JPH1073701A - 反射防止フィルム - Google Patents
反射防止フィルムInfo
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- JPH1073701A JPH1073701A JP8249168A JP24916896A JPH1073701A JP H1073701 A JPH1073701 A JP H1073701A JP 8249168 A JP8249168 A JP 8249168A JP 24916896 A JP24916896 A JP 24916896A JP H1073701 A JPH1073701 A JP H1073701A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反射防止膜として高屈折率材料層、低屈折率
材料層、高屈折率材料層及び低屈折率材料層が積層され
た４層構造の多層膜を有する反射防止フィルムの当該低
屈折率材料層として二酸化ケイ素を使用した場合に、層
間剥離の問題が生じないようにするとともに、良好な機
械的強度を反射防止フィルムに実現する。 【解決手段】 基材１上に反射防止膜２が設けられた反
射防止フィルムであって、当該反射防止膜２が基材１側
から第１の高屈折率材料層２ａ、第１の低屈折率材料層
２ｂ、第２の高屈折率材料層２ｃ及び第２の低屈折率材
料層２ｄが積層された多層膜である反射防止フィルムに
おいて、第１の低屈折率材料層として非晶質二酸化ケイ
素層を使用し、第２の低屈折率材料層として結晶質二酸
化ケイ素層を使用する。
材料層、高屈折率材料層及び低屈折率材料層が積層され
た４層構造の多層膜を有する反射防止フィルムの当該低
屈折率材料層として二酸化ケイ素を使用した場合に、層
間剥離の問題が生じないようにするとともに、良好な機
械的強度を反射防止フィルムに実現する。 【解決手段】 基材１上に反射防止膜２が設けられた反
射防止フィルムであって、当該反射防止膜２が基材１側
から第１の高屈折率材料層２ａ、第１の低屈折率材料層
２ｂ、第２の高屈折率材料層２ｃ及び第２の低屈折率材
料層２ｄが積層された多層膜である反射防止フィルムに
おいて、第１の低屈折率材料層として非晶質二酸化ケイ
素層を使用し、第２の低屈折率材料層として結晶質二酸
化ケイ素層を使用する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＲＴや液晶ディ
スプレイ等の画像表示素子の表面の光の反射を防止する
ための反射防止フィルムに関する。
スプレイ等の画像表示素子の表面の光の反射を防止する
ための反射防止フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、種々の画像表示素子の表面に
おける外光の反射を防止するために、反射防止フィルム
を画像表示素子表面に貼り付けたりすることが行われて
いる。
おける外光の反射を防止するために、反射防止フィルム
を画像表示素子表面に貼り付けたりすることが行われて
いる。
【０００３】このような反射防止フィルムとしては、図
３に示すように光透過性の基材３１上に、反射防止フィ
ルムに耐擦過性を付与するハードコート層３２、反射防
止膜３３、更に必要に応じて反射防止フィルムに耐水性
を付与する撥水層３４が順次形成された構造のものが広
く用いられている。ここで、反射防止膜３３としては、
ハードコート層３２側から高屈折率材料層３３ａ（３３
ｃ）と低屈折率材料層３３ｂ（３３ｄ）とが交互に合計
４層（各２層づつ）積層された多層膜を用いることが提
案されている（特開昭６２−２１５２０２号公報）。こ
の場合、高屈折率材料としては、屈折率が２．０以上の
酸化チタンあるいは酸化ジルコニウムが用いられてお
り、一方、低い屈折率材料としては、屈折率が１．５程
度の二酸化ケイ素が用いられている。
３に示すように光透過性の基材３１上に、反射防止フィ
ルムに耐擦過性を付与するハードコート層３２、反射防
止膜３３、更に必要に応じて反射防止フィルムに耐水性
を付与する撥水層３４が順次形成された構造のものが広
く用いられている。ここで、反射防止膜３３としては、
ハードコート層３２側から高屈折率材料層３３ａ（３３
ｃ）と低屈折率材料層３３ｂ（３３ｄ）とが交互に合計
４層（各２層づつ）積層された多層膜を用いることが提
案されている（特開昭６２−２１５２０２号公報）。こ
の場合、高屈折率材料としては、屈折率が２．０以上の
酸化チタンあるいは酸化ジルコニウムが用いられてお
り、一方、低い屈折率材料としては、屈折率が１．５程
度の二酸化ケイ素が用いられている。
