する予冷ガス温度が下がると、さらに
上記の消費量は増大する。 本発明は上記従来技術の問
題点を解決し、被冷却体の予冷を効率良く行なえるHe
冷凍システムを提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、被冷却体予冷用の熱交換器を設け、コールドボッ
クスのLN2温度レベルの高圧ガス流を予冷用熱交換器
を介して被冷却体に供給し、被冷却体からの戻りガスを
予冷用熱交換器を介してコールドボックスのLN2温度
レベルの低圧ガス流に合流させるようにした。
【0010】
【作用】コールドボックスのLN2温度レベルから導出
したGHeは予冷用熱交換器で戻りガスと熱交換、温度
上昇して被冷却体に供給される。被冷却からの戻りガス
は予冷用熱交換器で供給ガスと熱交換・冷却されてコー
ルドボックスのLN2温度レベル以下の熱バランスを大
幅に乱さない温度となりコールドボックスのLN2温度
レベル低圧ガス流に合流する。
【0011】上記の予冷ガス条件でのLN2消費量等
は、 LN2消費量 300g/s * 5.2J/g.K *(300−8
0+130−295K)/(470−33J/g) =196g/s ≒ 880l/h 戻りガス加温器 消費電力 0kW となり、被冷却体予冷時のエネルギー効率は大幅に向上
する。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施例を図1に
より説明する。コールドボックスは常温の高圧ガス流を
LN2温度レベルまで冷却する冷却段階Iと、LN2温度
レベルの高圧ガス流をLHe温度レベルまで冷却するよ
うに複数の熱交換と複数の膨張タービンとを既知の方法
で構成した冷却段階IIとを含む。He冷凍機系は、コー
ルドボックスと圧縮機1とGHeタンク2とLHe貯槽
11を含む。He冷凍システムは、He冷凍機系と被冷
却体IIIで構成されている。
【0013】圧縮機1で圧縮された高圧ガス流は高圧ガ
スライン3を通り冷却段階Iに供給され、ガス窒素(G
2)熱交換器6、LN2熱交換器7でLN2温度レベル
(約80K)まで冷却される。冷却段階Iで約80Kま
で冷却された高圧ガス流は、冷却段階IIで既知の方法に
より、LHe温度近くまで冷却されてLHe貯槽11に
供給され気液分離される。LHe貯槽11を出た低圧ガ
ス流は冷却段階IIで寒冷回収され、LN2温度レベルと
なり冷却段階Iに戻る。冷却段階Iに戻った低圧ガス流
はGN2熱交換器6で寒冷回収され、低圧ガスライン4
を通り圧縮機1に戻る。高圧ガスライン3と低圧ガスラ
イン4の圧力は、圧縮機1の吐出ガスの一部をGHeタ
ンク2を介してバイパスさせることにより制御される。
LN2熱交換器7のLN2ラインはLN2気液分離器8と
自然循環式に構成され、必要なLN2はLN2制御弁9で
LN2気液分離器8の液面制御により供給される。
【0014】以上はHe冷凍機の動作の説明だが、次に
被冷却体IIIの予冷動作について説明する。
【0015】冷却段階IのLN2温度レベル高圧ガス流
から分岐した予冷用供給GHeは、80K供給弁23を
通り、予冷用熱交換器21で被冷却体IIIからの戻りガ
スと熱交換、温度上昇して被冷却体IIIに供給される。
被冷却体IIIからの戻りガスは予冷用熱交換器21で供
給ガスと熱交換・冷却されて、80K戻り弁27を通り
80Kレベル低圧ガス流と合流する。被冷却体IIIへの
供給ガスと戻りガスとの許容温度差は、被冷却体IIIの
有する特性によって決められる。この温度差を例えば5
0Kとした場合、予冷用熱交換器21を出た戻りガスは
最大130K(80K+50K)となり、GN2熱交換
器6を出た高圧ガス流はHe冷凍機系定常状態より高め
になるが、LN2熱交換器7はこれを吸収しLN2温度レ
ベルの高圧ガス流を生成できるように設計・製作され
る。予冷用熱交換器21は非定常状態で使用されるた
め、最大負荷条件に合わせて設計・製作される。例え
ば、予冷用供給GHe流量、及び被冷却体IIIのGHe
出入口温度差を一定として被冷却体IIIを予冷する場
合、戻りガス温度が常温の時に予冷用熱交換器21の熱
交換量が最大となり、予冷用熱交換器21の設計・製作
条件となる。この場合、被冷却体IIIの予冷の進行に伴
い戻りガス温度が低下し予冷用熱交換器21での熱交換
量が減少するため、被冷却体IIIの出入口ガス温度差が
接近し予冷能力が低下する。これを避けるために、予冷
用熱交換器21の供給側、又は戻り側にバイパスを設け
る。図1では供給側バイパスライン26と、バイパス流
量調整手段として三方弁25が設けられている。
【0016】被冷却体IIIの予冷の進行に合わせ供給ガ
ス温度をLN2温度レベルよりも下げていくために、図
1では極低温供給弁24が設けられている。常温供給弁
22は、被冷却体IIIの加温時に有効な手段として設け
られている。
【0017】予冷用熱交換器21に入る前の戻りガスを
分岐し、戻りガス加温器29で常温まで加温し常温戻り
弁28を介して常温低圧ガス流に合流させる系統は、戻
りガス温度が常温近くの予冷時に80K戻り弁27のラ
インの温度を低下させるのに有効であると共に、被冷却
体III加温時にも有効である。
【0018】被冷却体IIIの出入口ガス温度差が所定の
値になるように被冷却体IIIに供給する予冷ガス温度を
制御する制御手段(図示省略)と、被冷却体IIIの予冷
速度が所定の値になるように被冷却体IIIに供給する予
