JPH1067813A - 光重合性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 長波長光に対し高感度の光重合開始剤を含む
光重合性組成物を提供する。 【解決手段】 ｉ）付加重合可能なエチレン性不飽和結
合を有する化合物、ii）一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、Ｒ¹ 、Ｒ² はアリール基、Ｒ⁵ 、Ｒ⁶ は水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基で互い
に結合して脂環構造又は芳香環構造を形成してもよく、
Ｒ³ 、Ｒ⁴ は水素原子、アルキル基またはアリール基、
−Ｘ−は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ⁷ −でＲ⁷ は水素原
子、アルキル基、アリール基、置換カルボニル基または
置換スルフォニル基を表す）で表される化合物、及びii
i)該成分ii）との共存下で光照射によって活性ラジカル
を発生する化合物を含有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光重合性組成物に関
する。さらに詳細には、可視光に対し優れた感光性を有
する新規な組成の光重合開始系からなる光重合性組成物
に関する。

【０００２】

【従来の技術】光重合性組成物は光照射により引き起こ
される重合反応の結果、組成物の物性変化を生じる材料
であり、印刷、プリント回路、超ＬＳＩ等の微細加工、
塗料、インキ、ホログラム記録、３次元造形等の広い分
野に用いられ、その用途はますます拡大されている。該
組成物は基本的には、付加重合可能なエチレン性不飽和
化合物と光重合開始剤よりなる。この種の組成物は光照
射により重合反応を生じ、硬化し不溶化する事から、該
組成物に、さらに必要に応じて皮膜形成能を有するバイ
ンダー樹脂、熱重合禁止剤等を加えた感光性組成物を適
当な皮膜となし、所望の陰画像を通して光照射を行い、
適当な溶媒により非照射部のみを除去する（以下、単に
現像と呼ぶ）事により所望の硬化画像を形成する事がで
きる。この様な画像形成法が印刷版等を作成する際に使
用されるものとして極めて有用であることはよく知られ
ている。

【０００３】該光重合性組成物における、光重合開始剤
としては従来、ベンジル、ベンゾインエーテル、ミヒラ
ーケトン、アントラキノン、アクリジン、フェナジン、
あるいはベンゾフェノン等が用いられてきた。しかしな
がら、これらの光重合開始剤からなる組成物は、感光速
度が低く、さらに、４００ｎｍ以下の紫外波長域の光に
対する光重合能力に比較し、４００ｎｍ以上の可視光に
対する光重合能力が顕著に低い。したがって、従来の光
重合開始剤からなる光重合性組成物はその応用範囲が著
しく限定されていた。

【０００４】少量の光照射により高い硬化を得ることの
できる感光性組成物は永く望まれている。それは、例え
ば非接触型の投影露光に適合する感光性材料として有用
である。また、近年、可視レーザーを用いた画像形成技
術が実用段階にあり、可視光線に対し、高い光重合能力
を有する感光性組成物が強く望まれている。該可視レー
ザー光としては、Ａｒ⁺ レーザーの４８８ｎｍ波長光を
用いた方法が有望視されており、また、最近では、ＹＡ
Ｇ−ＳＨＧレーザーの５３２ｎｍ波長光、Ｈｅ−Ｎｅレ
ーザーの５４３ｎｍ波長光などのより長波長の光源につ
いても精力的な検討がなされている。

【０００５】可視光線に対し、感応する光重合開始系か
らなる光重合組成物に関しては、従来いくつかの提案が
なされてきた。例えば、米国特許２，８５０，４４５号
によればある種の感光性染料、例えば、ローズベンガ
ル、エオシン、エリスロシン等が効果的な可視光感応性
を有していると報告されている。また改良技術として、
染料とアミンの複合開始系（特公昭４４−２０１８９号
公報）、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生
剤及び染料の系（特公昭４５−３７３７７号公報）、ヘ
キサアリールビイミダゾールとｐ−ジアルキルアミノベ
ンジリデンケトンの系（特公昭４７−２５２８号公報、
特開昭５４−１５５２９２号公報）、３−ケトクマリン
化合物と活性ハロゲン化合物の系（特開昭５８−１５５
０３号公報）、置換トリアジンとメロシアニン色素の系
（特開昭５４−１５１０２号公報）等の提案がなされて
きた。これらの技術は確かに可視光線に有効ではあるが
感度が高くなく、実用的見地からは、十分満足すべきも
のではない。また、特開平２−２４４０５０号公報には
高感度な開始系として４−チアゾリジノン骨格を有する
色素とラジカル発生剤の系が提案されている。この系は
確かに高感度ではあったが、尚、十分ではなく、さらに
高度な開始系が強く望まれていた。さらに、該開始系
は、５００ｎｍ以下の波長域に対する感光性に比較し
て、５００ｎｍより長波長での感光性が顕著に低下する
という制約を有し、特に前述の長波長レーザ光、例え
ば、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザ光に対する感光性は不十分で
あった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は高感度
の光重合性組成物を提供することである。すなわち、本
発明の目的は広く一般に付加重合性エチレン性不飽和化
合物を含む光重合性組成物の光重合速度を増大させる光
重合開始剤を含んだ光重合性組成物を提供することであ
る。また、本発明の別の目的は、４００ｎｍ以上の可視
光線、特にＡｒ⁺レーザーの出力に対応する４８８ｎ
ｍ、さらには、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザーやＨｅ−Ｎｅレ
ーザーの出力に対応する５００ｎｍより長波長の光に対
しても感度の高い光重合開始剤を含んだ光重合性組成物
を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、ある特定の置換基
を有するチアゾリノン骨格を有する色素を用いた光重合
開始系を含む光重合性組成物が、極めて高い光重合速度
を示し、また、４００ｎｍ以上の可視光線に対しても高
い感光性を示し、さらに５００ｎｍより長波長の可視光
線に対しても高い感光性を示すことを見出し、本発明に
到達したものである。

【０００８】即ち、本発明は、下記の成分（i)〜(iii）
を含有する事を特徴とする光重合性組成物である。 ｉ）付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも
一個有する化合物、 ii）一般式〔Ｉ〕

【０００９】

【化２】

【００１０】（式中、Ｒ¹ およびＲ² はそれぞれ独立し
てアリール基または置換アリール基を表し、Ｒ⁵ および
Ｒ⁶ はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基または置換アリー
ル基を表し、Ｒ⁵ とＲ⁶ が互いに結合して脂環構造又は
芳香環構造を形成してもよく、Ｒ³ 、Ｒ⁴ はそれぞれ独
立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基、置換アリール基を表し、−Ｘ−は−Ｏ−、−Ｓ
−、−ＮＲ⁷ −を表し、Ｒ⁷ は、水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置
換カルボニル基、置換スルフォニル基を表す）で表され
る化合物、及び iii)該成分（ii）との共存下で光照射によって活性ラジ
カルを発生する化合物。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の光重合性組成物の
各成分について、詳しく説明する。本発明に使用される
成分（ｉ）の付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少
なくとも一個有する化合物は、末端エチレン性不飽和結
合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物
から選ばれる。例えばモノマー、プレポリマー、すなわ
ち２量体、３量体およびオリゴマー、又はそれらの混合
物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつも
のである。モノマーおよびその共重合体の例としては、
不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのア
ミド等が挙げられる。

【００１２】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。

【００１３】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【００１４】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。

【００１５】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。

【００１６】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。さらに、前述のエステルモノマ
ーの混合物も挙げることができる。また、脂肪族多価ア
ミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの
具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチ
レンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレン
ビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−
メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリ
ルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。

【００１７】その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式（Ｄ）で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられ
る。