【０００４】ところで、この特開昭６２−２１５２０２
号公報においては、低屈折率材料の二酸化ケイ素からな
る低屈折率材料層を形成する場合に、低屈折率材料層自
体の構造を非晶質状態とするか、あるいは結晶質状態と
するについては明確となっていない。このため、二つの
低屈折率材料層の双方を非晶質二酸化ケイ素又は結晶質
二酸化ケイ素から構成することが試みられている。
号公報においては、低屈折率材料の二酸化ケイ素からな
る低屈折率材料層を形成する場合に、低屈折率材料層自
体の構造を非晶質状態とするか、あるいは結晶質状態と
するについては明確となっていない。このため、二つの
低屈折率材料層の双方を非晶質二酸化ケイ素又は結晶質
二酸化ケイ素から構成することが試みられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、二つの
低屈折率材料層の双方を非晶質二酸化ケイ素から構成し
た場合、非晶質二酸化ケイ素が結晶質二酸化ケイ素に比
べて硬くないために、二つの低屈折率材料層の双方を結
晶質二酸化ケイ素から構成した場合に比べて反射防止膜
の機械的強度が不十分となるという問題があった。逆
に、双方を結晶質二酸化ケイ素から構成した場合、二つ
の低屈折率材料層の双方を非晶質二酸化ケイ素から構成
した場合に比べて耐衝撃性などの機械的強度は改善され
るが、柔軟性が不十分となって基材やハードコート層の
変形に追随することができず、反射防止膜の剥離（例え
ば、反射防止膜のハードコート層からの剥離や、反射防
止膜内における高屈折率材料層と低屈折率材料層との間
の層間剥離）が生じるという問題があった。
低屈折率材料層の双方を非晶質二酸化ケイ素から構成し
た場合、非晶質二酸化ケイ素が結晶質二酸化ケイ素に比
べて硬くないために、二つの低屈折率材料層の双方を結
晶質二酸化ケイ素から構成した場合に比べて反射防止膜
の機械的強度が不十分となるという問題があった。逆
に、双方を結晶質二酸化ケイ素から構成した場合、二つ
の低屈折率材料層の双方を非晶質二酸化ケイ素から構成
した場合に比べて耐衝撃性などの機械的強度は改善され
るが、柔軟性が不十分となって基材やハードコート層の
変形に追随することができず、反射防止膜の剥離（例え
ば、反射防止膜のハードコート層からの剥離や、反射防
止膜内における高屈折率材料層と低屈折率材料層との間
の層間剥離）が生じるという問題があった。
【０００６】本発明は、以上の従来の技術の課題を解決
しようとするものであり、反射防止膜として高屈折率材
料層、低屈折率材料層、高屈折率材料層及び低屈折率材
料層が積層された４層構造の多層膜を有する反射防止フ
ィルムの当該低屈折率材料層として二酸化ケイ素を使用
した場合に、反射防止膜の剥離の問題が生じず、しか
も、良好な機械的強度を有する反射防止フィルムを提供
することを目的とする。
しようとするものであり、反射防止膜として高屈折率材
料層、低屈折率材料層、高屈折率材料層及び低屈折率材
料層が積層された４層構造の多層膜を有する反射防止フ
ィルムの当該低屈折率材料層として二酸化ケイ素を使用
した場合に、反射防止膜の剥離の問題が生じず、しか
も、良好な機械的強度を有する反射防止フィルムを提供
することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、反射防止
フィルムの反射防止膜の二つの低屈折率材料層のうち、
基材側に位置する低屈折率材料層を非晶質二酸化ケイ素
から構成し、他方の低屈折率材料層を結晶質二酸化ケイ
素から構成することにより上述の目的を達成できること
を見出し、本発明を完成させるに至った。
フィルムの反射防止膜の二つの低屈折率材料層のうち、
基材側に位置する低屈折率材料層を非晶質二酸化ケイ素
から構成し、他方の低屈折率材料層を結晶質二酸化ケイ
素から構成することにより上述の目的を達成できること
を見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００８】即ち、本発明は、基材上に反射防止膜が設
けられた反射防止フィルムであって、当該反射防止膜が
基材側から第１の高屈折率材料層、第１の低屈折率材料
層、第２の高屈折率材料層及び第２の低屈折率材料層が
積層された多層膜である反射防止フィルムにおいて、第
１の低屈折率材料層が非晶質二酸化ケイ素層であり、第
２の低屈折率材料層が結晶質二酸化ケイ素層であること
を特徴とする反射防止フィルムを提供する。
けられた反射防止フィルムであって、当該反射防止膜が
基材側から第１の高屈折率材料層、第１の低屈折率材料
層、第２の高屈折率材料層及び第２の低屈折率材料層が
積層された多層膜である反射防止フィルムにおいて、第
