JPH1087897A - ゴム組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 硬度及び電気抵抗値を所定の範囲内に調整す
ることができ、感光体などの被帯電部材への汚染がなく
汚染防止の加工を必要としない、均一な導電性を有する
導電性部材用のゴム組成物、該ゴム組成物を用いたゴム
部材、及び該ゴム部材を備えた静電式画像形成装置を提
供すること。 【解決手段】 ゴム成分Ａの加硫物、該ゴム成分Ａとは
異なる機構により加硫されるゴム成分Ｂ、導電性粒子、
並びにヒドロキノン誘導体及びフェノール誘導体からな
る群より選ばれる少なくとも一種の老化防止剤を含有す
ることを特徴とするゴム組成物、該ゴム組成物を所望の
形状に賦形した後、ゴム成分Ｂを該ゴム成分Ｂの加硫剤
の存在下に加硫してなるゴム部材、及び該ゴム部材を備
えた静電式画像形成装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ゴム組成物とその
製造方法に関し、さらに詳しくは、導電性ゴム成形品の
硬度及び電気抵抗値を所定の範囲内に調整することがで
きるゴム組成物に関する。本発明のゴム組成物は、電子
写真複写機や静電記録装置などの静電式画像形成装置に
おいて使用される導電性ロールや導電性ブレードなどの
導電性ゴム部材用のゴム材料として特に好適である。

【０００２】

【従来の技術】導電性粒子を配合したゴム組成物を所定
形状に賦形した後、加硫して得られるゴム加硫物（導電
性ゴム成形品）には、用途分野に応じて、硬度及び電気
抵抗値をそれぞれ所定の範囲内に調整することが要求さ
れる。ところが、導電性粒子を配合したゴム加硫物は、
十分に低い電気抵抗値を得るために、導電性粒子の配合
割合を高くすると、硬度が高くなりすぎるという問題が
ある。逆に、導電性粒子の配合割合を低くすると、導電
性粒子の分散不良による同一組成物内のサンプリング場
所ごとに導電性が異なる不均一性や、配合量の誤差によ
る導電性のばらつきが増大するため、均一な導電性を得
ることが困難である。所定の固さと均一な導電性を得る
ために、ゴムに導電性粒子に加えて軟化剤や可塑剤など
の配合剤を多量に添加して硬度を調整すると、これらの
配合剤が導電性ゴム成形品の表面にブリードアウトする
という問題がある。したがって、導電性と柔軟性を併せ
持つ導電性ゴム成形品を得ることは、困難な課題であっ
た。

【０００３】一般に、一種類のゴム成分のみでは、所望
の物性を得ることができない場合、複数種のゴム材料を
組み合わせて使用することが行われている。しかし、二
種類以上のゴム成分を併用しても、それぞれに対応する
加硫剤を用いて、同時に加硫する通常の方法では、導電
性と柔軟性を併せ持つ導電性ゴム成形品を得ることは困
難である。すなわち、各ゴム成分相互間に相溶性がある
場合には、導電性粒子が均一に分布するため、硬度が高
くなってしまう。各ゴム成分相互間に相溶性がない場合
であっても、各ゴム成分と導電性粒子との間の親和性に
格別の差がないと、やはり導電性粒子が均一に分布する
ため、硬度が高くなってしまう。

【０００４】各ゴム成分相互間に相溶性がなく、かつ、
各ゴム成分と導電性粒子との間の親和性にも差がある場
合には、導電性粒子は親和性の高いゴム成分相中に高濃
度で存在することになる。この場合、導電性粒子との親
和性が低く、導電性粒子の濃度が低いゴム成分相が柔軟
性に寄与することになる。しかし、導電性粒子との親和
性の差によって、導電性と柔軟性を調整する方法では、
使用できるゴム成分の種類が自ら限定され、耐摩耗性な
ど、その他の特性を満足させることが困難である。とこ
ろで、電子写真複写機や静電記録装置などの画像形成装
置において使用される導電性ロールや導電性ブレードな
どの導電性部材は、柔軟性と導電性を合わせ持つことが
求められている。そこで、以下、これらの導電性部材を
例にして、前記の問題点についてより詳しく説明する。

【０００５】電子写真法、静電写真法、静電印刷法など
の各種画像形成法において、電子写真複写機や静電記録
装置などの画像形成装置が使用されている。これらの画
像形成装置には、例えば、現像ロール、帯電ロール、転
写ロール等として導電性ロールが使用されている。ま
た、トナー層形成用ブレード（ドクターブレード）、ク
リーニングブレード等にも導電性ブレードが使用されて
いる。静電式画像形成装置に使用される各種ロールに要
求される特性は、画像形成装置の種類やロールの用途等
によってそれぞれ異なるが、一般的に、共通して要求さ
れる特性としては、第一に、適度の柔軟性を有するこ
と、第二に、環境変化に対して安定した電気抵抗を示す
こと、第三に、感光体などを汚染しないこと、第四に、
耐久性に優れていること、などが挙げられる。

【０００６】これらのロールには、柔軟性の指標とし
て、ＪＩＳ−Ａ硬度で２０〜６０度の範囲内の硬度を有
することが求められている。これらのロールの硬度が高
すぎると、例えば、トナーを融着させたり、感光体を傷
つけたりしやすい。これらのロールの硬度が低すぎる
と、例えば、トナーに充分な摩擦力を付与することがで
きなかったり、感光体を汚染したりしやすい。同時に、
これらのロールには、電気的特性として、１０⁴〜１０
¹⁰Ωの範囲の電気抵抗値を有することが求められてい
る。例えば、現像ロールは、現像剤供給ロールとの間の
摩擦力によりトナーを現像ロールの外周面に帯電状態で
付着させ、これを層形成ブレードで一様にならして、感
光体上の静電潜像に対して電気的吸引力により飛翔させ
る役割を持っているため、適度の範囲の電気抵抗値を有
することが必要である。帯電ロールの場合には、適度の
範囲の電気抵抗値を持っていないと、感光体上に均一な
帯電を付与することができない。しかも、この電気抵抗
値は、複写像の高画質化の要求から、高温高湿度下でも
低温低湿度下でも、変動の幅が小さいこと、すなわち、
耐環境性に優れ、周囲の環境条件の変化によっても、安
定した電気抵抗値を示すことが要求されている。そこ
で、各種画像形成装置には、導電性ロールの材料とし
て、柔軟性と導電性を併せもつ導電性ゴム材料が用いら
れている。導電性ゴム材料としては、各種ゴムに導電性
カーボンブラック等の導電性粒子を配合したゴム組成物
が使用されている。これらの導電性ゴム材料には、ＪＩ
Ｓ−Ａ硬度で２０〜６０度という柔軟性の規格を満たす
ために、さらに軟化剤等を添加している場合もある。

