JPH1083577A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 保存耐久性の高い光情報記録媒体を製造する
方法を提供する。 【解決手段】 中央に孔部を持つ円盤状基板上にシアニ
ン系色素からなる色素記録層を塗布によりその外周端部
まで形成する工程、該基板の外周端部の内側近傍領域の
色素記録層を除去し、基板表面に露出した領域を形成す
る工程、該記録層上に反射層を設ける工程、及び該反射
層上と該基板表面の露出した領域に保護層を設ける工程
を含む光情報記録媒体の製造方法において、色素記録層
の除去を、ジアセトンアルコール、１−メトキシ−２−
プロパノール、エタノール、メタノール及びＨＣＦＣ２
２５からなる群より選ばれる少なくとも一種の溶剤を用
いて行うことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、円盤状基板上に、
記録層、反射層及び保護層をこの順に有する追記型光情
報記録媒体の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】レーザ光により情報の書き込み（記録）
が可能な追記型の光情報記録媒体が実用化されている。
この光情報記録媒体は、プラスチック、ガラス等からな
る透明な円盤状基板、この上に設けられた色素からなる
記録層、該記録層の上に設けられた金属からなる反射
層、そして更に記録層及び反射層を保護するために、こ
れらの層の上に設けられた樹脂からなる保護層からなる
基本構造を有する。そして通常、基板表面には、スパイ
ラル状の凹部（溝）からなるグルーブ（一般にプレグル
ーブと呼ばれている）が形成されている。この基本構造
において、色素からなる記録層は、通常円盤状基板上に
スピンコート法を用いて塗布により形成されるために、
ほぼ円盤基板の外周端部まで設けられる。また反射層
は、記録層上に該記録層の外周側端部の内側に形成さ
れ、更に保護層は、反射層上にこれを覆うようにしてそ
の端部が直接記録層上に接するように形成される。保護
層の形成は、通常塗布により行われるが、この方法で
は、塗布液が記録層の外周端部の露出している部分を浸
すことになるため、基板と記録層との密着性を低下さ
せ、その結果、記録層の外周端部では剥離が生じ易く、
その耐久性が充分でないと問題があった。

【０００３】このような問題を解消する方法として、色
素記録層を基板の外周端部まで形成することなく、基板
端部の内側に記録層を設けない領域（基板表面が露出し
た領域）を残して記録層を形成する方法が提案されてい
る（特開平２−１８３４４２号、同２−２３６８３３号
及び同５−１９８００４号公報）。このように記録層を
基板端部に基板表面が露出した領域を残して設けること
で、例えば、上記特開平２−１８３４４２号や同５−１
９８００４号公報に記載のように反射層及び保護層を共
に直接基板表面に接合するように設けることができ、従
ってこれらの層で完全に覆われた状態になる記録層の外
周端部では、高い接着力が付与され、良好な耐久性が得
られるとされる。

【０００４】ところで、色素記録層の外側端部におい
て、基板表面が露出した領域の形成は溶剤を滴下する方
法（具体的には、スピンコート法による洗浄）を利用し
て行われる。即ち、記録層を通常のスピンコート法によ
り基板上に形成した後（これにより、前述したように、
記録層は基板の外周端部まで形成される）、この記録層
の外周端部の内側の一定の領域に基板を回転させながら
溶剤を滴下し、溶剤によって色素記録層を溶解させ、記
録層を洗い流し、所定の領域の記録層を除去することに
より基板表面の露出した領域の形成を行っている。そし
て記録層を除去するために使用できる溶剤として、例え
ば、前記特開平５−１９８００４号公報には、ハロゲン
系溶剤（例、クロロホルム、メチルクロロホルム）、炭
化水素系容剤（例、ベンゼン、トルエン）、ケトン系溶
剤（例、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン）、ア
ルコール系溶剤（例、ブチルセロゾルブ、エチルセロソ
ルブ）、およびエステル系溶剤（例、酢酸ブチル、酢酸
アミル）、や色素を溶解する際に用いられる溶剤、例え
ば、炭化水素系溶剤（例、ヘキサン、ペプタン、オクタ
ン）、エーテル系溶剤（例、ジエチルエーテル、ジブチ
ルエーテル）、アルコール系溶剤（例、メチルアルコー
ル、エチルアルコール）などの数多くの溶剤が挙げられ
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明者は、上記のよ
うに外周端部の色素記録層を除去する際に用いる溶剤に
ついて検討した。それによると、溶剤は、一般に色素溶
解性の高いもので、かつ基板表面（基板表面には前記の
ようにプレグルーブが形成されている）を溶解しないも
のを選択して用いることが好ましいが、色素としてシア
ニン系色素を用いた場合には、必ずしも前述した色素記
録層の除去用の溶剤として挙げたものすべてが、得られ
る媒体の性能上良好な結果をもたらすものとは言えない
ことが判明した。例えば、前記特開平５−１９８００４
号公報には、色素記録層をフタロシアニン系色素をオク
タンに溶解した塗布液を用いて形成しており、また形成
された色素記録層の外周端部の基板からの除去を同じオ
クタンを用いて行っている。しかしながら、本発明者の
更なる検討によると、シアニン系色素を用いた場合に
は、この溶剤の基板への影響は殆どないもののシアニン
系色素からなる記録層の除去は、この溶剤では非常に困
難になり、その結果、この上に設けられる反射層、保護
層の充分な接着力を得ることができず、剥離が生じ易い
ことがわかった。また、溶剤として、前記特開平２−２
３６８３３号公報に記載の２，２，３，３−テトラフル
オロプロパノールを用いた場合には、シアニン系色素記
録層の洗浄（除去）は可能であり、また洗浄直後の基板
への影響も殆どないが、長期間保存した場合、特に高温
高湿下で保存した場合には、残存した溶剤の影響が出現
するためか、性能（変調度）が低下し易くなることがわ
かった。

