JPH1072212A - メソポア分子ふるい、およびその製造方法 - Google Patents
メソポア分子ふるい、およびその製造方法Info
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- JPH1072212A JPH1072212A JP12283097A JP12283097A JPH1072212A JP H1072212 A JPH1072212 A JP H1072212A JP 12283097 A JP12283097 A JP 12283097A JP 12283097 A JP12283097 A JP 12283097A JP H1072212 A JPH1072212 A JP H1072212A
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 分子ふるいを形成する金属酸化物骨格の
ケイ素原子に直接結合した炭化水素基を有するメソポア
分子ふるいであって，該炭化水素基の存在量が金属酸化
物１モルあたり０．０１〜０．６モルであるメソポア分
子ふるい、および、テンプレート共存下、次式で示され
るシラン化合物と金属酸化物および／またはその前駆体
より合成することを特徴とするメソポア分子ふるいの製
造方法。 【化１】 【効果】 上記メソポア分子ふるいの製造方法によれ
ば、１段で容易に合成でき、しかも炭化水素基の種類、
量も容易に調節できるので、得られるメソポア分子ふる
いは、酸触媒、酸化触媒等の性能に優れたものである。
ケイ素原子に直接結合した炭化水素基を有するメソポア
分子ふるいであって，該炭化水素基の存在量が金属酸化
物１モルあたり０．０１〜０．６モルであるメソポア分
子ふるい、および、テンプレート共存下、次式で示され
るシラン化合物と金属酸化物および／またはその前駆体
より合成することを特徴とするメソポア分子ふるいの製
造方法。 【化１】 【効果】 上記メソポア分子ふるいの製造方法によれ
ば、１段で容易に合成でき、しかも炭化水素基の種類、
量も容易に調節できるので、得られるメソポア分子ふる
いは、酸触媒、酸化触媒等の性能に優れたものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、メソポア分子ふる
い、およびその製造方法に関する。
い、およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】メソポア分子ふるい（モレキュラシー
ブ）はメソポア領域に均一な細孔径を有する無機多孔体
として触媒、吸着剤等広い用途が期待されている新しい
素材である。これらメソポアモレキュラシーブの合成法
としては米国特許第５０９８６８４号明細書、同第５１
０２６４３号明細書、同第５１０８７２５号明細書、特
表平５−５０３４９９号公報等には長鎖のアルキル基を
有する４級アンモニウム塩あるいはフォスフォニウム塩
をテンプレートとし用い水熱合成により合成する方法が
開示され知られている。
ブ）はメソポア領域に均一な細孔径を有する無機多孔体
として触媒、吸着剤等広い用途が期待されている新しい
素材である。これらメソポアモレキュラシーブの合成法
としては米国特許第５０９８６８４号明細書、同第５１
０２６４３号明細書、同第５１０８７２５号明細書、特
表平５−５０３４９９号公報等には長鎖のアルキル基を
有する４級アンモニウム塩あるいはフォスフォニウム塩
をテンプレートとし用い水熱合成により合成する方法が
開示され知られている。
【０００３】また、特開平４−２３８８１０号公報には
層状シリカより長鎖のアルキルアンモニウムカチオンを
用いイオン交換法により合成する方法が開示されてい
る。また、特開平５−２５４８２７号公報には合成され
たメソポア分子ふるいを後処理として骨格を形成するシ
ラノール基等を利用し、メチル基などを有するシランカ
ップリング剤で処理し、アルキルシリル基を付加し、細
孔径を制御したり、トリメチル基等を有するシリル基を
付加することが開示されている。
層状シリカより長鎖のアルキルアンモニウムカチオンを
用いイオン交換法により合成する方法が開示されてい
る。また、特開平５−２５４８２７号公報には合成され
たメソポア分子ふるいを後処理として骨格を形成するシ
ラノール基等を利用し、メチル基などを有するシランカ
ップリング剤で処理し、アルキルシリル基を付加し、細
孔径を制御したり、トリメチル基等を有するシリル基を
付加することが開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、分子
ふるい骨格を形成するケイ素に直接結合した炭化水素基
を有する新規なメソポア分子ふるい、およびその製造方
法を提供することである。
ふるい骨格を形成するケイ素に直接結合した炭化水素基
を有する新規なメソポア分子ふるい、およびその製造方
法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の第１は、分子ふ
るいを形成する金属酸化物骨格のケイ素原子に直接結合
した炭化水素基を有するメソポア分子ふるいであって、
該炭化水素基の存在量が該金属酸化物１モルあたり０．
０１〜０．６モルであることを特徴とするメソポア分子
ふるいであり、本発明の第２は、テンプレート共存下、
次式で示されるシラン化合物と金属酸化物および／また
はその前駆体より合成することを特徴とする分子ふるい
骨格中のケイ素に炭化水素基が結合したケイ素含有メソ
ポア分子ふるいの製造方法である。
るいを形成する金属酸化物骨格のケイ素原子に直接結合
した炭化水素基を有するメソポア分子ふるいであって、
該炭化水素基の存在量が該金属酸化物１モルあたり０．
０１〜０．６モルであることを特徴とするメソポア分子
ふるいであり、本発明の第２は、テンプレート共存下、
次式で示されるシラン化合物と金属酸化物および／また
はその前駆体より合成することを特徴とする分子ふるい
骨格中のケイ素に炭化水素基が結合したケイ素含有メソ
ポア分子ふるいの製造方法である。
【０００６】
【化３】
【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
メソポア分子ふるいとは、メソポア領域中の１．５−１
０ｎｍに均一な細孔径を有する多孔質体であって、骨格
を形成するケイ素に直接結合した炭化水素基を有するメ
ソポア分子ふるいである。本発明で用いられるシラン化
合物としては、前記の（１）で示されるものであって、
Ｒで示される炭化水素基とは炭素数１〜１６の炭化水素
基、あるいはＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、ハロゲンを含む基で置換
された置換炭化水素基が挙げられる。具体的に、炭化水
素基とは、単素数１〜１６の飽和あるいは不飽和炭化水
素基、またはＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、ハロゲンを含む基で置換
された単素数１〜１６の置換炭化水素基であって、置換
炭化水素基としてはＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐのいずれかのヘテロ
原子を含む複素環を有する炭化水素基および−ＯＨ、−
ＳＨ、−ＯＲ’、−ＳＲ’、−ＣＯＯＲ’、−ＯＣＯ
Ｒ’、−ＮＯ2 、−ＳＯ2 、−ＳＯ3 Ｈ、−ＰＯ（Ｏ
Ｈ ）2 の各基、ハロゲン等で置換された飽和あるいは不
飽和の炭化水素基を挙げることができる。但しＲ’は飽
和あるいは不飽和の炭化水素基を表わす。
メソポア分子ふるいとは、メソポア領域中の１．５−１
０ｎｍに均一な細孔径を有する多孔質体であって、骨格
を形成するケイ素に直接結合した炭化水素基を有するメ
ソポア分子ふるいである。本発明で用いられるシラン化
合物としては、前記の（１）で示されるものであって、
Ｒで示される炭化水素基とは炭素数１〜１６の炭化水素
基、あるいはＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、ハロゲンを含む基で置換
された置換炭化水素基が挙げられる。具体的に、炭化水
素基とは、単素数１〜１６の飽和あるいは不飽和炭化水
素基、またはＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、ハロゲンを含む基で置換
された単素数１〜１６の置換炭化水素基であって、置換
炭化水素基としてはＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐのいずれかのヘテロ
原子を含む複素環を有する炭化水素基および−ＯＨ、−
ＳＨ、−ＯＲ’、−ＳＲ’、−ＣＯＯＲ’、−ＯＣＯ
Ｒ’、−ＮＯ2 、−ＳＯ2 、−ＳＯ3 Ｈ、−ＰＯ（Ｏ
Ｈ ）2 の各基、ハロゲン等で置換された飽和あるいは不
飽和の炭化水素基を挙げることができる。但しＲ’は飽
和あるいは不飽和の炭化水素基を表わす。
【０００８】具体的には、メチル、エチル、プロピル、
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシルの各鎖状アル
キル基、シクロヘキシル、シクロオクチル等の環式炭化
水素基、およびビニル、プロペニル、ブテニル、ペンテ
ニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニ
ル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニ
ル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル
の各不飽和脂肪族炭化水素基、シクロペンテニル、シク
