JPH1092887A - ウエハ検査装置 - Google Patents

ウエハ検査装置

Info

Publication number
JPH1092887A
JPH1092887A JP24579296A JP24579296A JPH1092887A JP H1092887 A JPH1092887 A JP H1092887A JP 24579296 A JP24579296 A JP 24579296A JP 24579296 A JP24579296 A JP 24579296A JP H1092887 A JPH1092887 A JP H1092887A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
holding arm
wafer holding
arm
back surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24579296A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuhiro Shinada
伸宏 品田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP24579296A priority Critical patent/JPH1092887A/ja
Publication of JPH1092887A publication Critical patent/JPH1092887A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】構造が簡単で低コストのウエハ裏面を検査する
ための検査装置を提供する。 【解決手段】表面を上側にして載置されたウエハを保持
し、ウエハの裏面を露出させるウエハ検査装置におい
て、表面を上側にして載置されたウエハを保持するウエ
ハ保持アームと、回転駆動を生成する駆動手段と、駆動
手段により回転させられ、ウエハ保持アームを上昇させ
て該載置されたウエハの裏面側に下側から近づかせ、ウ
エハをウエハ保持アームに水平状態で持ち上げさせるウ
エハ保持アーム上昇手段と、駆動手段により回転させら
れ、ウエハを保持したウエハ保持アームをウエハの裏面
が露出されるまで回転させるウエハ保持アーム回転手段
とを有することを特徴とする。単一の回転駆動装置によ
り、ウエハ保持アームの上昇と回転を行うことができ、
構造が単純になり低コスト省スペースにすることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
工程等において半導体ウエハの表面と裏面を検査するウ
エハ検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】表面に所定のパターンが形成された半導
体ウエハは、一般にその表面を目視によって色むらやゴ
ミの付着等を検査するマクロ検査と、顕微鏡によって表
面パターンの形成状態を検査するミクロ検査とにより検
査される。
【0003】そのような検査装置として、例えば特開平
6-349908等が提案されている。この検査装置は、溝が形
成されたウエハの保持部によりウエハ外周縁を両側から
押し付けてウエハを挟持し、その状態でウエハ保持部が
パルスモータにより回転し、ウエハの裏面を上向きにし
て裏面のマクロ検査を可能にする。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記提
案のウエハ検査装置は、複数の駆動源によりウエハの挟
持、ウエハ保持部の回転等を実現するものでありその構
造が複雑で大がかりなものである。従って、コスト高と
なると共に、複数のウエハを収納したウエハキャリアと
ミクロ検査を行う顕微鏡との間に設置させるマクロ検査
用の装置としては不向きである。また、ウエハの外周縁
を挟持させる方法はウエハを傷つける恐れもあり、検査
装置としては不向きである。
【0005】そこで、本発明は上記の問題点を解決し、
駆動源を極力少なくし且つ簡単な構造で、低コストのウ
エハ検査装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、本発明に
よれば、表面を上側にして載置されたウエハを保持し、
該ウエハの裏面を露出させるウエハ検査装置において、
該表面を上側にして載置されたウエハを保持するウエハ
保持アームと、回転駆動を生成する駆動手段と、該駆動
手段により回転させられ、前記ウエハ保持アームを上昇
させて該載置されたウエハの裏面側に下側から近づか
せ、該ウエハを前記ウエハ保持アームに水平状態で持ち
上げさせるウエハ保持アーム上昇手段と、該駆動手段に
より回転させられ、前記ウエハを保持したウエハ保持ア
ームを該ウエハの裏面が露出されるまで回転させるウエ
ハ保持アーム回転手段とを有することを特徴とするウエ
ハ検査装置を提供することにより達成される。
【0007】更に、より具体的には、前記ウエハ保持ア
ーム上昇手段が、前記ウエハ保持アームを回転自在に支
持するアーム支持手段に取り付けられたカムを有し、前
記駆動手段により該カムが回転させられて当該アーム支
持手段を上昇させることを特徴とする。