【００１８】 ＣＨ₂ ＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ₂ ＣＨ（Ｒ′）ＯＨ （Ｄ） （ただし、ＲおよびＲ′はＨあるいはＣＨ₃ を示す。） また、特開昭５１−３７１９３号に記載されているよう
なウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３
号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９
０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートを挙げることができる。さらに日本接
着協会誌Vol.１、２０、Ｎo.７、３００〜３０８ページ
（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーと
して紹介されているものを使用することができる。な
お、これらの使用量は、全成分に対し５〜７０重量％
（以下％と略称する。）、好ましくは１０〜５５％であ
る。

【００１９】本発明に使用される成分（ii）は下記一般
式〔Ｉ〕で表される化合物である。

【００２０】

【化３】

【００２１】式中のＲ¹ およびＲ² はそれぞれ独立して
アリール基および置換アリール基のいずれかであり、Ｒ
⁵ およびＲ⁶ はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基および
置換アリール基のいずれかであり、また、Ｒ⁵ とＲ⁶ が
互いに結合して脂環構造又は芳香環構造を形成している
ものも好適であり、Ｒ³ 、Ｒ⁴ はそれぞれ独立して、水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基のいずれかであり、−Ｘ−は−Ｏ−、−Ｓ
−、−ＮＲ⁷ −のいずれかであり、Ｒ⁷ は、水素原子、
アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリー
ル基、置換カルボニル基、置換スルホニル基のいずれか
であるものを使用することができる。

【００２２】前記一般式〔Ｉ〕で表される化合物におけ
るＲ³ 、Ｒ⁴ の好ましい例について詳述する。

【００２３】アルキル基としては炭素原子数が１から２
０までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。

【００２４】置換アルキル基の置換基としては、水素を
除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例として
は、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカ
プト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジ
チオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルア
ミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、
Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール
ウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′
−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−
ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール
−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
ルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−
Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ
−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−
アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ
−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバ
モイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ス
ルホ基（−ＳＯ₃ Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スル
ホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロ
キシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキル
スルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモ
イル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ
アリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アル
キルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモ
イル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルファモイル基、ホスフォノ基（−ＰＯ₃ Ｈ₂ ）及び
その共役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジア
ルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)₂ ）、ジアリール
ホスフォノ基（−ＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリールホ
スフォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホ
スフォノ基（−ＰＯ₃ Ｈ(alkyl) ）及びその共役塩基基
（以後、アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリー
ルホスフォノ基（−ＰＯ₃ Ｈ(aryl)）及びその共役塩基
基（以後、アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォ
ノオキシ基（−ＯＰＯ₃ Ｈ₂ ）及びその共役塩基基（以
後、ホスフォナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフ
ォノオキシ基（−ＯＰＯ₃(alkyl)₂ ）、ジアリールホス
フォノオキシ基（−ＯＰＯ₃(aryl)₂）、アルキルアリー
ルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モ
ノアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃ Ｈ(alkyl)
）及びその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナト
オキシ基と称す）、モノアリールホスフォノオキシ基
（−ＯＰＯ₃ Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以後、ア
リールフォスホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニト
ロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げ
られる。

【００２５】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることがで
きる。また、アルケニル基の例としては、ビニル基、１
−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−
クロロ−１−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基
の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブ
チニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられ
る。アシル基（Ｒ⁸ ＣＯ−）におけるＲ⁸ としては、水
素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げるこ
とができる。これら置換基の内、更により好ましいもの
としてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−
Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、、アルキルチオ
基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ
基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリ
ールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキ
ルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリー
ルホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナト
オキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。

【００２６】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上
の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。該置換基とアルキレン基を
組み合わせる事により得られる置換アルキル基の、好ま
しい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル
基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メト
キシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキ
シメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル
基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエ
チルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチ
ルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニ
ルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル
基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキ
ソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピ
ル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカル
ボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル
基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエ
チル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ
−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メ
チル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォ
ノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブ
チル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノ
ブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホ
スフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリ
ルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル
基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシ
ブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベン
ジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチ
ルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニ
ルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２
−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−
ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げることができ
る。

【００２７】次に、前記一般式〔Ｉ〕で表される化合物
におけるＲ³ 、Ｒ⁴ としてのアリール基としては、１個
から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼ
ン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げるこ
とができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、
アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセ
ナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、
これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ま
しい。

【００２８】置換アリール基としては、前述のアリール
基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価
の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置
換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、
ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示
したものを挙げることができる。この様な、置換アリー
ル基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロ
ロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシ
エトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフ
ェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフ
ェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェ
ニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキ
シルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカル
バモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル
基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキ
シフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリル
オキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボ
ニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル
カルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモ
イルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイ
ルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カ
ルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナト
フェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファ
モイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル
基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファ
モイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナ
トフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェ
ニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル
基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノ
フェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル
基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メ
チルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル
基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル
基、３−ブチニルフェニル基、等を挙げることができ
る。

【００２９】前記一般式〔Ｉ〕で表される化合物におけ
るＲ³ 、Ｒ⁴ のさらにより好ましい具体例としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
へキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソ
プロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチ
ル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、アリル
基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メ
チルアリル基、２−メチルプロペニル基、２−プロピニ
ル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ベンジル基、
フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１
−フェネチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル
基、ヒドロキシエチル基、メトキシエチル基、フェノキ
シエチル基、アリロキシエチル基、メトキシエトキシエ
チル基、エトキシエトキシエチル基、モルホリノエチル
基、モルホリノプロピル基、スルホプロピル基、スルホ
ナトプロピル基、スルホブチル基、スルホナトブチル
基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボ
キシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、２−エ
チルヘキシルオキシカルボニルエチル基、フェノキシカ
ルボニルメチル基、メトキシカルボニルプロピル基、Ｎ
−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−エチルアミノ
カルバモイルメチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルプロ
ピル基、Ｎ−トリルスルファモイルブチル基、ｐ−トリ
エンスルホニルアミノプロピル基、ベンゾイルアミノヘ
キシル基、ホスフォノメチル基、ホスフォノエチル基、
ホスフォノプロピル基、ｐ−ホスフォノベンジルアミノ
カルボニルエチル基、ホスフォナトメチル基、ホスフォ
ナトプロピル基、ホスフォナトブチル基、ｐ−ホスフォ
ナトベンジルアミノカルボニルエチル基、ビニル基、エ
チニル基を挙げることができる。

【００３０】前記一般式〔Ｉ〕で表される化合物におけ
るＲ¹ およびＲ² の、好のましいアリール基および置換
アリール基の例としては、前述のＲ³ 、Ｒ⁴ の例として
挙げたものを挙げることができる。

【００３１】次に、前記一般式〔Ｉ〕で表される化合物
におけるＲ⁵ およびＲ⁶ の好ましい例について詳述す
る。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素
原子が好ましい。アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基の好ましい例としては、前述のＲ
³ 、Ｒ⁴ の例として挙げたものを挙げることができる。