【０００６】本発明の目的は、基板上に設けられた外周
端部のシアニン系色素記録層の除去が可能であり、かつ
除去後、長期間保存後した場合（特に、高温高湿下での
保存後）においても基板に対する影響が殆ど出現するこ
とがない溶剤を選択的に用いて耐久性の高い（安定した
性能の）光情報記録媒体を製造する方法を提供すること
である。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者の研究により、
シアニン系色素記録層を有する光情報記録媒体の製造方
法において、その記録層の外周端部の除去を、ジアセト
ンアルコール、１−メトキシ−２−プロパノール、エタ
ノール、メタノール及びＨＣＦＣ２２５から選ばれる特
定の溶剤を用いて行うことにより、良好な耐久性が付与
された光情報記録媒体を製造できることが見出され、本
発明を完成させたものである。なお、これらの溶剤は、
短時間の洗浄操作により、基板の表面を活性化させる作
用があり、この作用によって基板表面と保護層（あるい
は、反射層及び保護層の両方）とのより高い密着性が図
られ、その結果、良好な耐久性が得られると考えられ
る。

【０００８】本発明は、中央に孔部を持つ円盤状基板上
にシアニン系色素からなる色素記録層を塗布によりその
外周端部まで形成する工程、該基板の外周端部の内側近
傍領域の色素記録層を除去し、基板表面に露出した領域
を形成する工程、該記録層上に反射層を設ける工程、及
び該反射層上と該基板表面の露出した領域に保護層を設
ける工程を含む光情報記録媒体の製造方法において、色
素記録層の除去を、ジアセトンアルコール、１−メトキ
シ−２−プロパノール、エタノール、メタノール及びＨ
ＣＦＣ２２５からなる群より選ばれる少なくとも一種の
溶剤を用いて行うことを特徴とする光情報記録媒体の製
造方法にある。

【０００９】本発明は、以下の態様であることが好まし
い。 （１）色素記録層除去用溶剤が、ジアセトンアルコール
である。 （２）色素記録層の除去をスピンコート法により行う。 （３）反射層が、金属からなる層であり、該金属が、Ａ
ｕである。 （４）保護層が、紫外線硬化性樹脂からなる塗布層であ
る。 （５）基板の材料が、ポリカーボネートであり、基板表
面にスパイラル状のグルーブ（又はプレグルーブ）が形
成されている。

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明の光情報記録媒体の製造方
法においては、基板の外周端部の内側近傍のシアニン系
色素記録層の除去を前述した特定の溶剤で洗浄すること
を特徴としている。即ち、本発明の光情報記録媒体は、
上記色素記録層の除去を上記の特定の溶剤を用いて行っ
たこと以外は、従来より光情報記録媒体の製造方法とし
て知られている方法を利用して製造することができる。

【００１１】以下に、本発明の光情報記録媒体の好まし
い態様を例にとって、本発明の光情報記録媒体の製造方
法を添付の図１〜図４を用いて詳述する。まず、中央に
孔部を持つ円盤状基板上にシアニン系色素からなる色素
記録層を塗布によりその外周端部まで形成する。図１
は、中央に孔部１０を持つ円盤状基板１１上にシアニン
系色素からなる色素記録層１２を塗布により基板の外周
端部まで形成された状態を模式的に示した図である。シ
アニン系色素からなる色素記録層１２は、前述したよう
に通常スピンコータにより塗布される。これによって色
素記録層１２は、基板の外側端部まで塗布される。な
お、スピンコート法を利用することで、中央孔部の周縁
部の外側近傍の塗布位置（色素記録層の内側端部）をあ
る程度制御しながら塗布できる。しかしながら色素記録
層の内側端部の開始位置を更に精密に決め、基板の内側
の色素記録層を設けない領域を充分に確保するために
は、色素記録層を塗布した後、色素記録層が形成されな
い領域を設けるために色素記録層の一部を除去すること
が好ましい。塗布は、上記スピンコート法以外にもロー
ルコート法やディップコート法などの方法を利用しても
行うことができるが、スピンコート法に比べて塗布領域
を制御することは更に困難である。