ロペンタジエニル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジ
エニル、シクロオクタジエニル等のシクロオレフィン基
およびシクロ環置換のアルキル基、フェニル、トリル、
キシリル、ナフチル、メチルナフチル等のアリール基お
よび芳香族置換のアルキル基など及びこれらのハロゲン
置換基、例えば、パーフルオロアルキル基、ヒドロフル
オロアルキル基、クロロ置換アルキル基、具体例として
は３−クロロプロピル基、トリフルオロプロピル基、ペ
ンタフルオロブチル基、ヘプタフルオロペンチル基、ヘ
プタデカフルオロテトラヒドロデシル基等を挙げること
ができる。
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシルの各鎖状アル
キル基、シクロヘキシル、シクロオクチル等の環式炭化
水素基、およびビニル、プロペニル、ブテニル、ペンテ
ニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニ
ル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニ
ル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル
の各不飽和脂肪族炭化水素基、シクロペンテニル、シク
ロペンタジエニル、シクロヘキセニル、シクロヘキサジ
エニル、シクロオクタジエニル等のシクロオレフィン基
およびシクロ環置換のアルキル基、フェニル、トリル、
キシリル、ナフチル、メチルナフチル等のアリール基お
よび芳香族置換のアルキル基など及びこれらのハロゲン
置換基、例えば、パーフルオロアルキル基、ヒドロフル
オロアルキル基、クロロ置換アルキル基、具体例として
は３−クロロプロピル基、トリフルオロプロピル基、ペ
ンタフルオロブチル基、ヘプタフルオロペンチル基、ヘ
プタデカフルオロテトラヒドロデシル基等を挙げること
ができる。
【０００９】Ｘで示される置換基は炭素数１〜６のアル
コキシ基、アリーロキシ基、水酸基、ハロゲンから選ば
れたもので同一であっても異なっていても良い。アルコ
キシ基としてはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等のアルコキシ
基、フェノキシ基を挙げることができる。好ましくはメ
トキシ、エトキシ基である。ｎは１から３の整数であっ
て、例えばｎが１の場合はトリアルコキシアルキルシラ
ン、ｎが２の場合はジアルコキシジアルキルシラン、ｎ
が３の場合はモノアルコキシトリアルキルシラン等であ
る。ｎが１の場合はより強固に骨格に組み込まれるので
好ましい。好ましいシラン化合物としては、下記式
（２）で表されるものであって、より具体的な化合物と
しては、モノアルキルトリアルコキシシランまたはモノ
アリールトリアルコキシシランである。
コキシ基、アリーロキシ基、水酸基、ハロゲンから選ば
れたもので同一であっても異なっていても良い。アルコ
キシ基としてはメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブト
キシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等のアルコキシ
基、フェノキシ基を挙げることができる。好ましくはメ
トキシ、エトキシ基である。ｎは１から３の整数であっ
て、例えばｎが１の場合はトリアルコキシアルキルシラ
ン、ｎが２の場合はジアルコキシジアルキルシラン、ｎ
が３の場合はモノアルコキシトリアルキルシラン等であ
る。ｎが１の場合はより強固に骨格に組み込まれるので
好ましい。好ましいシラン化合物としては、下記式
（２）で表されるものであって、より具体的な化合物と
しては、モノアルキルトリアルコキシシランまたはモノ
アリールトリアルコキシシランである。
【００１０】
【化４】
【００１１】メソポア体を合成するテンプレートとして
は公知のメソポア体の合成に用いられる界面活性剤、例
えば、長鎖の４級アンモニウム塩、長鎖のアルキルアミ
ンＮ−オキサイド、長鎖のスルフォン酸塩、ポリエチレ
ングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコー
ル脂肪酸エステル等のいずれであっても良い。本発明で
いう金属酸化物および／またはその前駆体としては、酸
化ケイ素単体あるいは酸化ケイ素と下記に挙げる金属の
酸化物との複合物および／またはその前駆体を意味する
ものとする。
は公知のメソポア体の合成に用いられる界面活性剤、例
えば、長鎖の４級アンモニウム塩、長鎖のアルキルアミ
ンＮ−オキサイド、長鎖のスルフォン酸塩、ポリエチレ
ングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコー
ル脂肪酸エステル等のいずれであっても良い。本発明で
いう金属酸化物および／またはその前駆体としては、酸
化ケイ素単体あるいは酸化ケイ素と下記に挙げる金属の
酸化物との複合物および／またはその前駆体を意味する
ものとする。
【００１２】ケイ素以外の金属種としては、２族のマグ
ネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属元素、亜
鉛、３族のホウ素、アルミニウム、ガリウム、イットリ
ウム、希土類元素、４族のチタン、ジルコニウム、ゲル
マニウム、錫、５族のリン、バナジウム、６族のクロ
ム、モリブデン、タングステン、７族のマンガン、テル
ル、レニウム、８族の鉄、コバルト、ニッケル、ルテニ
ウム、ロジウム、パラジウム、白金等の貴金属元素、等
を挙げることができる。好ましくは、ホウ素、アルミニ
ウム、希土類元素、チタン、バナジニウムを挙げること
ができる。
ネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属元素、亜
鉛、３族のホウ素、アルミニウム、ガリウム、イットリ
ウム、希土類元素、４族のチタン、ジルコニウム、ゲル
マニウム、錫、５族のリン、バナジウム、６族のクロ
ム、モリブデン、タングステン、７族のマンガン、テル
ル、レニウム、８族の鉄、コバルト、ニッケル、ルテニ
ウム、ロジウム、パラジウム、白金等の貴金属元素、等
を挙げることができる。好ましくは、ホウ素、アルミニ
ウム、希土類元素、チタン、バナジニウムを挙げること
ができる。
【００１３】これら金属元素（Ｍ）とケイ素の原子比
（Ｓｉ／Ｍ）としては、通常１０以上が用いられる。そ
の前駆体としては、これら金属の硝酸塩、硫酸塩、塩酸
塩等の無機塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、ナフテン酸塩
等カルボン酸塩、４級アルキルアルモニウム等の有機ア
ンモニウム金属塩、或いはアルコキサイド、水酸化物等
金属化合物が挙げられる。特に金属アルコキサイドが好
都合に用いられる。本発明の合成方法において、溶媒と
して水、アルコール、ジオールの１種以上が通常用いら
れるが水を含んだ水系溶媒が好ましい。
（Ｓｉ／Ｍ）としては、通常１０以上が用いられる。そ
の前駆体としては、これら金属の硝酸塩、硫酸塩、塩酸
塩等の無機塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、ナフテン酸塩
等カルボン酸塩、４級アルキルアルモニウム等の有機ア
ンモニウム金属塩、或いはアルコキサイド、水酸化物等
金属化合物が挙げられる。特に金属アルコキサイドが好
都合に用いられる。本発明の合成方法において、溶媒と
して水、アルコール、ジオールの１種以上が通常用いら
れるが水を含んだ水系溶媒が好ましい。
【００１４】シラン化合物以外のシリカ源としては、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ等からなるテトラアルコ
キシシラン、シリカパウダー、水ガラス、コロイダルシ
リカ等が通常用いられる。更に、公知の方法と同様に細
孔径を変化させるために有機助剤として炭素数６〜２０
の芳香族炭化水素、炭素数５〜２０の脂環式炭化水素、
炭素数３〜１６の脂肪族炭化水素およびこれらのアミン
ならびにハロゲン置換体、例えば、ドデカン、ヘキサデ
カン、シクロドデカン、トリメチルベンゼン、トリエチ
ルベンゼン等を加えることができる。
トキシ、エトキシ、プロポキシ等からなるテトラアルコ
キシシラン、シリカパウダー、水ガラス、コロイダルシ
リカ等が通常用いられる。更に、公知の方法と同様に細
孔径を変化させるために有機助剤として炭素数６〜２０
の芳香族炭化水素、炭素数５〜２０の脂環式炭化水素、
炭素数３〜１６の脂肪族炭化水素およびこれらのアミン
ならびにハロゲン置換体、例えば、ドデカン、ヘキサデ
カン、シクロドデカン、トリメチルベンゼン、トリエチ
ルベンゼン等を加えることができる。
【００１５】これら反応に用いられるシリカ源（前記の
シラン化合物を含む）、他の金属酸化物源、テンプレー
ト、溶媒からなる反応混合物の組成としては、前記のシ
ラン化合物／（金属酸化物および／またはその前駆体）
のモル比が０．０１〜０．６、好ましくは０．０２〜
０．５０、より好ましくは０．０５〜０．４０であり、
ケイ素／金属元素原子比が５以上、好ましくは１０以
上、シリカ／テンプレートのモル比が１〜３０、好まし
くは１〜１０であり、溶媒／テンプレートモル比が１〜
１０００、好ましくは５〜５００の範囲である。
シラン化合物を含む）、他の金属酸化物源、テンプレー
ト、溶媒からなる反応混合物の組成としては、前記のシ
ラン化合物／（金属酸化物および／またはその前駆体）
のモル比が０．０１〜０．６、好ましくは０．０２〜
０．５０、より好ましくは０．０５〜０．４０であり、