１の低屈折率材料層が非晶質二酸化ケイ素層であり、第
２の低屈折率材料層が結晶質二酸化ケイ素層であること
を特徴とする反射防止フィルムを提供する。
【０００９】本発明の反射防止フィルムにおいては、反
射防止フィルムの耐擦過性などの機械的性質を向上させ
るために基材と反射防止膜との間に、ハードコート層を
更に形成することが好ましい。また、反射防止フィルム
の耐水性を向上させるために、反射防止膜上に、更に撥
水層を形成することが好ましい。
射防止フィルムの耐擦過性などの機械的性質を向上させ
るために基材と反射防止膜との間に、ハードコート層を
更に形成することが好ましい。また、反射防止フィルム
の耐水性を向上させるために、反射防止膜上に、更に撥
水層を形成することが好ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面を参照しなが
ら詳細に説明する。
ら詳細に説明する。
【００１１】図１は、本発明の反射防止フィルムの基本
的態様の断面図である。また、図２（ａ）及び（ｂ）
は、それぞれ本発明の反射防止フィルムの別の態様の断
面図である。
的態様の断面図である。また、図２（ａ）及び（ｂ）
は、それぞれ本発明の反射防止フィルムの別の態様の断
面図である。
【００１２】図１の反射防止フィルムは、基材１上に反
射防止膜２が積層された構造を有する。ここで、反射防
止膜２は、基材１側から第１の高屈折率材料層２ａ、第
１の低屈折率材料層２ｂ、第２の高屈折率材料層２ｃ及
び第２の低屈折率材料層２ｄが積層された構造の多層膜
となっており、そして、その第１の低屈折率材料層２ｂ
が、非晶質二酸化ケイ素（屈折率＝約１．５５）から構
成され、第２の低屈折率材料層２ｄが結晶質二酸化ケイ
素（屈折率＝約１．５）から構成されている。
射防止膜２が積層された構造を有する。ここで、反射防
止膜２は、基材１側から第１の高屈折率材料層２ａ、第
１の低屈折率材料層２ｂ、第２の高屈折率材料層２ｃ及
び第２の低屈折率材料層２ｄが積層された構造の多層膜
となっており、そして、その第１の低屈折率材料層２ｂ
が、非晶質二酸化ケイ素（屈折率＝約１．５５）から構
成され、第２の低屈折率材料層２ｄが結晶質二酸化ケイ
素（屈折率＝約１．５）から構成されている。
【００１３】このように、二つの低屈折率材料層（２
ｂ，２ｄ）のうち、基材１側に比較的柔軟な非晶質二酸
化ケイ素からなる低屈折率材料層２ｂを配するので、反
射防止膜２全体が基材１の変形に十分に追随することが
でき、反射防止膜２の剥離の発生を防止もしくは抑制す
ることができる。また、二つの低屈折率材料層（２ｂ，
２ｄ）のうち、基材１から離れた側に比較的硬い結晶質
二酸化ケイ素からなる低屈折率材料層２ｄを配するの
で、反射防止膜２の機械的強度を高めることができ、そ
れにより反射防止フィルムに加わる外力（例えば、摩
擦、落下などの衝撃）から反射防止膜２の破損を防止も
しくは抑制することができる。
ｂ，２ｄ）のうち、基材１側に比較的柔軟な非晶質二酸
化ケイ素からなる低屈折率材料層２ｂを配するので、反
射防止膜２全体が基材１の変形に十分に追随することが
でき、反射防止膜２の剥離の発生を防止もしくは抑制す
ることができる。また、二つの低屈折率材料層（２ｂ，
２ｄ）のうち、基材１から離れた側に比較的硬い結晶質
二酸化ケイ素からなる低屈折率材料層２ｄを配するの
で、反射防止膜２の機械的強度を高めることができ、そ
れにより反射防止フィルムに加わる外力（例えば、摩
擦、落下などの衝撃）から反射防止膜２の破損を防止も
しくは抑制することができる。
【００１４】本発明において基材１としては、従来の反
射防止フィルムにおいて用いられている基材と同様のも
のを使用することができ、フィルム状のガラスや光透過
性のプラスチックフィルム、例えば、ポリカーボネート
フィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエー
テルスルホンフィルム、ポリメチルアクリレートフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等を使用する
ことができる。
射防止フィルムにおいて用いられている基材と同様のも
のを使用することができ、フィルム状のガラスや光透過
性のプラスチックフィルム、例えば、ポリカーボネート
フィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリエー
テルスルホンフィルム、ポリメチルアクリレートフィル
ム、ポリエチレンテレフタレートフィルム等を使用する
ことができる。
【００１５】なお、基材１の種類、厚み、光透過度等に