【００１２】次に、基板の外周端部の内側近傍の色素記
録層を除去し、基板表面の露出した領域を形成する。基
板の外周端部の内側近傍の色素記録層の除去は、溶剤を
用いて行う。溶剤としては、ジアセトンアルコール、１
−メトキシ−２−プロパノール、エタノール、メタノー
ル及びＨＣＦＣ２２５（ＣＦ₃ ＣＦ₂ ＣＨＣｌ₂ 、ＣＣ
ｌＦ₂ ＣＦ₂ＣＨＣｌＦ）から選ばれた少なくとも一種
類のものを用いる。これらのなかでは、ジアセトンアル
コールまたはＨＣＦＣ２２５が好ましい。特に好ましく
は、ジアセトンアルコールである。色素記録層の除去
は、記録層の乾燥前に行うことが好ましく、またその方
法は、特に限定されないが、スピンコータによる洗浄
（スピン洗浄）方法を利用することがより高い洗浄力が
得られる点で好ましい。このようにして図２に示される
ように、基板表面の露出した領域１３（露出面）を形成
することができる。この露出面は、後述するように、反
射層および保護層のそれぞれの端部が密着可能となるよ
うに充分な領域で設けられる。

【００１３】次いで、該記録層上から連続して該基板表
面の露出した領域に接するようにして反射層を設ける。
図３は、色素記録層１２上及びこの記録層から連続して
基板表面の露出領域１３に至るまで反射層１４が設けら
れた状態を模式的に示す部分断面図である。反射層は、
金属からなる層であり、通常蒸着、スパッタリング、あ
るいはイオンプレーティングなどの方法を利用して形成
される。反射層の形成に際しては、通常マスクが用いら
れ、これによって反射層の形成領域を調節することがで
きる。

【００１４】反射層を形成後、次に保護層を設ける。保
護層は、記録層及び反射層上から連続して該基板表面の
露出した領域に接するようにして設けられる。図４は、
色素記録層１２及び反射層１４上及びこの反射層から連
続して基板表面の露出領域１３に至るまで保護層１５が
設けられた状態を模式的に示す部分断面図である。保護
層は、通常液状の樹脂を塗布し、その後硬化させること
により、設けられるが、作業性、生産性などの点でその
樹脂としては、通常紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂が用いら
れる。塗布方法は特に限定されないが、スピンコート法
が有利である。

【００１５】本発明に従って製造される光情報記録媒体
において、中央孔部の外周縁近傍の色素記録層、反射層
及び保護層の層構成は、任意である。しかし、得られる
媒体に更に高い耐久性を付与できる点から、反射層１４
及び保護層１５を、中央孔部１０の外周縁近傍の基板表
面に、反射層１４及び保護層１５のそれぞれの端部が、
色素記録層１２の内側端部を覆うようにしてかつ基板表
面に接するようにして設けることが好ましい。なお、中
央孔部１０の外周縁近傍の基板表面を更に充分な領域と
なるように確保するには、色素記録層の内側端部を除去
すれば良い。色素記録層の除去は、記録層を塗布後、乾
燥する前に該記録層の内側端部を前記溶剤を用いて拭き
取るなどの方法を利用して行うことができる。

【００１６】本発明に係る光情報記録媒体の製造に際し
ては、従来から光情報記録媒体に用いられていた材料を
選択して用いることができる。以下、簡単にこれらの材
料について説明する。円盤状基板材料としては、例え
ば、アクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと他の
ポリマーとの共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ
樹脂；ポリカーボネート樹脂；アモルファスポリオレフ
ィン及びポリエステルを挙げることができる。好ましい
ものは、ポリカーボネート、ポリオレフィン及びセルキ
ャストポリメチルメタクリレートである。

【００１７】記録層が設けられる側の基板表面には、平
面性の改良、接着性の向上、基板の態様の改良及び記録
層の変質の防止を目的に、下塗り層を設けても良い。下
塗り層を形成するための材料としては、ポリメチルメタ
クリレート、アクリル酸・メタクリ酸共重合体、スチレ
ン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、
Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトル
エン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロ
セルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、
ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル、塩化ビニ共重
合体、エチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等
の高分子物質、及び無機酸化物（ＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ
₃ ）、無機フッ化物（ＭｇＦ₂ ）などの無機物質を挙げ
ることができる。

【００１８】基板（又は下塗り層）上には、トラッキン
グ用溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸を形成する
ために、プレグループ層及び／又はプレピット層が形成
されていても良い。プレグループを形成するための材料
としては、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、ト
リエステル、及びテトラエステルのうちの少なくとも一
種のモノマー（又はオリゴマー）と光重合開始剤との混
合物を用いることができる。プレグループ層は、従来か
ら行われている方法で形成することができる。

【００１９】色素記録層を形成するために用いられるシ
アニン系色素としては、特に制限はないが、好ましい例
として以下の式で表されるものを挙げることができる。

【００２０】

【化１】

【００２１】（IV）Ａ⁺ −Ｌ＝Ｂ（Ｘ^m-）_1/m 上記式（IV）において、Ａ及びＢはそれぞれ芳香族環が
縮合していても良いインドレニン環残基、チアゾール環
残基、オキサゾール環残基、セレナゾール環残基、テル
ラゾール環残基、イミダゾール環残基、ピリジン環残
基、チアゾロピリミジン環残基又はイミダゾキノキサリ
ン環残基を表し、Ｌは、モノカルボシアニン、ジカルボ
シアニントリカルボシアニン、又はテトラカルボシアニ
ンを形成するために必要な連結基を表し、Ｘ^m-は、ｍ価
の陰イオンを表し、そしてｍは、１又は２を表す。但
し、Ｘ^m-は、Ａ、Ｌ又はＢ上に置換基として分子内塩を
形成しても良く、またＡとＬ、又はＬとＢとは更に連結
して環を形成しても良い。以下に、上記（IV）で示され
るシアニン色素について詳述する。

