JPH1069092A - ポジ型感光性平版印刷版 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
れており、非画像部の白色化及び放置汚れが解消し、か
つ優れた耐刷性を発揮するポジ型感光性平版印刷版を提
供する。 【解決手段】 粗面化処理、陽極酸化処理し、その後に
親水化処理を施したアルミニウム板上に、特定の構造単
位を含有する高分子化合物例えば下記の構造式の化合物
を含む層を設けた後に、感光層を設けるポジ型感光性平
版印刷版。
Description
関し、特にポジ型感光性平版印刷版に関するものであ
る。
光性平版印刷版は、支持体としての微細な粗面化処理を
行ない、場合によってはアルカリエッチングによる表面
清浄化を施した後、該アルミニウム板上に陽極酸化皮膜
を設けて、その上にo−キノンジアジド化合物からなる
感光層を設けたものである。o−キノンジアジド化合物
は紫外線露光によりカルボン酸に変化することが知られ
ており、従って、これをアルカリ水溶液で現像すると当
該感光層の露光部のみが除去されて支持体表面が露出す
る。アルミニウム支持体の表面は親水性なので現像で支
持体の表面が露出された部分(非画像部)は水を保持し
て油性インキを反発する。一方、現像によって感光層の
除去されなかった領域(画像部)は、親油性なので水を
反発し、インキを受け付ける。かかるポジ型感光性平版
印刷版の現像液として使用されるアルカリ水溶液は、種
々のものが知られているが、最も一般的に用いられてい
るのは珪酸ナトリウム、珪酸カリウム等の珪酸塩水溶液
である。その理由は珪酸塩の成分である酸化珪素SiO
2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率(一般に〔Si
O 2〕/〔M2O〕のモル比で表す)と両者の液中濃度を
変えることによってある程度現像性の調節が可能とされ
るためである。
液においては、SiO2濃度を高めると現像安定性は高
まるが、SiO2に起因する固形物が析出し易く、自動
現機のノズルの目詰まりや、固着物による装置の汚れが
水洗で溶解しにくいなどの問題を生じてしまうことが知
られており、現像安定性に欠けることも知られている。
また、現像液の廃液処理のさいに、中和処理を行おうと
するとSiO2に起因する液のゲル化が起こってしまい
配管系が詰まるなどの不都合を生じ易い。これらの不都
合を回避できる現像液として、現像安定化剤として、糖
類、オキシム類、フェノール類、及びフッ素化アルコー
ル類から選ばれる少なくとも1種の化合物を0.01モ
ル/リットル以上含有し、かつアルカリ剤を含有する現
像液、すなわち珪酸塩フリーの現像液が考えられるが、
従来のポジ型感光性平版印刷版を現像しようとするとア
ルミニウム支持体の陽極酸化皮膜が現像液で溶解され、
現像液中に蓄積されて、カス、ヘドロとなって自動現像
機の洗浄性を悪くしたり、スプレーの目詰まりを起こす
などという別の不都合点があった。
2程度の現像液で陽極酸化皮膜処理を施した基板を現像
した場合、現像時に陽極酸化皮膜の溶解に伴い非画像部
が白色化するという問題点もある。また、印刷時に版を
放置することで、インキがさらにとれにくくなるという
問題点がある。このような現象を放置汚れと称してい
る。さらに、珪酸塩を含む現像液においても、現像して
得られた平版印刷版の非画像部には感光層中に含まれる
物質が不可逆的に吸着し、非画像を汚染するためいわゆ
る残色が生じ、画像部と非画像部の識別が困難になると
いう問題もあった。従来から支持体の陽極酸化皮膜への
種々の処理が提案されている。現像時の溶解防止能があ
るといわれている水蒸気処理は、非画像部の白色化を防
止することができるが、放置汚れの問題点は解消できな
かった。一方、陽極酸化皮膜へのシリケート処理によ
り、非画像部の白色化、放置汚れの問題は解決できる
が、耐刷力が劣化するという欠点があった。
細書3,136,636号においては、ポリアクリル
酸、カルボキシルメチルヒドロキシエチルセルロースの
様な水可溶のポリマーの中間層を設けることが提案され
ているが、未だ耐刷力の点で満足のゆくものではなかっ
た。また、特開昭62−151845号においては、感
光性組成物に特定の付加重合高分子有機酸を添加するこ
とが提案されているが、未だ耐刷力の点で満足のゆくも
のではなかった。
は、現像時における陽極酸化皮膜の溶解が防止され、ま
た非画像部が白色化することなく、カスの発生や放置汚
れが軽減あるいは解消され、且つ優れた耐刷力が得られ
る感光性平版印刷版を提供することである。本発明の目
的はまた、残色が軽減あるいは解消された感光性平版印
刷版を提供することである。
結果、下記の感光性平版印刷版により上記目的を解決す
るに至った。すなわち、本発明は粗面化処理、陽極酸化
処理し、更に親水化処理したアルミニウム板上に、下記
一般式(1)で示される構造単位を有する高分子化合物
を含む層を設けた後に、感光層を設けることを特徴とす
るポジ型感光性平版印刷版によって達成されたものであ
る。
ルキル基を表わす。R2、R3はそれぞれ独立して、水素
原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキ
ル基、芳香族基、置換芳香族基、−OR4、−COO
R5、−C0NHR6、−COR7もしくは−CNを表わ
すか、またはR2とR3が結合して環を形成しても良い。
R4〜R7は各々アルキル基または芳香族基を表わす。X
は水素原子、金属原子、NR8R9R10R11を表わす。R
8〜R11はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、
置換アルキル基、芳香族基、置換芳香族基を表わすか、
またはR8とR9が結合して環を形成しても良い。nは1
〜3の整数を表わす。)
時の陽極酸化皮膜の溶解、非画像部の白色化、カスの発
生、放置汚れを有効に防止でき、かつ、一般式(1)で
示される構造単位を分子中に有する高分子化合物を下塗
り層に使用することにより耐刷性能の優れたポジ型感光
性平版印刷版を提供することができるものである。
される構造単位を分子中に有する高分子化合物について
詳しく説明する。前記一般式(1)で示される構造単位
において、R1は水素原子、ハロゲン原子またはアルキ
ル基を表すが、好ましくは水素原子、塩素原子、または
炭素数1〜4個のアルキル基を表す。特に好ましくは水
素原子またはメチル基を表す。R2とR3は各々独立し
て、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置
換アルキル基、芳香族基、置換芳香族基、−R4、−C
OOR5、−CONHR6、−COR7もしくは−CNを
表すか、またはR2とR3が結合して環を形成しても良
い。ここでR4〜R7は各々アルキル基または芳香族基を
表す。より好ましいR2とR3は、各々独立して、水素原
子、水酸基、塩素原子、炭素数1〜4個のアルキル基、
フェニル基、−R4、−COOR5、−CONHR6、−
COR7、−CNであり、ここでR4〜R7は炭素数1〜
4個のアルキル基またはフェニル基である。特に好まし
いR2とR3は、各々独立して、水素原子、水酸基、メチ
ル基またはメトキシ基である。Xは水素原子、金属原
子、NR8R9R10R11を表し、ここで、R8〜R11は、
各々独立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、芳香族基、置換芳香族基を表すか、またはR8とR9
が結合して環を形成しても良い。より好ましいXは、水
素原子、一価の金属原子,NR8R9R10R11であり、こ
こで、R8〜R11は、各々独立して、水素原子、炭素数
1〜4個のアルキル基またはたフェニル基である。特に
好ましいXは、水素原子、ナトリウム、カリウムまたは
NR8R9R10R11を表し、ここで、R8〜R11は、各々
独立して、水素原子、メチル基、エチル基を表す。nは
1〜3の整数を表すが、好ましくは1または2を表し、
より好ましくは1を表す。R2とR3及びR8〜R11の置
換アルキル基における置換基としては、ハロゲン原子、
水酸基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボ
ニル基、アシル基が挙げられ、好ましくは、水酸基、メ
トキシ基、アセチル基、メトキシカルボニル基が使用さ
れる。R2とR3及びR8〜R11の置換芳香族基における
置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、
アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基が挙
げられ、好ましくは、水酸基、メチル基、エチル基、メ
トキシ基、アセチル基、メトキシカルボニル基が使用さ
れる。
うるモノマーの具体例を以下に示す。ただし、本発明は
この具体例に限定されるものではない。
般式(1)で示される構造単位を20%以上、好ましく
は40%以上含めばよい。また、一般式(1)で示され
る構造単位は1種類あるいは2種類以上組み合わせても
よい。次に、本発明に係る一般式(1)で示される構造
単位を有する高分子化合物の代表的な例を以下に示す。
なお、ポリマー構造の組成比はモル百分率を表す。
ラジカル連鎖重合法を用いて製造することができる("T
extbook of Polymer Science" 3rd ed, (1984) F.W.Bil
lmeyer, A Wiley-Interscience Publication参照)。一
般式(1)で示される部分構造を有する高分子化合物の
分子量は広範囲であってもよいが、ポリスチレンを標準
としてゲルパーミッションクロマトグラフィーを用いて
測定した時、重量平均分子量(Mw)が500〜2,0
00,000であることが好ましく、また2,000〜
200,000の範囲であることが更に好ましい。
分構造を有する高分子化合物の合成例を示す。 〔合成例1〕 p−ビニル安息香酸のホモポリマー(No.P−1)の
合成 p−ビニル安息香酸〔北興化学工業(株)製〕74.1
g(0.5mol)、1−メトキシ−2−プロパノール1
73gを500mlの3口フラスコに取り、窒素気流下攪
拌しながら、加熱し75℃に保った。次に、2,2−ア
ゾビス(イソ酪酸)ジメチル1.15g(5mmol)を加
え、攪拌を続けた。2時間後、2,2−アゾビス(イソ
酪酸)ジメチル1.15g(5mmol)を追加した。更