【００３２】以上に、挙げたＲ⁵ およびＲ⁶ の例の内、
より好ましいものとしては、水素原子、ハロゲン原子
（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、アルキル基、置換ア
ルキル基、アリール基、置換アリール基を挙げることが
できる。次に、Ｒ⁵ とＲ⁶ が互いに結合して脂環構造又
は芳香環構造を形成する場合の例を示す。このような例
としては、Ｒ⁵ とＲ⁶ が互いに結合して飽和、もしくは
不飽和の脂肪族環を形成するものを挙げることができ、
好ましくは、これが結合している炭素原子と共同して、
５員環、６員環、７員環及び８員環の脂肪族環を形成す
るものを挙げることができる。さらに、より好ましく
は、５員環、６員環の脂肪族環を挙げることができる。
また、これらは更に、これらを構成する炭素原子上に置
換基を有していても良く（置換基の例としては、先にＲ
³ 、Ｒ⁴ の例として挙げた、置換アルキル基における置
換基の例を挙げることができる）、また、環構成炭素の
一部が、ヘテロ原子（酸素原子、硫黄原子、窒素原子
等）で置換されていても良い。これらの好ましい具体例
としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シク
ロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロ−１，３−ジ
オキサペンタン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン
環、シクロヘプテン環、シクロオクテン環、シクロ−
１，３−ジオキサペンテン環、シクロ−１，３−ジオキ
サヘキセン環、シクロヘキサジエン環、ベンゾシクロヘ
キセン環、ベンゾシクロヘキサジエン環、等を挙げるこ
とができる。

【００３３】次に、前記一般式〔Ｉ〕で表される化合物
におけるＲ⁷ の好ましい例について詳述する。アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基の好
ましい例としては、前述のＲ³ 、Ｒ⁴ の例として挙げた
ものを挙げることができる。

【００３４】置換カルボニル基（Ｒ⁹ −ＣＯ−）として
は、Ｒ⁹ が一価の非金属原子団のものを使用できる。置
換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
リーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキ
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリ
ール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、な
らびにアリール基、置換アリール基として示したものを
挙げることができる。これらの内、より好ましい置換基
としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル
基、が挙げられ、更により好ましものとしては、ホルミ
ル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびにアリ
ーロキシカルボニル基が挙げられる。好ましい置換基の
具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル
基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、アリルオ
キシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−フ
ェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル
基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。

【００３５】置換スルホニル基（Ｒ¹⁰−ＳＯ₂ −）とし
ては、Ｒ¹⁰が一価の非金属原子団のものを使用できる。
より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基を挙げることができる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものを挙げることができる。このような、
置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル
基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。

【００３６】以下に、一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物
の好ましい例を具体的に示す。

【００３７】

【化４】

【００３８】

【化５】

【００３９】

【化６】

【００４０】

【化７】

【００４１】一般式〔Ｉ〕で表わされる化合物群は米国
特許２，４５４，６２９号に記載の方法で合成すること
ができる。すなわち、例えば、化合物（Ｉ−１５）は、
５−［４，５−ジフェニル−３−オクチル２（１Ｈ）−
チアゾリリデン］−４，５−ジヒドロ−３−エチル−２
−（メチルチオ）−４−オキソチアゾリウム ４−メチ
ルベンゼンスルホネートとクマラ−３−ノンとを塩基性
の条件下で縮合することにより得られる。この際、塩基
としては一般に汎用される塩基、例えば有機アミン、ピ
リジン類（トリアルキルアミン、ジメチルアミノピリジ
ン等）、金属アミド類（リチウムジイソプロピルアミド
等）、金属アルコキシド類（ナトリウムメトキシド、カ
リウム−ｔ−ブトキシド等）、金属水素化物類（水素化
ナトリウム等）が好適に使用できる。尚、一般式〔Ｉ〕
の化合物の合成法は上記に限定されるものではない。本
発明の光重合性組成物に用いられる一般式〔Ｉ〕の化合
物は単独、あるいは２種以上を併用する事によって、好
適に用いられる。

【００４２】次に本発明に使用される成分(iii) につい
て詳しく説明する。本発明における成分(iii) の化合物
は、成分（ii）の共存下、光照射により活性ラジカルを
生成するもので有ればいずれも好適に使用できる。すな
わち、光照射により励起された成分（ii）と何らかの相
互作用（エネルギー移動、電子移動、励起錯体生成等）
を経て活性ラジカルを生成する化合物群が好適に使用で
きる。好ましい活性剤の例としては、（ａ）炭素ハロゲ
ン結合を有する化合物、（ｂ）芳香族オニウム塩化合
物、（ｃ）有機過酸化物化合物、（ｄ）チオ化合物、
（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケ
トオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、
（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、
（ｊ）活性エステル化合物等が挙げられる。

【００４３】成分(iii) の一例である炭素ハロゲン結合
を有する化合物の好ましい例としては、下記一般式［I
I］から［VIII］のものを挙げることができる。

【００４４】

【化８】

【００４５】（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。Ｙ¹
は−ＣＸ₃ 、−ＮＨ₂ 、−ＮＨＲ′、−ＮＲ′₂ 、−Ｏ
Ｒ′を表わす。ここでＲ′はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を表わす。またＲは−
ＣＸ₃ 、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、置換アルケニル基を表わす。）で表わさ
れる化合物。

【００４６】

【化９】

【００４７】（ただし、Ｒ¹⁵は、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、Ｘは
ハロゲン原子であり、ｎは１〜３の整数である。）で表
わされる化合物。

【００４８】一般式［IV］： Ｒ¹⁶−Ｚ−ＣＨ_(2-m) Ｘ″_m −Ｒ¹⁷ ［IV］ （ただし、Ｒ¹⁶は、アリール基又は置換アリール基であ
り、Ｒ¹⁷は、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ¹⁸Ｒ¹⁹、−Ｃ（＝Ｓ）
ＮＲ¹⁸Ｒ¹⁹、

【００４９】

【化１０】

【００５０】又はハロゲン原子であり、Ｚは−Ｃ（＝
Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｓ）−又は−ＳＯ₂ −であり、Ｒ¹⁸、
Ｒ¹⁹はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置
換アルケニル基、アリール基又は置換アリール基であ
り、Ｒ²⁰は一般式［II］中のＲ′と同じであり、Ｘ″は
ハロゲン原子であり、ｍは１又は２である。）で表わさ
れる化合物。

【００５１】

【化１１】

【００５２】ただし、式中Ｒ²¹は置換されていてもよい
アリール基又は複素環式基であり、Ｒ²²は炭素原子１〜
３個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケニ
ル基であり、ｐは１、２又は３である。

【００５３】

【化１２】

【００５４】（ただし、Ｌは水素原子又は式：ＣＯ−
（Ｒ²³) _q （ＣＸ₃)_r の置換基であり、Ｑはイオウ、セ
レン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−
１，２−イレン基、１，２−フェニレン基又はＮ−Ｒ基
であり、Ｍは置換又は非置換のアルキレン基又はアルケ
ニレン基であるか、又は１，２−アリーレン基であり、
Ｒ²⁴はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキ
ル基であり、Ｒ²³は炭素環式又は複素環式の２価の芳香
族基であり、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素原子であり、
ｑ＝０及びｒ＝１であるか又はｑ＝１及びｒ＝１又は２
である。）で表わされる、トリハロゲノメチル基を有す
るカルボニルメチレン複素環式化合物。

【００５５】

【化１３】

【００５６】（ただし、Ｘはハロゲン原子であり、ｔは
１〜３の整数であり、ｓは１〜４の整数であり、Ｒ²⁵は
水素原子又はＣＨ_(3-t)Ｘ_t 基であり、Ｒ²⁶はｓ価の置
換されていてもよい不飽和有機基である）で表わされ
る、４−ハロゲノ−５−（ハロゲノメチル−フェニル）
−オキサゾール誘導体。

【００５７】

【化１４】

【００５８】（ただし、Ｘ′はハロゲン原子であり、ｖ
は１〜３の整数であり、ｕは１〜４の整数であり、Ｒ²⁷
は水素原子又はＣＨ_(3-v)Ｘ_v 基であり、Ｒ²⁸はｕ価の
置換されていてもよい不飽和有機基である。）で表わさ
れる、２−（ハロゲノメチル−フェニル）−４−ハロゲ
ノ−オキサゾール誘導体。