【０００７】従来、前記用途に使用される導電性ゴム材
料として、例えば、シリコーンゴム（特開平６−２００
１５８号公報）、イソプレンゴム（特開平５−２２４５
０１号公報）、エチレンプロピレンゴム（特開平５−１
８８７５３号公報）、ポリヘキセンゴム（特開平４−１
３３９３７号公報）に、それぞれ導電性粒子を配合した
ゴム組成物が提案されている。しかしながら、これらの
導電性ゴム材料でも、充分な特性は得られていない。ま
た、ゴム成分として、二種類のシリコーンゴムを併用し
た導電性ゴム材料（特開平３−１９０９６４号公報）、
ポリオレフィン系ゴムとシリコーンゴムを有する導電層
を備えた接触帯電部材（特開平３−１９６０６７号公
報）等が提案されているが、これらの導電性ゴム材料
は、耐摩耗性が不十分で、耐久性に劣るという欠点を持
っている。

【０００８】ところで、導電性カーボンブラックは、導
電性粒子として最も一般的に使用されているものであ
る。しかし、所望の導電性（電気抵抗値）を得る量比
で、導電性カーボンブラックを共役ジエン系ゴムに配合
すると、導電性カーボンブラックと共役ジエン系ゴムと
の間の相互作用により、加硫ゴムの硬度が増大し、ＪＩ
Ｓ−Ａ硬度が６０度を越えることがある。導電性ゴム材
料に、一般にゴム材料の分野で使用されている軟化剤や
柔軟剤等を配合すると、硬度を適度の範囲に調整するこ
とができるものの、軟化剤などの配合剤がブリードアウ
トするため、感光体の汚染などの問題が生じる。軟化剤
や柔軟剤に代えて、液状ゴムを多量に配合して導電性ゴ
ム材料の硬度を調整する方法が提案されている（特開平
５−５９２２２号公報）。しかし、充分な軟化作用を得
るには、共役ジエン系ゴムに比較的多量の液状ゴムを配
合する必要がある。そのために、ゴム組成物の成形加工
性が低下し、しかも液状ゴム中の低分子量体のために成
形品の表面にべたつき感が残る。

【０００９】軟化剤等の配合剤のブリードアウトを防止
するために、例えば、導電性を有するゴム層の上に、ブ
リードアウト防止層を設ける方法（特開平６−２５０４
９６号公報）、保護層を設ける方法（特開平６−２０８
２８８号公報）、表面層を設ける方法（特開平６−１６
７８６１号公報）、抵抗調整層を積層する方法（特開平
６−２０８２８９号公報）などが提案されている。これ
らの方法は、ブリードアウト防止には有効な方法である
が、工程数が多くなるため、実用上好ましい方法ではな
い。したがって、所定量の導電性粒子を含有することで
所望の範囲の電気抵抗値を有し、かつ、硬度について
も、前記規格内にすることができ、単層でも使用可能な
導電性ゴム材料が求められている。導電性ブレードにつ
いても、導電性ロールと同様な要求特性があるが、それ
らを充分に満足する導電性ゴム材料はなく、満足のでき
る導電性ブレードはなかった。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、硬度
及び電気抵抗値を所定の範囲内に調整することができ、
しかも所望の要求特性に応じて、ゴム成分の種類を選択
することができる導電性のゴム組成物を提供することに
ある。また、本発明の目的は、感光体などの被帯電部材
への汚染がなく汚染防止の加工を必要としない、所定の
硬さと均一な導電性を有する導電性部材用のゴム組成物
を提供することにある。本発明の他の目的は、前記の如
きゴム組成物を用いて、静電式画像形成装置において使
用される導電性ロールや導電性ブレードなどのゴム部材
を提供することにある。

【００１１】本発明者らは、前記従来技術の問題点を克
服するために鋭意研究した結果、加硫機構の異なる２種
類のゴム材料と導電性粒子とを組み合わせた導電性ゴム
組成物により上記目的を達成できることを見いだした。
具体的には、ゴム成分Ａの加硫物、該ゴム成分Ａとは異
なる機構により加硫されるゴム成分Ｂ、及び導電性粒子
を含有するゴム組成物を用いることにより、ゴム成分Ｂ
中の導電性粒子の濃度を高くすることができ、それによ
って、導電性と硬度を所定の範囲に調整することがで
き、しかも所望の要求特性に応じて各ゴム成分の種類を
多くのゴム材料中から選択することができる。ゴム成分
Ａの加硫物は、ゴム成分Ａ、ゴム成分Ｂ、ゴム成分Ａの
加硫剤などを含有するゴム組成物を動的加硫することに
より、ゴム成分Ａのみを加硫して調製する。これによっ
て、ゴム成分Ａの加硫物が分散したゴム組成物を得、該
ゴム組成物を所定形状に賦形し、ゴム成分Ｂの加硫剤に
より加硫することにより、所望の成形品を得ることがで
きる。

【００１２】この方法によれば、軟化剤や可塑剤、液状
ゴムなどを含有させることなく、所定の硬さと導電性が
付与されたゴム組成物、及び該ゴム組成物を加硫して得
られる導電性ゴム成形品を得ることができる。そこで、
本発明者らは、該ゴム組成物及びその製造方法について
特許出願を行った（特願平７−１９８０７０号）。しか
し、導電性の均一性に関しては、なお改善の余地があっ
た。そこで、さらに検討した結果、特定の老化防止剤を
含有させた動的加硫ゴム組成物により、所望の硬さと導
電性が付与され、しかも導電性が高度に均一なゴム組成
物の得られることを見いだし、その知見に基づいて本発
明を完成するに至った。

【００１３】

【課題を解決するための手段】かくして、本発明によれ
ば、ゴム成分Ａの加硫物、該ゴム成分Ａとは異なる機構
により加硫されるゴム成分Ｂ、導電性粒子、並びにヒド
ロキノン誘導体及びフェノール誘導体からなる群より選
ばれる少なくとも一種の老化防止剤を含有することを特
徴とするゴム組成物が提供される。また、本発明によれ
ば、前記ゴム組成物を所望の形状に賦形した後、ゴム成
分Ｂを該ゴム成分Ｂの加硫剤の存在下に加硫してなるゴ
ム部材、及び該ゴム部材を備えた静電式画像形成装置が
提供される。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明のゴム組成物は、例えば、
以下の製造方法により得ることができる。 （１）ゴム成分Ａ、該ゴム成分Ａとは異なる機構により
加硫されるゴム成分Ｂ、導電性粒子、ゴム成分Ａの加硫
剤、及び老化防止剤を含有するゴム組成物を混練して、
ゴム成分Ａのみを動的加硫する方法。 （２）ゴム成分Ａ、該ゴム成分Ａとは異なる機構により
加硫されるゴム成分Ｂ、導電性粒子の配合量の一部、ゴ
ム成分Ａの加硫剤、及び老化防止剤を含有するゴム組成
物を混練して、ゴム成分Ａのみを動的加硫し、次いで、
導電性粒子の残余を配合する方法。 （３）ゴム成分Ａ、該ゴム成分Ａとは異なる機構により
加硫されるゴム成分Ｂ、ゴム成分Ａの加硫剤、及び老化
防止剤を含有するゴム組成物を混練して、ゴム成分Ａの
みを動的加硫し、次いで、導電性粒子を配合する方法。 （４）加硫済みのゴム成分Ａの分散相、未加硫のゴム成
分Ｂ、老化防止剤、及び導電性粒子を混練して得る方
法。 これらのいずれの方法においても、得られたゴム組成物
を所望の形状に賦形する前に、ゴム成分Ｂの加硫剤を配
合しておく。ここで、所望の形状に賦形するとは、例え
ば、ロール状基材の上にゴム組成物を被覆することも包
含する。所望の形状に賦形した後、ゴム成分Ｂを加硫し
て、加硫物（ゴム部材）を得る。

