JPH1062637A - 平面導波路型フィルタ - Google Patents

平面導波路型フィルタ

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JPH1062637A
JPH1062637A JP21642396A JP21642396A JPH1062637A JP H1062637 A JPH1062637 A JP H1062637A JP 21642396 A JP21642396 A JP 21642396A JP 21642396 A JP21642396 A JP 21642396A JP H1062637 A JPH1062637 A JP H1062637A
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JP
Japan
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light
core
grating
cladding
filter
Prior art date
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Pending
Application number
JP21642396A
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English (en)
Inventor
Masumi Ito
真澄 伊藤
Tadashi Enomoto
正 榎本
Maki Ikechi
麻紀 池知
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた光遮断特性を有する平面導波路型フィ
ルタを提供すること。 【解決手段】 基板2上に光導波路となるコア3が形成
され、このコア3の上方にクラッド4が形成されると共
に、コア3の内部に特定波長の光のみを反射させるグレ
ーティング5が設けられている平面導波路型フィルタに
おいて、クラッド4の上方にクラッド4より高い屈折率
を有する放出層6が設けられている。このため、コア3
からクラッド4へ入射した光がクラッド4の境界面で反
射されることなく、放出層6内へ入射され外部へ放出さ
れる。従って、そのような光がグレーティング5を迂回
して再びコア3内に入射することがなく、良好な光遮断
特性が得られることとなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路の一部に
特定波長の光の遮断特性を有するグレーティングが設け
られた平面導波路型フィルタに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の平面導波路型フィルタとしては、
図4に示すように、基板A上に導波路となる高屈折率の
コアBが形成され、そのコアBの上方にクラッドCが形
成された構造であって、コアB内の屈折率を光の伝搬方
向(長手方向)に沿って周期的に変化させたグレーティ
ングDが設けられたものが知られている。グレーティン
グDは、屈折率の周期(高屈折率領域Eの形成間隔)に
応じた光の反射波長特性を有しており、コアBで導光さ
れる特定波長の光のみを反射させ、所望の波長の光のみ
を透過させる機能を備えている。このため、この平面導
波路型フィルタによれば、入力した光をコアBに沿って
導光させ、グレーティングDを通過させることにより、
所望の波長成分を有する光のみを出力させることができ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の平面導波路型フィルタにあっては、特定波長の
光を遮断するというフィルタ機能が十分に発揮されない
という問題点がある。すなわち、図4に示すように、コ
アB内を伝搬してグレーティングDに入射される光Fの
うち、グレーティングDで反射されることなくコアBか
らクラッドCへ放射される光Gが存在する。この光Gが
クラッドC内を伝搬してその境界面で反射することによ
りグレーティングDを迂回して、再びコアB内へ入射さ
れ伝搬する場合がある。このような場合、光Gが漏れ光
となって、特定波長の光を完全には遮断できず、平面導
波路型フィルタがフィルタとして十分に機能しないこと
となる。
【0004】そこで本発明は、以上のような問題点を解
決するためになされたものであって、特定波長に対する
優れた遮断特性を有する平面導波路型フィルタを提供す
ることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、基板
上に光導波路となるコアが形成され、このコアの上方に
クラッドが形成されると共に、コアの内部に特定波長の
光のみを反射させるグレーティングが設けられている平
面導波路型フィルタにおいて、クラッドの上方にクラッ
ドより高い屈折率を有する放出層が設けられていること
を特徴とする。
【0006】このような発明によれば、コアからクラッ