に、2時間後、2,2−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル
1.15g(5mmol)を追加した。2時間攪拌した後、
1−メトキシ−2−プロパノール173gを加え、室温
まで放冷した。この反応液を、攪拌下7.5リットルの水中
に注いだ。析出する固体を濾取し、乾燥した。その収量
は71.2gであった。得られた固体は、GPC(溶離
液:テトラヒドロフラン)による分子量測定の結果、重
量平均分子量(Mw)は、ポリスチレン換算で3.1万
であった。他の一般式(1)で示される部分構造を有す
る高分子化合物も同様な方法で合成される。
いて詳しく説明する。また、本発明において、感光性平
版印刷版はPS版ということもある。 〔支持体〕 <アルミニウム板及びその粗面化処理、陽極酸化処理、
親水化処理> (アルミニウム板)本発明において用いられるアルミニ
ウム板は、純アルミニウムまたはアルミニウムを主成分
とし微量の異原子を含むアルミニウム合金等の板状体で
ある。この異原子には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マ
グネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタ
ン等がある。合金組成としては、10重量%以下の異原
子含有率のものである。本発明に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは、精錬技術上製造が困難であるため、できるだけ異
原子を含まないものがよい。また、上述した程度の異原
子含有率のアルミニウム合金であれば、本発明に使用し
得る素材という事ができる。このように本発明に使用さ
れるアルミニウム板は、その組成が特に限定されるもの
ではなく、従来公知、公用の素材のものを適宜利用する
事ができる。好ましい素材としては、JIS A 10
50、同1100、同1200、同3003、同310
3、同3005材が含まれる。本発明において用いられ
るアルミニウム板の厚さは、約0.1mm〜0.6mm程度
である。アルミニウム板を粗面化処理するに先立ち、表
面の圧延油を除去するための、例えば界面活性剤または
アルカリ性水溶液で処理する脱脂処理が必要に応じて行
われる。
ウム板の表面を粗面化処理する方法としては、機械的に
粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方
法および化学的に表面を選択溶解させる方法がある。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などと称せられる公知の方法を
用いることが出来る。また、電気化学的な粗面化法とし
ては塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行
う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に
開示されているように両者を組み合わせた方法も利用す
ることが出来る。このように粗面化されたアルミニウム
板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処
理された後、表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽
極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理
に用いられる電解質としては多孔質酸化皮膜を形成する
ものならばいかなるものでも使用することができ、一般
には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混
酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類
によって適宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる
電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一
般的には電解質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜7
0℃、電流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、
電解時間10秒〜5分の範囲にあれば適当である。陽極
酸化皮膜の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より
好ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸
化皮膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。尚、このような陽極酸化処理は平
板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気
力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2の陽
極酸化皮膜が形成されるのが一般的である。
いられる親水化処理としては、従来より知られている、
親水化処理が用いられる。このような親水化処理として
は、米国特許第2,714,066号、第3,181,
461号、第3,280,734号、第3,902,7
34号に開示されているようなアルカリ金属珪酸塩(例
えば珪酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法におい
ては、支持体が珪酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理され
るか又は電解処理される。あるいは、特公昭36−22
063号公報に開示されている弗化ジルコン酸カリウム
及び米国特許第3,276,868号、第4,153,
461号、第4,689,272号に開示されている様
なポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。これらの中で特に好ましい親水化処理はアルカリ金
属珪酸塩処理である。
理を施したアルミニウム板の陽極酸化皮膜を、アルカリ
金属珪酸塩が0.1〜30重量%、好ましくは0.5〜
10重量%であり、25℃でのpHが10〜13である
水溶液に、例えば15〜80℃で0.5〜120秒浸漬
する。アル力り金属珪酸塩水溶液のpHが10より低い
と液はゲル化し13.0より高いと酸化皮膜が溶解され
てしまう。本発明に用いられるアルカリ金属珪酸塩とし
ては、珪酵ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウムな
どが使用される。アルカリ金属珪酸塩水溶液のpHを高
くするために使用される水酸化物としては水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどがある。な
お、上記の処理液にアルカリ土類金属塩もしくは第IVB
族金属塩を配合してもよい。アルカリ土類金属塩として
は、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネ
シウム、硝酸バリウムのような硝酸塩や、硫酸塩、塩酸
塩、燐酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、ホウ酸塩などの水溶性の
塩が挙げられる。第IVB族金属塩として、四塩化チタ
ン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、蓚酸チタン
カリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジル
コニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウ
ム、四塩化ジルコニウムなどを挙げることができる。ア
ルカリ土類金属塩もしくは、第IVB族金属塩は単独又は
2以上組み合わせて使用することができる。これらの金
属塩の好ましい範囲は0.01〜10重量%であり、更
に好ましい範囲は0.05〜5.0重量%である。
施した後に、アルミニウム板上に後述する種々の方法で
一般式(1)で示す構造単位を有する高分子化合物を含
む有機層を設ける。
ことができる。水またはメタノール、エタノール、メチ
ルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶
剤に一般式(1)で示す構造単位を有する高分子化合物
を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して
設ける方法と、水またはメタノール、エタノール、メチ
ルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶
剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウ
ム板を浸漬して上記有機化合物を吸着させ、しかる後、
水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法
である。前者の方法では、上記有機化合物の0.005
〜10重量%の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。
例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、
カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、
後者の方法では、溶液の濃度は0.01〜20重量%、
好ましくは0.05〜5重量%であり、浸漬温度は20
〜90℃、好ましくは25〜50℃であり、浸漬時間は
0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1分である。上記
の溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリ
ウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質
によりpHを調節し、pH1〜12、好ましくはpH1
〜5、の範囲で使用することもできる。また、感光性平
版印刷版の調子再現性改良のために黄色染料を添加する
こともできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、2〜1
00mg/m2が適当であり、好ましくは5〜50mg/m2で
ある。上記の被覆量が2mg/m2より少ないと十分な耐刷
性能が得られない。また、100mg/m2より多くても同
様である。
に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコー
トとしては、特開平5−45885号公報記載の有機高
分子化合物および特開平6−35174号公報記載の有
機または無機金属化合物を加水分解および重縮合させて
得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられ
る。これらの被覆層のうち、Si(OCH3)4、Si
(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)
4などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、
それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れ
ており特に好ましい。
感光層、その成分、現像処理等について説明する。 〔感光層〕上記のようにして得られた支持体上に、公知
のポジ型感光性組成物よりなる感光層を設けて、感光性
平版印刷版を得る。感光層の組成物としては、露光の前
後で現像液に対する溶解性又は膨潤性が変化するもので
あればいずれも使用できる。以下、その代表的なものに
ついて説明する。 <o−キノンジアジド化合物>ポジ型感光性組成物の感
光性化合物としては、o−キノンジアジド化合物が挙げ
られ、その代表としてo−ナフトキノンジアジド化合物
が挙げられる。o−ナフトキノンジアジド化合物として
は、特公昭43−28403号公報に記載されている
1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロライドとピ
ロガロール−アセトン樹脂とのエステルであるものが好
ましい。その他の好適なオルトキノンジアジド化合物と
しては、米国特許第3,046,120号および同第
3,188,210号明細書中に記載されている1,2
−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸クロリドとフェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがあり、特
開平2−96163号公報、特開平2−96165号公
報、特開平2−96761号公報に記載されている1,
2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン酸クロリドとフ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルがある。
その他の有用なo−ナフトキノンジアジド化合物として
は、数多くの特許に報告され、知られているものが挙げ
られる。たとえば、特開昭47−5303号、同48−
63802号、同48−63803号、同48−965
75号、同49−38701号、同48−13354
号、特公昭37−18015号、同41−11222
号、同45−9610号、同49−17481号公報、
米国特許第2,797,213号、同第3,454,4
00号、同第3,544,323号、同第3,573,
917号、同第3,674,495号、同第3,78
5,825号、英国特許第1,227,602号、同第
1,251,345号、同第1,267,005号、同
第1,329,888号、同第1,330,932号、
ドイツ特許第854,890号などの明細書中に記載さ
れているものをあげることができる。
としては、分子量1,000以下のポリヒドロキシ化合
物と1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドと
の反応により得られる化合物が挙げられる。このような
化合物の具体例は、特開昭51−139402号、同5
8−150948号、同58−203434号、同59
−165053号、同60−121445号、同60−
134235号、同60−163043号、同61−1
18744号、同62−10645号、同62−106
46号、同62−153950号、同62−17856
2号、同64−76047号、米国特許第3,102,
809号、同第3,126,281号、同第3,13
0,047号、同第3,148,983号、同第3,1
84,310号、同第3,188,210号、同第4,
639,406号などの各公報または明細書に記載され
ているものを挙げることができる。
ド化合物として、重量平均分子量2,000以上の、ポ
リヒドロキシ化合物のo−キノンジアジドスルホン酸エ
ステルが挙げられる。該ポリヒドロキシ化合物としては
ピロガロール・アセトン樹脂、フェノール−ホルムアル
デヒド樹脂、クレゾールホルムアルデヒド樹脂、ヒドロ
キシスチレン樹脂およびハロゲン化ヒドロキシスチレン
樹脂などが挙げられる。o−ナフトキノンジアジド化合
物の分子量が2,000以上の場合は、その分子量が
2,000以下の場合と比較して、より良好な画像強度
が得られる。
を合成する際は、ポリヒドロキシ化合物のヒドロキシル
基に対して1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロ
リドを0.2〜1.2当量反応させることが好ましく、
0.3〜1.0当量反応させることがさらに好ましい。
1,2−ジアゾナフトキノンスルホン酸クロリドとして
は、1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホン酸クロ
リドまたは1,2−ジアゾナフトキノン−4−スルホン
酸クロリドを用いることができる。また得られるo−ナ
フトキノンジアジド化合物は、1,2−ジアゾナフトキ
ノンスルホン酸エステル基の位置及び導入量の種々異な
るものの混合物となるが、ヒドロキシル基がすべて1,
2−ジアゾナフトキノンスルホン酸エステルで転換され
た化合物がこの混合物中に占める割合(完全にエステル
化された化合物の含有率)は5モル%以上である事が好
ましく、さらに好ましくは20〜99モル%である。本
発明の感光性組成物中に占めるこれらのo−キノンジア
ジド化合物の量は10〜50重量%が適当であり、より
好ましくは15〜40重量%である。上述の分子量2,
000以上のo−ナフトキノンジアジド化合物と、分子
量2,000未満のo−ナフトキノンジアジド化合物を
併用することもできる。この場合、後者のo−キノンジ
アジド化合物の割合は、全o−キノンジアジド化合物に
対して50重量%以下であることが好ましく、更に好ま
しくは30重量%以下である。
化合物は単独でも感光層を構成するが、アルカリ水に可
溶な樹脂を結合剤(バインダー)としてこの種の樹脂と
共に使用することが好ましい。このようなアルカリ水に
可溶性の樹脂としては、この性質を有するノボラック樹
脂があり、たとえばフェノールホルムアルデヒド樹脂、
m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、p−クレゾール
ホルムアルデヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒ
ド樹脂、m−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹
脂、フェノール/クレゾール(m−,p−,o−又はm
−/p−,m−/o−混合のいずれでもよい)混合ホル
ムアルデヒド樹脂などのクレゾールホルムアルデヒド樹
脂などが挙げられる。その他、レゾール型のフェノール
樹脂類も好適に用いられ、フェノール/クレゾール(m
−,p−,o−又はm−/p−,m−/o−混合のいず
れでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂が、好ましく、
特に特開昭61−217034号公報に記載されている
フェノール樹脂類が好ましい。
ヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレ
ン、特開昭51−34711号公報に開示されているよ
うなフェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、特
開平2−866号に記載のスルホンアミド基を有するア
クリル系樹脂や、ウレタン系の樹脂、等種々のアルカリ
可溶性の高分子化合物も用いることができる。これらの
アルカリ可溶性高分子化合物は、重量平均分子量が50
0〜20,000で数平均分子量が200〜60,00
0のものが好ましい。かかるアルカリ可溶性の高分子化
合物は1種類あるいは2種類以上を組合せて使用しても
よく、一般的には全組成物の80重量%以下の添加量で
用いられる。更に、米国特許第4,123,279号明
細書に記載されているように、t−ブチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基
として有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮合物
を併用することは画像の感脂性を向上させる上で好まし
い。
る感光層の高分子バインダーとして特に好ましいもの
に、1分子中に芳香族基を3つ以上有する成分の含有量
が90重量%以上で、且つ重量平均分子量が10,00
0以上のノボラック型フェノール・ホルムアルデヒド樹
脂がある。以下、本明細書中では高分子バインダーにお
ける上記の1分子中に芳香族基を3つ以上有する成分を
3核体以上の成分と称する。ここで、重量平均分子量は
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)の
ポリスチレン換算値をもって定義される。かかるフェノ
ール・ホルムアルデヒド樹脂は、フェノールとホルムア
ルデヒトもしくはパラホルムアルデヒド等のアルデヒド
類とを酸性触媒を用いて縮合することにより合成され
る。特に本発明に用いられる重量平均分子量が10,0
00以上のフェノール・ホルムアルデヒド樹脂を得るに
は、フェノール1モルに対して0.7〜0.9モルのア
ルデヒド類を用いることが好ましい。アルデヒド類が
0.7モル以下では十分な分子量が得られず、また0.
