JPH1067522A - 合成シリカガラスの製造方法及び装置 - Google Patents
合成シリカガラスの製造方法及び装置Info
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- JPH1067522A JPH1067522A JP22137996A JP22137996A JPH1067522A JP H1067522 A JPH1067522 A JP H1067522A JP 22137996 A JP22137996 A JP 22137996A JP 22137996 A JP22137996 A JP 22137996A JP H1067522 A JPH1067522 A JP H1067522A
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- gas
- furnace
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
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- C03B37/0146—Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 多孔質体を真空ないしは減圧下で透明化する
に際し、多孔質体を傷付けることなく透明化を遂行する
ことのできる合成シリカガラスの製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、
シリカガラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を加熱
透明ガラス化する、合成シリカガラスの製造方法におい
て、加熱透明化雰囲気を１３３００Ｐａ未満の減圧不活
性ガス雰囲気とし、ガスを炉心管の上部より供給し、排
気を下部から行うことを特徴とする合成シリカガラスの
製造方法。
に際し、多孔質体を傷付けることなく透明化を遂行する
ことのできる合成シリカガラスの製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】 火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、
シリカガラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を加熱
透明ガラス化する、合成シリカガラスの製造方法におい
て、加熱透明化雰囲気を１３３００Ｐａ未満の減圧不活
性ガス雰囲気とし、ガスを炉心管の上部より供給し、排
気を下部から行うことを特徴とする合成シリカガラスの
製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ用ガラ
ス母材等に用いられる合成シリカガラスの製造方法にか
かわり、より詳細にはシリカガラス微粒子を堆積した多
孔質ガラス体を透明ガラス化する合成シリカガラスの製
造方法及びそのための透明ガラス化炉に関する。
ス母材等に用いられる合成シリカガラスの製造方法にか
かわり、より詳細にはシリカガラス微粒子を堆積した多
孔質ガラス体を透明ガラス化する合成シリカガラスの製
造方法及びそのための透明ガラス化炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラス微粒子が集合してなる多孔質体を
加熱して透明ガラス化する際に、該多孔質体を真空ない
しは減圧雰囲気中に保持する方法は知られている（例え
ば特開昭６３−２０１０２５号公報、特開平７−８１９
６２号公報）。しかし、これらの方法では、真空ないし
は減圧雰囲気中で母材を多数本処理していくと、炉心管
とススから脱離する水分の反応による炉心管の劣化や、
ススの主成分であるＳｉＯ2 の蒸発物が炉心管内部に付
着し、この付着物が厚くなると落下してスス体、すなわ
ち多孔質体に傷を付けてしまい、品質の劣化の１因とな
っている。
加熱して透明ガラス化する際に、該多孔質体を真空ない
しは減圧雰囲気中に保持する方法は知られている（例え
ば特開昭６３−２０１０２５号公報、特開平７−８１９
６２号公報）。しかし、これらの方法では、真空ないし
は減圧雰囲気中で母材を多数本処理していくと、炉心管
とススから脱離する水分の反応による炉心管の劣化や、
ススの主成分であるＳｉＯ2 の蒸発物が炉心管内部に付
着し、この付着物が厚くなると落下してスス体、すなわ
ち多孔質体に傷を付けてしまい、品質の劣化の１因とな
っている。
【０００３】更に、多孔質母材を不活性ガス雰囲気中で
焼結ガラス化して透明母材を成形する光ファイバ母材の
製造方法において、上記多孔質母材を焼結ガラス化する
にあたり、使用するガス量の低減や、炉内圧力変動の低