ケイ素／金属元素原子比が５以上、好ましくは１０以
上、シリカ／テンプレートのモル比が１〜３０、好まし
くは１〜１０であり、溶媒／テンプレートモル比が１〜
１０００、好ましくは５〜５００の範囲である。
【００１６】金属酸化物及びその前駆体、テンプレート
等において、各々２種以上からなる場合には各々平均モ
ル分子量を用いて表す。本発明方法の合成条件は、反応
温度としては室温（２０℃）〜１８０℃、好ましくは室
温〜１００℃の範囲であり、反応時間としては５〜１０
０時間、好ましくは１０〜５０時間の範囲が用いられ
る。反応生成物は、通常濾過により分離し、充分に水洗
後、乾燥し、次いで含有しているテンプレートをアルコ
ール等の有機溶媒により抽出除去する等の方法で除去
し、炭素ーケイ素結合を有するメソポア分子ふるいを得
ることができる。
等において、各々２種以上からなる場合には各々平均モ
ル分子量を用いて表す。本発明方法の合成条件は、反応
温度としては室温（２０℃）〜１８０℃、好ましくは室
温〜１００℃の範囲であり、反応時間としては５〜１０
０時間、好ましくは１０〜５０時間の範囲が用いられ
る。反応生成物は、通常濾過により分離し、充分に水洗
後、乾燥し、次いで含有しているテンプレートをアルコ
ール等の有機溶媒により抽出除去する等の方法で除去
し、炭素ーケイ素結合を有するメソポア分子ふるいを得
ることができる。
【００１７】本発明方法で合成した炭素ーケイ素結合を
有するメソポア体は必要ならば更に通常用いられる、例
えば、テトラアルコキシシラン、モノアルキルキルトリ
アルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、ト
リアルキルアルコキシシラン等のシランカップリング
剤、或いはアルミニウム、ほう素等のアルコキサイド等
の表面処理剤で処理し、表面を改質したり、細孔径を制
御することができる。本発明のメソポア分子ふるいは、
分子ふるいを形成する金属酸化物骨格のケイ素原子に直
接結合した炭化水素基を有するメソポア分子ふるいであ
って、該炭化水素基が該金属酸化物１モルあたり０．０
１〜０．６モル存在し、下記の如き特徴を有している。
有するメソポア体は必要ならば更に通常用いられる、例
えば、テトラアルコキシシラン、モノアルキルキルトリ
アルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、ト
リアルキルアルコキシシラン等のシランカップリング
剤、或いはアルミニウム、ほう素等のアルコキサイド等
の表面処理剤で処理し、表面を改質したり、細孔径を制
御することができる。本発明のメソポア分子ふるいは、
分子ふるいを形成する金属酸化物骨格のケイ素原子に直
接結合した炭化水素基を有するメソポア分子ふるいであ
って、該炭化水素基が該金属酸化物１モルあたり０．０
１〜０．６モル存在し、下記の如き特徴を有している。
【００１８】すなわち、本発明のメソポア分子ふるい
は、炭化水素基の種類、量を調製することで容易に疎水
性等の制御が可能であるし、炭化水素基を有し、かつ触
媒活性成分等を組み込むことも可能である等の特徴を有
している。本発明のメソポア分子ふるいは触媒、吸着剤
等広い範囲の用途に用いることができる。例えば、酸機
能、酸化還元機能を有する触媒活性成分等をメソポア骨
格に有するもの、あるいはイオン交換法や含浸法で担持
付加したものは疎水性の反応場を有する触媒として有用
であるし、ケイ素に結合した炭化水素基を用い均一触媒
である有機金属錯体等を固定化する触媒担体としての利
用、制御された疎水性の吸着剤として種々の有機化合物
の吸着用、あるいは制御された水分の吸着用、例えば、
調湿材料等に用いることができる。
は、炭化水素基の種類、量を調製することで容易に疎水
性等の制御が可能であるし、炭化水素基を有し、かつ触
媒活性成分等を組み込むことも可能である等の特徴を有
している。本発明のメソポア分子ふるいは触媒、吸着剤
等広い範囲の用途に用いることができる。例えば、酸機
能、酸化還元機能を有する触媒活性成分等をメソポア骨
格に有するもの、あるいはイオン交換法や含浸法で担持
付加したものは疎水性の反応場を有する触媒として有用
であるし、ケイ素に結合した炭化水素基を用い均一触媒
である有機金属錯体等を固定化する触媒担体としての利
用、制御された疎水性の吸着剤として種々の有機化合物
の吸着用、あるいは制御された水分の吸着用、例えば、
調湿材料等に用いることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下に実施例などを挙げて本発明
を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例などによ
り何ら限定されるものではない。実施例中のＸ線回折パ
ターンは理学電機社製ＲＡＤＩＩＩ型を用い、比表面
積、細孔分布測定はカルロエルバ社製ソープトマチック
１８００型装置を用い、窒素を用いたＢＥＴ法並びにＢ
ＪＨ法で求められる微分分布のピーク径を細孔径として
示した。赤外吸収スペクトルは、パーキンエルマー１６
００型分光光度計を用いて測定した。熱分析は、島津製
作所製ＴＧＡ−５０、ＤＴＡ−５０型熱分析装置を用い
て昇温速度１５℃／ｍｉｎで測定した。
を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例などによ
り何ら限定されるものではない。実施例中のＸ線回折パ
ターンは理学電機社製ＲＡＤＩＩＩ型を用い、比表面
積、細孔分布測定はカルロエルバ社製ソープトマチック
１８００型装置を用い、窒素を用いたＢＥＴ法並びにＢ
ＪＨ法で求められる微分分布のピーク径を細孔径として
示した。赤外吸収スペクトルは、パーキンエルマー１６
００型分光光度計を用いて測定した。熱分析は、島津製
作所製ＴＧＡ−５０、ＤＴＡ−５０型熱分析装置を用い
て昇温速度１５℃／ｍｉｎで測定した。
【００２０】（実施例１）５００ｍｌのビーカーを用
い、蒸留水１００ｇにエタノール８０ｇおよびドデシル
アミン１０ｇを添加し、溶解させ、ついで撹拌下にテト
ラエチルオルトシリケート２７．４ｇとメチルトリエト
キシシラン１１．８ｇを添加し、３０分間撹拌するとス
ラリー状になり、これを３０℃下２０時間静置反応させ
た。反応混合物を濾過、水洗後、１１０℃、５時間乾燥
し、白色粉末状生成物１５．５ｇを得た。この乾燥生成
物に含まれるテンプレート（アミン）を除去し、メソポ
ア体を得るため乾燥生成物５ｇをエタノール７５０ｍｌ
に分散させ６０℃下で１時間抽出処理し、濾過する操作
を３回繰り返した。ついでアルコールで洗浄し、１００
℃、３時間乾燥させメチル基を有するシリカメソポア分
子ふるい３．４ｇを得た。この粉末は撥水性を示し、水
に加えると表面に浮かぶ性質を有していた。
い、蒸留水１００ｇにエタノール８０ｇおよびドデシル
アミン１０ｇを添加し、溶解させ、ついで撹拌下にテト
ラエチルオルトシリケート２７．４ｇとメチルトリエト
キシシラン１１．８ｇを添加し、３０分間撹拌するとス
ラリー状になり、これを３０℃下２０時間静置反応させ
た。反応混合物を濾過、水洗後、１１０℃、５時間乾燥
し、白色粉末状生成物１５．５ｇを得た。この乾燥生成
物に含まれるテンプレート（アミン）を除去し、メソポ
ア体を得るため乾燥生成物５ｇをエタノール７５０ｍｌ
に分散させ６０℃下で１時間抽出処理し、濾過する操作
を３回繰り返した。ついでアルコールで洗浄し、１００
℃、３時間乾燥させメチル基を有するシリカメソポア分
子ふるい３．４ｇを得た。この粉末は撥水性を示し、水
に加えると表面に浮かぶ性質を有していた。
【００２１】粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３２．５
オングストロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法
による比表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は
１０００ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．１ｎｍであった。赤外
吸収スペクトルの測定では１２７０ｃｍ-1近辺にＣＨ3
−Ｓｉ基の変角振動に帰属できる吸収ピークが認められ
た。示差熱重量分析（空気中、１５℃／ｍｉｎの昇温速
度で測定）測定での結果は６２０℃近辺に重量減と発熱
ピークが見られた。
オングストロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法
による比表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は
１０００ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．１ｎｍであった。赤外
吸収スペクトルの測定では１２７０ｃｍ-1近辺にＣＨ3
−Ｓｉ基の変角振動に帰属できる吸収ピークが認められ
た。示差熱重量分析（空気中、１５℃／ｍｉｎの昇温速
度で測定）測定での結果は６２０℃近辺に重量減と発熱
ピークが見られた。
【００２２】（実施例２）実施例１同様に、但し、テト
ラエチルオルトシリケートを３３．２ｇに、メチルトリ
エトキシシランを７．２ｇに替えて実施した。実施例１
同様に処理し１７．１ｇの乾燥生成物を得た。この乾燥
試料５ｇを実施例１同様に抽出処理し、メチル基を含有
するシリカメソポア体３．５ｇを得た。抽出試料の粉末
Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３２．８オングストローム
に強いピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、