【0008】更に、より具体的には、前記ウエハ保持ア
ーム上昇手段が、水平位置に支持された該ウエハ保持ア
ームを上昇させて該ウエハ裏面を水平状態で持ち上げ、
該裏面側を吸着して保持することを特徴とする。
【0009】更に、より具体的には、前記ウエハ保持ア
ーム回転手段は、該ウエハ保持アームに設けられた突出
部に当接して該ウエハ保持アームを回転させる回転レバ
ーを有し、該回転レバーに前記駆動手段の回転が伝えら
れることを特徴とするウエハ検査装置。
【0010】また、本発明のウエハ検査装置では、前記
ウエハ保持アーム回転手段の回転角度を検出する回転角
度検出手段を更に有し、該回転角度検出手段が所定の角
度回転したことを検出した時、該ウエハ保持アーム回転
手段が逆回転されて、該ウエハが元の位置に載置される
ことを特徴とする。
【0011】上記の様に、ウエハ観察者に対して、ウエ
ハの裏面を観察できる程度に露出させる検査装置を、単
一の回転駆動手段によりウエハの持ち上げとウエハ保持
アームの回転とを行わせることができるので、構造が簡
素化される。尚、ウエハ裏面を露出させるとは、典型的
には裏面を上側に向けることであるが、観察者の目線の
位置によっては上側を向けるまで回転させる必要がない
場合もある。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面に従って説明する。しかしながら、本発明の技術
的範囲がその実施の形態に限定されるものではない。
【0013】図1は、本発明の実施の形態にかかるウエ
ハ検査装置の全体概略構造図である。基台2の左側に複
数の半導体ウエハを収納したウエハキャリア3が上下動
自在に設置され、図示しない取り出し機構により矢印a
の方向に取り出され、ウエハ待機部50上に載置され
る。そして、ウエハ60の表面の状態が目視検査されて
から、本発明にかかるウエハ裏面検査装置4のウエハ保
持アーム40によりウエハ裏面から持ち上げられて裏面
が吸着され、図中矢印bの方向にアーム40が回転され
てウエハの裏面が上向きにされて観察者に露出され、そ
の裏面の目視検査が行われる。
【0014】ウエハ60は、再びウエハ待機部50上に
戻され、図示しない移動機構により矢印cに従って顕微
鏡5のステージ7上に移動させられる。そして、その光
学系8によってウエハ表面のミクロ検査が行われる。ミ
クロ検査が終了すると、矢印c,aに従ってウエハキャ
リア3内にウエハ60が戻される。その後、ウエハキャ
リア3が上下動して次のウエハが取り出されて、上記と
同様のマクロ検査とミクロ検査が行われる。
【0015】図2は、上記のウエハ検査装置4の上面図
である。また、図3は同正面図、図4は同背面図、図5
は同側面図である。これらの図はいずれも、ウエハ60
が待機部50上に載置され、ウエハ保持アーム40が非
動作の状態を示している。ウエハ待機部50上に載置さ
れたウエハ60は、例えば真空チャック等により吸着さ
れている。ウエハ待機部50はその直径がウエハ60よ
り小さく、待機状態でウエハの裏面の縁部分が下向きに
露出した状態である。
【0016】さて、ウエハの裏面を検査する装置4とし
て、ウエハ保持アーム40が上下動部構成部材21に取
り付けられた回転軸41に回転自在に支持されている。
静止状態では、アーム40に取り付けられた突出部44
が上下動部構成部材21に当接して、アーム40は水平
状態となっている。基台部10にはコロレース等のガイ
ド11が設けられ、上下動部20が支持される。上下動
部20に固定されている回転駆動手段としてのDCギア
ドモータ31には、プーリ33とカム37が係合されて
いる。図3に示したカム37は、プーリ33を示す為に
一部除去されているが、後述する図6に示される通りの
形状をしていて、基台部10に設けられた回転可能なカ
ムフォロワ38に当接している。従って、カム37がD
Cギアドモータ31によって回転駆動されると、カム3
7の形状に従って上下動部20、上下動部構成部材21
が上下動する。
【0017】上下動部構成部材21には、更にポテンシ
ョメータ32が設けられ、そのポテンショメータ32の
回転軸32にはプーリ34が係合されている。また、回
転軸41にもプーリ35が係合されている。そして、こ
れらのプーリ33、34、35はタイミングベルト36
を介してDCギアドモータ31により連動して回転す
る。更に、回転軸41にはウエハ保持アーム40を回転
させるレバー39が固定され、プーリ35の回転と共に
回転して、アーム40に設けられた突出部44に当接さ
れてアーム40を後述する様に回転させる。
【0018】ウエハ保持アーム40の先端部はウエハ待
機部50を囲むような形状で、3箇所にウエハの吸着部
42を有して、アーム40内の流路43を介して図示し
ない真空ポンプに接続され、ウエハ60の裏面側を吸着
できるようになっている。図4の背面図と図5の側面図
から明らかな通り、レバー39が取り付けられている回
転軸41には、バネ45が巻き付けられ上下動部構成部
材21に設けられた突起46とアーム40に設けた突起
47にその両端が当接される。その結果、バネの弾性力
は矢印48の方向に働いて、アーム40に図4中で反時
計回り(図3中では時計回り)の方向に弾性力を与え
る。