減のため、電気炉々心管内を流れる不活性ガスを管内上
方から下方に向けて流すとともに、上記炉心管の管内圧
力を周辺圧力よりも１〜１０ｍｍＨ2 Ｏ高く設定するこ
とが提案されている（特開昭６０−４６９３８号公
報）。しかし、この方法のように管内圧力を大気圧より
高くする、従来から知られている常圧焼結法では、多孔
質体の大型化にともない、焼結体中に気泡が残留し易く
なる問題点が、特開昭６３−２０１０２５号公報等で示
されており、この手法は、大量生産に向けた大型母材の
減圧ないしは真空焼結プロセスには直接関係のないもの
と考えて良い。
焼結ガラス化して透明母材を成形する光ファイバ母材の
製造方法において、上記多孔質母材を焼結ガラス化する
にあたり、使用するガス量の低減や、炉内圧力変動の低
減のため、電気炉々心管内を流れる不活性ガスを管内上
方から下方に向けて流すとともに、上記炉心管の管内圧
力を周辺圧力よりも１〜１０ｍｍＨ2 Ｏ高く設定するこ
とが提案されている（特開昭６０−４６９３８号公
報）。しかし、この方法のように管内圧力を大気圧より
高くする、従来から知られている常圧焼結法では、多孔
質体の大型化にともない、焼結体中に気泡が残留し易く
なる問題点が、特開昭６３−２０１０２５号公報等で示
されており、この手法は、大量生産に向けた大型母材の
減圧ないしは真空焼結プロセスには直接関係のないもの
と考えて良い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】真空ないしは減圧下で
透明化する方法では、ＳｉＯ2 の蒸発が激しく、蒸発し
たＳｉＯ2 の多くは排気口のある炉心管の上部方向に流
れていくが、炉心管の排気口近辺はヒーターからはずれ
ており、温度が低くなっているので蒸発したＳｉＯ2 が
堆積し、堆積したＳｉＯ2 はある程度の厚さを越えると
炉心管との熱膨張差に起因する応力によって割れが生
じ、剥離する。これが落下して多孔質体に傷を付けてし
まい、場合によっては多孔質体の破損を生じてしまうの
で、品質の劣化や歩留りの低下の１因となっている。
透明化する方法では、ＳｉＯ2 の蒸発が激しく、蒸発し
たＳｉＯ2 の多くは排気口のある炉心管の上部方向に流
れていくが、炉心管の排気口近辺はヒーターからはずれ
ており、温度が低くなっているので蒸発したＳｉＯ2 が
堆積し、堆積したＳｉＯ2 はある程度の厚さを越えると
炉心管との熱膨張差に起因する応力によって割れが生
じ、剥離する。これが落下して多孔質体に傷を付けてし
まい、場合によっては多孔質体の破損を生じてしまうの
で、品質の劣化や歩留りの低下の１因となっている。
【０００５】本発明者らは、上記従来法の種々の問題点
を解決するため鋭意努力した結果、上記方法において炉
心管内のガス流を減圧下で上方から下方に流れるように
することが、多孔質体の透明化処理を品質劣化なしに行
うのに有効であることを発見し本発明に到達した。すな
わち、本発明は、多孔質体を真空ないしは減圧下で透明
化する方法を改良し、多孔質体を傷付けることなく透明
化を遂行することのできる合成シリカガラスの製造方法
を提供することを目的とする。
を解決するため鋭意努力した結果、上記方法において炉
心管内のガス流を減圧下で上方から下方に流れるように
することが、多孔質体の透明化処理を品質劣化なしに行
うのに有効であることを発見し本発明に到達した。すな
わち、本発明は、多孔質体を真空ないしは減圧下で透明
化する方法を改良し、多孔質体を傷付けることなく透明
化を遂行することのできる合成シリカガラスの製造方法
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、下記各発
明により達成することができる。 （１）火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、シリカガ
ラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を加熱透明ガラ
ス化する、合成シリカガラスの製造方法において、加熱
透明化雰囲気を１３３００Ｐａ未満の減圧不活性ガス雰
囲気とし、ガスを炉心管の上部より供給し、排気を下部
から行うことを特徴とする合成シリカガラスの製造方
法。 （２）火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、シリカガ
ラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を加熱透明ガラ
ス化する、合成シリカガラスの製造方法において、加熱
透明化雰囲気を、ガスを供給しないで実質的に真空雰囲
気下で行い、排気を炉心管の下部から行うことを特徴と
する合成シリカガラスの製造方法。