【００５９】このような炭素−ハロゲン結合を有する化
合物の具体例としては、たとえば、若林ら著、Bull. Ch
em. Soc.Japan,４２、２９２４（１９６９）記載の化合
物、たとえば、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロ
ルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロル
メチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２−（２′，４′−ジクロルフェニル）−４，６
−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２，
４，６−トリス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジ
ン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−
Ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリ
クロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−
トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチ
ル）−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特
許１３８８４９２号明細書記載の化合物、たとえば、２
−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−
トリアジン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビ
ス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−
メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチ
ル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）
−４−アミノ−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン
等、特開昭５３−１３３４２８号記載の化合物、たとえ
ば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６
−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４
−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリ
クロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−［４−（２−エト
キシエチル）−ナフト−１−イル］−４，６−ビス−ト
リクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメ
トキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロ
ルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（アセナフト−５−イ
ル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジ
ン等、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、
たとえば、

【００６０】

【化１５】

【００６１】

【化１６】

【００６２】等を挙げることができる。また、F.C.Scha
efer等によるJ. Org. Chem.;２９、１５２７（１９６
４）記載の化合物、たとえば２−メチル−４，６−ビス
（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−
トリス（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，
４，５−トリス（ジブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、
２−アミノ−４−メチル−６−トリブロムメチル−Ｓ−
トリアジン、２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロ
メチル−Ｓ−トリアジン等を挙げることができる。

【００６３】さらに特開昭６２−５８２４１号記載の化
合物、たとえば

【００６４】

【化１７】

【００６５】

【化１８】

【００６６】等を挙げることができる。更に特開平５−
２８１７２８記載の化合物、例えば、

【００６７】

【化１９】

【００６８】等を挙げることができる。あるいはさらに
M.P.Hutt, E.F.ElslagerおよびL.M.Merbel著Journal of
Heterocyclic chemistry 第７巻（Ｎo.３）、第５１１
頁以降（１９７０年）に記載されている合成方法に準じ
て、当業者が容易に合成することができる次のような化
合物群

【００６９】

【化２０】

【００７０】

【化２１】

【００７１】

【化２２】

【００７２】

【化２３】

【００７３】

【化２４】

【００７４】

【化２５】

【００７５】あるいは、ドイツ特許第２６４１１００号
に記載されているような化合物、例えば、４−（４−メ
トキシ−スチリル）−６−（３，３，３−トリクロルプ
ロペニル）−２−ピロンおよび４−（３，４，５−トリ
メトキシ−スチリル）−６−トリクロルメチル−２−ピ
ロン、あるいはドイツ特許第３３３３４５０号に記載さ
れている化合物、例えば、

【００７６】

【化２６】

【００７７】

【化２７】

【００７８】

【化２８】

【００７９】また、成分（iii ）の別の例である芳香族
オニウム塩としては、周期律表の第Ｖ、VIおよびVII 族
の元素、具体的にはＮ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｏ，
Ｓ，Ｓｅ，Ｔｅ，またはＩの芳香族オニウム塩が含まれ
る。このような芳香族オニウム塩の例としては、特公昭
５２−１４２７７号、特公昭５２−１４２７８号、特公
昭５２−１４２７９号に示されている化合物を挙げるこ
とができる。

【００８０】具体的には、

【００８１】

【化２９】

【００８２】

【化３０】

【００８３】

【化３１】

【００８４】

【化３２】

【００８５】本発明に使用される成分(iii)の他の例で
ある有機過酸化物としては分子中に酸素−酸素結合を１
個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、
その例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、
シクロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメ
チルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘ
キサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサ
イド、１，１−ビス（tert−ブチルパーオキシ）−３，
３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（te
rt−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、２，２−ビス
（tert−ブチルパーオキシ）ブタン、tert−ブチルハイ
ドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、
ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラ
メタンハイドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキ
サン−２，５−ジハイドロパーオキサイド、１，１，
３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、
ジtert−ブチルパーオキサイド、tert−ブチルクミルパ
ーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス（tert−
ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５−ジ
メチル−２，５−ジ（tert−ブチルパーオキシ）ヘキサ
ン、２，５−オキサノイルパーオキサイド、過酸化こは
く酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベンゾイル
パーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジ
イソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチ
ルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキ
シエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプ
ロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチル−３−
メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、tert−ブ
チルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピ
バレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、
tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−ブチル
パーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、
tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカーボネ
ート、３，３′，４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパー
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，４，
４′−テトラ−（ｔ−アミノパーオキシカルボニル）ベ
ンゾフェノン、３，３′，４，４′−テトラ−（ｔ−ヘ
キシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，
３′，４，４′−テトラ（ｔ−オクチルパーオキシカル
ボニル）ベンゾフェノン、３，３′，４，４′−テトラ
（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，
３′，４，４′−テトラ（ｐ−イソプロピルクミルパー
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ
−ブチルパーオキシ二水素二フタレート）、カルボニル
ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート）等が
ある。

【００８６】これらの中で、３，３′，４，４′−テト
ラ−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、３，３′，４，４′−テトラ−（ｔ−アミノパーオ
キシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，４，４′
−テトラ（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾ
フェノン、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−オクチル
パーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′，
４，４′−テトラ（クミルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、３，３′，４，４′−テトラ（ｐ−イソプ
ロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸
化エステル系が好ましい。

【００８７】本発明で使用される成分（iii ）としての
チオ化合物は、下記一般式［IX］で示される。

【００８８】

【化３３】

【００８９】（ここで、Ｒ²⁹はアルキル基、アリール基
または置換アリール基を示し、Ｒ³⁰は水素原子またはア
ルキル基を示す。また、Ｒ²⁹とＲ³⁰は、互いに結合して
酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含
んでもよい５員ないし７員環を形成するのに必要な非金
属原子群を示す。） 上記一般式〔IX〕におけるＲ²⁹のアルキル基としては炭
素原子数１〜４個のものが好ましい。またＲ²⁹のアリー
ル基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数６
〜１０個のものが好ましく、置換アリール基としては、
上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロゲン原
子、メチル基のようなアルキル基、メトキシ基、エトキ
シ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含まれ
る。Ｒ³⁰は、好ましくは炭素原子数１〜４個のアルキル
基である。

【００９０】一般式［IX］で示されるチオ化合物の具体
例としては、下記に示すような化合物が挙げられる。

【００９１】

【化３４】

【００９２】本発明に使用される成分(iii)の他の例で
あるヘキサアリールビイミダゾールとしては、２，２′
−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−
テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−
ブロモフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニ
ルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロ
フェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイ
ミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−
４，４′，５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）
ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｏ′−ジクロロ
フェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイ
ミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−
４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、
２，２′−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４′，
５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−
ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４′，５，
５′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。

【００９３】本発明で使用される成分（iii ）の他の例
であるケトオキシムエステルとしては３−ベンゾイロキ
シイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタ
ン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−
２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、
２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オ
ン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン
−１−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシイミノ
ブタン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキシイミ
ノ−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げられる。

【００９４】本発明における成分（iii ）の他の例であ
るボレート塩の例としては下記一般式［Ｘ］で表わされ
る化合物を挙げる事ができる。

【００９５】

【化３５】

【００９６】（ここで、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³およびＲ³⁴に
互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換又は非置
換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、置換又
は非置換のアルケニル基、置換又は非置換のアルキニル
基、もしくは置換又は非置換の複素環基を示し、Ｒ³¹、
Ｒ³²、Ｒ³³およびＲ³⁴はその２個以上の基が結合して環
状構造を形成してもよい。ただし、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³お
よびＲ³⁴のうち、少なくとも１つは置換又は非置換のア
ルキル基である。Ｚ⁺ はアルカリ金属カチオンまたは第
４級アンモニウムカチオンを示す）。