【0019】このウエハ裏面検査装置の動作について、
以下に説明する。図6は、上下動部20が上死点に達し
た状態を示す正面図である。この状態は、上下動部構成
部材21がカム37の回転により垂直方向に上昇し、ウ
エハ60に対してアーム40が真下から近づき3つの吸
着部42がウエハ60の裏面側を吸着し、更にウエハ待
機部50からウエハ60を僅かに持ち上げる。その時、
ウエハ待機部50の真空チャックはオフになる。
【0020】図6は、カム37の最大半径でカムフォロ
ワ38に当接しているので、上下動部構成部材21は上
死点に達している。そして、その上死点でレバー39が
突起部44に当接する様に調節されている。また、ウエ
ハ保持アーム40の上死点は、ウエハ待機部50よりや
や上方となっていて、アーム40が回転しないで水平状
態のウエハ60をウエハ待機部50から持ち上げる。
【0021】上記の様に、ウエハ60がウエハ待機部5
0上に水平な状態にある時に、ウエハ保持アーム40が
下側から上昇してウエハ60の裏面を吸着するので、確
実にウエハ60を保持することができる。また、上下に
移動するだけであり省スペースである。
【0022】図7は、さらにウエハ保持アーム40が回
転してウエハ60の裏面を観察者に露出した状態を示す
正面図である。DCギアドモータ31の回転により、ウ
エハ保持アーム40が反時計方向に回転させられ、ウエ
ハ60の裏面が上方を向く様に露出される。その結果、
観察者は裏面の目視検査を容易に行うことができる。こ
の状態では、前述したバネ45の弾性力がアーム40に
対して時計方向にかかっているので、アーム40が下側
に落下することはない。
【0023】DCギアドモータ31の回転はタイミング
ベルト36を介して回転軸32にも伝えられ、その軸3
2に係合するポテンショメータはその回転角度を測定す
ることができる。従って、それにより検出されるウエハ
保持アーム40の回転角度が所定の値に達したら、DC
ギアドモータの回転が止められ、目視検査が行われる。
【0024】目視検査が終了した後は、DCギアドモー
タ31が逆回転させられて、上記と逆の動きをして、ウ
エハ60を水平状態でウエハ待機部50上に載せる。レ
バー39は反時計方向に回転するが、前述したバネ45
の反時計方向の弾性力により、ウエハ保持アーム40が
時計方向に回転させられる。そして、アーム40が水平
状態になった時点で、レバー39はアームの突起部44
から離れ、カム37の形状に従って上下動部20が下降
を始める。そして、上下動部20が下死点近くになった
ところで、真空吸着をウエハ保持アーム40からウエハ
待機部50へと切り換えることにより、ウエハ60のウ
エハ待機部50への受渡しが滑らかに行われる。
【0025】図8は、本発明の別の実施の形態例を示す
ウエハ検査装置の上面図である。この例ではウエハ保持
アーム40の取付け方向が、図2と比較して90度回転
した方向になっている。そして、ウエハ保持アーム40
に取り付けられている突起部49はL字型になってい
る。その結果、カムの形状に従ってアーム40が上昇す
るまでは、上述の実施の形態例と同じであるが、上死点
に達した後は、レバー39がL字型の突起部49に当接
して圧力をかけ、アーム40を図中51の様に回転させ
てウエハ60の裏面を露出させる。
【0026】従って、この例では、ウエハ保持アーム4
0の回転ストローク小さくなるので、ウエハ裏面の観察
高さが低くなり観察が容易になる。また、省スペースで
ある。
【0027】図9は、更に本発明の別の実施の形態例を
示すウエハ検査装置の正面図である。この例では、ウエ
ハ保持アーム40の回転動作は図2〜7の例と同じであ
るが、DCギアドモータの代わりにパルスモータ71が
使用されている。また、アーム40の角度検出手段とし
て、ポテンショメータの代わりに光学式センサ72を利
用している。光学式センサ72がウエハ保持アーム40
の回転範囲の両端に取り付けられ、タイミングベルト7
3に取り付けられた光遮蔽板74が光学式センサ72を
通過することで、アーム40の角度を検出することがで
きる。
【0028】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明のウエハ検査
装置によれば、単一の回転駆動源によりウエハ保持アー
ムの上昇、ウエハの吸着、回転を行うことができ、構造
が簡単で低コストで省スペースである。また、ウエハが
水平状態の時に水平に保たれたウエハ保持アームにより
持ち上げられて吸着されるので、ウエハを傷つけること
なく確実に保持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態にかかるウエハ検査装置の
全体概略構造図である。
【図2】ウエハ検査装置の上面図である。
【図3】ウエハ検査装置の正面図である。
【図4】ウエハ検査装置の背面図である。
【図5】ウエハ検査装置の側面図である。
【図6】上下動部20が上死点に達した状態を示す正面
図である。
【図7】ウエハ保持アーム40が回転してウエハ60の
裏面を観察者に露出した状態を示す正面図である。
【図8】本発明の別の実施の形態例を示すウエハ検査装
置の上面図である。
【図9】本発明の別の実施の形態例を示すウエハ検査装