【００２２】Ａ及びＢで表されるそれぞれ芳香族環が縮
合していても良い上記ヘテロ環残基としては、以下のも
のを挙げることができる。インドレニン核（例えば、
３，３−ジメチルインドレニン、３，３−ジエチルイン
ドレニン、３，３−ジメチル−５−シアノインドレニ
ン、３，３−ジメチル−６−ニトロインドレニン、３，
３−ジメチル−５−ニトロインドレニン、３，３−ジメ
チル−５−メトキシインドレニン、３，３，５−トリメ
チルインドレニン、３，３−ジメチル−５−クロロイン
ドレニンのような３，３−ジアルキルインドレニン
核）；

【００２３】ベンゾインドレニン核（例えば、３，３−
ジメチル−ベンゾ［ｅ］インドレニン、３，３−ジメチ
ル−ベンゾ［ｇ］インドレニン）｝；チアゾール核（例
えば、チアゾール、４−メチルチアゾール、４−フェニ
ルチアゾール、４，５−ジメチルチアゾール、４，５−
ジフェニルチアゾール）；ベンゾチアゾール核（例え
ば、ベンゾチアゾール、４−クロロベンゾチアゾール、
５−クロロベンゾチアジール、６−クロロベンゾチアゾ
ール、５−ニトロベンゾチアゾール、４−メチルベンゾ
チアゾール、５−メチルベンゾチアゾール、６−メチル
ベンゾチアゾール、５−ブロモベンゾチアゾール、６−
ブロモベンゾチアゾール、５−ヨードベンゾチアゾー
ル、５−フェニルベンゾチアゾール、５−メトキシベン
ゾチアゾール、６−メトキシベンゾチアゾール、５−エ
トキシベンゾチアゾール、５−エトキシカルボニルベン
ゾチアゾール、５−カルボキシベンゾチアゾール、５−
フェネチルベンゾチアゾール、５−フルオロベンゾチア
ゾール、５−クロロ−６−メチルベンゾチアゾール、
５，６−ジメチルベンゾチアゾール、５，６−ジメトキ
シベンゾチアゾール、５−ヒドロキシ−６−メチルベン
ゾチアゾール、テトラヒドロキシベンゾチアゾール、４
−フェニルベンゾチアゾール）；

【００２４】ナフトチアゾール核（例えば、ナフト
［２，１−ｄ］チアゾール、ナフト［１，２−ｄ］チア
ゾール、ナフト［２，３−ｄ］チアゾール、５−メトキ
シナフト［１，２−ｄ］チアゾール、７−エトキシナフ
ト［２，１−ｄ］チアゾール、８−メトキシナフト
［２，１−ｄ］チアゾール、５−メトキシナフト［２，
３−ｄ］チアゾール｝；チアゾリン核（例えば、チアゾ
リン、４−メチルチアゾリン、４−ニトロチアゾリ
ン）；

【００２５】オキサゾール核｛オキサゾール核（例え
ば、オキサゾール、４−メチルオキサゾール、４−ニト
ロオキサゾール、５−メチルオキサゾール、４−フェニ
ルオキサゾール、４，５−ジフェニルオキサゾール、４
−エチルオキサゾール）；ベンゾオキサゾール核（例え
ば、ベンゾオキサゾール、５−クロロベンゾオキサゾー
ル、５−メチルベンゾオキサゾール、５−ブロモベンゾ
オキサゾール、５−フルオロベンゾオキサゾール、５−
フェニルベンゾオキサゾール、５−メトキシベンゾオキ
サゾール、５−ニトロベンゾオキサゾール、５−トルフ
ルオロメチルベンゾオキサゾール、５−ヒドロキシベン
ゾオキサゾール、５−カルボキシベンゾオキサゾール、
６−メチルベンゾオキサゾール、６−クロロベンゾオキ
サゾール、６−ニトロベンゾオキサゾール、６−メトキ
シベンゾオキサゾール、６−ヒドロキシベンゾオキサゾ
ール、５，６−ジメチルベンゾオキサゾール、４，６−
ジメチルベンゾオキサゾール、５−エトキシベンゾオキ
サゾール）；ナフトオキサゾール核（例えば、ナフト
［２，１−ｄ］オキサゾール、ナフト［１，２−ｄ］オ
キサゾール、ナフト［２，３−ｄ］オキサゾール、５−
ニトロナフト［２，１−ｄ］オキサゾール）；オキサゾ
リン核（例えば、４，４−ジメチルオキサゾリン）；

【００２６】セレナゾール核（例えば、４−メチルセレ
ナゾール、４−ニトロセレナゾール、４−フェニルセレ
ナゾール）；ベンゾセレナゾール核（例えば、ベンゾセ
レナゾール、５−クロロベンゾセレナゾール、５−ニト
ロベンゾセレナゾール、５−メトキシベンゾセレナゾー
ル、５−ヒドロキシベンゾセレナゾール、６−ニトロベ
ンゾセレナゾール、５−クロロ−６−ニトロベンゾセレ
ナゾール、５，６−ジメチルベンゾセレナゾール）；ナ
フトセレナゾール核（例えば、ナフト［２，１−ｄ］セ
レナゾール、ナフト［１，２−ｄ］セレナゾール）；セ
レナゾリン核（例えば、セレナゾリン、４−メチルセレ
ナゾリン）、