ついては、反射防止フィルムの使用目的等に応じて適宜
選択することができる。
ついては、反射防止フィルムの使用目的等に応じて適宜
選択することができる。
【００１６】高屈折率材料としては、屈折率が１．９を
超えるものを使用することが好ましい。このような材料
としては、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、二酸化
タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ハフニウ
ム、酸化セリウム、酸化スズなどを挙げることができ
る。ここで、高屈折率材料層２ａと２ｃとは、同じ材料
から構成してもよく、異なる材料から構成してもよい。
超えるものを使用することが好ましい。このような材料
としては、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、二酸化
タンタル、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ハフニウ
ム、酸化セリウム、酸化スズなどを挙げることができ
る。ここで、高屈折率材料層２ａと２ｃとは、同じ材料
から構成してもよく、異なる材料から構成してもよい。
【００１７】なお、高屈折率材料層２ａと２ｃとのそれ
ぞれの好ましい層厚は、使用する材料等に応じて適宜決
定することができる。
ぞれの好ましい層厚は、使用する材料等に応じて適宜決
定することができる。
【００１８】また、低屈折率材料層２ｂは、前述したよ
うに、非晶質二酸化ケイ素から構成される。ここで、非
結晶二酸化ケイ素とは、Ｘ線的に非晶質であることを意
味している。この層は、反応性蒸着法により高屈折率材
料層２ａ上に形成することができる。また、低屈折率材
料層２ｄは結晶質二酸化ケイ素から構成される。ここ
で、結晶質二酸化ケイ素とは、Ｘ線的に結晶質であるこ
とを意味している。この層は、イオンビームアシスト蒸
着法により高屈折率材料層２ｃ上に形成することができ
る。非晶質になるか結晶質になるかは、蒸着時の加熱条
件やアシストの相違に依存している。
うに、非晶質二酸化ケイ素から構成される。ここで、非
結晶二酸化ケイ素とは、Ｘ線的に非晶質であることを意
味している。この層は、反応性蒸着法により高屈折率材
料層２ａ上に形成することができる。また、低屈折率材
料層２ｄは結晶質二酸化ケイ素から構成される。ここ
で、結晶質二酸化ケイ素とは、Ｘ線的に結晶質であるこ
とを意味している。この層は、イオンビームアシスト蒸
着法により高屈折率材料層２ｃ上に形成することができ
る。非晶質になるか結晶質になるかは、蒸着時の加熱条
件やアシストの相違に依存している。
【００１９】なお、低屈折率材料層２ｂと２ｄとのそれ
ぞれの好ましい層厚は、使用する材料等に応じて適宜決
定することができる。
ぞれの好ましい層厚は、使用する材料等に応じて適宜決
定することができる。
【００２０】図１には、基材１と反射防止膜２とからな
る反射防止フィルムを示したが、本発明の反射防止フィ
ルムは、図２（ａ）に示すように、基材１と反射防止膜
２との間に、反射防止フィルムの耐擦過性を向上させ、
反射防止膜２の剥離を防止するためにハードコート層３
を設けることが好ましい。更に、反射防止フィルムに耐
水性や耐汚染性を付与するために、図２（ｂ）に示すよ
うに、反射防止膜２上に撥水層４を設けることが好まし
い。
る反射防止フィルムを示したが、本発明の反射防止フィ
ルムは、図２（ａ）に示すように、基材１と反射防止膜
２との間に、反射防止フィルムの耐擦過性を向上させ、
反射防止膜２の剥離を防止するためにハードコート層３
を設けることが好ましい。更に、反射防止フィルムに耐
水性や耐汚染性を付与するために、図２（ｂ）に示すよ
うに、反射防止膜２上に撥水層４を設けることが好まし
い。
【００２１】本発明において、ハードコート層３として
は、従来の反射防止フィルムにおいて用いられているハ
ードコート層と同様の光透過性の材料から形成されたも
のを使用することができる。例えば、紫外線硬化型のア
クリル樹脂やシリコーン樹脂等を使用することができ
る。
は、従来の反射防止フィルムにおいて用いられているハ
ードコート層と同様の光透過性の材料から形成されたも
のを使用することができる。例えば、紫外線硬化型のア
クリル樹脂やシリコーン樹脂等を使用することができ
る。
【００２２】なお、ハードコート層３の屈折率を、高屈
折率材料層２ａの屈折率より低くなるようにする。これ
により、反射防止膜２による反射防止性を向上させるこ
とができる。また、ハードコート層３の屈折率を、光学