ドへ放射された光がクラッド内の境界面で反射すること
なく、放出層内へ導光されて外部へ放出される。このた
め、そのような光がグレーティングを迂回して再びコア
内へ入射されることがない。
【0007】また本発明は、前述の放出層がクラッド上
に有機材料を塗布して設けられていることを特徴とす
る。
【0008】このような発明によれば、放出層が容易に
形成可能となる。
【0009】また本発明は、基板上に光導波路となるコ
アが形成され、このコアの上方にクラッドが形成される
と共に、コアの内部に特定波長の光のみを反射させるグ
レーティングが設けられている平面導波路型フィルタに
おいて、クラッドの上方に光を吸収する吸収層が設けら
れていることを特徴とする。
【0010】このような発明によれば、コアからクラッ
ドへ放射された光がクラッド内の境界面で反射すること
なく、吸収層内へ導光されて消滅する。このため、その
ような光がグレーティングを迂回して再びコア内へ入射
されることがない。
【0011】更に本発明は、前述の吸収層がクラッド上
に有機材料を塗布して設けられていることを特徴とす
る。
【0012】このような発明によれば、吸収層が容易に
形成可能となる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づき、本発明
に係る種々の実施形態について説明する。なお、各図に
おいて同一要素には同一符号を付して説明を省略する。
また、図面の寸法比率は説明のものと必ずしも一致して
いない。
【0014】(実施形態1)図1は平面導波路型フィル
タの概要図である。図1に示すように、平面導波路型フ
ィルタ1は、基板2上にコア3が形成され、このコア3
の上方を少なくとも覆うようにクラッド4が形成されて
いる。基板2は、コア3を設けるための基礎部分となる
板体であって、例えば、SiO2(石英)により形成さ
れる。コア3は、光の導波路となる部位であって、クラ
ッド4より高い屈折率を有する材料により形成されてい
る。例えば、クラッド4がSiO2 により形成される場
合、コア3はSiO2 にGeO2 を添加して混晶とされ
クラッド4より高屈折率の領域とされる。
【0015】コア3の形成方法としては、基板2の上面
に向けてSiO2 とGeO2(二酸化ゲルマニウム)の
ガラス微粒子を噴き付け基板2上に堆積させた後、焼結
により透明ガラス化する。そして、通常のリソグラフィ
により導波路パターンの形状(幅形状)を決定してコア
3とされる。また、クラッド4の形成は、コア3の形成
後、そのコア3の上方からSiO2 のガラス微粒子を噴
き付けてコア3及び基板2上に堆積させた後、焼結によ
り透明ガラス化して行われる。
【0016】なお、図1においては、コア3は基板2上
に直接形成されているが、そのような形態に限られるも
のではなく、基板2上にクラッド層を介して形成される
場合もある。
【0017】図1に示すように、コア3の内部には、特
定波長の光のみを反射させるグレーティング5が設けら
れている。グレーティング5は、屈折率変調形の回折格
子であって、コア3における光の伝搬方向(長手方向)
に沿って複数の高屈折領域51を周期的に形成して構成
されている。グレーティング5は、高屈折率領域51の
形成間隔を変えることにより、光の反射波長特性を任意
に設定することができる。
【0018】そのグレーティング5の光の反射波長(ブ
ラッグ波長)λR は、次の式(1)で表される。
【0019】λR =2・n1・Λ ‥‥‥(1) n1:グレーティング5における最小屈折率 Λ :高屈折率領域51の周期(形成間隔)。
【0020】このグレーティング5の形成は、基板2上
にコア3およびクラッド4を形成した後、上方から紫外
光を照射することにより行われる。例えば、エキシマレ
ーザから射出された紫外線を位相格子を介して干渉縞と
して、クラッド4の上方から照射する。すると、GeO
2 の添加されている領域、即ち、コア3部分の屈折率が
紫外線の干渉縞の間隔に従って変化し、その干渉縞の部
分が高屈折率領域51となってグレーティング5が形成
されることとなる。
【0021】なお、グレーティング5は、必要とされる
フィルタ機能に応じて、その形成間隔に変化が付けられ
てチャープドグレーティングとされる場合もある。更
に、グレーティング5としては、前述の屈折率変調形に
限られるものではなく、コア3の上面などを周期的に凹
凸してなるエッチング形又はコア3の上面などに周期的
にクラッディングを設けてなるクラッディング形などの
レリーフ形のものであってもよい。
【0022】図1において、クラッド4上には、放出層
6が形成されている。放出層6は、クラッド4から入射
してくる光を外部へ放射させるための層体であって、ク
ラッド4より高い屈折率を有する材料で形成されてい
る。この放出層6としては、クラッド4が屈折率1.4
58のSiO2 である場合、例えば、クラッド4より屈
折率の大きい有機材料であるポリカーボネイト(屈折率
1.58)が用いられる。この場合、ポリカーボネイト