【００１５】本発明による動的加硫ゴム（ゴム成分Ａの
加硫物）の作製は、ミクロな架橋ゴムを熱可塑性樹脂中
に分散した熱可塑性エラストマーの製造方法として常用
されている方法に類似している。本発明における動的加
硫は、例えば、密閉式混練機中で２種のゴム成分のう
ち、１種のゴム成分を加硫ゴムとして、未加硫のゴム成
分中に適当な大きさで分散させることを特徴とする。動
的加硫には、通常のゴム加硫と同様に高温での熱処理が
必要であるが、通常のゴム加硫とは異なり、密閉式混練
機中での混練時、強力な剪断力をゴムが受ける。さら
に、動的加硫は、密閉式の混合機中で混練が行われる
が、通常の加硫操作と比べると、空気の遮断が十分でな
い。このために、動的加硫では、ゴムの劣化が進行しや
すいと推定できる。ゴムが劣化した場合のゴム組成物の
特性変化は、その劣化機構が硬化型か軟化型かにより異
なってくるが、引張応力、強度、伸びといった機械的特
性に変化が現れやすい。

【００１６】このようなゴムの劣化による機械的特性の
変化を防ぐには、通常、老化防止剤がゴムに添加され
る。ところが、本発明者らは、前記ゴム組成物を動的加
硫法により調製するに際し、特定の老化防止剤を添加す
ると、機械的特性変化の防止効果よりも、導電性の安定
化という従来予想もされない顕著な作用効果の得られる
ことを見いだした。すなわち、導電性が均一で、ばらつ
きが極めて小さい加硫物（ゴム部材など）を得ることが
できる。しかも、この加硫物は、感光体などの被帯電部
材を汚染することがない。

【００１７】動的加硫における導電性の安定化への老化
防止剤の作用機構は、現段階では必ずしも明らかではな
いが、次のように推定される。一般的に、２種のポリマ
ーをブレンドした場合、両者の相溶性、溶融粘度差、及
びブレンド比によって、種々のモルホロジーを形成する
ことが知られている。ポリマー種及びブレンド比を決め
た場合、モルホロジーを決定する要因は、溶融粘度差に
なる。例えば、両者のブレンド比が１：１の時には、溶
融粘度の高い方が分散相になることが知れている。ま
た、両者の溶融粘度差が分散単位を決定する支配的要因
であることも知られており、その差が小さい時に分散単
位が小さくなる。

【００１８】初期溶融粘度がほぼ同じ２種のポリマーブ
レンド系の動的加硫における相形成過程を考察すると、
動的加硫を受けたポリマー相は、その粘度が高くなり、
相対的に他方の粘度より高くなるので、動的加硫された
ポリマー相が分散相となり、そうでない方は連続相にな
る傾向が強いと推定される。ところが、動的加硫を行う
高温の混練条件下では、ポリマー種によってはかなりの
劣化が発生するため、予想通りの粘度差にならない場合
が出てくる。劣化による粘度変化が大きいと、粘度差に
よるモルフォロジーの制御が困難となる。

【００１９】例えば、動的加硫時に、連続相にすべく設
計したポリマー相に顕著な硬化型の劣化が発生すると、
本来連続相となるべきポリマー相の粘度が高くなり、動
的加硫されたポリマー相の粘度との差がほとんどなくな
るか、場合によっては逆転してしまうので、当初の設計
通りのモルフォロジーを形成できなくなる。逆に、動的
加硫時に、連続相に軟化型の劣化が発生すると、動的加
硫されたポリマーからなる分散相に十分な剪断力が作用
しなくなるので、分散相の分散単位が大きくなり過ぎて
しまう。

【００２０】動的加硫時におけるポリマーの劣化の程度
は、動的加硫の諸条件、例えば、混合機の種類、剪断
力、温度、混練時間によって大きく左右される。また、
混合機内の温度分布、混練の不均一なども影響する。こ
れらの条件が、わずかに異なることが、劣化の程度すな
わち２種のポリマーの相対的粘度差に影響し、モフォロ
ジーがばらついて導電性のばらつきになって現れるもの
と推定される。本発明に従えば、これらの条件が多少変
動しても、老化防止剤がゴムの劣化を抑制するので、安
定的なモルフォロジーの形成と均一な導電性の付与に寄
与するものと考えられる。すなわち、ゴム成分Ａの動的
加硫時に、ゴム成分Ｂの劣化が抑制され、それによりゴ
ム成分Ａの加硫物の均一微細な分散相が形成され、ひい
ては、均一な導電性を有する加硫物が得られると推定さ
れる。

【００２１】ゴム成分Ａ 本発明で使用するゴム成分Ａ用のゴム材料としては、例
えば、エピクロルヒドリン系ゴム、エポキシ基含有ゴ
ム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、エチレン−アク
リル酸エステル系ゴム、ウレタンゴム、クロロスルホン
化ポリエチレンゴム、ブチルゴム、フッ素ゴムなどを挙
げることができる。エピクロルヒドリン系ゴムとして
は、例えば、エピクロルヒドリンゴム（ＣＨＲ）やエピ
クロルヒドリン−エチレンオキシドゴム（ＣＨＣ）、エ
ピクロルヒドリン−プロピレンオキシドゴムなどを挙げ
ることができる。エポキシ基含有ゴムとしては、グリシ
ジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエ
ポキシ基含有単量体を共重合したエポキシ化アクリルゴ
ム（エポキシ基含有ＡＣＭ）；グリシジルメタクリレー
ト、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有単量
体を共重合したエポキシ化エチレン−アクリル酸エステ
ル系ゴム；エポキシ化変性された天然ゴム、ＩＲ、ＳＢ
Ｒ、ＮＢＲ等のエポキシ化ジエン系ゴムなどを挙げるこ
とができる。これらのゴムは、それぞれ単独で、あるい
は２種以上を組み合わせて使用することができる。これ
らの中でも、好適な物性が得られやすい点で、エポキシ
基及び／またはハロゲン原子を分子鎖中に有するゴムが
好ましく、エポキシ基含有ＡＣＭ、ＣＨＲ、及びＣＨＣ
が特に好ましい。ゴム成分Ａとしては、ゴム成分Ｂを加
硫しない加硫剤で加硫可能なゴムが好適であり、ゴム成
分Ｂの加硫剤、例えば、硫黄、硫黄供与体、有機過酸化
物以外の加硫剤で加硫できるものである。