【００９７】上記Ｒ³¹〜Ｒ³⁴のアルキル基としては、直
鎖、分岐、環状のものが含まれ、炭素原子数１〜１８の
ものが好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オク
チル、ステアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシルなどが含まれる。また置換アルキル基とし
ては、上記のようなアルキル基に、ハロゲン原子（例え
ば−Ｃｌ、Ｂｒなど）、シアミ基、ニトロ基、アリール
基（好ましくはフェニル基）、ヒドロキシ基、

【００９８】

【化３６】

【００９９】（ここでＲ³⁵、Ｒ³⁶は独立して水素原子、
炭素数１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示
す。）、−ＣＯＯＲ³⁷（ここでＲ³⁷は水素原子、炭素数
１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す。）、−
ＯＣＯＲ³⁸又は−ＯＲ³⁸（ここでＲ ³⁸は炭素数１〜１４
のアルキル基、又はアリール基を示す。）を置換基とし
て有するものが含まれる。

【０１００】上記Ｒ³¹〜Ｒ³⁴のアリール基としては、フ
ェニル基、ナフチル基などの１〜３環のアリール基が含
まれ、置換アリール基としては、上記のようなアリール
基に前述の置換アルキル基の置換基又は、炭素数１〜１
４のアルキル基を有するものが含まれる 上記Ｒ³¹〜Ｒ³⁴のアルケニル基としては、炭素数２〜１
８の直鎖、分岐、環状のものが含まれ、置換アルケニル
基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基と
して挙げたものが含まれる。

【０１０１】上記Ｒ³¹〜Ｒ³⁴のアルキニル基としては、
炭素数２〜２８の直鎖又は分岐のものが含まれ、置換ア
ルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の置
換基として挙げたものが含まれる。また、上記Ｒ⁵¹〜Ｒ
⁵⁴の複素環基としては、Ｎ，ＳおよびＯの少なくとも１
つを含む５員環以上、好ましくは５〜７員環の複素環基
が挙げられ、この複素環基には縮合環が含まれていても
よい。更に置換基として前述の置換アリール基の置換基
として挙げたものを有していてもよい。

【０１０２】一般式〔Ｘ〕で示される化合物例としては
具体的には米国特許３，５６７，４５３号、同４，３４
３，８９１号、ヨーロッパ特許１０９，７７２号、同１
０９，７７３号に記載されている化合物および以下に示
すものが挙げられる。

【０１０３】

【化３７】

【０１０４】本発明の成分(iii)の他の例であるアジニ
ウム塩化合物の例としては、ＵＳＰ４，７４３，５２８
号、特開昭６３−１３８３４５号、特開昭６３−１４２
３４５号、特開昭６３−１４２３４６号、特開昭６３−
１４３５３７号ならびに特公昭４６−４２３６３号記載
のＮ−Ｏ結合を有する化合物群を挙げることができる。
この様なアジニウム塩化合物の具体例としては１−メト
キシ−４−フェニルピリジニウム テトラフルオロボレ
ートを挙げることができる。成分（iii)の他の例である
メタロセン化合物の例としては、特開昭５９−１５２３
９６号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−４
１４８４号、特開平２−２４９号、特開平２−４７０５
号、特開平５−８３５８８号記載の種々のチタノセン化
合物、例えばジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ
−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シク
ロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テト
ラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロ
フェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−
Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ
−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，
６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロ
ペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラ
フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジ
エニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフル
オロフェニ−１−イル等を挙げることができる。また、
特開平１−３０４４５３号、特開平１−１５２１０９号
記載の鉄−アレーン錯体も好適である。

【０１０５】成分（iii ）の他の例である活性エステル
化合物の例としては特公昭６２−６２２３号記載のイミ
ドスルホネート化合物、特公昭６３−１４３４０号、特
開昭５９−１７４８３１号記載の活性スルホネート類を
挙げることができる。

【０１０６】本発明における成分(iii) は単独もしくは
２種以上の併用によって好適に用いられる。本発明の組
成物中のこれらの光重合開始系、すなわち成分（ii）お
よび成分(iii)の含有濃度は通常わずかなものである。
また、不適当に多い場合には有効光線の遮断等好ましく
ない結果を生じる。

【０１０７】本発明における光重合開始系の量は、光重
合可能なエチレン性不飽和化合物と必要に応じて添加さ
れる線状有機高分子重合体との合計に対して０．０１％
から６０％、より好ましくは、１％から３０％の範囲で
ある。本発明に使用される光重合開始系の成分である成
分（ii）と成分（iii ）の比は、成分（ii）の有機染料
１重量部に対して成分(iii)を０．０１〜５０重量部使
用するのが適当であり、更に好ましくは０．０２〜２０
重量部、最も好ましくは０．０５〜１０重量部である。

【０１０８】本発明の光重合性組成物には、感度を一層
向上させる、あるいは酸素による重合阻害を抑制する等
の作用を有する公知の化合物を共増感剤として、さらに
加えて良い。この様な共増感剤の例としては、アミン
類、例えばM.R.Sanderら著「Journalof Polymer Societ
y」第１０巻、３１７３頁（１９７２年）、特公昭４４
−２０１８９号、特開昭５１−８２１０２号、特開昭５
２−１３４６９２号、特開昭５９−１３８２０５号、特
開昭６０−８４３０５号、特開昭６２−１８５３７号、
特開昭６４−３３１０４号、Research Disclosure ３３
８２５号記載の化合物等が挙げられ、具体的には、トリ
エタノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル
エステル、ｐ−ホルミルジメチルアニリン、ｐ−メチル
チオジメチルアニリン、等が挙げられる。

【０１０９】共増感剤の別の例としては、チオールおよ
びスルフィド類、例えば、特開昭５３−７０５号、特公
昭５５−５００８０６号、特開平５−１４２７７２号記
載のチオール化合物、特開昭５６−７５６４３号のジス
ルフィド化合物等が挙げられ、具体的には、２−メルカ
プトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾ
ール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカ
プト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタ
レン等が挙げられる。

【０１１０】また別の例としては、アミノ酸化合物
（例、Ｎ−フェニルグリシン等）、特公昭４８−４２９
６５号記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテ
ート等）、特公昭５５−３４４１４号記載の水素供与
体、特願平５−９１０８９号記載のイオウ化合物（例、
トリチアン等）、特開平６−２５０３８９号記載のリン
化合物（ジエチルホスファイト等）、特願平６−１９１
６０５号記載のＳｉ−Ｈ、Ｇｅ−Ｈ化合物等が挙げられ
る。

【０１１１】さらに別の例としては、米国特許４，３１
８，７９１号、ヨーロッパ特許０２８４５６１Ａ１号記
載のアミノケトン化合物、例えば、

【０１１２】

【化３８】

【０１１３】等が挙げられる。さらに他の例としては、
特願平７−１３１０８号記載のオキシムエーテル類も好
適である。具体例としては、例えば以下のもの等が挙げ
られる。