【００２７】テルラゾール核（例えばテルラゾール、４
−メチルテルラゾール、４−フェニルテルラゾール）；
ベンゾテルラゾール核（例えば、ベンゾテルラゾール、
５−クロロベンゾテルラゾール、５−メチルベンゾテル
ラゾール、５，６−ジメチルベンゾテルラゾール、６−
メトキシベンゾテルラゾール）；ナフトテルラゾール核
（例えば、ナフト［２，１−ｄ］テルラゾール、ナフト
［１，２−ｄ］テルラゾール）；テルラゾリン核（例え
ば、テルラゾリン、４−メチルテルラゾリン）；

【００２８】イミダゾール核（例えば、１−アルキルイ
ミダゾール、１−アルキル−４−フェニルイミダゾー
ル、１−アリールイミダゾール）；ベンゾイミダゾール
核（例えば、１−アルキルベンゾイミダゾール、１−ア
ルキル−５−クロロベンゾイミダゾール、１−アルキル
−５，６−ジクロロベンゾイミダゾール、１−アルキル
−５−メトキシベンゾイミダゾール、１−アルキル−５
−シアノベンゾイミダゾール、１−アルキル−５−フル
オロベンゾイミダゾール、１−アルキル−５−トリフル
オロメチルベンゾイミダゾール、１−アルキル−６−ク
ロロ−５−シアノベンゾイミダゾール、１−アリル−
５，６−ジクロロベンゾイミダゾール、１−アリル−５
−クロロベンゾイミダゾール、１−アリールベンゾイミ
ダゾール、１−アリール−５−クロロベンゾイミダゾー
ル、１−アリール−５，６−ジクロロベンゾイミダゾー
ル、１−アリール−５−メトキシベンゾイミダゾール、
１−アリール−５−シアノベンゾイミダゾール）；ナフ
トイミダゾール核（例えば、アルキルナフト［１，２−
ｄ］イミダゾール、１−アリールナフト［１，２−ｄ］
イミダゾール）；［上記イミダゾール核、ベンゾイミダ
ゾール核の例に記載されている化合物のアルキル基は、
炭素原子数１〜８のもの、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル等の無置換のアルキル基
やヒドロキシアルキル基（例えば、２−ヒドロキシエチ
ル、３−ヒドロキシプロピル）が好ましい。特にメチル
基、エチル基が好ましい。またアリール基は、フェニ
ル、ハロゲン（例えば、クロロ）置換フェニル、アルキ
ル（例えば、メチル）置換フェニル、アルコキシ（例え
ば、メトキシ）置換フェニルを一般に表わす。］；

【００２９】ピリジン核（例えば、２−ピリジン、４−
ピリジン、５−メチル−２−ピリジン、３−メチル−４
−ピリジン）；キノリン核（例えば、２−キノリン、３
−メチル−２−キノリン、５−エチル−２−キノリン、
６−メチル−２−キノリン、６−ニトロ−２−キノリ
ン、８−フルオロ−２−キノリン、６−メトキシ−２−
キノリン、６−ヒドロキシ−２−キノリン、８−クロロ
−２−キノリン、４−キノリン、６−エトキシ−４−キ
ノリン、６−ニトロ−４−キノリン、８−クロロ−４−
キノリン、８−フルオロ−４−キノリン、８−メチル−
４−キノリン、８−メトキシ−４−キノリン、６−メチ
ル−４−キノリン、６−メトキシ−４−キノリン、６−
クロロ−４−キノリン）；イソキノリン核（例えば、６
−ニトロ−１−イソキノリン、３，４−ジヒドロ−１−
イソキノリン、６−ニトロ−３−イソキノリン）；

【００３０】イミダゾ［４，５−ｂ］キノキザリン核
（例えば、１，３−ジエチルイミダゾ［４，５−ｂ］キ
ノキザリン、６−クロロ−１，３−ジアリルイミダゾ
［４，５−ｂ］キノキザリン）；オキサジアゾール核；
チアジアゾール核；テトラゾール核；及びピリミジン
核。

【００３１】これらのヘテロ環のうち好ましいものは、
インドレニン核、イミダゾキノキザリン核であり、より
好ましくはインドレニン核（特にべンゾインドレニン
環）である。

【００３２】上記Ｌで表される連結基は、ジカルボシア
ニンが好ましく、特に好ましくは、下記式で表される連
結基である。

【００３３】

【化２】

【００３４】ここで、Ｙは、水素原子、ハロゲン原子、
または置換又は未置換の炭化水素基を表す。好ましく
は、水素原子、ハロゲン原子（臭素原子、沃素原子、塩
素原子）、アルキル基又はフェニル基である。特に好ま
しくは、水素原子、臭素原子又はメチル基である。