が有機材料であるから、クラッド4上に塗布することで
容易に放出層6を形成することができる。
【0023】また、その塗布工程としてスピンコーティ
ングを用いることにより、クラッド4上に薄い放出層6
を容易に、かつ、正確に形成することができる。すなわ
ち、ポリカーボネイトを溶剤で溶かすなどして適当な粘
度を有する液状とし、クラッド4上に液状のポリカーボ
ネイトをごく少量供給し、そのクラッド4が形成されて
いる基板2を高速回転させることにより、溶液がクラッ
ド4上で放射状に広がって、均一な厚さの薄い放出層6
が形成できる。
【0024】なお、放出層6を形成する材料としては、
ポリカーボネイトに限られるものではなく、クラッド4
より高い屈折率を有するものであれば、ポリメタクリル
酸メチル(PMMA:屈折率1.49)、ポリスチレン
(屈折率1.59)、ポリ塩化ビニル(屈折率1.55)
などその他のものであってよい。
【0025】次に、平面導波路型フィルタ1の動作につ
いて説明する。
【0026】図1において、コア3に沿って伝搬する光
7がグレーティング5へ向けて入射されると、グレーテ
ィング5の各高屈折領域51で反射されて後進する光を
生じる。このとき、高屈折率領域51の形成間隔Λを半
波長とする光71は干渉して強まり、コア3に沿って後
進することとなる。このため、伝搬する光7のうち式
(1)に示す特定波長の光71はグレーティング5を通
過することができず、グレーティング5が波長フィルタ
として機能することとなる。
【0027】ところが、グレーティング5の入射端部又
はその途中において、コア3に沿って伝搬していた光7
の一部がクラッド4へ射出されてしまう。この光72
は、クラッド4を伝搬して放出層6に到達し、放出層6
内へ入射されていく。すなわち、クラッド4に対して放
出層6が高屈折率となっているので、コア3から射出さ
れた光72はクラッド4を通過して放出層6内へ入射
し、クラッド4と放出層6との境界で反射されるのが防
止される。
【0028】また、クラッド4に対し放出層6が高屈折
率とされているから、光72は、屈折の法則によりクラ
ッド4と放出層6の境界において、放出層6の表面61
に対してより直角に近い方向に屈折して放出層6内を伝
搬することとなる。このため、光72は、図1のように
放出層6から平面導波路型フィルタ1の外部へ放出さ
れ、グレーティング5を迂回してコア3内へ入射される
ことがない。
【0029】このため、遮断すべき特定波長の光がグレ
ーティング5を通過し、グレーティング5を回り込んで
伝搬することが回避でき、特定波長の光の伝搬を確実に
遮断することができる。従って、波長フィルタとしての
優れた特性が得られることとなる。
【0030】次に、実際の平面導波路型フィルタ1にお
ける光の遮断特性について説明する。
【0031】本実施形態に係る平面導波路型フィルタ1
と従来型のフィルタ81について光の遮断特性を測定し
た。各フィルタの光の遮断特性の測定は、まず、グレー
ティング5の設けられていない状態のフィルタ81を図
2に示すような測定系にセットし、そのフィルタ81の
光遮断特性を計測しながら、そのコア3にグレーティン
グ5を設けていくことから行った。すなわち、フィルタ
81の入力端側に光源82を接続し、出力端側に光検出
器83を接続した状態において、光源82からフィルタ
81へ白色光(各波長成分を含む光)を入力し、フィル
タ81を通過して出力される光の波長成分を光検出器8
3で測定しながら、前述したように紫外線84の干渉縞
をコア3に照射することにより、徐々にコア3に高屈折
率領域51、即ちグレーティング5を形成していった。
紫外線84を照射してから10分後、グレーティング5
の特定波長1.31μmにおける反射率が95%で飽和
に達した(反射率が殆ど上昇しなくなった)ので、紫外
線84の照射を停止した。そして、従来型のフィルタ8
1として、平面導波路型フィルタ1の放出層6を設ける
前のもの(放出層6が設けられていないもの)であっ
て、基板2を石英で形成し、コア3をGe、P、Bを添
加した石英で形成し、クラッド4をP、Bを添加した石
英で形成し、コア3に波長1.31μmの反射波長特性
をもち、長さ20mmにわたるグレーティング5を設け
たものが出来上がった。
【0032】次いで、光の遮断特性が95%のフィルタ
81に放出層6を設けて、本実施形態に係る平面導波路
型フィルタ1とした。即ち、フィルタ81のクラッド4
上に有機材料であるポリカーボネイトをスピンコーティ
ングにより塗布して、クラッド4上に厚さ約100μm
程度の放出層6を設けて、平面導波路型フィルタ1とし
た。そして、この平面導波路型フィルタ1を図2に示す
測定系にセットして、紫外線84を照射することなく、
白色光を入力してフィルタ1の光の遮断特性を計測し
た。すると、計測の結果、反射率は99%となり、従来
型のフィルタ81に対して4%の反射率の向上が図れ
た。
【0033】このように、従来型のフィルタ81に対し