【００２２】ゴム成分Ｂ 本発明で使用するゴム成分Ｂ用のゴム材料としては、例
えば、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）、
アクリロニトリル−イソプレンゴム、アクリロニトリル
−ブタジエン−イソプレンゴム、スチレン−ブタジエン
ゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、イソプレン
ゴム（ＩＲ）、天然ゴム（ＮＲ）などのジエン系ゴム；
エチレン−プロピレン−ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ブチ
ルゴム（ＩＩＲ）、及びこれらのゴムの部分水素添加物
などの不飽和二重結合を有するゴムを挙げることができ
る。部分水素添加物としては、例えば、水素化ＮＢＲ、
水素化ＳＢＲなどを挙げることができる。これらのゴム
は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて
使用することができる。これらの中でも、強度が高いＮ
ＢＲが特に好ましい。ゴム成分Ｂ用のゴム材料は、通
常、常温で固形のものであるが、特に低硬度のゴム成形
品を所望する場合には、液状ゴムを少量（全ゴム成分中
１０重量％以下の割合）配合してもよい。

【００２３】全ゴム成分 全ゴム成分中のゴム成分Ａの配合割合は、通常、２０〜
８０重量％、好ましくは３０〜７５重量％、より好まし
くは４０〜７０重量％である。全ゴム成分中のゴム成分
Ｂの配合割合は、通常、８０〜２０重量％、好ましくは
７０〜２５重量％、より好ましくは６０〜３０重量％で
ある。ゴム成分Ａの配合割合が少なすぎると、所望の柔
軟性（硬度）を得ることが困難となり、多すぎると強度
が低下する。また、ゴム成分Ｂの配合割合が小さすぎる
と、該ゴム成分Ｂが連続相を形成しにくくなり、所定の
導電性を得ることが困難になる。これらのゴム成分は、
ロール、押出機、バンバリーミキサー等を用いた通常の
混練法によりブレンドしてもよいが、乳化重合または懸
濁重合により得られたスラリー同士を混合して、共凝固
する方法を採用することもできる。なお、予めゴム成分
Ｂに導電性粒子の８０重量％以上を混合しておくこと
が、所定の導電性と硬さを得るために好ましい。

【００２４】導電性粒子 本発明で使用する導電性粒子としては、体積固有抵抗値
が１０⁶ Ω・ｃｍ以下のものであって、例えば、導電性
カーボンブラックやグラファイトなどのカーボン系導電
性フィラー；銀、ニッケル、銅、アルミニウムなどの金
属粉；非導電性粉体を銀などの金属や酸化錫などの金属
酸化物で被覆処理したもの；金属酸化物；ポリアニリ
ン、ポリピロール、ポリアセチレン等の導電性ポリマー
などを挙げることができる。これらの中でも、感光体を
傷つけないことから、導電性カーボンブラックが好まし
い。

【００２５】導電性カーボンブラックとしては、例え
ば、アセチレンブラック、コンダクティブファーネスブ
ラック、スーパーコンダクティブファーネスブラック、
エクストラコンダクティブファーネスブラック、コンダ
クティブチャンネルブラック、高温で熱処理されたファ
ーネスブラック、チャンネルブラック等を挙げることが
できる。市販品としては、例えば、ファーネスブラック
の一種であるケッチェンブラックＥＣやケッチェンブラ
ックＥＣ−６００ＪＤ（ケッチェンブラックインターナ
ショナル社製）等が好ましいものとして挙げることがで
きる。また、これらの導電性に優れたカーボンブラック
の他に、ＨＡＦ、ＩＳＡＦ、ＳＡＦ、ＳＲＦ、ＭＡＦ、
ＦＥＦなどの比較的低導電性のカーボンブラックでもよ
い。金属酸化物としては、ＡｌドープＺｎＯ、ＳｎＯ₂
（酸化アンチモンドープ）被属ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂（酸化
アンチモンドープ）被属ＳｎＯ₂、ＳｎＯ₂被属Ｔｉ
Ｏ₂、Ｋ₂Ｏ・ｎＴｉＯ₂／ＳｎＯ₂・Ｓｂ₂Ｏ₆、ＳｎＯ₂
（酸化アンチモンドープ）被属複合酸化物などが挙げら
れる。

【００２６】これらの導電性粒子は、それぞれ単独で、
あるいは２種以上を組み合わせて使用することができ
る。高導電性のカーボンブラックと低導電性のカーボン
ブラックを併用し、両者の量比を変えることにより導電
性の程度を制御することが好ましい場合もある。導電性
粒子の配合割合は、ゴム成分１００重量部に対して、通
常、１〜１００重量部、好ましくは３〜８０重量部、よ
り好ましくは５〜７０重量部である。導電性粒子の配合
割合が少なすぎると、所望の電気抵抗値（導電性）を得
ることができず、多すぎると、電気抵抗値が低くなりす
ぎ、硬度も高くなりやすい。導電性粒子は、通常、ロー
ル、押出機、バンバリミキサー等を用いてゴム成分中に
混練される。

【００２７】ゴム成分Ａの加硫剤 ゴム成分Ａ及びゴム成分Ｂは、互いに異なる加硫機構に
よって加硫されるゴム材料である。本発明では、加硫剤
として、ゴム成分Ａ用の加硫剤とゴム成分Ｂ用の加硫剤
とを用いる。ゴム成分Ａ用の加硫剤としては、該ゴム成
分Ａの加硫条件下でゴム成分Ｂを加硫しないものを使用
する。ゴム成分Ａ中、エピクロルヒドリン系ゴムの加硫
剤としては、ポリアミン類、２−メルカプトイミダゾリ
ン類、２−メルカプトピリミジン類、メルカプトトリア
ジン類、チオウレア類などを挙げることができる。ポリ
アミン類としては、エチレンジアミン、ヘキサメチレン
ジアミンやこれらの塩が、２−メルカプトイミダゾリン
類としては、２−メルカプトイミダゾリン、４−メチル
−２−メルカプトイミダゾリン、５−エチル−４−ブチ
ル−２−メルカプトイミダゾリンなどが、メルカプトト
リアジン類としては、１，３，５−トリチオシアヌール
酸、２−ブチルアミノ−４，６−ジメルカプト−ｓ−ト
リアジンなどが、チオウレア類としては、チオウレア、
ジブチルチオウレア、トリエチルチオウレアなどが、そ
れぞれ挙げられる。