明により達成することができる。 （１）火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、シリカガ
ラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を加熱透明ガラ
ス化する、合成シリカガラスの製造方法において、加熱
透明化雰囲気を１３３００Ｐａ未満の減圧不活性ガス雰
囲気とし、ガスを炉心管の上部より供給し、排気を下部
から行うことを特徴とする合成シリカガラスの製造方
法。 （２）火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、シリカガ
ラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を加熱透明ガラ
ス化する、合成シリカガラスの製造方法において、加熱
透明化雰囲気を、ガスを供給しないで実質的に真空雰囲
気下で行い、排気を炉心管の下部から行うことを特徴と
する合成シリカガラスの製造方法。
【０００７】（３）火炎加水分解法や熱酸化法で製造し
た、シリカガラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を
抵抗加熱によって加熱透明ガラス化する、合成シリカガ
ラスの製造用炉において、１３３００Ｐａ未満の減圧処
理が可能な真空容器から構成され、ガス供給口が炉心管
の上部にあり、ガス排気口が炉心管の下部にあることを
特徴とする合成シリカガラスの製造用炉。
た、シリカガラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を
抵抗加熱によって加熱透明ガラス化する、合成シリカガ
ラスの製造用炉において、１３３００Ｐａ未満の減圧処
理が可能な真空容器から構成され、ガス供給口が炉心管
の上部にあり、ガス排気口が炉心管の下部にあることを
特徴とする合成シリカガラスの製造用炉。
【０００８】
【発明の実施の形態】上記発明（１）においては、供給
ガスの流れる方向を上から下にすることで、多孔質体か
ら脱離する水分や、ＳｉＯ2 蒸気を炉心管の下部に集め
ることが出来る。これによって、炉心管の劣化物や、Ｓ
ｉＯ2 の蒸着物が落下しても多孔質体に傷を付けること
が少なくなる。添付の図１は、本発明の方法を実施する
のに適した装置の一具体化例を示す断面図で、炉心管１
２の上部にあるガス導入管２２よりＨｅガスを供給し、
排気は炉心管下部に設けられた排気管２３により行い、
多孔質体１１を透明化するよう構成されている。例え
ば、図５に示される温度上昇パターンに従い、炉温をヒ
ータ２０により８００〜１３００℃まで昇温速度５℃／
分で上昇させ同時にＨｅを１０リットル／分の割合で、
導入管２２より供給する。その後Ｈｅガスの供給を停止
し、１３００℃で１００分間保持し、再びＨｅガスを１
０リットル／分の割合で供給し、昇温速度２．５℃／分
で１５５０℃まで昇温し多孔質体１１の透明ガラス化を
行う。この間、Ｈｅガスは１３３００Ｐａ未満、好まし
くは１００Ｐａ〜５０００Ｐａの減圧に保持されて上方
から下方に流れる。１３３００Ｐａを超えると焼結体に
ガスが残留し易く、気泡が残り易くなる問題が生じる。
ガスの流れる方向を上から下にすることで、多孔質体か
ら脱離する水分や、ＳｉＯ2 蒸気を炉心管の下部に集め
ることが出来る。これによって、炉心管の劣化物や、Ｓ
ｉＯ2 の蒸着物が落下しても多孔質体に傷を付けること
が少なくなる。添付の図１は、本発明の方法を実施する
のに適した装置の一具体化例を示す断面図で、炉心管１
２の上部にあるガス導入管２２よりＨｅガスを供給し、
排気は炉心管下部に設けられた排気管２３により行い、
多孔質体１１を透明化するよう構成されている。例え
ば、図５に示される温度上昇パターンに従い、炉温をヒ
ータ２０により８００〜１３００℃まで昇温速度５℃／
分で上昇させ同時にＨｅを１０リットル／分の割合で、
導入管２２より供給する。その後Ｈｅガスの供給を停止
し、１３００℃で１００分間保持し、再びＨｅガスを１
０リットル／分の割合で供給し、昇温速度２．５℃／分
で１５５０℃まで昇温し多孔質体１１の透明ガラス化を
行う。この間、Ｈｅガスは１３３００Ｐａ未満、好まし
くは１００Ｐａ〜５０００Ｐａの減圧に保持されて上方
から下方に流れる。１３３００Ｐａを超えると焼結体に
ガスが残留し易く、気泡が残り易くなる問題が生じる。
【０００９】なお上記装置で１３は、被処理多孔質体を
多孔質体挿入用扉１４を開けて挿入、保持しておく予備
室であり、支持棒１５で保持された多孔質体１１はゲー
トバルブ１９を開けて炉心管１２に挿入されるようにな
っている。１６は真空容器、１７，１８は真空ポンプ、
２１はガスリーク管、２４は断熱材、２５は炉心管上蓋
である。上記のようにして透明化処理を行うときは、多
孔質体から脱離する水分や、ＳｉＯ2 蒸気を炉心管の下