【０１１４】

【化３９】

【０１１５】この様な共増感剤を使用する場合には、成
分（ii）の化合物１重量部に対して、０．０１〜５０重
量部使用するのが適当であり、より好ましくは０．０２
〜２０重量部、最も好ましくは０．０５〜１０重量部で
ある。本発明の光重合性組成物には、バインダーとして
の線状有機高分子重合体を含有させることが好ましい。
このような「線状有機高分子重合体」としては、光重合
可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有している線
状有機高分子重合体である限り、どれを使用しても構わ
ない。好ましくは水現像或は弱アルカリ水現像を可能と
する水あるいは弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である線
状有機高分子重合体が選択される。線状有機高分子重合
体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、現像剤
として水、弱アルカリ水或は有機溶剤のいずれが使用さ
れるかに応じて適宜選択使用される。例えば、水可溶性
有機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。この
様な線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸
基を有する付加重合体、例えば特開昭５９−４４６１５
号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７
７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７
２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１
０４８号に記載されているもの、すなわち、メタクリル
酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エ
ステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖
にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。
この他に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付
加させたものなどが有用である。特にこれらの中で〔ベ
ンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必
要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合
体及び〔アリル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリ
ル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマ
ー〕共重合体が好適である。この他に水溶性線状有機高
分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキ
サイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を挙げるた
めにアルコール可溶性ポリアミドや２，２−ビス−（４
−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリ
ンのポリエーテル等も有用である。これらの線状有機高
分子重合体は全組成中に任意な量を混和させることがで
きる。しかし９０重量％を超える場合には形成される画
像強度等の点で好ましい結果を与えない。好ましくは３
０〜８５％である。また光重合可能なエチレン性不飽和
化合物と線状有機高分子重合体は、重量比で１／９〜７
／３の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は３
／７〜５／５である。

【０１１６】また、本発明においては以上の基本成分の
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合防止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−
メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニル
ヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱
重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．
０１％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素に
よる重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミ
ドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾
燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪
酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５％〜約１０％
が好ましい。

【０１１７】本発明においては、感光層の着色を目的と
して染料または顔料を添加することができる。染料もし
くは顔料の添加量は全組成物の０．０１％〜２０％であ
り、より好ましくは０．５〜１０％である。また、染料
よりも顔料の方がより好ましい。顔料としては、市販の
ものの他、各種文献等に記載されている公知のものが利
用できる。文献に関しては、カラーインデックス（Ｃ．
Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、
１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、
１９８６年刊）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１
９８４年刊）等がある。

【０１１８】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、橙色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔
料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマ
ー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔
料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔
料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペ
リレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料等が挙げられる。この中でより好まし
いのは、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、フタロシア
ニン系顔料、アントラキノン系顔料等である。

【０１１９】また、これらの顔料はポリマーの存在下に
分散されたものであってもよく、そのようなポリマーと
しては、例えば特願平６−１９３３５７号に記載の一般
式（イ）〜（ハ）で表されるような、主鎖又は側鎖に脂
肪族二重結合を有するポリマーを挙げることができる。

【０１２０】

【化４０】

【０１２１】式中、Ｒ³⁹、Ｒ⁴⁰、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²、Ｒ⁴³、Ｒ
⁴⁴およびＲ⁴⁵は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基
またはアリール基を示す。Ｘ，Ｙ及びＺは、それぞれ独
立に、二価の連結基である。Ｑは、脂肪族環を形成する
原子団である。アルキル基としては、炭素原子数が好ま
しくは２０以下、より好ましくは１０以下、更に好まし
くは６以下のアルキル基（例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、イソプロピル
基など）が挙げられる。

【０１２２】アリール基としては、炭素数６〜２２のア
リール基（例えばフェニル基、ナフチル基、アンスリル
基など）を挙げることができる。アルキル基及びアリー
ル基は、置換基としてアルコキシ基、アミド基、アルコ
キシカルボニル基などで置換されていてもよい。Ｒ³⁹、
Ｒ⁴⁰、Ｒ⁴¹、Ｒ⁴²、Ｒ⁴³、Ｒ⁴⁴およびＲ⁴⁵は、それぞ
れ、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、
水素原子またはメチルであることが特に好ましい。

【０１２３】ＸおよびＹで表される二価の連結基の例と
しては、アルキレン基、アリーレン基、カルボニル基、
イミノ基、酸素原子、硫黄原子およびそれらの組み合わ
せを挙げることができる。二価の連結基は、アリール
基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基あるいはシアノ基等
で置換されていてもよい。アルキレン基としては、炭素
原子数が好ましくは１０以下、より好ましくは６以下、
更に好ましくは３以下のアルキレン基（例えば、−ＣＨ
₂ ＣＨ₂ ＣＨ₂ −、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ −、−ＣＨ₂ ＣＨ
（ＣＨ₃ ）−など）が挙げられる。

【０１２４】アリーレン基としては、炭素数６〜２２の
アリーレン基（例えば、

【０１２５】

【化４１】

【０１２６】など）が挙げられる。Ｘは、アルキレン基
であることが好ましい。Ｙは、アルキレン基、カルボニ
ル基、酸素原子およびそれらの組み合わせであることが
好ましい。Ｑが形成する脂肪族環は、５員または６員環
の組み合わされた炭素数５〜３０の脂肪族環（例えばシ
クロヘキサン環、ノルボルネニル環、ジシクロペンタジ
エン環）であることが好ましい。脂肪族環には、橋頭炭
素原子を有する二環系あるいは三環系炭化水素が含まれ
る。脂肪族環内の炭素原子間二重結合は、１つであるこ
とが好ましい。

【０１２７】本発明の光重合性組成物には、硬化皮膜の
物性を改良するために無機充填剤や、その他の公知の添
加剤を加えてもよい。さらに塗布における面状をよくす
るために界面活性剤の添加が好ましい。界面活性剤とし
ては、フッ素系の界面活性剤が好ましい。本発明の光重
合性組成物を支持体上に塗布する際には種々の有機溶剤
に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒として
は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、
酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラ
ン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセ
トンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタ
ノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ
−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがあ
る。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用するこ
とができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、２
〜５０重量％が適当である。その被覆量は乾燥後の重量
で約０．１ｇ／m²〜約１０ｇ／m²の範囲が適当である。
より好ましくは０．５〜５ｇ／m²である。

【０１２８】上記支持体としては、寸度的に安定な板状
物が用いられる。該寸度的に安定な板状物としては、
紙、プラスチック（例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレンなど）がラミネートされた紙、また、
例えばアルミニウム（アルミニウム合金も含む。）、亜
鉛、銅などのような金属の板、さらに、例えば二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース，ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタールなどのようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙
もしくはプラスチックフィルムなどが挙げられる。これ
らの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安
定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、
特公昭４８−１８３２７号に記載されているようなポリ
エチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシー
トが結合された複合体シートも好ましい。

【０１２９】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされてい
ることが好ましい。砂目立て処理としては、ブラシグレ
イン又は電解グレインが好ましい。電解グレインの電解
液としては硝酸又は塩酸の水溶液が好ましく、特に硝酸
が好ましい。

【０１３０】さらに、砂目立てしたのちに珪酸ナトリウ
ム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使
用できる。特公昭４７−５１２５号に記載されているよ
うにアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカ
リ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用
される。陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等
の有機酸またはそれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独
又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板
を陽極として電流を流すことにより実施される。

【０１３１】また、米国特許第３，６５８，６６２号に
記載されているようなシリケート電着も有効である。更
に、特公昭４６−２７４８１号、特開昭５２−５８６０
２号、特開昭５２−３０５０３号に開示されているよう
な電解グレインと、上記陽極酸化処理および珪酸ソーダ
処理を組合せた表面処理も有用である。ただし、珪酸ソ
ーダ処理は必ずしもなくてもよい。

【０１３２】また、特開昭５６−２８８９３号に開示さ
れているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解
グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。更に、これらの処理を行った後
に、水溶性の樹脂、たとえばポリビニルホスフォン酸、
スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポ
リアクリル酸、水溶性金属塩（例えば硼酸亜鉛）もしく
は、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適であ
る。

【０１３３】これらの親水化処理は、支持体の表面を親
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の
密着性の向上等のために施されるものである。さらに支
持体裏面には現像液へのアルミニウムの溶出を防止する
ために特開平５−２２７１号や特開平６−３５１７４号
に記載のバックコートを施こすのも好ましい。