置の正面図である。
【符号の説明】
31 駆動手段(DCギアドモータ) 32 角度検出手段(ポテンショメータ) 33、34、35 プーリ 36 タイミングベルト 37 カム 39 回転レバー 40 ウエハ保持アーム 60 ウエハ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】表面を上側にして載置されたウエハを保持
    し、該ウエハの裏面を露出させるウエハ検査装置におい
    て、 該表面を上側にして載置されたウエハを保持するウエハ
    保持アームと、 回転駆動を生成する駆動手段と、 該駆動手段により回転させられ、前記ウエハ保持アーム
    を上昇させて該載置されたウエハの裏面側に下側から近
    づかせ、該ウエハを前記ウエハ保持アームに水平状態で
    持ち上げさせるウエハ保持アーム上昇手段と、 該駆動手段により回転させられ、前記ウエハを保持した
    ウエハ保持アームを該ウエハの裏面が露出されるまで回
    転させるウエハ保持アーム回転手段とを有することを特
    徴とするウエハ検査装置。
  2. 【請求項2】請求項1において、 前記ウエハ保持アーム上昇手段が、前記ウエハ保持アー
    ムを回転自在に支持するアーム支持手段に取り付けられ
    たカムを有し、前記駆動手段により該カムが回転させら
    れて当該アーム支持手段を上昇させることを特徴とする
    ウエハ検査装置。
  3. 【請求項3】請求項1または2において、 前記ウエハ保持アーム上昇手段が、水平位置に支持され
    た該ウエハ保持アームを上昇させて該ウエハ裏面を水平
    状態で持ち上げ、該裏面側を吸着して保持することを特
    徴とするウエハ検査装置。
  4. 【請求項4】請求項1において、 前記ウエハ保持アーム回転手段は、該ウエハ保持アーム
    に設けられた突出部に当接して該ウエハ保持アームを回
    転させる回転レバーを有し、該回転レバーに前記駆動手
    段の回転が伝えられることを特徴とするウエハ検査装
    置。
  5. 【請求項5】請求項1または4において、 前記ウエハ保持アーム回転手段の回転角度を検出する回
    転角度検出手段を更に有し、 該回転角度検出手段が所定の角度回転したことを検出し
    た時、該ウエハ保持アーム回転手段が逆回転されて、該
    ウエハが元の位置に載置されることを特徴とするウエハ
    検査装置。
JP24579296A 1996-09-18 1996-09-18 ウエハ検査装置 Pending JPH1092887A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24579296A JPH1092887A (ja) 1996-09-18 1996-09-18 ウエハ検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24579296A JPH1092887A (ja) 1996-09-18 1996-09-18 ウエハ検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1092887A true JPH1092887A (ja) 1998-04-10

Family

ID=17138907

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24579296A Pending JPH1092887A (ja) 1996-09-18 1996-09-18 ウエハ検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1092887A (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001027992A1 (fr) * 1999-10-08 2001-04-19 Nikon Corporation Mecanisme empechant la chute d'un substrat, et testeur de substrats pourvus d'un tel mecanisme
US6606154B1 (en) 1998-07-10 2003-08-12 Nidek Co., Ltd. Sample inspecting apparatus
KR100445457B1 (ko) * 2002-02-25 2004-08-21 삼성전자주식회사 웨이퍼 후면 검사 장치 및 검사 방법
JP2008016735A (ja) * 2006-07-07 2008-01-24 Nec Electronics Corp 検査補助装置
KR100846065B1 (ko) * 2006-12-29 2008-07-11 주식회사 실트론 웨이퍼 검사장치 및 방법
JP2008286576A (ja) * 2007-05-16 2008-11-27 Olympus Corp 外観検査装置