的な効果を減少させないために、基材１と同程度の屈折
率となるようにするのが好ましい。
折率材料層２ａの屈折率より低くなるようにする。これ
により、反射防止膜２による反射防止性を向上させるこ
とができる。また、ハードコート層３の屈折率を、光学
的な効果を減少させないために、基材１と同程度の屈折
率となるようにするのが好ましい。
【００２３】ハードコート層３の厚みとしては、機械
的、光学的な効果を低下させないために、４〜８μｍと
することが好ましい。
的、光学的な効果を低下させないために、４〜８μｍと
することが好ましい。
【００２４】また、撥水層４としても従来の反射防止フ
ィルムにおいて用いられている撥水層と同様の疎水性材
料から形成されたものを使用することができる。例え
ば、パーフルオロシラン、フルオロカーボン等を挙げる
ことができる。
ィルムにおいて用いられている撥水層と同様の疎水性材
料から形成されたものを使用することができる。例え
ば、パーフルオロシラン、フルオロカーボン等を挙げる
ことができる。
【００２５】次に、本発明の反射防止フィルムの製造方
法を、図２（ｂ）の態様の反射防止フィルムを例にとり
説明する。
法を、図２（ｂ）の態様の反射防止フィルムを例にとり
説明する。
【００２６】まず、基材１上に、ハードコート層形成用
樹脂組成物をマイクログラビアコーター等により塗布
し、乾燥することによりハードコート層３を形成する。
樹脂組成物をマイクログラビアコーター等により塗布
し、乾燥することによりハードコート層３を形成する。
【００２７】次に、ハードコート層３上に、高屈折率材
料を真空蒸着法やスパッタ法などにより堆積させて第１
の高屈折率材料層２ａを形成する。
料を真空蒸着法やスパッタ法などにより堆積させて第１
の高屈折率材料層２ａを形成する。
【００２８】次に、この第１の高屈折率材料層２ａ上
に、反応性蒸着法により非晶質二酸化ケイ素層を第１の
低屈折率材料層２ｂを形成する。
に、反応性蒸着法により非晶質二酸化ケイ素層を第１の
低屈折率材料層２ｂを形成する。
【００２９】この非晶質二酸化ケイ素層２ｂ上に、第１
の高屈折率材料層２ａと同様に第２の高屈折率材料層２
ｃを形成する。
の高屈折率材料層２ａと同様に第２の高屈折率材料層２
ｃを形成する。
【００３０】次に、この第１の低屈折率材料層１ｂ上
に、第１の高屈折率材料層２ａと同様に非晶質二酸化ケ
イ素層を第２の低屈折率材料層２ｄとして形成する。
に、第１の高屈折率材料層２ａと同様に非晶質二酸化ケ
イ素層を第２の低屈折率材料層２ｄとして形成する。
【００３１】最後に、第２の低屈折率材料層２ｄ上に、
撥水層形成用材料をプラズマＣＶＤ法などにより成膜し
て撥水層４を形成する。これにより図２（ｂ）に示した
反射防止フィルムを作製することができる。
撥水層形成用材料をプラズマＣＶＤ法などにより成膜し
て撥水層４を形成する。これにより図２（ｂ）に示した
反射防止フィルムを作製することができる。
【００３２】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。
る。
【００３３】実施例１ （図１の態様の反射防止フィルムの製造例）高屈折率材
料層２ａ及び２ｃの材料として二酸化チタンを使用し、
低屈折率材料層２ｂの材料として非晶質二酸化ケイ素を
使用し、低屈折率材料層２ｄの材料として結晶質二酸化
ケイ素を使用した。また、基材１にはポリエチレンテレ
フタレートフィルムを使用した。
料層２ａ及び２ｃの材料として二酸化チタンを使用し、
低屈折率材料層２ｂの材料として非晶質二酸化ケイ素を
使用し、低屈折率材料層２ｄの材料として結晶質二酸化
ケイ素を使用した。また、基材１にはポリエチレンテレ
フタレートフィルムを使用した。
【００３４】基材１上に二酸化チタンからなる高屈折率
材料層２ａ及び２ｃと、二酸化ケイ素からなる低屈折率
材料層２ｂ及び２ｄとを、表１に示すｎｄ値で形成する
ことにより反射防止フィルムを作製した。
材料層２ａ及び２ｃと、二酸化ケイ素からなる低屈折率
材料層２ｂ及び２ｄとを、表１に示すｎｄ値で形成する
ことにより反射防止フィルムを作製した。
【００３５】
【表１】 ＳｉＯ2／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2／ＴｉＯ2／／基材 層厚 λ／４ λ／４ λ／８ λ／８（λ＝550nm） ｎｄ値 １３８ １３８ ７０ ７０ （ｎｍ）
【００３６】なお、高屈折率材料層２ａ及び２ｃはプラ
ズマアシスト蒸着法により形成し、低屈折率材料層２ｂ
はイオンビームアシスト蒸着法により形成した。更に、
低屈折率材料層２ｄは通常の反応蒸着法により形成し
た。