部に集めることが出来、これによって、炉心管の劣化物
や多孔質体から蒸発したＳｉＯ2 が処理母材に付着しに
くくなるという効果が奏せられる。
多孔質体挿入用扉１４を開けて挿入、保持しておく予備
室であり、支持棒１５で保持された多孔質体１１はゲー
トバルブ１９を開けて炉心管１２に挿入されるようにな
っている。１６は真空容器、１７，１８は真空ポンプ、
２１はガスリーク管、２４は断熱材、２５は炉心管上蓋
である。上記のようにして透明化処理を行うときは、多
孔質体から脱離する水分や、ＳｉＯ2 蒸気を炉心管の下
部に集めることが出来、これによって、炉心管の劣化物
や多孔質体から蒸発したＳｉＯ2 が処理母材に付着しに
くくなるという効果が奏せられる。
【００１０】上記発明（２）においては、炉心管上部か
らのガスの供給を行わず、排気を下部から行うことによ
り多孔質体から脱離する水分や、ＳｉＯ2 蒸気を炉心管
の下部に集めることができる。これを添付の図２に示さ
れる装置の他の具体化例に従って説明すると、この場合
は上部のガス導入管２２からガスの導入は行わず、排気
のみを下部の排気管２３、真空ポンプ１８により行う。
他は上記発明（１）と同様に行うことができ、同様の効
果を奏する。この場合、系内の圧力は０．１Ｐａ〜１０
０Ｐａ程度の圧力に保持されるのが望ましい。ガス供給
なしで生じる圧は、母材中の水分や残留ガスの脱離によ
るものや、母材中のガスと炉芯管などとの反応によるも
のである。このときも、母材の蒸発成分は、排気側に流
れることになるので、ガス供給したケースと同様の効果
が生じる。
らのガスの供給を行わず、排気を下部から行うことによ
り多孔質体から脱離する水分や、ＳｉＯ2 蒸気を炉心管
の下部に集めることができる。これを添付の図２に示さ
れる装置の他の具体化例に従って説明すると、この場合
は上部のガス導入管２２からガスの導入は行わず、排気
のみを下部の排気管２３、真空ポンプ１８により行う。
他は上記発明（１）と同様に行うことができ、同様の効
果を奏する。この場合、系内の圧力は０．１Ｐａ〜１０
０Ｐａ程度の圧力に保持されるのが望ましい。ガス供給
なしで生じる圧は、母材中の水分や残留ガスの脱離によ
るものや、母材中のガスと炉芯管などとの反応によるも
のである。このときも、母材の蒸発成分は、排気側に流
れることになるので、ガス供給したケースと同様の効果
が生じる。
【００１１】図５は、従来の透明化炉の構造を示し、ガ
ス導入管２２は炉心管１２の下部に設けられ排気管２３
は上部に設けられている。各装置の符号は図１のものに
対応し、その他はほぼ図１と同様の構成となっている。
ス導入管２２は炉心管１２の下部に設けられ排気管２３
は上部に設けられている。各装置の符号は図１のものに
対応し、その他はほぼ図１と同様の構成となっている。
【００１２】
【実施例】以下本発明を実施例及び比較例により更に詳
細に説明するがこれに限定するものではない。 （比較例）図５に示す炉心管下部からガスを供給し、上
部から排気する従来の構造の焼結炉をスート母材の透明
化に用いた。温度上昇パターンを図３に示すよう、８０
０℃〜１３００℃まで昇温速度５℃／分でＨｅを１０リ
ットル／分の割合で供給し、その後ガスの供給を停止
し、１３００℃で１００分温度を保った後、再度Ｈｅを
リットル／分の割合で供給し、昇温速度２．５℃／分で
１５５０℃まで昇温し透明ガラス化を行った。この間炉
内は０．５〜１０００Ｐａの圧であった。Ｈｅ供給なし
の場合は０．５〜１０ＰａでＨｅ供給時は１００〜１０
００Ｐａであった。この処理プロセスで、３０本のガラ
ス多孔質体を透明化処理したところ、２５本目から焼結
体外部に傷が入るようになった。３０本処理後炉心管の
内部を観察すると、炉心管の上部および炉心管の上蓋に
ＳｉＯ2 が蒸着しており、その厚さは０．５から１．０
ｍｍあった。蒸着したＳｉＯ2 を除去後再度透明化処理
を行ったが、１５本後に焼結体に傷が入るようになっ
た。
細に説明するがこれに限定するものではない。 （比較例）図５に示す炉心管下部からガスを供給し、上
部から排気する従来の構造の焼結炉をスート母材の透明
化に用いた。温度上昇パターンを図３に示すよう、８０
０℃〜１３００℃まで昇温速度５℃／分でＨｅを１０リ
ットル／分の割合で供給し、その後ガスの供給を停止
し、１３００℃で１００分温度を保った後、再度Ｈｅを
リットル／分の割合で供給し、昇温速度２．５℃／分で
１５５０℃まで昇温し透明ガラス化を行った。この間炉
内は０．５〜１０００Ｐａの圧であった。Ｈｅ供給なし
の場合は０．５〜１０ＰａでＨｅ供給時は１００〜１０
００Ｐａであった。この処理プロセスで、３０本のガラ
ス多孔質体を透明化処理したところ、２５本目から焼結
体外部に傷が入るようになった。３０本処理後炉心管の
内部を観察すると、炉心管の上部および炉心管の上蓋に