【００２８】エポキシ基含有ゴムの加硫剤としては、一
般に、アミン化合物とその塩、イソシアナート化合物な
ど、エポキシ基を架橋点とする加硫剤系を使用すること
ができる。アミン化合物とその塩としては、例えば、イ
ソシアヌル酸、オクタデシルトリメチルアンモニウムブ
ロマイド、ジフェニルウレア、ヘキサメチレンテトラミ
ン、ｐ，ｐ′−ジアミノジフェニルメタン、アンモニウ
ムベンゾエート等の有機カルボン酸アンモニウム、ヘキ
サメチレンジアミンカルバメート、Ｎ，Ｎ′−ジシンナ
ミリデン−１，６−ヘキサジアミン、４，４′−メチレ
ンビス−（２−クロロアミリン）等を挙げることができ
る。イソシアナート化合物としては、例えば、トルイレ
ンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナー
ト、ナフチレン−１，５−ジイソシアナートなどのポリ
イソシアナート類を挙げることができる。

【００２９】アクリルゴム及びエチレン−アクリル酸エ
ステル系ゴムの加硫剤としては、例えば、トリエチレン
テトラミン、トリエチルトリメチレントリアミン、ヘキ
サメチレンジアミンカルバメートなどのアミン化合物を
挙げることができる。クロロプレンゴムの加硫剤として
は、例えば、酸化亜鉛、酸化マグネシウムなどを挙げる
ことができる。加硫促進剤として、２−メルカプトイミ
ダゾリンなどを併用することができる。

【００３０】ウレタンゴムの加硫剤としては、例えば、
ビスマレイミド、ビスシトラコンアミドなどを挙げるこ
とができる。クロロスルホン化ポリエチレンゴムの加硫
剤としては、例えば、酸化マグネシウム、一酸化鉛、三
塩化マレイン酸鉛、アビエチン酸、水添ロジンなどを挙
げることができる。ブチルゴムの加硫剤としては、ｐ−
ベンゾキノンジオキシム、ベンゾイルキノンジオキシム
などのキノン系架橋剤、あるいは樹脂架橋剤などを挙げ
ることができる。フッ素ゴムの加硫剤としては、ヘキサ
メチレンジアミンカルバメート、エチレンジアミンカル
バメートなどを挙げることができる。

【００３１】これらの加硫剤の配合割合は、ゴム成分Ａ
の種類や加硫剤の種類によって異なるが、ゴム成分Ａ１
００重量部に対して、通常、１〜１５重量部、好ましく
は２〜１０重量部である。加硫剤は、それぞれ単独で、
あるいは２種以上を組み合わせて使用することができ
る。ゴム成分Ａとして、複数種のゴムを併用する場合に
は、それぞれのゴムの種類に応じた複数種の加硫剤を使
用する。

【００３２】ゴム成分Ｂの加硫剤 ゴム成分Ｂの加硫剤としては、例えば、硫黄、硫黄供与
体、有機過酸化物などを挙げることができる。硫黄供与
体としては、例えば、テトラメチルチウラムジスルフィ
ド、テトラブチルチウラムジスルフィド等のチウラム類
を挙げることができる。有機過酸化物としては、例え
ば、ジクミルペルオキシド、ジ−ｔ−ブチルペルオキシ
ド、ｐ−メンタンヒドロペルオキシド、クメンヒドロペ
ルオキシド等を挙げることができる。ゴム成分Ｂ中、Ｅ
ＰＤＭの加硫剤としては、硫黄、硫黄供与体、キノン架
橋剤系、有機過酸化物、樹脂架橋剤系などを使用するこ
とができる。

【００３３】これらの加硫剤の配合割合は、ゴム成分及
び加硫剤の種類によって異なるが、ゴム成分Ｂ１００重
量部に対して、通常、０．５〜１５重量部、好ましくは
１〜１０重量部である。本発明では、必要に応じて、ジ
チオカーバメート類、チウラム類、グアニジン類、チア
ゾール類などの加硫促進剤、ステアリン酸、金属酸化物
などの加硫促進助剤、老化防止剤など各種ゴム用配合剤
を配合することができる。感光ドラムを汚染しないもの
であれば、導電性粒子を均一に分散させるための分散剤
を配合することもできる。

【００３４】老化防止剤 本発明で使用される老化防止剤は、ヒドロキノン誘導体
及びフェノール誘導体からなる群より選ばれる少なくと
も一種の老化防止剤を必須成分とし、場合によっては、
亜りん酸エステル類を併用してもよい。老化防止剤とし
て、これら以外のアミン系として総称されるものは、動
的加硫時に安定的なモルホロジー形成と均一な導電性付
与に効果があるものの、ゴム加硫物表面へのブリードに
より、接触する相手側、例えば、感光体を汚染する原因
となるので、本発明の目的に合致しない。

【００３５】ヒドロキノン誘導体としては、例えば、
２，５−ジ−（第三アミル）ヒドロキノン、２，５−ジ
−第三−ブチルヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチル
エーテル、ヒドロキノンモノベンジルエーテルが挙げら
れる。フェノール誘導体としては、例えば、１−オキシ
−３−メチル−４−イソプロピルベンゼン、２，６−ジ
−第三−ブチルフェノール、２，６−第三−ブチル−４
−エチルフェノール、２，６−ジ−第三−ブチル−４−
メチルフェノール、２，６−ジ−第三−ブチル−４−ｓ
ｅｃ−ブチルフェノール、ブチル・ヒドロキシオニソー
ル、スチレン化フェノール、２，２′−メチレン−ビス
−（４−メチル−６−第三−ブチルフェノール）、２，
２′−メチレン−ビス−（４−エチル−６−第三−ブチ
ルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス−（２，６
−第三−ブチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビ
ス−（６−アルファメチル−ベンジル−ｐ−クレゾー
ル）、４，４′−ブチリデン−ビス（６−第三ブチル−
ｍ−クレゾール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，
６−ジ−第三ブチルフェノール）、１，１−ビス−（４
−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、１，３，５
−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−第三−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、１，３，５
−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−
ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２−第三ブチル
−６−（３’−第三ブチル−５′−メチル−２′−ヒド
ロキシベンジル）−４−メチルフェニル・アクリレー
ト、４，４′−チオビス−（６−第三ブチル−３−メチ
ルフェノール）、４，４′−ブチリデンビス−（３−メ
チル−６−第三ブチルフェノール）、２，２−チオビス
（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、ｎ−オク
タデシル−３−（４′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−
第三ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス−’
［メチレン−３−（３′，５′−ジ−第三ブチル−４′
−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、トリ
エチレングリコール−ビス［３，（３−第三ブチルアニ
リノ）−２，４−ビスオクチル−チオ−１，３，５−ト
リアジン、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−
ｏ−クレゾールが例示される。亜りん酸エステル類とし
ては、例えば、トリス（ノニルフェニル）ホスファイ
ト、トリフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−
第三ブチルフェニル）ホルファイトが挙げられる。