細孔分布を測定した結果、比表面積は１１００ｍ2 ／
ｇ，細孔径は２．４ｎｍであった。なお、乾燥試料を５
５０℃で仮焼したものは溌水性を示さず粉末Ｘ線回折ピ
ークは、ｄ値＝３１．４オングストロームと縮小傾向を
示し、細孔径も２．１ｎｍと縮小傾向が見られた。
ラエチルオルトシリケートを３３．２ｇに、メチルトリ
エトキシシランを７．２ｇに替えて実施した。実施例１
同様に処理し１７．１ｇの乾燥生成物を得た。この乾燥
試料５ｇを実施例１同様に抽出処理し、メチル基を含有
するシリカメソポア体３．５ｇを得た。抽出試料の粉末
Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３２．８オングストローム
に強いピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、
細孔分布を測定した結果、比表面積は１１００ｍ2 ／
ｇ，細孔径は２．４ｎｍであった。なお、乾燥試料を５
５０℃で仮焼したものは溌水性を示さず粉末Ｘ線回折ピ
ークは、ｄ値＝３１．４オングストロームと縮小傾向を
示し、細孔径も２．１ｎｍと縮小傾向が見られた。
【００２３】（実施例３）実施例１同様に、但し、テト
ラエチルオルトシリケートを３７．３ｇに、メチルトリ
エトキシシランを３．６ｇに替えて実施した。実施例１
同様に処理し、１７．８ｇの乾燥生成物を得た。この乾
燥試料５ｇを実施例１同様に抽出処理しメチル基を含有
するシリカメソポア分子ふるい３．４ｇを得た。抽出試
料の粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３３．５オングス
トロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法による比
表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は１０４０
ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．５ｎｍであった。
ラエチルオルトシリケートを３７．３ｇに、メチルトリ
エトキシシランを３．６ｇに替えて実施した。実施例１
同様に処理し、１７．８ｇの乾燥生成物を得た。この乾
燥試料５ｇを実施例１同様に抽出処理しメチル基を含有
するシリカメソポア分子ふるい３．４ｇを得た。抽出試
料の粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３３．５オングス
トロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法による比
表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は１０４０
ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．５ｎｍであった。
【００２４】（実施例４）実施例１同様に、但し、テン
プレートとしてドデシルアミンに替えてデシルアミン１
０ｇを用いて実施した。実施例１同様に処理し、１６．
４ｇの白色粉末を得た。この白色粉末５ｇを実施例１同
様にテンプレートを除去し３．５ｇのメチル基を含むシ
リカメソポア分子ふるいを得た。粉末Ｘ線回折パターン
は、ｄ値＝２９．６オングストロームに強いピークを示
した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分布を測定し
た結果、比表面積は１０２０ｍ2 ／ｇ、細孔径は１．９
ｎｍであった。
プレートとしてドデシルアミンに替えてデシルアミン１
０ｇを用いて実施した。実施例１同様に処理し、１６．
４ｇの白色粉末を得た。この白色粉末５ｇを実施例１同
様にテンプレートを除去し３．５ｇのメチル基を含むシ
リカメソポア分子ふるいを得た。粉末Ｘ線回折パターン
は、ｄ値＝２９．６オングストロームに強いピークを示
した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分布を測定し
た結果、比表面積は１０２０ｍ2 ／ｇ、細孔径は１．９
ｎｍであった。
【００２５】（実施例５）実施例１同様に、但し、テン
プレートとしてドデシルアミンに替えてテトラデシルア
ミン１１．６ｇを用いて実施した。実施例１同様に処理
し、１５．０ｇの白色粉末を得た。この白色粉末５ｇを
実施例１同様にテンプレートを除去し、３．８ｇのメチ
ル基を含むシリカメソポア分子ふるいを得た。粉末Ｘ線
回折パターンは、ｄ値＝３４．０オングストロームに強
いピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔
分布を測定した結果、比表面積は９７０ｍ2 ／ｇ、細孔
径は２．１ｎｍであった。
プレートとしてドデシルアミンに替えてテトラデシルア
ミン１１．６ｇを用いて実施した。実施例１同様に処理
し、１５．０ｇの白色粉末を得た。この白色粉末５ｇを
実施例１同様にテンプレートを除去し、３．８ｇのメチ
ル基を含むシリカメソポア分子ふるいを得た。粉末Ｘ線
回折パターンは、ｄ値＝３４．０オングストロームに強
いピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔
分布を測定した結果、比表面積は９７０ｍ2 ／ｇ、細孔
径は２．１ｎｍであった。
【００２６】（実施例６）実施例１同様に、但し、テン
プレートとしてドデシルアミンに替えてヘキサデシルア
ミン１３．０ｇを用い、エタノールを９０ｍｌに替えて
実施した。実施例１同様に処理し、１７．１ｇの白色粉
末を得た。この白色粉末５ｇを実施例１同様にテンプレ
ートを除去し３．３ｇのメチル基を含むシリカメソポア
分子ふるいを得た。粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３
６．７オングストロームに強いピークを示した。窒素吸
脱着法による比表面積、細孔分布を測定した結果、比表
面積は９８０ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．３ｎｍであった。
プレートとしてドデシルアミンに替えてヘキサデシルア
ミン１３．０ｇを用い、エタノールを９０ｍｌに替えて
実施した。実施例１同様に処理し、１７．１ｇの白色粉
末を得た。この白色粉末５ｇを実施例１同様にテンプレ
ートを除去し３．３ｇのメチル基を含むシリカメソポア
分子ふるいを得た。粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３
６．７オングストロームに強いピークを示した。窒素吸
脱着法による比表面積、細孔分布を測定した結果、比表
面積は９８０ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．３ｎｍであった。
【００２７】（実施例７）実施例２同様に、但し、メチ
ルトリエトキシシランに替えてエチルトリエトキシシラ
ン７．６ｇを用いて実施し、１７．５ｇの乾燥試料を得
た。その１０ｇを実施例２同様に抽出処理し、６．７ｇ
の白色粉末を得た。この粉末は溌水性を示し、水に懸濁
すると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ線回折パ
ターンは、ｄ値＝３２．９オングストロームに強いピー
クを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分布を
測定した結果、比表面積は１０５０ｍ2 ／ｇ、細孔径は
２．２ｎｍであった。
ルトリエトキシシランに替えてエチルトリエトキシシラ
ン７．６ｇを用いて実施し、１７．５ｇの乾燥試料を得
た。その１０ｇを実施例２同様に抽出処理し、６．７ｇ
の白色粉末を得た。この粉末は溌水性を示し、水に懸濁
すると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ線回折パ
ターンは、ｄ値＝３２．９オングストロームに強いピー
クを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分布を
測定した結果、比表面積は１０５０ｍ2 ／ｇ、細孔径は
２．２ｎｍであった。
【００２８】（実施例８）実施例２同様に、但し、メチ
ルトリエトキシシランに替えてｎーオクチルトリエトキ
シシラン９．６ｇを用いて実施し、２０．６ｇの乾燥試
料を得た。その１０ｇを実施例２同様に抽出処理し、
６．２ｇの白色粉末を得た。この粉末は溌水性を示し、
水に加えると水表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ
線回折パターンは、ｄ値＝３５．３オングストロームに
強いピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細
孔分布を測定した結果、比表面積は９９０ｍ2 ／ｇ、細
孔径は２．２ｎｍであった。
ルトリエトキシシランに替えてｎーオクチルトリエトキ
シシラン９．６ｇを用いて実施し、２０．６ｇの乾燥試
料を得た。その１０ｇを実施例２同様に抽出処理し、
６．２ｇの白色粉末を得た。この粉末は溌水性を示し、
水に加えると水表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ
線回折パターンは、ｄ値＝３５．３オングストロームに
強いピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細
孔分布を測定した結果、比表面積は９９０ｍ2 ／ｇ、細
孔径は２．２ｎｍであった。
【００２９】（実施例９）実施例２同様に、但し、メチ