本実施形態に係る平面導波路型フィルタ1は、特定波長
の光の反射率が非常に高いものとなり、ほぼ100%に
近い反射率、即ち光遮断特性を有するものとなった。
【0034】以上のように、平面導波路型フィルタ1に
よれば、特定波長の光に対して非常に高い光遮断特性を
得ることができる。
【0035】(実施形態2)図3に基づいて、本実施形
態に係る平面導波路型フィルタ1aについて説明する。
図3において、平面導波路型フィルタ1aは、前述した
平面導波路型フィルタ1と同様に、基板2上にコア3が
形成され、このコア3の上方を少なくとも覆うようにク
ラッド4が形成されると共に、コア3の内部に特定波長
の光のみを反射させるグレーティング5が設けられてい
る。そして、クラッド4上には、吸収層9が形成されて
いる。吸収層9は、クラッド4から入射してくる光73
を吸収して消滅させるための層体であって、コア3から
クラッド4へ放射される光73を吸収する材料で形成さ
れている。この吸収層9としては、クラッドへ放射され
る光73を伝搬する光の波長が1.55μmである場
合、その波長の光を吸収するポリイミドが用いられる。
この場合、ポリイミドが有機材料であるから、クラッド
4上に塗布することで容易に吸収層9を形成することが
できる。
【0036】また、その塗布工程としてスピンコーティ
ングを用いることにより、クラッド4上に薄い吸収層9
を容易に、かつ、確実に形成することができる。すなわ
ち、ポリイミドを溶剤で溶かすなどして液状とし、クラ
ッド4上に液状のポリイミドをごく少量供給し、クラッ
ド4およびコア3を含む基板2を高速回転させることに
より、溶液がクラッド4上で放射状に広がって、均一な
厚さの薄い吸収層9が形成できる。
【0037】なお、吸収層9を形成する材料としては、
ポリイミドに限られるものではなく、コア3からクラッ
ド4へ放射される光を吸収できるものであれば、その他
の材料を用いてもよい。また、図3においては、コア3
は基板2上に直接形成されているが、そのような形態に
限られるものではなく、基板2上にクラッド層を介して
形成される場合もある。
【0038】次に、平面導波路型フィルタ1aの動作に
ついて説明する。
【0039】図3において、コア3に沿って伝搬する光
7がグレーティング5へ向けて入射されると、グレーテ
ィング5の各高屈折領域51で反射されて後進する光を
生じる。このとき、高屈折率領域51の形成間隔Λを半
波長とする光71は干渉して強まり、グレーティング5
により反射されコア3に沿って後進することとなる。こ
のため、伝搬する光7のうち式(1)に示す特定波長の
光71はグレーティング5を通過することができず、グ
レーティング5が波長フィルタとして機能することとな
る。
【0040】ところが、グレーティング5の入射端部又
はその途中において、コア3に沿って伝搬していた光7
の一部がクラッド4へ射出されてしまう。この光73
は、クラッド4を伝搬して吸収層9に到達し、吸収層9
内へ入射されていく。すると、光73は、吸収層9内へ
入射されて消滅する。このため、コア3からクラッド4
へ放出された光73が反射して再びコア3内へ入射され
ることが防止される。
【0041】従って、特定波長の光がグレーティング5
を通過し、グレーティング5を回り込んで伝搬すること
が回避でき、特定波長の光の伝搬を確実に遮断すること
ができる。従って、波長フィルタとしての優れた特性が
得られることとなる。
【0042】次に、実際の平面導波路型フィルタ1aに
おける光の遮断特性について説明する。
【0043】本実施形態に係る平面導波路型フィルタ1
aと従来型のフィルタ81について光の遮断特性を測定
した。各フィルタの光の遮断特性の測定は、まず、グレ
ーティング5の設けられていないフィルタ81を図2に
示すような測定系にセットし、そのフィルタ81の反射
波長特性を計測しながら、そのコア3にグレーティング
5を設けることから行った。すなわち、フィルタ81の
入力端側に光源82を接続し、出力端側に光検出器83
を接続した状態において、光源82からフィルタ81へ
白色光(各波長成分を含む光)を入力し、フィルタ81
を通過して出力される光の波長成分を光検出器83で測
定しながら、前述したように紫外線84の干渉縞をコア
3に照射することにより、徐々にコア3に高屈折率領域
51、即ちグレーティング5を形成していった。紫外線
84を照射してから10分後、グレーティング5の特定
波長1.55μmにおける反射率が95%で飽和に達し
たので、紫外線84の照射を停止した。これにより、従
来型のフィルタ81として、平面導波路型フィルタ1a
の吸収層9を設ける前のもの(吸収層9が設けられてい
ないもの)であって、基板2を石英で形成し、コア3を
Ge、P、Bを添加した石英で形成し、クラッド4を
P、Bを添加した石英で形成し、コア3に波長1.55
μmの反射波長特性をもつグレーティング5を設けたも
のが出来上がった。
【0044】次いで、光の遮断特性(特定波長の反射