9モルを越えるとゲル化物が生成し易くなり好ましくな
い。縮合反応に用いる酸性触媒としては塩酸、硫酸、蟻
酸、酢酸および蓚酸等を使用することができ、中でも蓚
酸が好ましい。
デヒド樹脂が2核体以下の成分を10重量%以上含む場
合は低分子量成分を、例えば分別沈澱、分別溶解、カラ
ムクロマトグラフィー等の方法により除去し2核体以下
の成分を10重量%以下にする必要がある。2核体以下
の成分を10重量%以上含むフェノール・ホルムアルデ
ヒド樹脂は溶解が高く、耐薬品性の点で劣り、また、重
量平均分子量10,000未満のフェノール・ホルムア
ルデヒド樹脂は耐刷力(耐薬品性)で劣る。また、従来
のポジ型感光性平版印刷版のバインダーに用いられてき
たクレゾール・ホルムアルデヒド樹脂ではpH12.5
以下の現像液では現像できない。このように、1分子中
に芳香族基を3つ以上有する成分の含有量が90重量%
以上で、且つ重量平均分子量が10,000以上のノボ
ラック型フェノール・ホルムアルデヒド樹脂を使用する
ことにより、比較的低いpHの現像液で現像が可能であ
り、かつ十分な耐刷力(耐薬品性)を付与することが可
能である。感光性組成物全量中に占める分子量10,0
00以上の該フェノール・ホルムアルデヒド樹脂の量は
30〜90重量%であり、より好ましくは40〜70重
量%である。
ック型フェノール・ホルムアルデヒド樹脂以外のアルカ
リ可溶性樹脂を併用することができる。かかるアルカリ
可溶性樹脂として、とりわけ、比較的低いpHの現像液
を使用する場合には、pH12.5のアルカリ水に可溶
で〔ここで、pH12.5のアルカリ水に可溶な樹脂と
は、水酸化ナトリウム0.11モルおよび塩化カリウム
0.4モルを水に溶解して1リットルにした水溶液(p
H12.5のアルカリ水溶液)1リットルを準備し、こ
れに30.0gの樹脂を加え攪拌し、30分間で溶解す
るような樹脂を言う〕、且つ重量平均分子量が10,0
00〜100,000であり、以下に示す(1)〜
(4)のアルカリ可溶性基含有モノマーから選ばれる少
なくとも一つ以上を重合成分として有する皮膜形成性樹
指が好ましい。
クリルアミドまたはN−(4−ヒドロキシフェニル)メ
タクリルアミド、o−、m−またはp−ヒドロキシスチ
レン、o−またはm−ブロモ−p−ヒドロキシスチレ
ン、o−またはm−クロル−p−ヒドロキシスチレン、
o−、m−またはp−ヒドロキシフェニルアクリレート
またはメククリレート等の芳香族水酸基を有するアクリ
ルアミド類、メククリルアミド類、アクリル酸エステル
類、メタクリル酸エステル類およびヒドロキシスチレン
類、(2)アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無
水マレイン酸およびそのハーフエステル、イタコン酸、
無水イタコン酸およびそのハーフエステルなどの不飽和
カルボン酸、
ル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェ
ニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフ
ェニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスル
ホニル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミノ
スルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルアミ
ド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタ
クリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)
メタクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニ
ル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノス
ルホニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリルア
ミド類、また、o−アミノスルホニルフェニルアクリレ
ート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p
−アミノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3−
アミノスルホニルフェニルナフチル)アクリレートなど
のアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、
o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−ア
ミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−アミノス
ルホニルフェニルナフチル)メタクリレートなどのメタ
クリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、
(4)トシルアクリルアミドのように置換基があっても
よいフェニルスルホニルアクリルアミド、およびトシル
メタクリルアミドのような置換基があってもよいフェニ
ルスルホニルメタクリルアミド。
マーの他に以下に記す(5)〜(14)のモノマーを共
重合した皮膜形成性樹脂が好適に用いられる。(5)脂
肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類およびメタク
リル酸エステル類、例えは、2−ヒドロキシエチルアク
リレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
(6)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリ
ル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジ
ル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸4−ヒ
ドロキシブチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルアクリレートなどの(置換)アクリル酸
エステル、(7)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メ
タクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル
酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル
酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2
−クロロエチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチル、
グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチル
メタクリレートなどの(置換)メタクリル酸エステル、
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメ
タクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチ
ルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N
−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエ
チルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N
−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルア
ミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェ
ニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルア
ミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよび
N−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアク
リルアミドもしくはメタクリルアミド、(9)エチルビ
ニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒド
ロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、
フェニルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、
アセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどの
ビニルエステル類、(11)スチレン、α−メチルスチ
レン、メチルスチレン、クロロメチルスチレンなどのス
チレン類、(12)メチルビニルケトン、エチルビニル
ケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン
などのビニルケトン類、(13)エチレン、プロピレ
ン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどのオレ
フィン類、(14)N−ビニルピロリドン、N−ビニル
カルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリルなど。このようなアルカリ可溶
性の皮膜形成性樹脂は1種類あるいは2種類以上を組み
合わせて用いることができ、全感光性組成物の1〜50
重量%の添加量で用いられる。また、上記共重合体の他
に、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポ
リアミド樹脂およびエポキシ樹脂等も用いられる。
3,279号明細書に記載されているように、t−ブチ
ルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノー
ルホルムアルデヒド樹脂のような炭素数3〜8のアルキ
ル基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒ
ドとの縮合物を併用することは画像の感脂性を向上させ
る上で好ましい。
を高めるために環状酸無水物類、フェノール類、有機酸
類を添加することが好ましい。環状酸無水物としては米
国特許4,115,128号明細書に記載されている無
水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ
無水フタル酸、3,6−エンドオキシ−△4−テトラヒ
ドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マ
レイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マ
レイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使
用できる。フェノール類としては、ビスフェノールA、
p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、2,
4,4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4
−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキシベン
ゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシ−トリフ
ェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒドロキ
シ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニルメ
タンなどが挙げられる。
8942号公報、特開平2−96755号公報などに記
載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキ
ル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカル
ボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスル
フィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安
息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、