ルトリエトキシシランに替えてフェニルトリエトキシシ
ラン９．６ｇを用いて実施し、１９．２ｇの乾燥試料を
得た。その１０ｇを実施例２同様に抽出処理し、６．５
ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥水性を示し水に加え
ると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ線回折パタ
ーンは、ｄ値＝３２．５オングストロームに強いピーク
を示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分布を測
定した結果、比表面積は１０００ｍ2 ／ｇ、細孔径は
２．２ｎｍであった。赤外吸収スペクトルの測定結果で
は、１４３０ｃｍ-1および１１３０ｃｍ-1近辺にフェニ
ルーケイ素結合に起因する吸収ピークが認められた。
ルトリエトキシシランに替えてフェニルトリエトキシシ
ラン９．６ｇを用いて実施し、１９．２ｇの乾燥試料を
得た。その１０ｇを実施例２同様に抽出処理し、６．５
ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥水性を示し水に加え
ると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ線回折パタ
ーンは、ｄ値＝３２．５オングストロームに強いピーク
を示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分布を測
定した結果、比表面積は１０００ｍ2 ／ｇ、細孔径は
２．２ｎｍであった。赤外吸収スペクトルの測定結果で
は、１４３０ｃｍ-1および１１３０ｃｍ-1近辺にフェニ
ルーケイ素結合に起因する吸収ピークが認められた。
【００３０】（実施例１０）実施例２同様に、但し、１
０００ｍｌのビーカーを用いて蒸留水３００ｇにエタノ
ール２４０ｇおよびドデシルアミン３０ｇを添加、溶解
させ、次いで撹拌下にテトラエチルオルトシリケート９
９．６ｇとメチルトリエトキシシラン２１．６ｇを添加
し、次いでアルミニウムイソプロポキシド８．２ｇを添
加し、約３０分間撹拌するとスラリー状になり、これを
３０℃下、２２時間静置反応させた。反応生成混合物を
濾過、水洗後、１１０℃、５時間乾燥し、白色粉末状生
成物５８ｇを得た。この乾燥生成物に含まれるテンプレ
ート（アミン）を除去し、メソポア体を得るため乾燥生
成物５ｇを塩酸酸性のエタノール７５０ｍｌ（ＨＣｌ
０．１ｍｏｌ／ｌ溶液）に分散させ６０℃下で１時間抽
出処理し、濾過する操作を更に２回繰り返した。次いで
アルコールで洗浄し、１００℃、３時間乾燥させメチル
基を有するシリカ・アルミナメソポア分子ふるい３．１
ｇを得た。この粉末は撥水性を示し、水に加えると表面
に浮かぶ性質を有していた。
０００ｍｌのビーカーを用いて蒸留水３００ｇにエタノ
ール２４０ｇおよびドデシルアミン３０ｇを添加、溶解
させ、次いで撹拌下にテトラエチルオルトシリケート９
９．６ｇとメチルトリエトキシシラン２１．６ｇを添加
し、次いでアルミニウムイソプロポキシド８．２ｇを添
加し、約３０分間撹拌するとスラリー状になり、これを
３０℃下、２２時間静置反応させた。反応生成混合物を
濾過、水洗後、１１０℃、５時間乾燥し、白色粉末状生
成物５８ｇを得た。この乾燥生成物に含まれるテンプレ
ート（アミン）を除去し、メソポア体を得るため乾燥生
成物５ｇを塩酸酸性のエタノール７５０ｍｌ（ＨＣｌ
０．１ｍｏｌ／ｌ溶液）に分散させ６０℃下で１時間抽
出処理し、濾過する操作を更に２回繰り返した。次いで
アルコールで洗浄し、１００℃、３時間乾燥させメチル
基を有するシリカ・アルミナメソポア分子ふるい３．１
ｇを得た。この粉末は撥水性を示し、水に加えると表面
に浮かぶ性質を有していた。
【００３１】粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３３．０
オングストロームに強いピークを示した。蛍光Ｘ線分光
分析法によるケイ素／アルミニウム原子比は１４であっ
た。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分布を測定した
結果、比表面積は９２０ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．２ｎｍ
であった。
オングストロームに強いピークを示した。蛍光Ｘ線分光
分析法によるケイ素／アルミニウム原子比は１４であっ
た。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分布を測定した
結果、比表面積は９２０ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．２ｎｍ
であった。
【００３２】（実施例１１）実施例１０同様に、但し、
アルミニウムイソポロポキシドに替えてテトラエチルオ
ルトチタネート２．２８ｇを用いて実施した。実施例２
同様に処理し、乾燥白色粉末５５．６ｇを得た。その白
色粉末５ｇを実施例２同様に抽出処理し３．４ｇのメソ
ポア分子ふるいを得た。この粉末は撥水性を示し、水に
加えると表面に浮かぶ性質を示した。粉末Ｘ線回折パタ
ーンは、ｄ値＝３２．５オングストロームに強いピーク
を示した。蛍光Ｘ線分光分析法によるケイ素／チタニウ
ム原子比は６５であった。窒素吸脱着法による比表面
積、細孔分布を測定した結果、比表面積は１１００ｍ2
／ｇ、細孔径は２．２ｎｍであった。
アルミニウムイソポロポキシドに替えてテトラエチルオ
ルトチタネート２．２８ｇを用いて実施した。実施例２
同様に処理し、乾燥白色粉末５５．６ｇを得た。その白
色粉末５ｇを実施例２同様に抽出処理し３．４ｇのメソ
ポア分子ふるいを得た。この粉末は撥水性を示し、水に
加えると表面に浮かぶ性質を示した。粉末Ｘ線回折パタ
ーンは、ｄ値＝３２．５オングストロームに強いピーク
を示した。蛍光Ｘ線分光分析法によるケイ素／チタニウ
ム原子比は６５であった。窒素吸脱着法による比表面
積、細孔分布を測定した結果、比表面積は１１００ｍ2
／ｇ、細孔径は２．２ｎｍであった。
【００３３】（実施例１２）実施例２同様に、但し、メ
チルトリエトキシシランに替えて３−トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン８．４ｇを用いて実施し、１
９．ｇの乾燥試料を得た。その１０ｇを実施例２同様に
抽出処理し、６．５ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥
水性を示し水に加えると表面に浮かぶ性質を有してい
た。粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３２．１オングス
トロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法による比
表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は１１００
ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．３ｎｍであった。赤外吸収スペ
クトルの測定結果では１３２０ｃｍ-1、１２６９ｃｍ-1
および１２１８ｃｍ-1近辺にＣＦ3 基に起因する吸収ピ
ークが認められた。
チルトリエトキシシランに替えて３−トリフルオロプロ
ピルトリメトキシシラン８．４ｇを用いて実施し、１
９．ｇの乾燥試料を得た。その１０ｇを実施例２同様に
抽出処理し、６．５ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥
水性を示し水に加えると表面に浮かぶ性質を有してい
た。粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３２．１オングス
トロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法による比
表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は１１００
ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．３ｎｍであった。赤外吸収スペ
クトルの測定結果では１３２０ｃｍ-1、１２６９ｃｍ-1
および１２１８ｃｍ-1近辺にＣＦ3 基に起因する吸収ピ
ークが認められた。
【００３４】（実施例１３）実施例２同様に、但し、メ
チルトリエトキシシランに替えて３−クロロプロピルト
リエトキシシラン９．６ｇを用いて実施し、２０ｇの乾
燥試料を得た。その１０ｇを実施例２同様に抽出処理
し、７ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥水性を示し水
に加えると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ線回
折パターンは、ｄ値＝３４．６オングストロームに強い
ピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分
布を測定した結果、比表面積は９００ｍ2 ／ｇ、細孔径
は２．３ｎｍであった。
チルトリエトキシシランに替えて３−クロロプロピルト
リエトキシシラン９．６ｇを用いて実施し、２０ｇの乾
燥試料を得た。その１０ｇを実施例２同様に抽出処理
し、７ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥水性を示し水
に加えると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ線回