【００３５】Ｘ^m-で表わされる陰イオンの例としては、
ハライドイオン（Ｃｌ^- 、Ｂｒ^- 、Ｉ^- 等）、スルホナ
ートイオン（ＣＨ₃ ＳＯ₃ ^-、ＣＦ₃ ＳＯ₃ ^-、ＣＦ₃ （Ｃ
Ｆ₂）₇ ＳＯ₃ ^-、ｐ−トルエンスルホナートイオン、ナ
フタレン−１，５−ジスルホナートイオンなど）、Ｃｌ
Ｏ₄ ^-、ＣｌＯ₃ ^-、ＣｌＯ₂ ^-、ＣｌＯ^- 、ＢＦ₄ ^-、ＳｂＦ
₆ ^-、下記の金属錯体イオン：

【００３６】

【化３】

【００３７】及びリン酸イオン（例、ＰＦ₆ ^-、

【００３８】

【化４】 を挙げることができる。特にＣｌＯ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＢＦ₄ ^-
および

【００３９】

【化５】 が好ましい。なお、Ｉ^- やトルエンスルホナートイオン
が微量混入していても良い。また、Ｘ^m-で表わされる陰
イオンは、Ａ、Ｌ又はＢ上に置換基として、スルホナー
ト基等の陰イオンの形で存在して、分子内塩を形成して
いても良い。ｎは１が好ましい。

【００４０】以下に、シアニン色素の好ましい具体例を
挙げる。

【００４１】

【化６】

【００４２】

【化７】

【００４３】

【化８】

【００４４】

【化９】

【００４５】

【化１０】

【００４６】

【化１１】

【００４７】

【化１２】

【００４８】

【化１３】

【００４９】

【化１４】

【００５０】

【化１５】

【００５１】

【化１６】

【００５２】

【化１７】

【００５３】

【化１８】

【００５４】

【化１９】

【００５５】

【化２０】

【００５６】

【化２１】

【００５７】上記の例示の中では、特に、（４）、（１
３）、（１４）、１５）及び（１８）で示されるシアニ
ン色素が好ましい。シアニン系色素記録層は、上記の色
素、及び必要により結合剤を溶剤に溶解して塗布液を調
製し、この塗布液を前述した方法で基板上に塗布し、乾
燥することによって設けることができる。なお、シアニ
ン系色素と共に一重項酸素クエンチャー、酸化剤、酸化
防止剤、ラジカルトラップ剤等を使用しても良い。上記
クエンチャーとしては、下記式で示される化合物が好ま
しい。

【００５８】

【化２２】

【００５９】上記式において、Ｒ¹ は、置換基を有して
いても良い炭素数１〜８のアルキル基（好ましくは、炭
素数１〜６のアルキル基である）を表し、Ｑ^- は、陰イ
オンを表す。色素記録層を形成するための溶剤として
は、シアニン系色素が溶解し易いものが好ましく、色素
記録層の除去用として挙げたものの他、例えば、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステ
ル、アセチルアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン、ジク
ロルメタン、１、２−ジクロルエタン、クロロホルムな
どのハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、エチル
エーテル、ジオキサンなどのエーテル、ｎ−プロパノー
ル、イソプロパノール、１−エトキシ−２−プロパノー
ル、１−イソプロポキシ−２−プロパノール、１−ブト
キシ−２−プロパノール、ｎ−ブタノールなどのアルコ
ール、ジメチルホルムアミド、２，２，３，３−テトラ
フロロプロパノールなどのフッ素系の溶剤を挙げること
ができる。

【００６０】反射層の材料である光反射性物質は、レー
ザ光に対する反射率が高い物質である。具体的には、反
射層は、金属及び半金属からなる層であることが好まし
い。これらの例としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｈ
ｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃ
ｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓ
ｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ及びＢｉなどを挙げ
ることができる。これらのうちでは、Ａｕ、Ａｇ、Ｃ
ｕ、Ｐｔ、Ａｌ、Ｃｒ及びＮｉであることが好ましく、
特にＡｕであることが好ましい。これらは単独で用いて
も良いし、あるいは二種以上を組み合わせて用いても良
い。記録層は、一般に１０〜３００ｎｍの範囲で設けら
れる。

【００６１】保護層の形成に用いられる材料としては、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ（紫外線）硬化性樹
脂を挙げることができる。好ましいのは、ＵＶ硬化性樹
脂である。ＵＶ硬化性樹脂の例としては、ウレタン（メ
タ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポ
リエステル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレ
ートのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エスエル等の
モノマー類等、更に光重合開始剤等の通常ＵＶ硬化性樹
脂を使用することができる。保護層は、一般に０．１〜
１００μｍの範囲で設けられる。