ズマアシスト蒸着法により形成し、低屈折率材料層２ｂ
はイオンビームアシスト蒸着法により形成した。更に、
低屈折率材料層２ｄは通常の反応蒸着法により形成し
た。
【００３７】実施例２ （図２（ａ）の態様の反射防止フィルムの製造例）高屈
折率材料層２ａ及び２ｃの材料として二酸化チタンを使
用し、低屈折率材料層２ｂの材料として非晶質二酸化ケ
イ素を使用し、低屈折率材料層２ｄの材料として結晶質
二酸化ケイ素を使用した。また、基材１にはポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを使用した。
折率材料層２ａ及び２ｃの材料として二酸化チタンを使
用し、低屈折率材料層２ｂの材料として非晶質二酸化ケ
イ素を使用し、低屈折率材料層２ｄの材料として結晶質
二酸化ケイ素を使用した。また、基材１にはポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを使用した。
【００３８】基材１上にダイコート法により紫外線硬化
性のアクリル系ハードコート剤を５μｍ厚で塗布し、更
に、このハードコート層を形成した基材１上に、二酸化
チタンからなる高屈折率材料層２ａ及び２ｃと、二酸化
ケイ素からなる低屈折率材料層２ｂ及び２ｄとを、実施
例１と同様のｎｄ値で形成することにより反射防止フィ
ルムを作製した。
性のアクリル系ハードコート剤を５μｍ厚で塗布し、更
に、このハードコート層を形成した基材１上に、二酸化
チタンからなる高屈折率材料層２ａ及び２ｃと、二酸化
ケイ素からなる低屈折率材料層２ｂ及び２ｄとを、実施
例１と同様のｎｄ値で形成することにより反射防止フィ
ルムを作製した。
【００３９】なお、高屈折率材料層２ａ及び２ｃはプラ
ズマアシスト蒸着法により形成し、低屈折率材料層２ｂ
はイオンビームアシスト蒸着法により形成し、そして低
屈折率材料層２ｄは通常の反応蒸着法により形成した。
ズマアシスト蒸着法により形成し、低屈折率材料層２ｂ
はイオンビームアシスト蒸着法により形成し、そして低
屈折率材料層２ｄは通常の反応蒸着法により形成した。
【００４０】実施例３ （図２（ｂａ）の態様の反射防止フィルムの製造例）高
屈折率材料層２ａ及び２ｃの材料として二酸化チタンを
使用し、低屈折率材料層２ｂの材料として非晶質の二酸
化ケイ素を使用し、低屈折率材料層２ｄの材料として結
晶質二酸化ケイ素を使用した。基材１にはポリエチレン
テレフタレートフィルムを使用した。
屈折率材料層２ａ及び２ｃの材料として二酸化チタンを
使用し、低屈折率材料層２ｂの材料として非晶質の二酸
化ケイ素を使用し、低屈折率材料層２ｄの材料として結
晶質二酸化ケイ素を使用した。基材１にはポリエチレン
テレフタレートフィルムを使用した。
【００４１】基材１上にダイコート法により紫外線硬化
性のアクリル系ハードコート剤を５μｍ厚で塗布した。
このハードコート層を形成した基材１上に、二酸化チタ
ンからなる高屈折率材料層２ａ及び２ｃと二酸化ケイ素
からなる低屈折率材料層２ｂ及び２ｄとを、実施例１と
同様のｎｄ値で形成した。更に、その上に撥水層４とし
てパーフルオロシランをＣＶＤ法により約５ｎｍ厚で形
成することにより反射防止フィルムを作製した。
性のアクリル系ハードコート剤を５μｍ厚で塗布した。
このハードコート層を形成した基材１上に、二酸化チタ
ンからなる高屈折率材料層２ａ及び２ｃと二酸化ケイ素
からなる低屈折率材料層２ｂ及び２ｄとを、実施例１と
同様のｎｄ値で形成した。更に、その上に撥水層４とし
てパーフルオロシランをＣＶＤ法により約５ｎｍ厚で形
成することにより反射防止フィルムを作製した。
【００４２】なお、高屈折率材料層２ａ及び２ｃはプラ
ズマアシスト蒸着法により形成し、低屈折率材料層２ｂ
はイオンビームアシスト蒸着法により形成し、低屈折率
材料層２ｄは通常の反応蒸着法により形成した。
ズマアシスト蒸着法により形成し、低屈折率材料層２ｂ
はイオンビームアシスト蒸着法により形成し、低屈折率
材料層２ｄは通常の反応蒸着法により形成した。
【００４３】比較例１ 低屈折率材料層２ｄを、低屈折率材料層２ｂと同様にイ
オンビームアシスト蒸着法により非晶質二酸化ケイ素か
ら形成する以外は実施例１と同様にして反射防止フィル
ムを作製した。
オンビームアシスト蒸着法により非晶質二酸化ケイ素か
ら形成する以外は実施例１と同様にして反射防止フィル
ムを作製した。
【００４４】比較例２ 低屈折率材料層２ｂを、低屈折率材料層２ｄと同様に通
常の反応蒸着法により結晶質二酸化ケイ素から形成する
以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製し
た。