折パターンは、ｄ値＝３４．６オングストロームに強い
ピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分
布を測定した結果、比表面積は９００ｍ2 ／ｇ、細孔径
は２．３ｎｍであった。
【００３５】（実施例１４）実施例２同様に、但し、テ
トラエチルオルトシリケート３８ｇとメチルトリエトキ
シシランに替えて３−シクロペンタジエニルプロピルト
リエトキシシラン（ダイマー）５．４ｇを用いて実施
し、１８ｇの乾燥試料を得た。その１０ｇを実施例１同
様にアルコール抽出処理し、６．９ｇの白色粉末を得
た。この粉末は撥水性を示し水に加えると表面に浮かぶ
性質を有していた。粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３
３オングストロームに強いピークを示した。窒素吸脱着
法による比表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積
は８５０ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．０ｎｍであった。
トラエチルオルトシリケート３８ｇとメチルトリエトキ
シシランに替えて３−シクロペンタジエニルプロピルト
リエトキシシラン（ダイマー）５．４ｇを用いて実施
し、１８ｇの乾燥試料を得た。その１０ｇを実施例１同
様にアルコール抽出処理し、６．９ｇの白色粉末を得
た。この粉末は撥水性を示し水に加えると表面に浮かぶ
性質を有していた。粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３
３オングストロームに強いピークを示した。窒素吸脱着
法による比表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積
は８５０ｍ2 ／ｇ、細孔径は２．０ｎｍであった。
【００３６】（実施例１５）実施例２同様に、但し、メ
チルトリエトキシシランに替えてドデシルトリエトキシ
シラン１２ｇを用いて実施し、２１ｇの乾燥試料を得
た。その１０ｇを実施例１同様にアルコール抽出処理
し、７．２ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥水性を示
し水に加えると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ
線回折パターンは、ｄ値＝３９オングストロームに強い
ピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分
布を測定した結果、比表面積は８３０ｍ2 ／ｇ、細孔径
は２．６ｎｍであった。
チルトリエトキシシランに替えてドデシルトリエトキシ
シラン１２ｇを用いて実施し、２１ｇの乾燥試料を得
た。その１０ｇを実施例１同様にアルコール抽出処理
し、７．２ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥水性を示
し水に加えると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ
線回折パターンは、ｄ値＝３９オングストロームに強い
ピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分
布を測定した結果、比表面積は８３０ｍ2 ／ｇ、細孔径
は２．６ｎｍであった。
【００３７】（実施例１６）実施例２同様に、但し、ド
デシルアミンとともにｎ−ドデカンを６ｇ添加し同様に
合成しメチル基を有するシリカメソポア分子ふるいの乾
燥試料１８ｇを得た。その１０ｇを実施例１同様にアル
コール抽出処理し、６．２ｇの白色粉末を得た。この粉
末は撥水性を示し水に加えると表面に浮かぶ性質を有し
ていた。粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３６オングス
トロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法による比
表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は８６０ｍ
2 ／ｇ、細孔径は３ｎｍであった。
デシルアミンとともにｎ−ドデカンを６ｇ添加し同様に
合成しメチル基を有するシリカメソポア分子ふるいの乾
燥試料１８ｇを得た。その１０ｇを実施例１同様にアル
コール抽出処理し、６．２ｇの白色粉末を得た。この粉
末は撥水性を示し水に加えると表面に浮かぶ性質を有し
ていた。粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３６オングス
トロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法による比
表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は８６０ｍ
2 ／ｇ、細孔径は３ｎｍであった。
【００３８】（実施例１７）実施例２同様に、但し、メ
チルトリエトキシシランに替えてジメチルジエトキシシ
ラン５．９ｇを用い同様に合成しメチル基を有するシリ
カメソポア分子ふるいの乾燥試料１５ｇを得た。その乾
燥試料１０ｇを実施例１同様にアルコール抽出処理し、
７．２ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥水性を示し水
に加えると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ線回
折パターンは、ｄ値＝３２．６オングストロームに強い
ピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分
布を測定した結果、比表面積は１０６０ｍ2 ／ｇ、細孔
容積は０．７６ｃｃ／ｇ、細孔径は２．３ｎｍであっ
た。赤外吸収スペクトルでは１２６５ｃｍ-1近辺にＳｉ
−ＣＨ3 基に起因する吸収ピークが観測された。
チルトリエトキシシランに替えてジメチルジエトキシシ
ラン５．９ｇを用い同様に合成しメチル基を有するシリ
カメソポア分子ふるいの乾燥試料１５ｇを得た。その乾
燥試料１０ｇを実施例１同様にアルコール抽出処理し、
７．２ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥水性を示し水
に加えると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ線回
折パターンは、ｄ値＝３２．６オングストロームに強い
ピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分
布を測定した結果、比表面積は１０６０ｍ2 ／ｇ、細孔
容積は０．７６ｃｃ／ｇ、細孔径は２．３ｎｍであっ
た。赤外吸収スペクトルでは１２６５ｃｍ-1近辺にＳｉ
−ＣＨ3 基に起因する吸収ピークが観測された。
【００３９】（実施例１８）実施例２同様に、但し、メ
チルトリエトキシシランに替えてトリメチルエトキシシ
ラン９．４ｇを用い同様に合成しメチル基を有するシリ
カメソポア分子ふるいの乾燥試料１５ｇを得た。その乾
燥試料１０ｇを実施例１同様にアルコール抽出処理し、
６．９ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥水性を示し水
に加えると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ線回
折パターンは、ｄ値＝３３．４オングストロームに強い
ピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分
布を測定した結果、比表面積は９００ｍ2 ／ｇ、細孔容
積は０．６５ｃｃ／ｇ、細孔径は２．２ｎｍであった。
赤外吸収スペクトルでは１２５５ｃｍ-1近辺にＳｉ−Ｃ
Ｈ3 基に起因する吸収ピークが観測された。
チルトリエトキシシランに替えてトリメチルエトキシシ
ラン９．４ｇを用い同様に合成しメチル基を有するシリ
カメソポア分子ふるいの乾燥試料１５ｇを得た。その乾
燥試料１０ｇを実施例１同様にアルコール抽出処理し、
６．９ｇの白色粉末を得た。この粉末は撥水性を示し水
に加えると表面に浮かぶ性質を有していた。粉末Ｘ線回
折パターンは、ｄ値＝３３．４オングストロームに強い
ピークを示した。窒素吸脱着法による比表面積、細孔分
布を測定した結果、比表面積は９００ｍ2 ／ｇ、細孔容
積は０．６５ｃｃ／ｇ、細孔径は２．２ｎｍであった。
赤外吸収スペクトルでは１２５５ｃｍ-1近辺にＳｉ−Ｃ
Ｈ3 基に起因する吸収ピークが観測された。
【００４０】（実施例１９）実施例２同様に、但し、メ
チルトリエトキシシランに替えてオクチルジメチルクロ
ロシラン１６．５ｇを用い同様に但し、アンモニア水を
添加し、ＰＨを１０に調整し合成しオクチルジメチルシ
リル基を有するシリカメソポア分子ふるいの乾燥試料１
４．５ｇを得た。その乾燥試料１０ｇを実施例１同様に
アルコール抽出処理し、７．９ｇの白色粉末を得た。こ
の粉末は撥水性を示し水に加えると表面に浮かぶ性質を
有していた。粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝４１．９
オングストロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法
による比表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は
８００ｍ2 ／ｇ、細孔容積は０．７６ｃｃ／ｇ、細孔径