【００３６】ヒドロキノン誘導体及び／またはフェノー
ル誘導体の添加量は、ゴム成分１００重量部当たり０．
１〜５重量部、好ましくは０．２〜２重量部である。老
化防止剤の添加量が少なすぎると、導電性の安定化効果
が不充分であり、多すぎると、ゴム加硫物表面への移行
（いわゆるブルーム）が著しくなるので、いずれも好ま
しくない。亜リン酸エステル類の添加量は、ゴム成分１
００重量部当たり０〜５重量部である。亜りん酸エステ
ル類は、添加しなくてもよいが、フェノール誘導体と併
用すると、相乗効果により老化防止効果を高めることが
できる。ただし、亜リン酸エステル類の添加量が多すぎ
ると、ブルームが著しくなるので好ましくない。これら
の老化防止剤は、原料ゴムの製造段階で添加されてもよ
いし、動的加硫時に添加されてもよい。

【００３７】導電性ゴム組成物及びその製造方法 本発明において、ゴム成分Ａの加硫物、該ゴム成分Ａと
は異なる機構により加硫されるゴム成分Ｂ、導電性粒
子、及び老化防止剤を含有するゴム組成物（１）は、通
常、ゴム成分Ａ、ゴム成分Ｂ、導電性粒子、ゴム成分Ａ
の加硫剤、及び老化防止剤を混練して、ゴム成分Ａを加
硫することにより得ることができる。すなわち、ゴム材
料と導電性粒子を混練する過程で、ゴム成分Ａと老化防
止剤の存在下に、一次加硫し、ゴム成分Ａの加硫物とゴ
ム成分Ｂと導電性粒子とを含有する導電性ゴム組成物を
調製する。ゴム成分Ａとして、複数種のゴムを用いる場
合には、それぞれのゴムに応じた加硫剤の添加と加熱加
硫の操作を必要回数行う。

【００３８】この一次加硫工程は、いわゆる動的加硫に
よる加硫工程である。動的加硫は、各成分をバンバリー
ミキサー等の混練装置で混練する際に、ゴム成分Ａの加
硫剤を加え、加熱してゴム成分Ａを加硫させることによ
り行うことができる。加熱などの加硫条件は、各ゴム成
分の種類に応じて、通常の条件を採用することができ
る。動的加硫は、密閉式の混練機、例えば、バンバリー
ミキサー、ニーダー、２軸押出機などで行うことができ
る。

【００３９】この一次加硫工程により、ゴム組成物中に
は、加硫されたゴム成分Ａと未加硫のゴム成分Ｂと共存
することになるが、これにより、導電性粒子は、未加硫
ゴム成分Ｂ中に多く存在するようになり、加硫ゴム成分
Ａ中には、ほとんど含まれないか、あるいは平均含有率
より小さい含有率となる。ただし、ゴム成分Ｂに、必要
量の導電性粒子の８０重量％以上を予め混合しておく
と、所定の導電性と硬さを容易に得ることができるの
で、好ましい。ゴム成分Ｂが連続相を形成し、導電相と
なることが本発明の目的を達成するために必要である。
このためには、導電性粒子がゴム成分Ｂに偏在すること
が必要である。ゴム成分Ｂと導電性粒子を予め混合する
ことにより、ゴム成分Ａと混合して動的加硫した時に、
導電性粒子のゴム成分Ｂからゴム成分Ａへの移行を抑制
することができる。導電性粒子の混合は、機械的にゴム
と導電性粒子を混合する方法によってもよいし、ゴムラ
テックスと導電性粒子を混合後、乾燥して得る方法によ
ってもよい。

【００４０】一次加硫工程において、導電性粒子を混合
せずに、一次加硫工程の後に配合するか、あるいは一次
加硫工程において、配合すべき導電性粒子の全量の一部
を混合して、残余を一次加硫工程の後に追加的に配合し
てもよい。これらの方法によっても、ゴム成分Ｂに対す
る導電性粒子の含有率を高めることができる。上記のい
ずれの方法によっても、一次加硫工程の後に、ゴム成分
Ａの加硫物、ゴム成分Ｂ、導電性粒子、及び老化防止剤
を含有する導電性ゴム組成物（１）が得られる。次に、
この導電性ゴム組成物（１）に、ゴム成分Ｂの加硫剤を
配合して導電性ゴム組成物（２）を調製する。一次加硫
工程の後、導電性粒子の全量または残余を配合する場合
には、該導電性粒子をゴム成分Ｂの加硫剤の配合時に、
同時に配合することができる。このようにして調製した
ゴム組成物（２）は、混練した後、所望の形状に賦形
し、二次加硫を行って、加硫物（導電性ゴム成形品また
はゴム部材）とする。温度等の加硫条件は、ゴム成分Ｂ
の種類に応じて、通常の条件を採用することができる。

【００４１】導電性ゴム組成物（２）は、未加硫ゴム成
分Ｂ中に加硫ゴム成分Ａが均一に分散しており、例え
ば、押出成形やプレス成形などにより、所望の形状に賦
形することが可能である。ゴム成分Ｂの加硫剤を含有す
るゴム組成物（２）の調製方法としては、通常の混練法
を採用することができる。このようにして得られたゴム
組成物（２）は、押出成形やプレス成形等の方法を用い
て、例えば、板状や円筒状などの所望の形状に成形加工
することができる。ゴム組成物（２）を用いて導電性ゴ
ムロールを成形する場合には、導電性の芯金の外周面に
押出成形する。所定形状に成形したゴム組成物（２）
は、ゴム成分Ｂの加硫剤を利用して二次加硫する。この
結果、全てのゴム成分が加硫される。

【００４２】このような二段階工程を採用することによ
り、後述の導電性ロールや導電性ブレードを製造した場
合、２３℃、５０％ＲＨでの電気抵抗値が、通常、１０
³〜１０¹⁰Ω、好ましくは１０⁴〜１０⁹Ω、より好まし
くは１０⁵〜１０⁸Ωであって、しかも１０℃、２０％Ｒ
Ｈの低温低湿度下、及び３５℃、８０％ＲＨの高温高湿
度下でも、電気抵抗値の変化の少ないゴム加硫物を得る
ことができる。また、このような二段階工程を採用する
ことにより、ＪＩＳ−Ａ硬度が、通常、２０〜６０度、
好ましくは２５〜５０度、より好ましくは３０〜４５度
の導電性ゴム成形品が得られる。さらに、動的加硫時に
特定の老化防止剤を存在させることにより、製造ロット
間及び各ロット内の導電性のばらつきが小さい加硫物を
安定的に得ることができる。しかも、ブリードによる被
帯電部材への汚染の問題もない。