JP2015513111A (ja) * 2012-04-12 2015-04-30 ケーエルエー−テンカー コーポレイション サンプル検査とレビューのためのシステム及び方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6606154B1 (en) 1998-07-10 2003-08-12 Nidek Co., Ltd. Sample inspecting apparatus
WO2001027992A1 (fr) * 1999-10-08 2001-04-19 Nikon Corporation Mecanisme empechant la chute d'un substrat, et testeur de substrats pourvus d'un tel mecanisme
JP2001110882A (ja) * 1999-10-08 2001-04-20 Nikon Corp 基板落下防止機構およびこれを備えた基板検査装置
US6635516B1 (en) 1999-10-08 2003-10-21 Nikon Corporation Substrate dropping prevention mechanism and substrate inspection device provided therewith
JP4517315B2 (ja) * 1999-10-08 2010-08-04 株式会社ニコン 基板落下防止機構およびこれを備えた基板検査装置
KR100445457B1 (ko) * 2002-02-25 2004-08-21 삼성전자주식회사 웨이퍼 후면 검사 장치 및 검사 방법
US6923077B2 (en) 2002-02-25 2005-08-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for wafer backside inspection
JP2008016735A (ja) * 2006-07-07 2008-01-24 Nec Electronics Corp 検査補助装置
KR100846065B1 (ko) * 2006-12-29 2008-07-11 주식회사 실트론 웨이퍼 검사장치 및 방법
JP2008286576A (ja) * 2007-05-16 2008-11-27 Olympus Corp 外観検査装置
US7738091B2 (en) 2007-05-16 2010-06-15 Olympus Corporation Visual inspection apparatus
JP2015513111A (ja) * 2012-04-12 2015-04-30 ケーエルエー−テンカー コーポレイション サンプル検査とレビューのためのシステム及び方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6606154B1 (en) Sample inspecting apparatus
TWI249619B (en) Display panel inspection apparatus and inspection method
JP4517315B2 (ja) 基板落下防止機構およびこれを備えた基板検査装置
JP2004524709A (ja) ウェーハ用保持装置
JPH06291030A (ja) 回転式基板処理装置用の基板回転保持装置
KR102255251B1 (ko) 척 조립체 유지보수 모듈을 구비한 웨이퍼 프로세싱 시스템
US20090016857A1 (en) Substrate-replacing apparatus, substrate-processing apparatus, and substrate-inspecting apparatus
JP2001077179A (ja) 半導体基板アライナー装置および方法
JPH0225254B2 (ja)
JPH1092887A (ja) ウエハ検査装置
CN111312644A (zh) 晶圆自动对位装置以及刻蚀机
JP3492859B2 (ja) ウエハー形状測定装置
JP2004144648A (ja) 表面検査装置
JP2603191B2 (ja) 薄板傾動装置
JPH10116869A (ja) ウエハ検査装置
JP4226955B2 (ja) 基板の位置決め装置
JP2591291Y2 (ja) 円盤状物品の保持装置
JP7473748B2 (ja) ウェーハ回転装置、ウェーハ検査装置及びウェーハの検査方法
JP3140682B2 (ja) 動釣り合い調整装置
JPH104132A (ja) チップ移載装置
JP4282379B2 (ja) ウエハ検査装置
JP2000046747A (ja) 液晶基板の外観検査方法および装置
JP2001093960A (ja) 処理装置用ウエファ位置決め装置
JP3222766B2 (ja) 動釣り合い調整装置
JPH08206617A (ja) ブラシ回転式基板洗浄装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040527

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040928

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050208