冷ガス流量を制御する制御手段(図示省略)とを設ける
ことにより、被冷却体IIIの予冷を安定して、信頼性が
高く行なうことができる。
【0019】尚、図1の12は定常供給弁、13は定常
戻り弁である。
【0020】以上、詳細に説明したように本実施側によ
れば、被冷却体の予冷用熱交換器を設け、予冷用供給ガ
スを予冷用熱交換器で被冷却体からの戻りガスと熱交
換、温度上昇させて被冷却体に供給し、被冷却体からの
戻りガスを予冷用熱交換器で供給ガスと熱交換・冷却し
LN2温度レベルの低圧ガス流に合流させるように構成
したため、被冷却体の予冷時に消費するLN2、電力を
低減することができ効率の良いHe冷凍システムとでき
る効果がある。
【0021】尚、上記実施例では80K戻り弁27のラ
インをGN2熱交換器6の低圧入口ラインに合流させて
いるが、LN2熱交換器7でLN2と熱交換させてからG
2熱交換器6の低圧入口ラインに合流させても良く、
又、独立に設けたLN2熱交換器でLN2と熱交換させて
からGN2熱交換器6の低圧入口ラインに合流させても
良い。
【0022】上記実施例の説明では低温部の真空断熱の
構成について言及しなかったが、予冷用熱交換21など
を冷却段階I及び冷却段階IIと同一の真空断熱槽内に設
けても良く、又、配置上の制約等によって分割した真空
断熱槽とする場内もあり、これらは本発明を限定するも
のではないことは明らかである。
【0023】
【発明の効果】被冷却体の予冷用熱交換器を設け、予冷
用供給ガスを予冷用熱交換器で被冷却体からの戻りガス
と熱交換、温度上昇させて被冷却体に供給し、被冷却体
からの戻りガスを予冷用熱交換器で供給ガスと熱交換・
冷却しLN2温度レベルのコールドボックス低圧ガス流
と合流させるように構成したため、被冷却体予冷時にコ
ールドボックスで消費するLN2、及び戻りガス加温器
で消費する電力を低減することができ効率の良いHe冷
凍システムを実現できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の一実施例を示す系統図であ
る。
【符号の説明】
III…、被冷却体、1…圧縮機、2…ガスヘリウムタン
ク、11…液体ヘリウム貯槽、21…予冷用熱交換器、
23…80K供給弁、27…80K戻り弁。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】圧縮機とガスヘリウムタンクと液体窒素を
    補助寒冷として使用するコールドボックスと液体ヘリウ
    ム貯槽と被冷却体とを含むヘリウム冷凍システムにおい
    て、前記被冷却体を予冷する予冷用熱交換器を設け、前
    記コールドボックスの液体窒素温度レベルの高圧ガス流
    を前記予冷用熱交換器を介して前記被冷却体に供給し、
    前記被冷却体からの戻りガスを前記予冷用熱交換器を介
    して前記コールドボックスの液体窒素温度レベルの低圧
    ガス流に合流させるようにしたことを特徴とするヘリウ
    ム冷凍システム。
  2. 【請求項2】前記予冷用熱交換器の供給側又は戻り側に
    バイパスラインとバイパス流量調整手段とを設けたこと
    を特徴とする請求項1記載のヘリウム冷凍システム。
  3. 【請求項3】常温レベルの高圧ガス流と液体窒素温度レ
    ベルの高圧ガス流と液体窒素温度より低温の高圧ガス流
    とを合流又は切換えて予冷用熱交換器に供給できるよう
    に構成したことを特徴とする請求項1又は2記載のヘリ
    ウム冷凍システム。
  4. 【請求項4】前記予冷用熱交換器に入る前の戻りガスを
    分岐し、戻りガス加温手段を介して常温レベルの低圧ガ
    ス流に合流させるように構成したことを特徴とする請求
    項1、2又は3記載のヘリウム冷凍システム。
  5. 【請求項5】前記被冷却体に供給する予冷ガス温度を戻
    りガス加温手段に導入する戻りガス流量の調整、予冷用
    熱交換器のバイパス流量の調整、常温レベルの高圧ガス
    流と液体窒素温度レベルの高圧ガス流と液体窒素温度よ
    り低温の高圧ガス流との合流、又は切換えの調整によっ
    て変えることを特徴とする請求項1、2、3又は4記載
    のヘリウム冷凍システム。
  6. 【請求項6】上記被冷却体に供給する予冷ガス温度と被
    冷却体からの戻りガス温度との温度差が所定の値になる
    ように被冷却体に供給する予冷ガス温度を制御する制御
    手段を設けたことを特徴とする請求項5記載のヘリウム
    冷凍システム。
  7. 【請求項7】上記被冷却体の予冷速度が所定の値になる
    ように被冷却体に供給する予冷ガス流量を制御する制御
    手段を設けたことを特徴とする請求項6記載のヘリウム
    冷凍システム。
JP15951496A 1996-06-20 1996-06-20 ヘリウム冷凍システム Pending JPH109698A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005028132A (ja) * 2003-07-03 2005-02-03 Ge Medical Systems Global Technology Co Llc 冷媒消費を低減するための予冷却器
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