JPH1085684A - フロートガラス基板表面の異物除去方法 - Google Patents
フロートガラス基板表面の異物除去方法Info
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- JPH1085684A JPH1085684A JP24081396A JP24081396A JPH1085684A JP H1085684 A JPH1085684 A JP H1085684A JP 24081396 A JP24081396 A JP 24081396A JP 24081396 A JP24081396 A JP 24081396A JP H1085684 A JPH1085684 A JP H1085684A
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
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Abstract
プスペックやボトムスペック等の異物を除去する。 【解決手段】フロートガラス基板の表面に存在する、酸
化錫や金属錫からなる微小な異物を、この異物付近また
は異物と接した状態で、ハロゲン化アンモニウムを高温
で昇華させることによって、分解、揮散させて除去す
る。
Description
れたガラス基板表面の異物除去方法に関する。
ロート法である。 フロート法では、溶融金属浴と呼ばれ
る溶融金属錫を満たした浴面上に溶融ガラスを連続的に
流してガラスリボンを形成し、このガラスリボンを前記
溶融金属浴に沿って浮かしながら前進させて成板するた
め、 ガラスリボンの上面側には溶融金属浴の錫によるト
ップスペックが避けられない。
した錫成分が浴よりも上方で凝縮し、 凝縮物またはこの
凝縮物が金属状態に還元されたものがガラス素地上に小
粒として落下してガラスリボンの上面に数μm〜数10
μmの異物が生じたものである。また、 溶融錫と接する
ガラスリボンの下面側にも、錫または錫化合物からなる
ボトムスペックが発生する。
量に生産するためのきわめて優れた方法であるが、ガラ
スの用途が従来の建材の分野から電子材料の分野に拡大
するにつれ、上述のトップスペックやボトムスペック等
の異物(以下、これらの異物を、単に「スペック」とも
いう)が問題となってきた。
10μmの小粒としてガラス表面に存在するが、その表
面は酸化錫となっているため溶解除去が困難である。限
られた方法として、フッ酸により周辺のガラスを溶解す
ることにより異物を離脱する方法や、無機酸または還元
剤を加えた無機酸により酸化錫を還元溶解する方法はあ
るが、溶解速度が遅く、生産プロセスへの適用は困難で
あり工業レベルでかかる異物を除去する方法は知られて
いない。
プスペック等の異物を除去する方法を提供する。
上に溶融ガラスを連続的に流してガラスリボンを形成
し、このガラスリボンを溶融金属浴面に沿って前進させ
て成板されたフロートガラス基板の表面に存在する微小
な異物を、該異物付近で、または、該異物と接した状態
で、ハロゲン化アンモニウムを高温で昇華させることに
より、分解、揮散させて除去することを特徴とするフロ
ートガラス基板表面の異物除去方法を提供する。
の表面に存在するスペックを、かかるスペック付近でま
たはかかるスペックと接した状態で、ハロゲン化アンモ
ニウムを高温で昇華させることにより、分解、揮散させ
て除去する。すなわち、高温で昇華させたハロゲン化ア
ンモニウムをスペックと接触させることによって、スペ
ックとして存在する酸化錫や金属錫を、ハロゲン化錫と
して揮散(揮発および発散)させて除去する。
昇華させた際に生成する発生期のハロゲン化水素ガス
が、スペックである酸化錫または金属錫と反応し、揮散
しやすいハロゲン化錫を生成することによりなされる。
したがって、ハロゲン化アンモニウムが昇華する際の発
生期のハロゲン化水素ガスが、スペックと接することが
できるように、ハロゲン化アンモニウムの昇華は、スペ
ックの付近で、または、スペックと接した状態で、行わ
れる必要がある。
しては、塩化アンモニウム、臭化アンモニウム、および
ヨウ化アンモニウムから選ばれた1種以上が挙げられ
る。ハロゲン化アンモニウムの昇華温度は、スペックの
揮散除去のために、250〜900℃が好ましい。ま
た、フロートガラス基板を400〜900℃にすること
により、かかるスペック付近またはスペックと接した状
態にあるハロゲン化アンモニウムを昇華させることが好
ましい。
クのあるフロートガラス基板を入れ、ガスバーナにより
400〜600℃で10分間加熱したところ、すべての
スペックが完全に揮散、除去された。
アンモニウム5gとスペックのあるフロートガラス基板
を入れ、全体を電気炉中で400〜600℃で10分間
加熱したところ、すべてのスペックが完全に揮散、除去
された。
ス基板をガスバーナ上で400〜600℃に加熱し、そ
こにヨウ化アンモニウム粉末を振りかけたところ、すべ
てのスペックが完全に揮散、除去された。
されたガラス表面に存在するトップスペック等の異物
を、ガラスの光学的性質や表面性状を損なうことなく除
去できる。また、フロート法における溶融金属浴から離
れた直後のガラス板に対して連続的にスペック除去を行
うオンライン処理も可能であり、スペック処理コストの
低減による経済的効果も得られる。
Claims (4)
- 【請求項1】溶融金属浴面上に溶融ガラスを連続的に流
してガラスリボンを形成し、このガラスリボンを溶融金
属浴面に沿って前進させて成板されたフロートガラス基
板の表面に存在する微小な異物を、該異物付近で、また
は、該異物と接した状態で、ハロゲン化アンモニウムを
高温で昇華させることにより、分解、揮散させて除去す
ることを特徴とするフロートガラス基板表面の異物除去
方法。 - 【請求項2】ハロゲン化アンモニウムが、塩化アンモニ
ウム、臭化アンモニウム、およびヨウ化アンモニウムか
ら選ばれた1種以上である請求項1のフロートガラス基
板表面の異物除去方法。 - 【請求項3】昇華温度が、250〜900℃である請求
項1または2のフロートガラス基板表面の異物除去方
法。 - 【請求項4】フロートガラス基板を400〜900℃に
することにより、前記異物の付近または前記異物と接し
た状態にあるハロゲン化アンモニウムを昇華させる請求
項1、2または3のフロートガラス基板表面の異物除去
方法。
Priority Applications (1)
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JP24081396A JP3446492B2 (ja) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | フロートガラス基板表面の異物除去方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH1085684A true JPH1085684A (ja) | 1998-04-07 |
JP3446492B2 JP3446492B2 (ja) | 2003-09-16 |
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Family Applications (1)
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1996
- 1996-09-11 JP JP24081396A patent/JP3446492B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3446492B2 (ja) | 2003-09-16 |
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