3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、1,4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン酸、
エルカ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビ
ン酸などが挙げられる。上記の環状酸無水物類、フェノ
ール類および有機酸類の感光性組成物中に占める割合
は、0.05〜15重量%が好ましく、より好ましくは
0.1〜5重量%である。
は、現像条件に対する処理の安定性(いわゆる現像ラチ
チュード)を広げるため、特開昭62−251740号
公報や特開平4−68355号公報に記載されているよ
うな非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号
公報、特開平4−13149号公報に記載されているよ
うな両性界面活性剤を添加することができる。非イオン
界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレ
ート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオ
レート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチ
レンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンノニ
ルフェニルエーテルなどが挙げられる。両性界面活性剤
の具体例としては、アルキルジ(アミノエチル)グリシ
ン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−ア
ルキル−N−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチル
イミダゾリニウムベタインやN−テトラデシル−N,N
−ベタイン型(例えば、商品名アモーゲンK、第一工業
(株)製)およびアルキルイミダゾリン系(例えば、商
品名レボン15、三洋化成(株)製)などが挙られる。
上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の感光性
組成物中に占める割合は、0.05〜15重量%が好ま
しく、より好ましくは0.1〜5重量%である。
は、露光後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画
像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼
き出し剤としては、露光によって酸を放出する化合物
(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せを代
表として挙げることができる。具体的には、特開昭50
−36209号、同53−8128号の各公報に記載さ
れているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸ハ
ロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭53−
36223号、同54−74728号、同60−362
6号、同61−143748号、同61−151644
号および同63−58440号各公報に記載されている
トリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙
げることができる。かかるトリハロメチル化合物として
は、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあ
り、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を
与える。
機染料以外に他の染料も用いることができる。塩形成性
有機染料も含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的には、オイルイエ
ロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク
#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、
オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブ
ラックBS、オイルブラックT−505(以上、オリエ
ント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、ク
リスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイ
オレット(CI42535)、エチルバイオレット、ロ
ーダミンB(CI145170B)、マラカイトグリー
ン(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。
を溶解する溶媒に溶かして支持体のアルミニウム板上に
塗布される。ここで使用される溶媒としては、特開昭6
1−95463号公報に記載されているような有機溶剤
が単独あるいは混合して用いられる。本発明の感光性組
成物は、2〜50重量%の固形分濃度で溶解、分散さ
れ、支持体上に塗布・乾燥される。 <塗布量>支持体上に塗設される感光性組成物の層(感
光層)の塗布量は用途により異なるが、一般的には、乾
燥後の重量にして0.3〜4.0g/m2が好ましい。塗
布量が小さくなるにつれて画像を得るための露光量は小
さくて済むが、膜強度は低下する。塗布量が大きくなる
につれ、露光量を必要とするが感光膜は強くなり、例え
ば、印刷版として用いた場合、印刷可能枚数の高い(高
耐刷の)印刷版が得られる。
塗布面質を向上するための界面活性剤、例えば、特開昭
62−170950号公報に記載されているようなフッ
素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加
量は、全感光性組成物の0.001〜1.0重量%であ
り、更に好ましくは0.005〜0.5重量%である。 <マット層>上記のようにして設けられた感光層の表面
には、真空焼き枠を用いた密着露光の際の真空引きの時
間を短縮し、且つ焼きボケを防ぐため、マット層を設け
ることが好ましい。具体的には、特開昭50−1258
05号、特公昭57−6582号、同61−28986
号の各公報に記載されているようなマット層を設ける方
法、特公昭62−62337号公報に記載されているよ
うな固体粉末を熱融させる方法などが挙げられる。
明原画を通してカーボンアーク灯、水銀灯、メタルハラ
イドランプ、キセノンランプ、タングステンランプなど
を光源とする光線により露光された後、現像処理され
る。 <現像液主剤>現像液のpHは10.0〜13.5程度
であって、比較的低いpHの現像液を使用してもよい。
例えば珪酸塩を含まないpH10.0〜12.7、より
好ましくはpH11.0〜12.5の現像液を使用する
こともできる。かかる現像液および現像補充液としては
従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例
えば、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、珪酸リチウム、
第3リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、
第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、
重炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸
ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリ
ウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウ
ム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムなど
の無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミ
ン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルア
ミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプ
ロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピ
ルアミン、n−ブチルアミン、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソ
プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチ
レンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウ
ムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキ
シド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリエ
チルブチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカ
リ剤も用いられる。
ウム等の珪酸アルカリを含有する現像液の場合、印刷時
の汚れが生じにくいという利点を有し、珪酸アルカリの
組成がモル比で〔SiO2〕/〔M〕=0.5〜2.5
(ここに〔SiO2〔M〕はそれぞれ、SiO2のモル濃
度と総アルカリ金属のモル濃度を示す。)であり、かつ
SiO2を0.8〜8重量%含有する現像液が好ましく
用いられる。また該現像液中には、例えば亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸マグネシウムなどの水溶
性亜硫酸塩や、レゾルシン、メチルレゾルシン、ハイド
ロキノン、チオサリチル酸などを添加することができ
る。これらの化合物の現像液中における好ましい含有量
は0.002〜4重量%で、好ましくは、0.01〜1
重量%である。
10以上で緩衝作用を有する化合物を含むアルカリ溶液
が挙げられる。かかる緩衝作用を有する化合物として
は、酸解離定数(pKa)が10.0〜13.2のもの
が好ましく、pergamon Press社発行のIONISATION CONST
ANTS OF ORGANIC ACIDS IN AQUEOUS SOLUTIONなどに記
載されているものから選ばれ、例えば2,2,3,3−
テトラフルオロプロパノール−1(pKa12.7
4)、トリフルオロエタノール(同12.37)、トリ
クロロエタノール(同12.24)などのアルコール
類、ピリジン−2−アルデヒド(同12.68)、ピリ
ジン−4−アルデヒド(同12.05)などのアルデヒ
ド類、ソルビトール(同13.0)、サッカロース(同
12.7)、2−デオキシリボース(同12.61)、
2−デオキシグルコース(同12.51)、グルコース
(同12.46)、ガラクトース(同12.35)、ア
ラビノース(同12.34)、キシロース(同12.2
9)、フラクトース(同12.27)、リボース(同1
2.22)、マンノース(同12.08)、L−アスコ
ルビン酸(同11.34)などの糖類、サリチル酸(同
13.0)、3−ヒドロキシー2−ナフトエ酸(同1
2.84)、カテコール(同12.6)、没食子酸(同
12.4)、スルホサリチル酸(同11.7)、3,4
−ジヒドロキシスルホン酸(同12.2)、3,4−ジ
ヒドロキシ安息香酸(同11.94)、1,2,4−ト
リヒドロキシベンゼン(同11.82)、ハイドロキノ
ン(同11.56)、ピロガロール(同11.34)、
フェノール(同10.0)、o−クレゾール(同10.
33)、レゾルシノール(同11.27)、p−クレゾ
ール(同10.27)、m−クレゾール(同10.0
9)などのフェノール性水酸基を有する化合物、
アセトキシム(同12.42)、1,2−シクロヘプタ
ンジオンヂオキシム(同12.3)、2−ヒドロキシベ
ンズアルデヒドオキシム(同12.10)、ジメチルグ
リオキシム(同11.9)、エタンジアミドジオキシム
(同11.37)、アセトフェノンオキシム(同11.
35)などのオキシム類、アデノシン(同12.5
6)、イノシン(同12.5)、グアニン(同12.
3)、シトシン(同12.2)、ヒポキサンチン(同1
2.1)、キサンチン(同11.9)などの核酸関連物
質、他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸(同12.