【０１３４】支持体上に設けられた光重合性組成物の層
の上には、空気中の酸素による重合禁止作用を防止する
ため、例えばポリビニルアルコール、特にケン化度９５
％以上のポリビニルアルコール、酸性セルロース類など
のような酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を
設けてもよい。この様な保護層の塗布方法については、
例えば米国特許第３，４５８，３１１号、特開昭５５−
４９７２９号に詳しく記載されている。塗布量は０．１
〜５．０ｇが好ましく、０．５〜３ｇがさらに好まし
い。

【０１３５】また本発明の光重合性組成物は通常の光重
合反応に使用できる。さらに、印刷版、プリント基板等
作成の際のフォトレジスト等多方面に適用することが可
能である。特に本発明の光重合性組成物の特徴である高
感度性と可視光領域までの幅広い分光感度特性により、
Ａｒ⁺ レーザー、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザー等の可視光レ
ーザー用の感光材料に適用すると良好な効果が得られ
る。

【０１３６】また、本発明の光重合性組成物は、高感度
でかつ可視光に感光性があるため、マイクロカプセルを
利用した画像形成システム用として特に有利に用いるこ
とができる。マイクロカプセルを利用した画像形成シス
テムに利用するには例えば、特開昭５７−１９７５３８
号、同６１−１３０９４５号、同５８−８８７３９号、
同５８−８８７４０号、欧州特許第２２３，５８７Ａ１
号明細書等を参考にできる。この画像形成方法は例え
ば、エチレン性のビニル化合物及び光重合開始剤から成
る光重合開始剤組成物と色素プレカーサーを含むマイク
ロカプセルを支持体に塗設し、この感光シートを画像様
露光して露光部のマイクロカプセルを硬化させた後、顕
色剤シートを重ねて全面加圧することにより、未露光部
のマイクロカプセルを破壊し、色画像形成物質（例えば
色素プレカーサー）を受像要素（例えば顕色剤層）に転
写し、発色させる方法である。

【０１３７】本発明の光重合性組成物を用いた感光材料
は、画像露光したのち、加熱してもよい。加熱温度は６
０〜１６０℃が好ましくさらに好ましくは８０℃〜１３
０℃である。加熱時間は１秒〜５分が好ましい。さら
に、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を得る。
これらの光重合性組成物を平版印刷版の作成に使用する
際の好ましい現像液としては、特公昭５７−７４２７号
に記載されているような現像液が挙げられ、ケイ酸ナト
リウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二
リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン
酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノ
エタノールアミン又はジエタノールアミンなどのような
有機アルカリ剤の水溶液が適当である。該アルカリ剤
は、濃度が０．１〜１０重量％、好ましくは０．５〜５
重量％になるように添加される。

【０１３８】また、該アルカリ性水溶液には、必要に応
じて界面活性剤やベンジルアルコール、２−フェノキシ
エタノール、２−ブトキシエタノールのような有機溶媒
を少量含むことができる。例えば、米国特許第３，３７
５，１７１号および同第３，６１５，４８０号に記載さ
れているものを挙げることができる。更に、特開昭５０
−２６６０１号、同５８−５４３４１号、特公昭５６−
３９４６４号、同５６−４２８６０号の各公報に記載さ
れている現像液も優れている。

【０１３９】しかし、有機溶媒等を含有すると、作業時
の毒性、臭気等の衛生上の問題、火炎等の安全性の問
題、泡の発生等の作業性の問題、廃液による公害等の問
題等が発生するため、実質上有機溶媒を含まないものが
好ましい。このような、実質上有機溶媒を含まない水性
アルカリ現像液として例えば特開昭５９−８４２４１号
及び特開昭５７−１９２９５２号公報等に記載されてい
る現像液組成物を使用することができる。

【０１４０】好適に用いられる市販の現像液は、ＤＰ−
４（富士写真フイルム（株）製）を水で１／６〜１／３
０に稀釈した液である。本発明の光重合性組成物を用い
た感光性平版印刷版は、特開昭５４−８００２号、同５
５−１１５０４５号、特開昭５９−５８４３１号の各公
報に記載されている方法、即ち、現像処理後、水洗して
から不感脂化処理、またはそのまま不感脂化処理、また
は酸を含む水溶液での処理、または酸を含む水溶液で処
理後不感脂化処理を施してもよい。さらに、この種の感
光性平版印刷版の現像工程では、処理量に応じてアルカ
リ水溶液が消費されアルカリ濃度が減少したり、あるい
は、自動現像液の長時間運転により空気によってアルカ
リ濃度が減少するため処理能力が低下するが、その際、
特開昭５４−６２００４号、同５５−２２７５９号、同
５５−１１５０３９号、同５６−１２６４５号、同５８
−９５３４９号、同６４−２１４５１号、特開平１−１
８０５４８号、特開平２−３０６５号に記載の補充液、
並びに補充方法によって、処理能力を回復させることが
できる。

【０１４１】また、上記のような製版処理は、特開平２
−７０５４号、同２−３２３５７号に記載されているよ
うな自動現像機で行なうことが好ましい。なお、製版工
程の最終工程で所望により塗布される不感脂化ガムとし
ては、特公昭６２−１６８３４号、同６２−２５１１８
号、同６３−５２６００号、特開昭６２−７５９５号、
同６２−１１６９３号、同６２−８３１９４号の各公報
に記載されているものが好ましい。

【０１４２】さらに現像処理後、バーニング加熱処理又
は後露光を行って印刷時の耐刷力を向上させることもで
きる。

【０１４３】

【実施例】以下、本発明を合成例、実施例および比較例
により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越
えない限りこれらの実施例に限定されるものではない。

【０１４４】本発明のii) 成分である化合物の合成例を
以下に示す。 合成例１（増感剤（Ｉ−１５）の調製） 窒素雰囲気下、６０％水素化ナトリウム０．６ｇをＴＨ
Ｆ溶媒６０ｍｌに懸濁、０℃に冷却した後、５−［４，
５−ジフェニル−３−オクチル−２（１Ｈ）−チアゾリ
リデン］−４，５ジヒドロ−３−エチル−２−（メチル
チオ）−４−オキソチアゾリウム ４−メチルベンゼン
スルフォネート４．９ｇを加え、続いてクマラ−３−ノ
ン２．０ｇのＴＨＦ２０ｍｌ溶液を滴下した。室温で３
時間反応させた後、反応混液を氷水中に注ぎ、水層を酢
酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次
洗浄した後、ＭｇＳＯ₄ で乾燥し、溶媒を減圧留去し
た。得られた粗（Ｉ−１５）をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにて精製し、（Ｉ−１５）３．２ｇを得
た。（Ｉ−１５）は核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収ス
ペクトルにより同定された。 融点 ２３９−２４０℃

【０１４５】合成例２（増感剤（Ｉ−２０）の調製） 窒素雰囲気下、６０％水素化ナトリウム０．４ｇをＴＨ
Ｆ溶媒１００ｍｌに懸濁、０℃に冷却した後、５−
［４，５−ジフェニル−３−オクチル−２（１Ｈ）−チ
アゾリリデン］−４，５ジヒドロ−３−エチル−２−
（メチルチオ）−４−オキソチアゾリウム ４−メチル
ベンゼンスルフォネート３．３ｇを加え、続いてチオイ
ンドキシル１．５ｇのＴＨＦ２０ｍｌ溶液を滴下した。
室温で３時間反応させた後、反応混液を氷水中に注ぎ、
水層を酢酸エチルにて抽出した。有機層を水、飽和食塩
水で順次洗浄した後、ＭｇＳＯ₄ で乾燥し、溶媒を減圧
留去した。得られた粗（Ｉ−２０）をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにて精製し、（Ｉ−２０）１．４ｇ
を得た。（Ｉ−２０）は核磁気共鳴スペクトル、赤外吸
収スペクトルにより同定された。 融点 ２２７−２２９℃