【００４３】ゴム成分として、ゴム成分Ｂのみを使用し
て、所望の電気抵抗値を達成しようとすると、ＪＩＳ−
Ａ硬度が高くなりやすい。ゴム成分として、ゴム成分Ｂ
とゴム成分Ａを併用しても、前述の一次加硫工程と二次
加硫工程により加硫成形せずに、一段階で加硫すると、
加工性が低下し、電気抵抗値も高くなりやすい。本発明
の方法により二段階で加硫すると、ゴム成分Ｂ中の導電
性粒子の含有率が高くなり、電気抵抗値が低くなる。と
ころが、導電性粒子の配合割合が同じであっても、一段
階で加硫すると、ゴム成分Ａ及びＢ中の導電性粒子の含
有率が同じになるため、ＪＩＳ−Ａ硬度は低くなるもの
の、電気抵抗値は高くなる。ゴム成分Ａ及びＢの両方を
用いて、一段階で加硫し、電気抵抗値を下げるには、導
電性粒子の配合割合を大きくしなければならず、その結
果、硬度は高くなる。本発明の製造方法により、ゴム成
分Ｂ中の導電性粒子の濃度を加硫ゴム成分Ａよりも高く
すると、硬度及び電気抵抗値を所定の範囲内にすること
ができる。

【００４４】すなわち、上記二段階加硫工程を採用する
ことにより、ゴム成分Ａの加硫物相とゴム成分Ｂの加
硫物相とからなるミクロドメイン構造が形成され、ゴ
ム成分Ａの加硫物相よりもゴム成分Ｂの加硫物相の中の
導電性粒子の濃度が高く、所定の導電性を保持すると
共に、導電性粒子の濃度が低いゴム成分Ａの加硫物相の
存在により、所定の柔軟性を有する導電性ゴム成形品を
得ることができる。二段階加硫工程により、ゴム成分Ａ
の加硫物相よりもゴム成分Ｂの加硫物相の中の導電性粒
子の濃度が高くなることは、同じ組成で、一段階で加硫
して得られた加硫物と二段階で加硫して得られた加硫物
の各電気抵抗値を対比すると、後者の電気抵抗値が大幅
に小さくなっていることから明らかである。

【００４５】本発明のゴム加硫物は、導電性ゴム組成物
中に、ブリードアウトして感光体を汚染する軟化剤のよ
うな添加剤を含有させなくても、適度の柔軟性を有す
る。したがって、本発明の導電性ゴム成形品は、例え
ば、帯電ロールとして、感光体を汚染することなく、直
接接触させて使用することが可能である。また、表面粗
さや表面摩擦係数の調整のために、研磨や樹脂コーティ
ング、紫外線照射をすることができるので、画像形成装
置用部材に容易に成形加工できる。

【００４６】本発明の導電性ゴム成形品は、電子写真複
写機や静電記録装置などの画像形成装置において使用さ
れる現像ロール、帯電ロール、転写ロールなどの導電性
ロール、あるいはトナー層形成用ブレード、クリーニン
グブレードなどの導電性ブレードなどの導電性部材とし
て使用することができるが、これらの他に、電気的特性
と柔軟性を活かして、電子写真複写機における各種ベル
トなどとしても有用である。さらには、本発明の導電性
ゴム成形品は、画像形成装置における各種ゴムロールの
表面保護層や抵抗調整層などとしても使用することがで
きる。

【００４７】画像形成装置 本発明の導電性ゴム組成物を用いて作製した導電性ゴム
ロールなどを備えた画像形成装置の具体例について説明
する。図１に、画像形成装置の一例の断面図を示す。こ
の画像形成装置では、像担持体として感光体ドラム１が
矢印方向に回転自在に装着されている。感光体ドラム１
は、通常、導電性支持ドラム体の外周上に光導電層（感
光体層）を設けた構造を有している。光導電層は、例え
ば、有機系感光体、セレン感光体、酸化亜鉛感光体、ア
モルファスシリコン感光体などで構成される。

【００４８】感光体ドラム１の周囲には、その周方向に
沿って、帯電手段３、潜像形成手段４、現像手段５、転
写手段６、及びクリーニング手段２が配置されている。
帯電手段３は、感光体ドラム１の表面をプラスまたはマ
イナスに一様に帯電する作用を担う。この帯電手段３と
して、図１には帯電ロールを示したが、これ以外に、例
えば、帯電ブレードやコロナ放電装置などを用いること
ができる。潜像形成手段４は、画像信号に対応した光
を、一様に帯電された感光体ドラム表面に所定のパター
ンで照射して、被照射部分に静電潜像を形成する（反転
現像方式）か、あるいは、光が照射されない部分に静電
潜像を形成する（正規現像方式）作用を行う。潜像形成
手段４は、例えば、レーザ装置と光学系との組み合わ
せ、あるいはＬＥＤアレイと光学系との組み合わせによ
り構成される。

【００４９】現像手段５は、感光体ドラム１表面に形成
された静電潜像に現像剤（トナー）を付着させる作用を
行う。現像手段５は、通常、現像ロール８、現像ロール
用ブレード９、現像剤１０の収容手段（収容ケーシン
グ）１１、及び現像剤供給手段（供給ロール）１２を備
えた現像装置である。現像ロール８は、感光体ドラム１
に対向して配置されており、通常、その一部が感光体ド
ラム１に接触するように近接して配置され、感光体ドラ
ム１とは反対方向に回転させる。供給ロール１２は、現
像ロール８に接触して、現像ロール８と同じ方向に回転
するようにし、現像ロール８の外周にトナー１０を供給
する。現像ロール８は、現像装置内で回転させると、摩
擦による静電気力などにより現像剤収容手段１１内のト
ナー１０が外周面に付着する。現像ロール用ブレード９
は、回転する現像ロール８の外周面に当接し、現像ロー
ル８の外周面に形成されるトナー層の層厚を調節する。
反転現像方式においては、感光体ドラム１の光照射部に
のみトナーを付着させ、正規現像方式においては、光非
照射部にのみトナーを付着させるように、現像ロール８
と感光体ドラム１との間にバイアス電圧が印加される。

【００５０】使用するトナーについては、特に限定され
ないが、短径ｒ_sと長径ｒ_lとの比ｒ_s／ｒ_lが０．８〜
１．０であるものが好ましく、０．９〜１．０のものが
より好ましい。真球に近い形状を有する重合トナーが特
に好ましい。転写手段６は、現像手段５により形成され
た感光体ドラム１表面のトナー像を被転写材（転写紙）
７に転写するためのものであり、図１には転写ロールを
示したが、これ以外に、例えば、転写ベルトやコロナ放
電装置などを使用することができる。クリーニング手段
２は、感光体ドラム１の表面に残留したトナーを清掃す
るためのものであり、例えば、清掃用ブレードなどによ
り構成される。このクリーニング手段は、現像時と同時
にクリーニング作用を行う方式の場合には、必ずしも必
要ではない。

【００５１】したがって、本発明によれば、像担持体、
帯電手段、潜像形成手段、現像手段、及び転写手段を備
えた画像形成装置において、前記の導電性ゴムロール
が、帯電手段としての帯電ロール、現像手段中の現像ロ
ール、及び転写手段としての転写ロールの内の少なくと
も１つとして配置された画像形成装置が提供される。も
ちろん、本発明のゴム組成物から形成された導電性ゴム
ブレードを、各種ブレードとして配置した画像形成装置
も提供することができる。