32)、アミノ−3,3,3−トリフルオロ安息香酸
(同12.29)、イソプロピリデンジホスホン酸(同
12.10)、1,1−エチリデンジホスホン酸(同1
1.54)、1,1−エチリデンジホスホン酸1−ヒド
ロキシ(同11.52)、ベンズイミダゾール(同1
2.86)、チオベンズアミド(同12.8)、ピコリ
ンチオアミド(同12.55)、バルビツル酸(同1
2.5)などの弱酸が挙げられる。これらの緩衝作用を
有する化合物は、先に述べたアルカリ剤と併用すること
によって、適宣適切なpH、例えばpH10.0〜1
2.7に調整して用いることができる。また、これらの
緩衝作用を有する化合物およびアルカリ剤は単独もしく
は二種以上を組み合わせて用いることもできる。これら
のアルカリ緩衝剤の中で好ましいのは、スルホサリチル
酸、サリチル酸、またはサッカロースおよびソルビトー
ルなど、の非還元糖と水酸化ナトリウムおよび水酸化カ
リウムとを組み合わせたものである。また、以上の緩衝
作用を有する化合物・アルカリ剤はそれぞれ2種以上を
混合して用いてもよい。
現像性の促進や現像カスの分散および印刷版画像部の親
インキ性を高める目的で必要に応じて種々界面活性剤や
有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、
アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界面活
性剤が挙げられる。界面活性剤の好ましい例としては、
ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンポリスチリルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンポリオキシプロピレンアルキルエーテル類、グリセリ
ン脂肪酸部分エステル類、ソルビタン脂肪酸部分エステ
ル類、ペンタエリスリトール脂肪酸部分エステル類、プ
ロピレングリコールモノ脂肪酸エステル類、しょ糖脂肪
酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪
酸部分エステル類、ポリオキシエチレンソルビトール脂
肪酸部分エステル類、ポリエチレングリコール脂肪酸エ
ステル類、ポリグリセリン脂肪酸部分エステル類、ポリ
オキシエチレン化ひまし油類、ポリオキシエチレングリ
セリン脂肪酸部分エステル類、脂肪酸ジエタノールアミ
ド類、N,N−ビス−2−ヒドロキシアルキルアミン
類、ポリオキシエチレンアルキルアミン、トリエタノー
ルアミン脂肪酸エステル、トリアルキルアミンオキシド
などの非イオン性界面活性剤、脂肪酸塩類、アビエチン
酸塩類、ヒドロキシアルカンスルホン酸塩類、アルカン
スルホン酸塩類、ジアルキルスルホ琥珀酸エステル塩
類、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩類、分岐鎖アル
キルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスル
ホン酸塩類、アルキルフェノキシポリオキシエチレンプ
ロピルスルホン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキルス
ルホフェニルエーテル塩類、
ウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリ
ウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸ア
ルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エス
テル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エ
ステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エス
テル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテ
ル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩
類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン
酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の
部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合
物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、
テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニ
ウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポ
リエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性
剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スル
ホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミダゾリン類
などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面活
性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキ
シメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレ
ンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもで
き、それらの界面活性剤もまた包含される。
ルオロアルキル基を含有するフッ素系の界面活性剤であ
る。かかるフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロ
アルキルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン
酸塩、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニ
オン型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、
パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などの
カチオン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイ
ド、パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パ
ーフルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、
パーフルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマ
ー、パーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基
含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性
基含有ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。上記の
界面活性剤は、単独もしくは2種以上を組み合わせて使
用することができ、現像液中に0.001〜10重量
%、より好ましくは0.01〜5重量%の範囲で添加さ
れる。
は、種々現像安定化剤が用いられる。それらの好ましい
例として、特開平6−282079号公報記載の糖アル
コールのポリエチレングリコール付加物、テトラブチル
アンモニウムヒドロキシドなどのテトラアルキルアンモ
ニウム塩、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどの
ホスホニウム塩およびジフェニルヨードニウムクロライ
ドなどのヨードニウム塩が好ましい例として挙げられ
る。更には、特開昭50−51324号公報記載のアニ
オン界面活性剤または両性界面活性剤、また特開昭55
−95946号公報記載の水溶性カチオニックポリマ
ー、特開昭56−142528号公報に記載されている
水溶性の両性高分子電解質がある。更に、特開昭59−
84241号公報のアルキレングリコールが付加された
有機ホウ素化合物、特開昭60−111246号公報記
載のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロッ
ク重合型の水溶性界面活性剤、特開昭60−12975
0号公報のポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン
を置換したアルキレンジアミン化合物、特開昭61−2
15554号公報記載の重量平均分子量300以上のポ
リエチレングリコール、特開昭63−175858号公
報のカチオン性基を有する含フッ素界面活性剤、特開平
2−39157号公報の酸またはアルコールに4モル以
上のエチレンオキシドを付加して得られる水溶性エチレ
ンオキシド付加化合物と、水溶性ポリアルキレン化合物
などが挙げられる。
更に必要により有機溶剤が加えられる。かかる有機溶剤
としては、水に対する溶解度が約10重量%以下のもの
が適しており、好ましくは5重量%以下のものから選ば
れる。例えば、1−フェニルエタノール、2−フェニル
エタノール、3−フェニル−1−プロパノール、4−フ
ェニル−1−ブタノール、4−フェニル−2−ブタノー
ル、2−フェニル−1−ブタノール、2−フェノキシエ
タノール、2−ベンジルオキシエタノール、o−メトキ
シベンジルアルコール、m−メトキシベンジルアルコー
ル、p−メトキシベンジルアルコール、ベンジルアルコ
ール、シクロヘキサノール、2−メチルシクロヘキサノ
ール、3−メチルシクロヘキサノールおよび4−メチル
シクロヘキサノール、N−フェニルエタノールアミンお
よびN−フェニルジエタノールアミンなどを挙げること
ができる。有機溶剤の含有量は使用液の総重量に対して
0.1〜5重量%である。その使用量は界面活性剤の使
用量と密接な関係があり、有機溶剤の量が増すにつれ、
界面活性剤の量は増加させることが好ましい。これは界