率)が95%のフィルタ81に吸収層9を設けて、本実
施形態に係る平面導波路型フィルタ1aとした。即ち、
フィルタ81のクラッド4上に有機材料であるポリイミ
ドをスピンコーティングにより塗布して、クラッド4上
に厚さ約100μm程度の吸収層9を設けて、平面導波
路型フィルタ1とした。そして、この平面導波路型フィ
ルタ1aを図2に示す測定系にセットして、紫外線84
を照射することなく、白色光を入力してフィルタ1の光
の遮断特性を計測した。すると、計測の結果、反射率は
99%となり、従来型のフィルタ81に対して4%の反
射率の向上が図れた。
【0045】このように、従来型のフィルタ81に対し
本実施形態に係るフィルタ1aは、反射率の非常に高い
ものとなり、ほぼ100%に近い反射率、即ち光遮断特
性を有するものとなった。
【0046】以上のように、平面導波路型フィルタ1a
によれば、特定波長の光に対して非常に高い光遮断特性
を得ることができる。
【0047】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
次のような効果を得ることができる。
【0048】すなわち、放出層が設けられることによ
り、コアからクラッドへ放射された光がクラッド内の境
界面で反射することなく、放出層内へ導光されて外部へ
放出される。このため、そのような光がグレーティング
を迂回して再びコア内へ入射されることがなく、特定波
長の光を確実に遮断することができる。
【0049】また、放出層がクラッド上に有機材料を塗
布して設けられることにより、所望厚の放出層が容易に
形成できる。
【0050】また、吸収層が設けられることにより、コ
アからクラッドへ放射された光がクラッド内の境界面で
反射することなく、吸収層内へ導光されて消滅する。こ
のため、そのような光がグレーティングを迂回して再び
コア内へ入射されることがない。従って、特定波長の光
を確実に遮断することができる。
【0051】更に、吸収層がクラッド上に有機材料を塗
布して設けられることにより、所望厚の吸収層が容易に
形成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】平面導波路型フィルタの説明図である。
【図2】平面導波路型フィルタの特性測定の説明図であ
る。
【図3】実施形態2に係る平面導波路型フィルタの説明
図である。
【図4】従来技術の説明図である。
【符号の説明】
1…平面導波路型フィルタ、2…基板、3…コア、4…
クラッド、5…グレーティング、6…放出層、9…吸収

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に光導波路となるコアが形成さ
    れ、このコアの上方にクラッドが形成されると共に、前
    記コアの内部に特定波長の光のみを反射させるグレーテ
    ィングが設けられている平面導波路型フィルタにおい
    て、 前記クラッドの上方にクラッドより高い屈折率を有する
    放出層が設けられていることを特徴とする平面導波路型
    フィルタ。
  2. 【請求項2】 前記放出層が前記クラッド上に有機材料
    を塗布して設けられていることを特徴とする請求項1に
    記載の平面導波路型フィルタ。
  3. 【請求項3】 基板上に光導波路となるコアが形成さ
    れ、このコアの上方にクラッドが形成されると共に、前
    記コアの内部に特定波長の光のみを反射させるグレーテ
    ィングが設けられている平面導波路型フィルタにおい
    て、 前記クラッドの上方に光を吸収する吸収層が設けられて
    いることを特徴とする平面導波路型フィルタ。
  4. 【請求項4】 前記吸収層が前記クラッド上に有機材料
    を塗布して設けられていることを特徴とする請求項3に
    記載の平面導波路型フィルタ。
JP21642396A 1996-08-16 1996-08-16 平面導波路型フィルタ Pending JPH1062637A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002139629A (ja) * 2000-10-31 2002-05-17 Sumitomo Electric Ind Ltd 光損失フィルタ
JP2002174739A (ja) * 2000-12-07 2002-06-21 Fujikura Ltd 光ファイバグレーティング

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002139629A (ja) * 2000-10-31 2002-05-17 Sumitomo Electric Ind Ltd 光損失フィルタ
JP2002174739A (ja) * 2000-12-07 2002-06-21 Fujikura Ltd 光ファイバグレーティング

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