ＳｉＯ2 が蒸着しており、その厚さは０．５から１．０
ｍｍあった。蒸着したＳｉＯ2 を除去後再度透明化処理
を行ったが、１５本後に焼結体に傷が入るようになっ
た。
【００１３】（実施例１）図１に示す本発明の構造の炉
をガラス多孔質体の透明化処理に用い、図４に示す屈折
率分布を有する光ファイバ母材を得た。この炉では、比
較例とは異なり炉心管の上部よりガス供給が行われ、排
気は炉心管の下部から行うようになっている。多孔質体
の処理温度およびガス供給条件は比較例と同じものとし
た。母材処理の際の炉内圧力は、Ｈｅ供給時が１００〜
１０００Ｐａであり、Ｈｅ供給停止時０．５〜１０Ｐａ
であった。３０本の多孔質体の処理を行ったが焼結した
透明ガラス体に傷の発生は見られなかった。また、この
とき炉心管の上部および上蓋には微量のＳｉＯ2 の付着
は確認されたものの、厚みは数ミクロンであり、剥離に
至ることはなかった。炉心管の下部には厚さ約１ｍｍの
ＳｉＯ2 が付着しており、一部は剥離を起こしていた
が、多孔質体に傷をつけることはなかった。最終的に１
５０本の処理まで、この炉を用いた時は多孔質体の透明
化処理を品質劣化なく行うことが出来た。
をガラス多孔質体の透明化処理に用い、図４に示す屈折
率分布を有する光ファイバ母材を得た。この炉では、比
較例とは異なり炉心管の上部よりガス供給が行われ、排
気は炉心管の下部から行うようになっている。多孔質体
の処理温度およびガス供給条件は比較例と同じものとし
た。母材処理の際の炉内圧力は、Ｈｅ供給時が１００〜
１０００Ｐａであり、Ｈｅ供給停止時０．５〜１０Ｐａ
であった。３０本の多孔質体の処理を行ったが焼結した
透明ガラス体に傷の発生は見られなかった。また、この
とき炉心管の上部および上蓋には微量のＳｉＯ2 の付着
は確認されたものの、厚みは数ミクロンであり、剥離に
至ることはなかった。炉心管の下部には厚さ約１ｍｍの
ＳｉＯ2 が付着しており、一部は剥離を起こしていた
が、多孔質体に傷をつけることはなかった。最終的に１
５０本の処理まで、この炉を用いた時は多孔質体の透明
化処理を品質劣化なく行うことが出来た。
【００１４】（実施例２）図２に示す本発明の構造の炉
をガラス多孔質体の透明化処理に用い、図４に示す屈折
率分布を有する光ファイバ母材を得た。本例では炉心管
の内部にガスを供給せず、排気のみ炉心管の下部から行
うようにした。処理工程において炉内圧は０．５〜１０
Ｐａに保たれた。多孔質体の処理条件は温度条件のみ比
較例と同じものとし、３０本の多孔質体の処理を行った
が焼結した透明ガラス体の傷の発生は見られなかった。
また、このとき炉心管の上部および上蓋には微量のＳｉ
Ｏ2の付着は確認されたものの、厚みは数ミクロンであ
り、剥離に至ることはなかった。炉心管の下部には厚さ
約０．５ｍｍのＳｉＯ2 が付着しており、一部は剥離を
起こしていたが、多孔質体に傷をつけることはなかっ
た。最終的に１５０本の処理まで、この炉を用いた時は
多孔質体の透明化処理を品質劣化なく行うことが出来
た。
をガラス多孔質体の透明化処理に用い、図４に示す屈折
率分布を有する光ファイバ母材を得た。本例では炉心管
の内部にガスを供給せず、排気のみ炉心管の下部から行
うようにした。処理工程において炉内圧は０．５〜１０
Ｐａに保たれた。多孔質体の処理条件は温度条件のみ比
較例と同じものとし、３０本の多孔質体の処理を行った
が焼結した透明ガラス体の傷の発生は見られなかった。
また、このとき炉心管の上部および上蓋には微量のＳｉ
Ｏ2の付着は確認されたものの、厚みは数ミクロンであ
り、剥離に至ることはなかった。炉心管の下部には厚さ
約０．５ｍｍのＳｉＯ2 が付着しており、一部は剥離を
起こしていたが、多孔質体に傷をつけることはなかっ
た。最終的に１５０本の処理まで、この炉を用いた時は
多孔質体の透明化処理を品質劣化なく行うことが出来
た。
【００１５】
【発明の効果】本発明により多孔質体の透明ガラス化工
程において真空又は減圧下で不活性ガスの流れる方向を
上から下にすることで多孔質体から脱離する水分やＳｉ
Ｏ2 蒸気を炉心管の下部に集めることができ、それによ
り多孔質体が傷付くのを防止することができる。
程において真空又は減圧下で不活性ガスの流れる方向を
上から下にすることで多孔質体から脱離する水分やＳｉ
Ｏ2 蒸気を炉心管の下部に集めることができ、それによ
り多孔質体が傷付くのを防止することができる。
【図１】本発明の方法を実施するのに適した装置の一具
体化例を示す断面図。
体化例を示す断面図。
【図２】本発明の方法を実施するのに適した装置の他の
具体化例を示す断面図。
具体化例を示す断面図。
【図３】多孔質母材の透明化処理を行うための温度条件
（温度一時間の関係）に係る温度上昇パターンを示すグ
ラフ。
（温度一時間の関係）に係る温度上昇パターンを示すグ
ラフ。