【００６２】

【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を記載す
る。 ［実施例１］

【００６３】

【化２３】

【００６４】

【化２４】

【００６５】上記（１３で示される構造式のシアニン色
素を３部、及び上記化２４で示される構造式の色素を２
部をそれぞれ２，２，３，３−テトラフロロプロパノー
ルに溶解して色素記録層形成用塗布液（色素濃度：２．
６５重量％）を調製した。厚さ１．２ｍｍ、直径１２０
ｍｍのスパイラル状のグルーブ（深さ：１６０ｎｍ、
幅：０．４μｍ、トラックピッチ１．６ｎｍ）を有する
射出成型したポリカーボネート樹脂（商品名：パンライ
トＡＤ５５０３、帝人（株）製）を用意し、この基板の
グルーブを有する面上に上記で調製した塗布液をスピン
コート法により回転数を３００ｒｐｍ〜２０００ｒｐｍ
まで変化させながら塗布した（図１参照）。その後、図
２に示すように基板の外周端部の近傍にある記録層に、
ジアセトンアルコールを滴下させ、その部分の記録層を
除去し、基板の外周端部に基板表面の露出した領域（露
出面）を形成した。得られた色素記録層の膜厚は、１４
０ｎｍであった（図２参照）。上記色素記録層上にマス
クを用いてＡｕを蒸着して膜厚が１３０ｎｍの反射層を
形成した。この操作によって、反射層の両端部は、それ
それの端部が記録層を越え、基板の外周端部の露出面、
及び孔部の外周縁近傍の内側の基板の露出面に接するよ
うに設けられた（図３参照）。次に、反射層上に、ＵＶ
硬化性接着剤（商品名：ＳＤ−２２０、大日本インキ化
学工業（株）製）をスピンコート法により回転数３００
ｒｐｍ〜２０００ｒｐｍまで変化させながら塗布した
後、高圧水銀灯にて紫外線を照射して硬化させ、層厚が
８μｍとなるように保護層を形成した。保護層は、その
外周端部が反射層を越え、基板の外周端部の露出面に接
するように設けられた。またその内側の端部が、孔部の
外周縁近傍の内側の基板の露出面に接するように設けら
れた。このようにして、図４に示す構造を持つ光情報記
録媒体を製造した。

【００６６】［実施例２］〜［実施例５］ 実施例１において、色素記録層を形成後、基板の外周端
部の色素記録層の除去を、ジアセトンアルコールの代わ
りに、１−メトキシ−２−プロパノール（実施例２）、
エタノール（実施例３）、メタノール（実施例４）、又
はＨＣＦＣ２２５（実施例５）を用いて行った以外は、
同様にして光情報記録媒体を製造した。このようにし
て、図４に示す構造を持つ光情報記録媒体を製造した。

【００６７】［比較例１］〜［比較例１７］ 実施例１において、色素記録層を形成後、基板の外周端
部の色素記録層の除去を、ジアセトンアルコールの代わ
りに、表１に示す溶剤を用いて行った以外は、同様にし
て比較用の光情報記録媒体を製造した。このようにし
て、図４に示す構造を持つ光情報記録媒体を製造した。

【００６８】［比較例１８］実施例１において、色素記
録層を形成後、基板の外周端部の色素記録層を除去する
ことなくこの色素記録層の上にＡｕからなる反射層を形
成し、更にこの反射層の上に、保護層を形成した以外
は、同様にして比較用の光情報記録媒体を製造した。こ
のようにして、図５に示す構造を持つ光情報記録媒体を
製造した。図５において、色素記録層２２は、その外側
端部が、基板２１の外周端部まで形成されており、また
その内側端部は、孔部２０の外周縁外側近傍まで形成さ
れている。反射層２４は、その端部が色素記録層２２の
内側となるように形成されている。保護層２５は、色素
記録層２２の上に反射層を覆うようにして形成されてい
る。

【００６９】［光情報記録媒体としての評価］上記の光
情報記録媒体の製造工程において、基板の外周端部の色
素記録層の除去後の基板表面（露出面）を目視で観察
し、色素記録層が除去されている状態及び基板表面に形
成されているエッジの状態を評価した。評価は、下記の
基準で行った。 （１）色素記録層の除去状態 Ａ：殆ど色素記録層は除去されていた。 Ｂ：一部で色素記録層が残っていた。 Ｃ：大部分の色素記録層が残っていた。 （２）基板表面のエッジの状態 ■：基板表面は溶解されず、エッジの変形は認められな
かった。 ×：基板表面が溶解され、エッジの変形が認められた。

【００７０】また、得られた光情報記録媒体の保存耐久
性を評価した。保存耐久性は、下記の保存条件下で保存
し、保存後の光情報記録媒体について、下記の方法で評
価した。 保存条件１：８０℃、８５％ＲＨの環境下で３０００時
間保存した。 保存条件２：８０℃、８５％ＲＨの環境下で３０００時
間保存した後、Ｘｅランプ（１４万ルクス）を１２時間
照射した。 評価は、ＯＭＴ−２０００（ＣＤ−Ｒ専用評価機：パル
ステック社製）を用いて、最適パワー（レーザ光の波長
が７８０ｎｍ、パワーを３〜１０ｍＷの間で変化させて
βが０．０４となる点）で３Ｔの変調度を調べることに
より行った。結果を下記の表１に示す。