【０１４６】合成例３（増感剤（Ｉ−２５）の調製） 窒素雰囲気下、６０％水素化ナトリウム０．４ｇをＴＨ
Ｆ溶媒１００ｍｌに懸濁、０℃に冷却した後、５−
［４，５−ジフェニル−３−オクチル−２（１Ｈ）−チ
アゾリリデン］−４，５ジヒドロ−３−エチル−２−
（メチルチオ）−４−オキソチアゾリウム ４−メチル
ベンゼンスルフォネート３．３ｇを加え、続いて１−フ
ェニルスルフォニルインドロン２．７ｇのＴＨＦ３０ｍ
ｌ溶液を滴下した。室温で３時間反応させた後、反応混
液を氷水中に注ぎ、水層を酢酸エチルにて抽出した。有
機層を水、飽和食塩水で順次洗浄した後、ＭｇＳＯ₄ で
乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗（Ｉ−２５）
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、
（Ｉ−２５）１．２ｇを得た。（Ｉ−２５）は核磁気共
鳴スペクトル、赤外吸収スペクトルにより同定された。 融点 ２０８−２１０℃

【０１４７】以下、上記の合成例等によって合成された
化合物等を実施例として本発明を説明するが、本発明は
これらの実施例に限定されるものではない。厚さ０．３
mmのアルミニウム板を１０％水酸化ナトリウムに６０℃
で２５秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後２
０％硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これを正弦波
の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００クー
ロン／dm² の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。
引き続いて１％水酸化ナトリウム水溶液中に４０℃で５
秒間浸漬後３０％の硫酸水溶液中に浸漬し、６０℃で４
０秒間デスマット処理した後、２０％硫酸水溶液中、電
流密度２Ａ／dm² において陽極酸化皮膜の厚さが２．７
ｇ／m²になるように２分間陽極酸化処理した。その表面
粗さを測定したところ、０．３μ（Ｒａ表示）であっ
た。

【０１４８】このように処理された基板の裏面に下記の
ゾル−ゲル反応液をバーコータで塗布し８０℃で１分間
乾燥し、乾燥後の塗布量が７０ｍｇ／ｍ² のバックコー
ト層を設けた支持体Ａを作成した。 （ゾル−ゲル反応液の調製） テトラエチルシリケート ５０重量部 水 ２０重量部 メタノール １５重量部 リン酸 ０．０５重量部 上記成分を混合、攪はんすると約５分で発熱が開始し
た。６０分間反応させた後、以下に示す液を加えること
によりバックコート塗布液を調製した。

【０１４９】 ピロガロールホルムアルデヒド縮合樹脂（Ｍ．Ｗ．２０００） ４重量部 ジメチルフタレート ５重量部 フッ素系界面活性剤（Ｎ−ブチルペルフルオロオクタンスルホンアミドエチル アクリレート／ポリオキシエチレンアクリレート共重合体・分子量２万） ０．７重量部 メタノールシリカゾル（日産化学工業（株）製 メタノール３０％） ５０重量部 メタノール ８００重量部 このように処理されたアルミニウム板の面上に、下記組
成の感光性組成物を乾燥塗布重量が１．５ｇ／ｍ² とな
るように塗布し、８０℃で２分間乾燥させ感光層を形成
させた。

【０１５０】 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２．０ｇ アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （共重合モル比 ８０／２０） ２．０ｇ 成 分 (ii) Ｘｇ 成 分 (iii) Ｙｇ 共増感剤（Ｓ） Ｚｇ フッ素系ノニオン界面活性剤 （Ｆ−１７７ 大日本インキ（株）製） ０．０３ｇ 熱重合禁止剤 Ｎ−ニトロソフェニル ヒドロキシルアミンアルミニウム塩 ０．０１ｇ

【０１５１】

【表１】

【０１５２】 メチルエチルケトン ２０ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０ｇ 尚、成分（ii）と成分(iii)ならびに共増感剤（Ｓ）の
内容は下記表Ａ参照。この感光層上にポリビニルアルコ
ール（ケン化度９８モル％、重合度１０００）の３重量
％の水溶液を乾燥塗布重量が２ｇ／m²となるように塗布
し、１００℃／２分間乾燥させ保護層とした。

【０１５３】このようにして得られた感材上に富士写真
フイルム（株）製の富士ＰＳステップガイド（ΔＤ＝
０．１５で不連続に透過濃度が変化するグレースケー
ル）を密着させ、その上から露光した。光源には、キセ
ノンランプを用い、ケンコー光学フィルターＢＰ−５３
を通した光を照射した。ＰＳステップガイド面でのエネ
ルギーは０．２５ｍＪ／ｃｍ²であった。

【０１５４】露光した感材は１２０℃にて２０秒間加熱
を行なった後に現像した。感度は現像後のＰＳステップ
ガイドのクリアー段数で示した。この段数の値が大きい
ほど感度が高い。尚、現像は下記の現像液に２５℃、１
０秒間浸漬して行った。 ＤＰ−４（富士写真フイルム社製） ６５．０ｇ 水 ８８０．０ｇ リポミンＬＡ（２０％水溶液） ５０．０ｇ

【０１５５】

【表２】

【０１５６】また同様に下記組成の感光層からなる感材
を作成し、ＢＰ−４９フィルターを用いて感度を調べ
た。

【０１５７】 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２．４ｇ アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ２．０ｇ （共重合モル比 ７５／２５） 成 分 (ii) Ｘｇ 成 分 (iii) Ｙｇ 共増感剤（Ｓ） Ｚｇ フッ素系ノニオン界面活性剤（Ｆ−１７７ ０．０３ｇ 大日本インキ（株）製） 熱重合禁止剤 Ｎ−ニトロソフェニル ０．０１ｇ ヒドロキシルアミンアルミニウム塩

【０１５８】

【表３】

【０１５９】 メチルエチルケトン ２０ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０ｇ 尚、成分 (ii) と成分 (iii)ならびに共増感剤（Ｓ）の
内容は下記表Ｂ参照。

【０１６０】

【表４】

【０１６１】本発明における成分（ii）は比較例の化合
物に対し、可視光に対する感光性に優れ、さらに５００
ｎｍより長波長の光に対する感光性が著しく優れる事は
明白である。

【０１６２】

【発明の効果】本発明の光重合性組成物は、紫外線から
可視光の幅広い領域の活性光線に対して高感度を有す
る。従って、光源として超高圧、高圧、中圧、低圧の各
水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーラ
ンプ、蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使用で
きる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｒ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ｉ）付加重合可能なエチレン性不飽和結合
   を少なくとも一個有する化合物、 ii）一般式〔Ｉ〕 【化１】 （式中、Ｒ¹ およびＲ² はそれぞれ独立してアリール基
   を表し、Ｒ⁵ およびＲ⁶はそれぞれ独立して水素原子、
   ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ
   ⁵ とＲ⁶ が互いに結合して脂環構造又は芳香環構造を形
   成してもよく、Ｒ ³ 、Ｒ⁴ はそれぞれ独立して、水素原
   子、アルキル基またはアリール基を表し、−Ｘ−は−Ｏ
   −、−Ｓ−、−ＮＲ⁷ −を表し、Ｒ⁷ は、水素原子、ア
   ルキル基、アリール基、置換カルボニル基または置換ス
   ルフォニル基を表す）で表される化合物、及び iii)該成分（ii）との共存下で光照射によって活性ラジ
   カルを発生する化合物を含有することを特徴とする光重
   合性組成物。