面活性剤の量が少なく、有機溶剤の量を多く用いると有
機溶剤が完全に溶解せず、従って、良好な現像性の確保
が期待できなくなるからである。
元剤が加えられる。これは印刷版の汚れを防止するもの
であり、特に感光性ジアゾニウム塩化合物を含むネガ型
感光性平版印刷版を現像する際に有効である。好ましい
有機還元剤としては、チオサリチル酸、ハイドロキノ
ン、メトール、メトキシキノン、レゾルシン、2−メチ
ルレゾルシンなどのフェノール化合物、フェニレンジア
ミン、フェニルヒドラジンなどのアミン化合物が挙げら
れる。更に好ましい無機の還元剤としては、亜硫酸、亜
硫酸水素酸、亜リン酸、亜リン酸水素酸、亜リン酸二水
素酸、チオ硫酸および亜ジチオン酸などの無機酸のナト
リウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などを挙げるこ
とができる。これらの還元剤のうち汚れ防止効果が特に
優れているのは亜硫酸塩である。これらの還元剤は使用
時の現像液に対して好ましくは、0.05〜5重量%の
範囲で含有される。
は更に有機カルボン酸を加えることもできる。好ましい
有機カルボン酸は炭素原子数6〜20の脂肪族カルボン
酸および芳香族カルボン酸である。脂肪族カルボン酸の
具体的な例としては、カプロン酸、エナンチル酸、カプ
リル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸およ
びステアリン酸などがあり、特に好ましいのは炭素数8
〜12のアルカン酸である。また炭素鎖中に二重結合を
有する不飽和脂肪酸でも、枝分かれした炭素鎖のもので
もよい。芳香族カルボン酸としてはベンゼン環、ナフタ
レン環、アントラセン環などにカルボキシル基が置換さ
れた化合物で、具体的には、o−クロロ安息香酸、p−
クロロ安息香酸、o−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロ
キシ安息香酸、o−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香
酸、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、2,5−ジヒドロ
キシ安息香酸、2,6−ジヒドロキシ安息香酸、2,3
−ジヒドロキシ安息香酸、3,5−ジヒドロキシ安息香
酸、没食子酸、1−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、3−
ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、2−ヒドロキシ−1−ナ
フトエ酸、1−ナフトエ酸、2−ナフトエ酸などがある
がヒドロキシナフトエ酸は特に有効である。上記脂肪族
および芳香族カルボン酸は水溶性を高めるためにナトリ
ウム塩やカリウム塩またはアンモニウム塩として用いる
のが好ましい。本発明で用いる現像液の有機カルボン酸
の含有量は格別な制限はないが、0.1重量%より低い
と効果が十分でなく、また10重量%以上ではそれ以上
の効果の改善が計れないばかりか、別の添加剤を併用す
る時に溶解を妨げることがある。従って、好ましい添加
量は使用時の現像液に対して0.1〜10重量%であ
り、よりこのましくは0.5〜4重量%である。
必要に応じて、消泡剤および硬水軟化剤などを含有させ
ることもできる。硬水軟化剤としては例えば、ポリリン
酸およびそのナトリウム塩、カリウム塩およびアンモニ
ウム塩、エチレンジアミンテトラ酢酸、ジエチレントリ
アミンペンタ酢酸、トリエチレンテトラミンヘキサ酢
酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミントリ酢酸、ニト
リロトリ酢酸、1,2−ジアミノシクロヘキサンテトラ
酢酸および1,3−ジアミノ−2−プロパノールテトラ
酢酸などのアミノポリカルボン酸およびそれらのナトリ
ウム塩、カリウム塩およびアンモニウム塩、アミノトリ
(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラ(メ
チレンホスホン酸)、ジエチレントリアミンペンタ(メ
チレンホスホン酸)、トリエチレンテトラミンヘキサ
(メチレンホスホン酸)、ヒドロキシエチルエチレンジ
アミントリ(メチレンホスホン酸)および1−ヒドロキ
シエタン−1,1−ジホスホン酸やそれらのナトリウム
塩、カリウム塩およびアンモニウム塩を挙げることがで
きる。
と使用される硬水の硬度および硬水の量によって最適値
が変化するが、−般的な使用量を示せば、使用時の現像
液に0.01〜5重量%、より好ましくは0.01〜
0.5重量%の範囲である。この範囲より少ない添加量
では所期の目的が十分に達成されず、添加量がこの範囲
より多い場合は、色抜けなど、画像部への悪影響がでて
くる。現像液および補充液の残余の成分は水であるが、
更に必要に応じて当業界で知られた種々の添加剤を含有
させることができる。現像液および補充液は使用時より
も水の含有量を少なくした濃縮液としておき、使用時に
水で希釈するようにしておくことが運搬上有利である。
この場合の濃縮度は各成分が分離や析出を起こさない程
度が適当である。
PS版は水洗水、界面活性剤などを含有するリンス液、
アラビヤガムや澱粉誘導体等を主成分とするフィニッシ
ャーや保護ガム液で後処理が施される。PS版の後処理
にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができ
る。近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化および
標準化のため、PS版用の自動現像機が広く用いられて
いる。この自動現像機は−般に現像部と後処理部で構成
されており、PS版を水平に搬送する装置と、各処理液
槽およびスプレー装置とからなり、露光済みのPS版を
水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた名処理液をス
プレーノズルから吹き付けて、現像および後処理するも
のである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中
に液中ガイドロールなどによってPS版を浸せき搬送さ
せて現像処理する方法や、現像後一定量の少量の水洗水
を版面に供給して水洗し、その廃水を現像液原液の希釈
水として再利用する方法も知られている。このような自
動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応
じてそれぞれの補充液を補充しながら処理することがで
きる。また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆ
る使い捨て処理方式も適用できる。このような処理によ
って得られた平版印刷版はオフセット印刷機にかけら
れ、多数枚の印刷に用いられる。
説明するが、本発明の内容がこれらに限定されるもので
はない。なお、下記において、%が特に指定にのない限
り全て重量%を表す。 (実施例1〜3、比較例1〜5)厚さ0.24mmのJI
S A1050アルミニウム板の表面をナイロンブラシ
と400メッシュのパミストンの水懸濁液を用い砂目立
てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウム
に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で
水洗後20%HNO3で中和洗浄、水洗した。これをVA
=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて
1%硝酸水溶液中で160クーロン/dm2の陽極時電気
量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定した
ところ0.6μm(Ra表示)であった。ひきつづいて
30%のH2SO4水溶液中に浸漬し55℃で2分間デス
マットした後、20%H2SO4水溶液中で電流密度14
A/dm2、陽極酸化皮膜量が2.5g/m2相当になるよ
うに陽極酸化し、水洗して基板[A]を作成した。
水溶液で30℃、20秒処理し、水洗して基板[B]を
作成した。この様にして処理された基板[B]の表面に
下記組成の下塗り液(I)を塗布し、70℃、10秒間
乾燥した。乾燥後の被覆量は、15mg/m2であった。・・
・・・・ (実施例1) 同様にして、下塗り液(I)のP−1の代わりに、P−
2(実施例2)、P−12(実施例3)、P−13(実
施例4)を用いた下塗り液を15mg/m2基板Bに塗布し
た支持体を作製した。−方、比較のために基板[B]に
下塗り液を塗布しない支持体(比較例1)を作製した。
また、基板[B]に下塗り液(I)のP−1の代わりに
米国特許3,136,636号に記載されているポリア
クリル酸を塗布した支持体(比較例2)を作製した。さ
らに比較のために陽極酸化処理までした基板Aに下塗り
液(I)を塗布しない支持体(比較例3)と下塗り液
(I)を塗布した支持体も作製した(比較例4)。
を塗布した。 感光液 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 (重量平均分子量2,500) 45重量部 フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂 (重量平均分子量11,000、3核体以上の成分の含有率 95%) 80重量部 p−トルエンスルホニルメタクリルアミド(28モル%) :アクリロニトリル(21モル%):エチルアクリレ ート(51モル%)共重合体 20重量部 2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリク ロロメチル)−s−トリアジン 2重量部 オイルブルー#603(オリエント化学工業(株)製) 1重量部 メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.4重量部 メチルエチルケトン 1000重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 1000重量部
845号に記載されている様に基板基板[B]に下塗り
液を塗布しない支持体を作製した後に、上記に示す感光
液処方にP−1を0.3g添加した感光液を塗布した
(比較例5)。
ルムを通して1mの距離から3kwのメタルハライドラ
ンプを用いて60秒間露光した。その後、下記現像液に