常の反応蒸着法により結晶質二酸化ケイ素から形成する
以外は実施例１と同様にして反射防止フィルムを作製し
た。
【００４５】比較例３ 低屈折率材料層２ｄを、低屈折率材料層２ｂと同様にイ
オンビームアシスト蒸着法により非晶質二酸化ケイ素か
ら形成する以外は実施例２と同様にして反射防止フィル
ムを作製した。
オンビームアシスト蒸着法により非晶質二酸化ケイ素か
ら形成する以外は実施例２と同様にして反射防止フィル
ムを作製した。
【００４６】比較例４ 低屈折率材料層２ｂを、低屈折率材料層２ｄと同様に通
常の反応蒸着法により結晶質二酸化ケイ素から形成する
以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製し
た。
常の反応蒸着法により結晶質二酸化ケイ素から形成する
以外は実施例２と同様にして反射防止フィルムを作製し
た。
【００４７】比較例５ 低屈折率材料層２ｄを、低屈折率材料層２ｂと同様にイ
オンビームアシスト蒸着法により非晶質二酸化ケイ素か
ら形成する以外は実施例３と同様にして反射防止フィル
ムを作製した。
オンビームアシスト蒸着法により非晶質二酸化ケイ素か
ら形成する以外は実施例３と同様にして反射防止フィル
ムを作製した。
【００４８】比較例６ 低屈折率材料層２ｂを、低屈折率材料層２ｄと同様に通
常の反応蒸着法により結晶質二酸化ケイ素から形成する
以外は実施例３と同様にして反射防止フィルムを作製し
た。
常の反応蒸着法により結晶質二酸化ケイ素から形成する
以外は実施例３と同様にして反射防止フィルムを作製し
た。
【００４９】（評価）以上の各実施例及び比較例の反射
防止フィルムや基材を静的に変形させ、反射防止膜の剥
離あるいはクラックが発生したか否かを目視にて観察し
た。
防止フィルムや基材を静的に変形させ、反射防止膜の剥
離あるいはクラックが発生したか否かを目視にて観察し
た。
【００５０】その結果、実施例１〜３並びに比較例１、
３及び５の反射防止フィルムは、反射防止膜に剥離もク
ラックも観察されなかったが、比較例２、４及び６の反
射防止フィルムは、反射防止膜に剥離又はクラックが観
察された。これらの結果から、基材側の低屈折率材料層
として非晶質二酸化ケイ素層を使用することが、反射防
止フィルムの基材を静的に変形させた際に反射防止膜に
剥離やクラックを発生させないようにすることに有効で
あることがわかる。
３及び５の反射防止フィルムは、反射防止膜に剥離もク
ラックも観察されなかったが、比較例２、４及び６の反
射防止フィルムは、反射防止膜に剥離又はクラックが観
察された。これらの結果から、基材側の低屈折率材料層
として非晶質二酸化ケイ素層を使用することが、反射防
止フィルムの基材を静的に変形させた際に反射防止膜に
剥離やクラックを発生させないようにすることに有効で
あることがわかる。
【００５１】また、各実施例及び比較例の反射防止フィ
ルムの外側から、直径１０ｍｍの鉄棒に巻き付けて伸ば
した後に衝撃力を加え、反射防止膜に剥離あるいはクラ
ックが発生したか否かを目視にて観察した。
ルムの外側から、直径１０ｍｍの鉄棒に巻き付けて伸ば
した後に衝撃力を加え、反射防止膜に剥離あるいはクラ
ックが発生したか否かを目視にて観察した。
【００５２】その結果、実施例１〜３並びに比較例２、
４及び６の反射防止フィルムは、反射防止膜に剥離もク
ラックも観察されなかったが、比較例１、３及び５の反
射防止フィルムは、反射防止膜に剥離又はクラックが観
察された。これらの結果から、基材側から離れた低屈折
率材料層として結晶質二酸化ケイ素層を使用すること
が、反射防止フィルムに衝撃力を加えた際に反射防止膜
に剥離やクラックを発生させないようにすることに有効
であることがわかる。
４及び６の反射防止フィルムは、反射防止膜に剥離もク
ラックも観察されなかったが、比較例１、３及び５の反
射防止フィルムは、反射防止膜に剥離又はクラックが観
察された。これらの結果から、基材側から離れた低屈折
率材料層として結晶質二酸化ケイ素層を使用すること
が、反射防止フィルムに衝撃力を加えた際に反射防止膜
に剥離やクラックを発生させないようにすることに有効
であることがわかる。
【００５３】
【発明の効果】本発明の反射防止フィルムは、高屈折率
材料層、低屈折率材料層、高屈折率材料層及び低屈折率
材料層が積層された４層構造の反射防止膜の当該低屈折
率材料層として二酸化ケイ素を使用した場合に、基材に
近い低屈折率材料層として非晶質の二酸化ケイ素を使用
しているので、層間剥離の問題を生じず、しかも、表面
に近い低屈折率材料層として結晶質の二酸化ケイ素層を
使用しているので、良好な機械的強度を有する。