【００５２】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて、本発明に
ついてより具体的に説明するが、本発明は、これらの実
施例のみに限定されるものではない。以下の例におい
て、部及び％は、特に断りのない限り、重量基準であ
る。物性の測定方法は、以下の通りである。 （１）電気抵抗値 芯金（シャフト）とロール表面に電極を接触させ、ロー
ル材料の抵抗値を測定した。一方の電極を金属シャフト
に接続させ、他方の電極を金属板に接続し、この金属板
に、ロールのシャフトの両端に２５０ｇの荷重をかけた
状態で、ロールを接触させ、抵抗値を測定した。測定機
として日置電気（株）製メガオームテスター３１１９型
を用い、試料を２３℃、５０％ＲＨの環境下に４８時間
放置した後、測定電圧２５０Ｖで測定を行った。 （２）硬さ ＪＩＳ Ｋ−６２５３に従って、ＪＩＳ Ａ硬さを測定
した。 （３）感光体の汚染性 図１に示す画像形成装置において、ゴムロールを帯電ロ
ールとして用い、２万枚複写後の感光体表面を目視で観
察し、以下の基準で汚染の状態を評価した。 ○：感光体表面に汚染が認められない、 ×：感光体表面に帯電ロールからのブリードによる汚染
が認められる。

【００５３】［実施例１〜９、比較例１〜４］表１に示
す配合処方に従って、バンバリーミキサーを用いて、ア
クリロニトリル−ブタジエンゴム（ＮＢＲ）１００部に
カーボンブラック４０部を混合したマスターバッチ（Ｎ
ＢＲＣＭ）、及びブタジエンゴム（ＢＲ）１００部にカ
ーボンブラック４０部を混合したマスターバッチ（ＢＲ
ＣＭ）を作製した。次いで、表２に示す配合処方に従っ
て、これらのマスターバッチとアクリルゴム及び／また
はエピクロルヒドリンゴムを混合し、動的加硫を行っ
た。動的加硫は、容量１リットルのニーダーを用い、チ
ャンバー温度１４５℃、ブレード回転数４８ｒｐｍ、充
填率７５％で２０分間行った。動的加硫後の組成物に、
表３に示す配合処方に従って、加硫剤を混合後、８ｍｍ
φ×２８０ｍｍのステンレス鋼製の心棒の回りに該組成
物を被覆して、１６０℃、３０分間加熱してロール状成
形品を得た。得られた成形品の表面を研磨して、２０ｍ
ｍφ×２５０ｍｍのゴムロールを得た。同一の配合処方
につき、前記実験を３回繰り返して、電気抵抗、硬さ及
び感光体の汚染性を調べた。結果を表２に示す。

【００５４】

【表１】 （＊１）日本ゼオン（株）製 Ｎｉｐｏｌ ＤＮ４０１
ＬＬ （＊２）日本セオン（株）製 Ｎｉｐｏｌ １２２０Ｌ （＊３）三菱化学（株）製 ダイアブラックＡ

【００５５】

【表２】

【００５６】 （＊４）日本ゼオン（株）製 Ｎｉｐｏｌ ＡＲ５３Ｌ （＊５）日本ゼオン（株）製 Ｇｅｃｈｒｏｎ １００
０ （＊６）２，５−ジ（第三ブチル）ヒドロキノン （＊７）２，６−ジ−（第三ブチル）−４−メチルフェ
ノール （＊８）オクタデシル−３−（３，５−ジ−第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）ブロピオネート （＊９）２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ
−クレゾール （＊１０）トリス（ノニルフェニル）ホスファイト （＊１１）Ｎ−イソプロピル−Ｎ′−フェニル−ｐ−フ
ェニレンジアミン （＊１２）６−エトキシ−２，２，４−トリメチル−
１，２−ジヒドロキノリン （＊１３）［ｌｏｇ（最大値／最小値）／ｌｏｇ（平均
値）］×１００

【００５７】

【表３】

【００５８】［実施例１０〜１３、比較例５］表４に示
す配合処方に従って、ＮＢＲに対するカーボンブラック
の配合割合を変化させたマスターバッチを作製した後、
動的加硫を行った。動的加硫後、実施例１と同様の配合
処方と成形条件でロールを作製し、評価した。結果を表
４に示す。なお、実施例１３は、実施例１０とほぼ同じ
電気抵抗を得るために、動的加硫時に必要量のカーボン
ブラックを全量添加したものである。

【００５９】

【表４】

【００６０】

【発明の効果】本発明によれば、所定の電気抵抗と硬さ
を有する導電性ゴム組成物を安定的に得ることができ
る。本発明の導電性ゴム組成物は、電子写真複写機や静
電記録装置等の画像形成装置において使用される導電性
ブレードなどのゴム材料として好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】静電式画像形成装置の一例を示す断面略図であ
る。

【符号の説明】

１：感光体ドラム１ ２：クリーニング手段 ３：帯電手段 ４：潜像形成手段 ５：現像手段 ６：転写手段 ７：被転写材（転写紙） ８：現像ロール ９：現像ロール用ブレード １０：現像剤 １１：現像剤の収容手段（収容ケーシング） １２：現像剤供給手段（供給ロール）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｇ 15/16 １０３ Ｇ０３Ｇ 15/16 １０３

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ゴム成分Ａの加硫物、該ゴム成分Ａとは
   異なる機構により加硫されるゴム成分Ｂ、導電性粒子、
   並びにヒドロキノン誘導体及びフェノール誘導体からな
   る群より選ばれる少なくとも一種の老化防止剤を含有す
   ることを特徴とするゴム組成物。
2. 【請求項２】 ゴム成分Ａの加硫物と未加硫のゴム成分
   Ｂとを含むゴム成分１００重量部に対して、導電性粒子
   １〜１００重量部、並びにヒドロキノン誘導体及びフェ
   ノール誘導体からなる群より選ばれる少なくとも一種の
   老化防止剤０．１〜５重量部を含有し、かつ、導電性粒
   子がゴム成分Ａよりもゴム成分Ｂの方に多く存在するゴ
   ム組成物。
3. 【請求項３】 ゴム成分Ａの加硫物が、少なくともゴム
   成分Ａとゴム成分Ｂを含有する組成物中で、ゴム成分Ａ
   がゴム成分Ａの加硫剤と前記老化防止剤の存在下に動的
   加硫されたものである請求項１または２記載のゴム組成
   物。
4. 【請求項４】 導電性粒子の少なくとも８０重量％がゴ
   ム成分Ｂの方に存在する請求項１ないし３のいずれか１
   項に記載のゴム組成物。
5. 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれか１項に記載
   のゴム組成物を所望の形状に賦形した後、ゴム成分Ｂを
   該ゴム成分Ｂの加硫剤の存在下に加硫してなるゴム部
   材。
6. 【請求項６】 請求項５記載のゴム部材を備えた静電式
   画像形成装置。