【図４】実施例１及び２で作製された光ファイバ母材の
屈折率分布を示す図。
屈折率分布を示す図。
【図５】従来構造の透明ガラス化炉を示す断面図。
１１：スート母材 １２：炉心管 １３：予備室 １４：スート挿入用扉 １５：支持棒 １６：真空容器 １７、１８：真空ポンプ １９：ゲートバルブ ２０：ヒーター ２１：ガスリーク管 ２２：ガス導入管 ２３：排気管 ２４：断熱材 ２５：炉心管上蓋
Claims (3)
- 【請求項１】 火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、
シリカガラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を加熱
透明ガラス化する、合成シリカガラスの製造方法におい
て、加熱透明化雰囲気を１３３００Ｐａ未満の減圧不活
性ガス雰囲気とし、ガスを炉心管の上部より供給し、排
気を下部から行うことを特徴とする合成シリカガラスの
製造方法。 - 【請求項２】 火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、
シリカガラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を加熱
透明ガラス化する、合成シリカガラスの製造方法におい
て、加熱透明化を、ガスを供給しないで実質的に真空雰
囲気下で行い、排気を炉心管の下部から行うことを特徴
とする合成シリカガラスの製造方法。 - 【請求項３】 火炎加水分解法や熱酸化法で製造した、
シリカガラス微粒子を堆積して得られる多孔質体を抵抗
加熱によって加熱透明ガラス化する、合成シリカガラス
の製造用炉において、１３３００Ｐａ未満の減圧処理が
可能な真空容器から構成され、ガス供給口が炉心管の上
部にあり、ガス排気口が炉心管の下部にあることを特徴
とする合成シリカガラスの製造用炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22137996A JPH1067522A (ja) | 1996-08-22 | 1996-08-22 | 合成シリカガラスの製造方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22137996A JPH1067522A (ja) | 1996-08-22 | 1996-08-22 | 合成シリカガラスの製造方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1067522A true JPH1067522A (ja) | 1998-03-10 |
Family
ID=16765869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22137996A Pending JPH1067522A (ja) | 1996-08-22 | 1996-08-22 | 合成シリカガラスの製造方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1067522A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008050204A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 石英ガラス体製造方法 |
| JP2008094633A (ja) * | 2006-10-05 | 2008-04-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ母材製造方法 |
-
1996
- 1996-08-22 JP JP22137996A patent/JPH1067522A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008050204A (ja) * | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 石英ガラス体製造方法 |
| JP4640293B2 (ja) * | 2006-08-24 | 2011-03-02 | 住友電気工業株式会社 | 石英ガラス体製造方法 |
| JP2008094633A (ja) * | 2006-10-05 | 2008-04-24 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ母材製造方法 |
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|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040316 |