材料層、低屈折率材料層、高屈折率材料層及び低屈折率
材料層が積層された４層構造の反射防止膜の当該低屈折
率材料層として二酸化ケイ素を使用した場合に、基材に
近い低屈折率材料層として非晶質の二酸化ケイ素を使用
しているので、層間剥離の問題を生じず、しかも、表面
に近い低屈折率材料層として結晶質の二酸化ケイ素層を
使用しているので、良好な機械的強度を有する。
【図１】本発明の反射防止フィルムの基本的態様の断面
図である。
図である。
【図２】本発明の反射防止フィルムの別の態様の断面図
（同図（ａ）及び（ｂ））である。
（同図（ａ）及び（ｂ））である。
【図３】従来の反射防止フィルムの別の態様の断面図で
ある。
ある。
１ 基材 ２ 反射防止膜 ３ ハードコート層 ４ 撥水層
フロントページの続き (72)発明者 長瀬 俊郎 東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印 刷株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 基材上に反射防止膜が設けられた反射防
止フィルムであって、当該反射防止膜が基材側から第１
の高屈折率材料層、第１の低屈折率材料層、第２の高屈
折率材料層及び第２の低屈折率材料層が積層された多層
反射防止膜である反射防止フィルムにおいて、第１の低
屈折率材料層が非晶質二酸化ケイ素層であり、第２の低
屈折率材料層が結晶質二酸化ケイ素層であることを特徴
とする反射防止フィルム。 - 【請求項２】 基材と反射防止膜との間に、ハードコー
ト層が更に形成されている請求項１記載の反射防止フィ
ルム。 - 【請求項３】 反射防止膜上に、更に撥水層が形成され
ている請求項１記載の反射防止フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24916896A JP3428614B2 (ja) | 1996-08-31 | 1996-08-31 | 反射防止フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24916896A JP3428614B2 (ja) | 1996-08-31 | 1996-08-31 | 反射防止フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1073701A true JPH1073701A (ja) | 1998-03-17 |
| JP3428614B2 JP3428614B2 (ja) | 2003-07-22 |
Family
ID=17188926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24916896A Expired - Fee Related JP3428614B2 (ja) | 1996-08-31 | 1996-08-31 | 反射防止フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3428614B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008098084A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Toppan Printing Co Ltd | 光学用部品およびその製造方法 |
| JP2010210945A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Seiko Epson Corp | 光学多層フィルムおよびその製造方法 |
-
1996
- 1996-08-31 JP JP24916896A patent/JP3428614B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008098084A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Toppan Printing Co Ltd | 光学用部品およびその製造方法 |
| JP2010210945A (ja) * | 2009-03-10 | 2010-09-24 | Seiko Epson Corp | 光学多層フィルムおよびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3428614B2 (ja) | 2003-07-22 |
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