は２．４ｎｍであった。赤外吸収スペクトルでは１２５
７ｃｍ-1近辺にＳｉ−ＣＨ3 基に起因する吸収ピークが
観測された。
チルトリエトキシシランに替えてオクチルジメチルクロ
ロシラン１６．５ｇを用い同様に但し、アンモニア水を
添加し、ＰＨを１０に調整し合成しオクチルジメチルシ
リル基を有するシリカメソポア分子ふるいの乾燥試料１
４．５ｇを得た。その乾燥試料１０ｇを実施例１同様に
アルコール抽出処理し、７．９ｇの白色粉末を得た。こ
の粉末は撥水性を示し水に加えると表面に浮かぶ性質を
有していた。粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝４１．９
オングストロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法
による比表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は
８００ｍ2 ／ｇ、細孔容積は０．７６ｃｃ／ｇ、細孔径
は２．４ｎｍであった。赤外吸収スペクトルでは１２５
７ｃｍ-1近辺にＳｉ−ＣＨ3 基に起因する吸収ピークが
観測された。
【００４１】（実施例２０）５００ｍｌのビーカーを用
い、蒸留水３００ｇにポリオキシエチレン（１０）オク
チルフェニルエーテル４．８ｇを添加、溶解させ、つい
で撹拌下にテトラエチルオルトシリケート７．３ｇとテ
トラメチルオルトシリケート１２ｇとメチルトリエトキ
シシラン６，５ｇを添加し、スターラーで撹拌下に室温
で２．５日反応させる。反応混合物を濾過、水洗後、１
１０℃で５時間乾燥し、白色粉末状生成物１２．４ｇを
得た。この乾燥生成物に含まれるテンプレート（アミ
ン）を除去し、メソポア体を得るため乾燥生成物５ｇを
エタノール７５０ｍｌに分散させ６０℃下で１時間抽出
処理し、濾過する操作を３回繰り返した。ついでアルコ
ールで洗浄し、１００℃で３時間乾燥させメチル基を有
するシリカメソポア分子ふるい３．２ｇを得た。この粉
末は撥水性を示し、水に加えると表面に浮かぶ性質を有
していた。
い、蒸留水３００ｇにポリオキシエチレン（１０）オク
チルフェニルエーテル４．８ｇを添加、溶解させ、つい
で撹拌下にテトラエチルオルトシリケート７．３ｇとテ
トラメチルオルトシリケート１２ｇとメチルトリエトキ
シシラン６，５ｇを添加し、スターラーで撹拌下に室温
で２．５日反応させる。反応混合物を濾過、水洗後、１
１０℃で５時間乾燥し、白色粉末状生成物１２．４ｇを
得た。この乾燥生成物に含まれるテンプレート（アミ
ン）を除去し、メソポア体を得るため乾燥生成物５ｇを
エタノール７５０ｍｌに分散させ６０℃下で１時間抽出
処理し、濾過する操作を３回繰り返した。ついでアルコ
ールで洗浄し、１００℃で３時間乾燥させメチル基を有
するシリカメソポア分子ふるい３．２ｇを得た。この粉
末は撥水性を示し、水に加えると表面に浮かぶ性質を有
していた。
【００４２】窒素吸脱着法による比表面積、細孔分布を
測定した結果、比表面積は８８０ｍ2 ／ｇ、細孔径は
２．５ｎｍであった。赤外吸収スペクトルの測定では１
２８０ｃｍ-1近辺にＣＨ3 −Ｓｉ基の変角振動に帰属で
きる吸収ピークが認められた。示差熱重量分析（空気
中、１５℃／ｍｉｎの昇温速度で測定）測定の結果では
６４０℃近辺に重量減と発熱ピークが見られた。
測定した結果、比表面積は８８０ｍ2 ／ｇ、細孔径は
２．５ｎｍであった。赤外吸収スペクトルの測定では１
２８０ｃｍ-1近辺にＣＨ3 −Ｓｉ基の変角振動に帰属で
きる吸収ピークが認められた。示差熱重量分析（空気
中、１５℃／ｍｉｎの昇温速度で測定）測定の結果では
６４０℃近辺に重量減と発熱ピークが見られた。
【００４３】（比較例１）実施例１同様に、但し、テト
ラエチルオルトシリケート４１．６ｇとしメチルトリエ
トキシシラン無添加で反応させた。反応混合物を濾過、
水洗後１１０℃、５時間乾燥し、白色粉末状生成物１
８．７ｇを得た。この乾燥生成物に含まれるテンプレー
ト（アミン）を除去し、メソポア体を得るため乾燥生成
物１０ｇをエタノール１５００ｍｌに分散させ６０℃下
で１時間抽出処理し、濾過する操作を更に２回繰り返し
た。次いでアルコールで洗浄し、１００℃、３時間乾燥
させシリカメソポア分子ふるい６．５ｇを得た。この粉
末は撥水性を示さず水に加えると沈む性質を有してい
た。
ラエチルオルトシリケート４１．６ｇとしメチルトリエ
トキシシラン無添加で反応させた。反応混合物を濾過、
水洗後１１０℃、５時間乾燥し、白色粉末状生成物１
８．７ｇを得た。この乾燥生成物に含まれるテンプレー
ト（アミン）を除去し、メソポア体を得るため乾燥生成
物１０ｇをエタノール１５００ｍｌに分散させ６０℃下
で１時間抽出処理し、濾過する操作を更に２回繰り返し
た。次いでアルコールで洗浄し、１００℃、３時間乾燥
させシリカメソポア分子ふるい６．５ｇを得た。この粉
末は撥水性を示さず水に加えると沈む性質を有してい
た。
【００４４】粉末Ｘ線回折パターンは、ｄ値＝３６．２
オングストロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法
による比表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は
１０００ｍ2 ／ｇ、細孔径は３．１ｎｍであった。赤外
吸収スペクトルを測定した結果では、ＣＨ3 −Ｓｉ基の
変角振動に帰属できる吸収ピークは認められなかった。
示差熱分析（空気中、１５℃／ｍｉｎの昇温速度で測
定）測定結果４００℃以上に発熱ピークは見られなかっ
た。
オングストロームに強いピークを示した。窒素吸脱着法
による比表面積、細孔分布を測定した結果、比表面積は
１０００ｍ2 ／ｇ、細孔径は３．１ｎｍであった。赤外
吸収スペクトルを測定した結果では、ＣＨ3 −Ｓｉ基の
変角振動に帰属できる吸収ピークは認められなかった。
示差熱分析（空気中、１５℃／ｍｉｎの昇温速度で測
定）測定結果４００℃以上に発熱ピークは見られなかっ
た。
【００４５】（比較例２）比較例１で合成した乾燥粉末
中に含まれるテンプレート（アミン）を除去し、メソポ
ア体を得るため乾燥生成物１０ｇを空気中で２５０℃下
で２時間、次いで５５０℃下で３時間仮焼し、６．３ｇ
を得た。このシリカメソポア体２ｇを通常用いられるア
ルキルシリル化剤であるトリメチルシリルクロライド２
０ｇとヘキサメチルジシロキサン３０ｇ中に分散し、撹
拌下、還流条件で２０時間処理した。次いで濾過、アセ
トン洗浄し、乾燥した。処理サンプルは撥水性を示し
た。示差熱分析（空気中、１５℃／ｍｉｎの昇温速度で
測定）測定の結果では、４５０℃に発熱ピークが見られ
た。
中に含まれるテンプレート（アミン）を除去し、メソポ
ア体を得るため乾燥生成物１０ｇを空気中で２５０℃下
で２時間、次いで５５０℃下で３時間仮焼し、６．３ｇ
を得た。このシリカメソポア体２ｇを通常用いられるア
ルキルシリル化剤であるトリメチルシリルクロライド２
０ｇとヘキサメチルジシロキサン３０ｇ中に分散し、撹
拌下、還流条件で２０時間処理した。次いで濾過、アセ
トン洗浄し、乾燥した。処理サンプルは撥水性を示し
た。示差熱分析（空気中、１５℃／ｍｉｎの昇温速度で
測定）測定の結果では、４５０℃に発熱ピークが見られ
た。
【００４６】（比較例３）比較例１で合成した乾燥粉末
中に含まれるテンプレート（アミン）を除去し、メソポ
ア体を得るため乾燥生成物１０ｇを空気中で２５０℃下
で２時間、次いで５５０℃下で３時間仮焼し、６．３ｇ
を得た。このシリカメソポア体２ｇを石英製反応管に充
填し、１５０℃に昇温し、窒素を１００ｃｃ／ｍｉｎお
よびメチルトリメトキシシランとベンゼンの当容量溶液
を１０ｃｃ／ｈの速度で２時間供給した。溶液供給終了
後も同一温度で窒素のみを１時間流し、冷却し、処理試
料を取り出した。示差熱重量分析（空気中、１５℃／ｍ
ｉｎの昇温速度で測定）測定では５２０℃近辺に発熱ピ
ークが見られ重量減を示した。
中に含まれるテンプレート（アミン）を除去し、メソポ
ア体を得るため乾燥生成物１０ｇを空気中で２５０℃下
で２時間、次いで５５０℃下で３時間仮焼し、６．３ｇ
を得た。このシリカメソポア体２ｇを石英製反応管に充
填し、１５０℃に昇温し、窒素を１００ｃｃ／ｍｉｎお
よびメチルトリメトキシシランとベンゼンの当容量溶液
を１０ｃｃ／ｈの速度で２時間供給した。溶液供給終了
後も同一温度で窒素のみを１時間流し、冷却し、処理試
料を取り出した。示差熱重量分析（空気中、１５℃／ｍ
ｉｎの昇温速度で測定）測定では５２０℃近辺に発熱ピ
ークが見られ重量減を示した。
【００４７】（比較例４）実施例１０同様に、但しメチ
ルトリエトキシシランを添加することなく、テトラエチ
ルオルトシリケートを１２３ｇとしてシリカ・アルミナ
メソポア体を得た。合成した乾燥粉末中に含まれるテン
プレート（アミン）を除去し、メソポア体を得るため乾
燥生成物１０ｇを空気中で２５０℃下で２時間、次いで
５５０℃下で３時間仮焼し、６．４ｇを得た。次いでこ
のシリカ・アルミナメソポア体５ｇをメチルトリエトキ
シシラン３．６ｇのトルエン５０ｍｌ溶液に加え１００
℃下で９時間シリル化処理し、次いでろ過、アセトンで
充分に洗浄し、次いで真空乾燥（１５０℃、１ｍｍＨ
ｇ、３ｈ）し、５．６ｇの処理試料を得た。
ルトリエトキシシランを添加することなく、テトラエチ
ルオルトシリケートを１２３ｇとしてシリカ・アルミナ
メソポア体を得た。合成した乾燥粉末中に含まれるテン
プレート（アミン）を除去し、メソポア体を得るため乾
燥生成物１０ｇを空気中で２５０℃下で２時間、次いで
５５０℃下で３時間仮焼し、６．４ｇを得た。次いでこ
のシリカ・アルミナメソポア体５ｇをメチルトリエトキ
シシラン３．６ｇのトルエン５０ｍｌ溶液に加え１００