て浸漬型現像槽を有する市販の自動現像機PS−900
V(富士写真フイルム(株)製)で現像処理した。 現像液 サリチル酸 0.1モル/リットル サッカロース 0.1モル/リットル テトラブチルアンモニウムブロマイド 0.001モル/リットル NaOH (液pHを12.5に調整)
のように行った。現像後にベタ部と非画像部を富士写真
フイルム社製の消去液RP−1で消去、水洗した後、ベ
タ消去部と非画像部の消去部を次のように目視評価し
た。 ○…ベタ部と非画像部の色の差がない △…非画像部がベタ消去部より白いが、×程は差がない ×…非画像部がベタ消去部より明らかに白い 放置汚れの観察は以下のように行った。SOR−M印刷
機にて、2000枚印刷後、印刷を停止し、40分間放
置する。その後、再度印刷機に収り付けて100枚印刷
した。その時の、非画像部のインキの払われ方を観察
し、次のように評価した。 ○…インキの払われ方が速い △…インキの払われ方が遅いが、×程は遅くない ×…インキの払われ方が遅い(汚れやすい) また、耐刷性の比較のためには、常法に従って多数枚印
刷を行い、印刷可能な枚数を測定し判定した。カス、ヘ
ドロの評価は以下の様に行った。現像液1リットルに対
して、プレート10m2を処理した後、この時のアルカリ
現像液に対する酸化皮膜の溶解の程度を現像液中に残る
カスの状態で判定した。 ○…カス、ヘドロが発生しない。 △…カス、ヘドロの発生が認めらるが、×程は多くな
い。 ×…カス、ヘドロが多量に発生する。 以上の結果を表1に示した。
24mmのJIS A1050アルミニウム板の表面をナ
イロンブラシと400メッシュのパミストンの水懸濁液
を用い砂目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸
化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエッチングし
た後、流水で水洗後20%HNO3で中和洗浄、水洗し
た。これをVA=12.7Vの条件下で正弦波の交番波
形電流を用いて1%硝酸水溶液中で160クーロン/dm
2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面
粗さを測定したところ0.6μm(Ra表示)であっ
た。ひきつづいて30%のH2SO4水溶液中に浸漬し5
5℃で2分間デスマットした後、20%H2SO4水溶液
中で電流密度14A/dm2、陽極酸化皮膜量が2.5g
/m2相当になるように陽極酸化し、水洗して基板[C]
を作成した。基板[C]を珪酸ナトリウム2.5wt%
水溶液で30℃、20秒処理し、水洗して基板[D]を
作成した。この様にして処理された基板[D]の表面に
下記組成の下塗り液(II)を塗布し、70℃、10秒間
乾燥した。乾燥後の被覆量は5mg/m2であった(実施例
5)。同様にして下塗り液(III)、下塗り液(IV)を
塗布し、70℃、10秒間乾燥した。乾燥後の被覆量
は、各々15mg/m2(実施例6)、30mg/m2(実施例
7)であった。 下塗り液(II) 下塗り液(III) 下塗り液(IV) P−1 0.1g P−1 0.3g P−1 0.6g メタノール 100g メタノール 100g メタノール 100g 水 1g 水 1g 水 1g 一方、比較のために基板[D]に下塗り液を塗布しない
支持体(比較例6)を作製した。また、さらに比較のた
めに陽極酸化処理までした基板[C]に下塗り液を塗布
しない支持体も作製した(比較例7)。
を塗布した。 感光液 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 (重量平均分子量2,500) 45重量部 フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂(重量平均分 子量11,000、3核体以上の成分の含有率95%) 80重量部 p−トルエンスルホニルメタクリルアミド(28モル%) :アクリロニトリル(21モル%):エチルアクリレー ト(51モル%)共重合体 20重量部 2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロ ロメチル)−s−トリアジン 2重量部 オイルブルー#603(オリエント化学工業(株)製) 1重量部 メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.4重量部 メチルエチルケトン 1000重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 1000重量部
真空焼枠中で透明ポジティブフィルムを通して1mの距
離から3kwのメタルハライドランプにより、50秒間
露光を行なった。その後、下記現像液にて浸漬型現像槽
を有する市販の自動現像機PSー900V(富士写真フ
イルム(株))で現像処理した。 現像液 サリチル酸 0.1モル/リットル サッカロース 0.1モル/リットル テトラブチルアンモニウムブロマイド 0.001モル/リットル NaOH (液pHを12.5に調整) この様に現像処理した後、十分水洗し、ガム引きした
後、実施例1〜4、比較例1〜5と同様の手順で耐刷
力、放置汚れ、現像時の非画像部の白色化、カス・ヘド
ロを評価した。
1050アルミニウムシートをパミス水懸濁液を研磨
剤として回転ナイロンブラシで表面を砂目立てした。こ
のときの表面粗さ(中心線平均粗さ)は0.5μであっ
た。水洗後、10%苛性ソーダ水溶液を70℃に温めた
溶液中に浸漬して、アルミニウムの溶解量が6〔g/
m2〕になるようにエッチングした。水洗後、30%硝酸
水溶液に1分間浸漬して中和し、十分水洗した。その後
に0.7%硝酸水溶液中で、陽極時電圧13ボルト、陰
極時電圧6ボルトの矩形波交番波形電圧を用いて20秒
間電解粗面化を行ない、20%硫酸の50℃溶液中に浸
漬して表面を洗浄した後、水洗した。さらに20%硫酸
水溶液中で直流を用いて多孔性陽極酸化皮膜形成処理を
行った。電流密度5A/dm2で行ない電解時間を調節し
て、表側の陽極酸化皮膜重量が25〔g/m2〕の基板
[C]を作った。この基板[C]を珪酸ナトリウム2.
5wt%水溶液(pH11.2)で30℃、20秒処理
し、水洗して基板[D]を作成した。また、基板[C]
を水酸化ナトリウムでpH12.0に調整した珪酸ナト
リウム2.5wt%水溶液で30℃、20秒処理し、水
洗して基板[E]を作成した。また基板[C]を水酸化
ナトリウムでpH13.0に調整した珪酸ナトリウム
2.5wt%水溶液で30℃、20秒処理し、水洗して
基板[F]を作成した。
表面に下記組成の下塗り液(V)を塗布し、70℃、1
0秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は、15mg/m2であっ
た(実施例8、9、10)。 下塗り液(V) P−1 0.3g メタノール 100g 水 1g 同様にして、基板Dの表面に下記組成の下塗り(VI)を
塗布し、70℃、10秒間乾燥した。乾燥後の被覆量
は、15mg/m2であった(実施例11)。 下塗り液(VI) P−1 0.3g 10%H2SO4 1.2g メタノール 100g 水 1g 一方、比較のために基板[D]に下塗り液を塗布しない
支持体(比較例8)を作製した。また、さらに比較の為
に陽極酸化処理までした基板[C]に珪酸ナトリウム処
理及び下塗りを塗布しない支持体(比較例9)を作製し
た。
を塗布した。 1,2−ジアゾナフトキノン−5−スルホニルクロリドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物(米国特 許第3,635,709 号明細書の実施例1に記載されているもの) 0.45g クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック樹脂(メタ/パラ 比、6対4、重量平均分子量3,000、数平均分子量1,100) 1.1g 4−〔P−N−(P−ヒドロキシベンゾイルアミノフェニル〕 −2,6−ビス(トリクロロメチル)−S−トリアジン 0.02g テトラヒドロ無水フタル酸 0.05g ビクトリアピュアブルーBOH(保土谷化学(株)製) 0.02g メガファックF−177(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.006g メチルエチルケトン 15g 1−メトキシ−2−プロパノール 15g
を、真空焼枠中で、透明ポジティブフィルムを通して1
mの距離から3kwのメタルハライドランプにより、5
0秒間露光を行なったのち、SiO2/K2Oのモル比が
1.5の珪酸カリウムの4.5%水溶液(pH=12.
9)を用いて浸漬型現像槽を有する市販の自動現像機P
S−900V(富士写真フイルム(株))で現像処理し
た。この様に現像した後、十分水洗し、ガム引きしたの
ち実施例1〜4、比較例1〜5と同様の手順で耐刷力、
放置汚れ、現像時の非画像部の白色化、カス・ヘドロを
評価した。また残色は、現像後の非画像部の濃度と塗布
前の支持体の濃度の差を(ΔD)で表示した。
来のものに比べて現像時の陽極酸化皮膜の溶解が防止で
き、よって現像時の非画像部の白色化の防止、ヘドロガ
スの発生の防止、又放置汚れを軽減することができ、ま
た残色を軽減することができ、且つ優れた耐刷力を発揮
するという顕著な効果を有する。
Claims (1)
- 【請求項1】 粗面化処理、陽極酸化処理し、更に親水
化処理したアルミニウム板上に、下記一般式(1)で示
される構造単位を含有する高分子化合物を含む層を設け
た後に、感光層を設けることを特徴とするポジ型感光性
平版印刷版。 【化1】 (R1は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表
わす。R2、R3はそれぞれ独立して、水素原子、水酸
基、ハロゲン原子、アルキル基、芳香族基、−OR4、
−COOR5、−CONHR6、−COR7もしくは−C
Nを表わすか、またはR2とR3が結合して環を形成して
も良い。R4〜R7は各々アルキル基または芳香族基を表
わす。Xは水素原子、金属原子、NR8R9R10R11を表
わす。R8〜R11はそれぞれ独立して、水素原子、アル
キル基、芳香族基を表わすか、またはR8とR9が結合し
て環を形成しても良い。nは1〜3の整数を表わす。)
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