【００７１】

【表１】 表１ ──────────────────────────────────── 記録層 基板表 記録層除去 の除去 面の ３ Ｔ 変 調 度 用溶剤 状態 状態 保存前 保存条件１ 保存条件２ ──────────────────────────────────── 実施例 １ ジアセトンアル Ａ ■ ０．５１９ ０．５１９ ０．５１９ コール ２ 1-メトキシ-2- プロ Ａ ■ ０．５１７ ０．５０５ ０．５００ パノール ３ エタノール Ａ ■ ０．５１９ ０．５０３ ０．４９８ ４ メタノール Ａ ■ ０．５１７ ０．５０５ ０．５０１ ５ HCFC２２５ Ａ ■ ０．５１７ ０．５１６ ０．５１１ ──────────────────────────────────── 比較例 １ 2,2,3,3-テトラフルオロ Ａ ■ ０．５１８ ０．４８３ ０．４６３ プロパノール ２ メチルセロソルブ Ａ ■ ０．５１６ ０．４８６ ０．４７７ ３ トルエン Ｂ ■ ０．５１７ ０．４７３ ０．４４３ ４ オクタン Ｃ ■ ０．５１６ 保護層と反射層が剥離 ５ トリエチルアミン Ｃ ■ ０．５１７ 保護層と反射層が剥離 ６ ラウリン酸イソ Ｃ ■ ０．５１６ 保護層と反射層が剥離 プロピル ７ ジエチレングリコ Ａ × ０．５０１ ０．４７２ ０．４５５ ールメチルエーテル ８ シクロヘキサノン Ａ × ０．５０３ ０．４７３ ０．４５９ ９ アセチルアセトン Ａ × ０．５０４ ０．４６３ ０．４４４ 10 酢酸ブチル Ａ × ０．５０２ ０．４８０ ０．４６０ 11 ジクロロエタン Ａ × ０．５０４ ０．４６８ ０．４５３ 12 イソプロパノール Ａ × ０．５０４ ０．４７９ ０．４６５ 13 ジオキサン Ａ × ０．５０５ ０．４５３ ０．４３４ 14 １−エトキシ−２ Ａ × ０．５０２ ０．４８１ ０．４６３ −プロパノール 15 １−イソプロポキ Ａ × ０．５０３ ０．４７６ ０．４５９ シ−２−プロパノール 16 １−ブトキシ−２ Ａ × ０．５０２ ０．４７０ ０．４４９ −プロパノール 17 メチルエチルケトンＡ × ０．５０５ ０．４７７ ０．４６２ 18 溶剤による洗浄無し ０．５１４ 保護層と反射層が剥離 ────────────────────────────────────

【００７２】上記表１の結果から、実施例１〜５で用い
た溶剤では、色素記録層の除去が可能であり、かつ基板
表面のエッジの変形も認められないことがわかる。また
色素記録層の除去にこれらの溶剤を用いて製造した光情
報記録媒体は、保存耐久性においてもその性能は、保存
前と比べてその低下度も低く、良好な保存耐久性が保持
されていることがわかる。

【００７３】一方、比較例１〜３で用いた溶剤では、色
素記録層の除去が殆ど可能であるか、あるいは一部残る
が除去は可能であり、またこれらの溶剤によって基板表
面のエッジの変形も認められないが、保存後の性能の低
下が大きく、充分な保存耐久性を持っていないことがわ
かる。また比較例４〜６で用いた溶剤では、色素記録層
の除去を充分に行うことができず、従って記録層表面へ
の反射層及び保護層の端部の接着が不十分となるため、
保存後においては、保護層及び反射層の剥離が生じたと
考えられる。更に比較例７〜１７で用いた溶剤では、基
板表面を溶解させ、エッジの変形が生じ、良好な性能が
得られないことがわかる。また比較例１８のように、基
板の外周端部の記録層を除去することなく、基板の外周
端部まで設けた場合には、保護層及び反射層の剥離が生
じ易くなることがわかる。

【００７４】

【発明の効果】基板の外側端部の色素記録層の除去を特
定の溶剤を用いて行うという本発明の製造方法に従い製
造された光情報記録媒体は、高い保存耐久性を有してい
る。従って高い性能の光情報記録媒体を提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、中央に孔部を備えた円盤状樹脂基板上
に、色素記録層を塗布により設けた状態を模式的に示し
た部分断面図である。

【図２】図２は、基板の外周端部の内側近傍の色素記録
層を除去し、基板表面の露出した領域を形成した状態を
模式的に示した部分断面図である。

【図３】図３は、記録層上及びこの記録層から連続して
基板表面の露出領域に至るまで反射層が設けられた状態
を模式的に示す部分断面図である。

【図４】図４は、記録層及び反射層上及びこの反射層か
ら連続して基板表面の露出領域に至るまで保護層が設け
られた状態を模式的に示す部分断面図である。

【図５】図５は、従来の光情報記録媒体の一例を模式的
に示した断面図である。

【符号の説明】

１０、２０ 孔部 １１、２１ 円盤状基板 １２、２２ 色素記録層 １３ 露出面 １４、２４ 反射層 １５、２５ 保護層

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 中央に孔部を持つ円盤状基板上にシアニ
   ン系色素からなる色素記録層を塗布によりその外周端部
   まで形成する工程、該基板の外周端部の内側近傍領域の
   色素記録層を除去し、基板表面に露出した領域を形成す
   る工程、該記録層上に反射層を設ける工程、及び該反射
   層上と該基板表面の露出した領域に保護層を設ける工程
   を含む光情報記録媒体の製造方法において、色素記録層
   の除去を、ジアセトンアルコール、１−メトキシ−２−
   プロパノール、エタノール、メタノール及びＨＣＦＣ２
   ２５からなる群より選ばれる少なくとも一種の溶剤を用
   いて行うことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 溶剤が、ジアセトンアルコールである請
   求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 色素記録層の除去をスピンコート法によ
   り行う請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。