℃下で９時間シリル化処理し、次いでろ過、アセトンで
充分に洗浄し、次いで真空乾燥（１５０℃、１ｍｍＨ
ｇ、３ｈ）し、５．６ｇの処理試料を得た。
【００４８】メチルシリル化前後で窒素吸脱着法による
比表面積細孔容積、細孔分布を測定した結果、比表面積
は９００ｍ2 ／ｇから７００ｍ2 ／ｇに、細孔容積は
０．７から０．５ｃｃ／ｇに、細孔径は３ｎｍから２．
５ｎｍに減少を示した。また試料をベンゼンに分散させ
０．１規定ｎ−ブチルアミンベンゼン溶液によるジメチ
ルイエロー指示薬（ｐＫａ＝＋３．３）とした滴定によ
って求めた酸量は０．３４ｍｍｏｌ／ｇから０．１４ｍ
ｍｏｌ／ｇと大幅に低下することが確認された。一方実
施例１０で合成した試料について同様求めた酸量は０．
３３ｍｍｏｌ／ｇと本願発明方法によるものは高い値を
有することが判る。
比表面積細孔容積、細孔分布を測定した結果、比表面積
は９００ｍ2 ／ｇから７００ｍ2 ／ｇに、細孔容積は
０．７から０．５ｃｃ／ｇに、細孔径は３ｎｍから２．
５ｎｍに減少を示した。また試料をベンゼンに分散させ
０．１規定ｎ−ブチルアミンベンゼン溶液によるジメチ
ルイエロー指示薬（ｐＫａ＝＋３．３）とした滴定によ
って求めた酸量は０．３４ｍｍｏｌ／ｇから０．１４ｍ
ｍｏｌ／ｇと大幅に低下することが確認された。一方実
施例１０で合成した試料について同様求めた酸量は０．
３３ｍｍｏｌ／ｇと本願発明方法によるものは高い値を
有することが判る。
【００４９】示差熱重量分析（空気中、１０℃／ｍｉｎ
の昇温速度で測定）測定では５２０℃近辺に発熱ピーク
が見られ重量減を示すが、実施例１０で合成したものは
より高い５７０℃に発熱ピークが見られている。また、
上記のメチルシリル化処理サンプルを６００℃で仮焼
し、メチル基を焼成除去すると細孔径は２．５ｎｍから
２．６ｎｍと増加傾向を示した。一方、実施例１０で合
成したものは同様処理で２．２ｎｍから２．０ｎｍと減
少傾向を示し、異なった挙動を示した。
の昇温速度で測定）測定では５２０℃近辺に発熱ピーク
が見られ重量減を示すが、実施例１０で合成したものは
より高い５７０℃に発熱ピークが見られている。また、
上記のメチルシリル化処理サンプルを６００℃で仮焼
し、メチル基を焼成除去すると細孔径は２．５ｎｍから
２．６ｎｍと増加傾向を示した。一方、実施例１０で合
成したものは同様処理で２．２ｎｍから２．０ｎｍと減
少傾向を示し、異なった挙動を示した。
【００５０】（比較例５）比較例４同様に合成したシリ
カ・アルミナメソポア体を実施例１０同様の方法で塩酸
酸性のアルコール溶媒を用いテンプレート（ドデシルア
ミン）を除去した。この試料を比較例２同様の方法でト
リメチルシリル化処理し、ろ過、アセトンで充分に洗浄
し、次いで真空乾燥（１５０℃、１ｍｍＨｇ、３時間）
した。メチルシリル化前後で窒素吸脱着法による比表面
積細孔容積、細孔分布を測定した結果、比表面積は９６
０ｍ2 ／ｇから７７０ｍ2 ／ｇに、細孔容積は０．７６
から０．６５ｃｃ／ｇに、細孔径は３．１ｎｍから２．
６ｎｍに減少を示した。
カ・アルミナメソポア体を実施例１０同様の方法で塩酸
酸性のアルコール溶媒を用いテンプレート（ドデシルア
ミン）を除去した。この試料を比較例２同様の方法でト
リメチルシリル化処理し、ろ過、アセトンで充分に洗浄
し、次いで真空乾燥（１５０℃、１ｍｍＨｇ、３時間）
した。メチルシリル化前後で窒素吸脱着法による比表面
積細孔容積、細孔分布を測定した結果、比表面積は９６
０ｍ2 ／ｇから７７０ｍ2 ／ｇに、細孔容積は０．７６
から０．６５ｃｃ／ｇに、細孔径は３．１ｎｍから２．
６ｎｍに減少を示した。
【００５１】また、試料をベンゼンに分散させ０．１規
定ｎ−ブチルアミンベンゼン溶液によるジメチルイエロ
ー指示薬（ｐＫａ＝＋３．３）とし滴定によって求めた
酸量は０．３ｍｍｏｌ／ｇから０．１７ｍｍｏｌ／ｇと
大幅に低下することが確認された。一方、実施例１０で
合成した試料について同様求めた酸量は０．３３ｍｍｏ
ｌ／ｇと本願発明方法によるものは高い値を有すること
が判る。また、上記のメチルシリル化処理サンプルを６
００℃仮焼し、メチル基を焼成除去すると細孔径は２．
６ｎｍから２．７ｎｍと増加傾向を示した。一方、実施
例１０で合成したものは同様処理で２．２ｎｍから２．
０ｎｍと減少傾向を示し、異なった挙動を示した。
定ｎ−ブチルアミンベンゼン溶液によるジメチルイエロ
ー指示薬（ｐＫａ＝＋３．３）とし滴定によって求めた
酸量は０．３ｍｍｏｌ／ｇから０．１７ｍｍｏｌ／ｇと
大幅に低下することが確認された。一方、実施例１０で
合成した試料について同様求めた酸量は０．３３ｍｍｏ
ｌ／ｇと本願発明方法によるものは高い値を有すること
が判る。また、上記のメチルシリル化処理サンプルを６
００℃仮焼し、メチル基を焼成除去すると細孔径は２．
６ｎｍから２．７ｎｍと増加傾向を示した。一方、実施
例１０で合成したものは同様処理で２．２ｎｍから２．
０ｎｍと減少傾向を示し、異なった挙動を示した。
【００５２】
【発明の効果】本発明は骨格を形成するケイ素に直接結
合した炭化水素基を有する新規なメソポア分子ふるいお
よびその製造方法を提供するものである。本発明方法を
用いれば種々の炭素ーケイ素結合を有する新規なメソポ
ア分子ふるいを容易に、かつ広範囲に含有量を制御し、
合成することができる。本願のメソポア分子ふるいは従
来の改質処理によって炭化水素基を含むケイ素を導入さ
れたものに比べ酸触媒あるいは酸化触媒等の触媒性能に
優れたものとなる。
合した炭化水素基を有する新規なメソポア分子ふるいお
よびその製造方法を提供するものである。本発明方法を
用いれば種々の炭素ーケイ素結合を有する新規なメソポ
ア分子ふるいを容易に、かつ広範囲に含有量を制御し、
合成することができる。本願のメソポア分子ふるいは従
来の改質処理によって炭化水素基を含むケイ素を導入さ
れたものに比べ酸触媒あるいは酸化触媒等の触媒性能に
優れたものとなる。
【図１】実施例１で合成したメチル基を含むメソポア分
子ふるいのＸ線回折図である。
子ふるいのＸ線回折図である。
【図２】実施例１で合成したメチル基を含むメソポア分
子ふるいの細孔分布図である。
子ふるいの細孔分布図である。
【図３】実施例１で合成したメチル基を含むメソポア分
子ふるいの赤外吸収スペクトル図である。
子ふるいの赤外吸収スペクトル図である。
【図４】実施例１で合成したメチル基を含むメソポア分
子ふるいの示差熱分析チャート図である。
子ふるいの示差熱分析チャート図である。
Claims (8)
- 【請求項１】 分子ふるいを形成する金属酸化物骨格の
ケイ素原子に直接結合した、置換基を含む炭化水素基を
有するメソポア分子ふるいであって、該炭化水素基の存
在量が該金属酸化物１モルあたり０．０１〜０．６モル
であることを特徴とするメソポア分子ふるい。 - 【請求項２】 金属酸化物が酸化ケイ素単体である請求
項１記載のメソポア分子ふるい。 - 【請求項３】 金属酸化物が酸化ケイ素と、酸化アルミ
ニウム、酸化ホウ素、酸化チタンから選ばれた少なくと
も一種の酸化物との複合物である請求項１記載のメソポ
ア分子ふるい。 - 【請求項４】 テンプレート共存下、次式で示されるシ
ラン化合物と金属酸化物および／またはその前駆体より
合成することを特徴とする分子ふるい骨格中のケイ素に
炭化水素基が結合したメソポア分子ふるいの製造方法。 【化１】 - 【請求項５】 シラン化合物が次式で示される請求項４
に記載のメソポア分子ふるいの製造方法。 【化２】 - 【請求項６】 金属酸化物が酸化ケイ素である請求項４
に記載のメソポア分子ふるいの製造方法。 - 【請求項７】 金属酸化物が酸化ケイ素と、酸化アルミ
ニウム、酸化ホウ素、酸化チタンから選ばれた少なくと
も一種の酸化物との複合物である請求項４に記載のメソ
ポア分子ふるいの製造方法。 - 【請求項８】 シラン化合物がモノアルキルトリアルコ
キシシランまたはモノアリールトリアルコキシシランで
ある請求項４に記載のメソポア分子ふるいの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12283097A JP4026884B2 (ja) | 1996-06-07 | 1997-04-28 | メソポア分子ふるい、およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-166623 | 1996-06-07 | ||
| JP16662396 | 1996-06-07 | ||
| JP12283097A JP4026884B2 (ja) | 1996-06-07 | 1997-04-28 | メソポア分子ふるい、およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1072212A true JPH1072212A (ja) | 1998-03-17 |
| JP4026884B2 JP4026884B2 (ja) | 2007-12-26 |
Family
ID=26459882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12283097A Expired - Fee Related JP4026884B2 (ja) | 1996-06-07 | 1997-04-28 | メソポア分子ふるい、およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4026884B2 (ja) |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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