JPH1059797A - 蒸着装置の蒸着源 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 １本のセルのみでも時間を要せずに蒸着材料
の蒸発量を精度良くコントロールすることが可能な、蒸
着装置の蒸着源。 【解決手段】 蒸着材料１９を入れるルツボ１１と、こ
のルツボ１１の開口部１１ａの開閉を行うシャッタ１７
とを少なくとも具えた蒸着装置の蒸着源において、ルツ
ボ１１の開口部１１ａの遮蔽領域を自在に変化させる遮
蔽手段２０（シャッタ１７および回転駆動機構２１）を
設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、蒸着装置の蒸着
源に関する。

【０００２】

【従来の技術】金属膜等の薄膜形成方法の一つとして蒸
着法が知られているが、このうち、分子線エピタキシー
法（Molecular Beam Epitaxy; ＭＢＥ法）は、高速計算
用のコンピュータ素子、高周波での動作が可能な素子等
の開発のために注目されている技術である。これは、超
高真空（１０^-9Ｔｏｒｒ〜１０^-12 Ｔｏｒｒ）内に設置
させている基板上に、分子線セルから発生する蒸気を分
子線の形で基板に堆積させ、エピタキシャル層を形成す
る方法である。

【０００３】図４は、蒸着装置の蒸着源（蒸発源ともい
う。）の一つである、従来の分子線セル４０の構造を説
明するための概略図である。この分子線セル４０は、円
筒状のルツボ４１とその外周壁面の全体を覆うように設
けられたコイル状の加熱ヒータ４３と、熱電対４５、シ
ャッタ４７により構成されている。ルツボ４１に収納さ
れている４９は、蒸着材料である。ルツボ４１の上部の
開口部４１ａから蒸着材料を分子線として取り出せるよ
うになっている。シャッタ４７は、ルツボ４１の開口部
４１ａを開閉できる仕組みになっている。目的とする蒸
着材料を分子線として取り出すときは、シャッタ４１を
全開させて、取り出さないときにはシャッタ４１を閉じ
る。このシャッタ４１の開閉の駆動は、例えばシャッタ
の回転軸に取りつけたモータ５０等により行う。

【０００４】ルツボ４１の材料には、蒸着材料４９と反
応するおそれがなく、かつ高温でも蒸気圧の低い物質、
例えばＰＢＮ（熱分解窒化ホウ素）が用いられる。ま
た、加熱ヒータ４３の材料には、蒸着材料４９を１５０
０℃程度まで加熱することが可能な発熱体、例えばＷ
（タングステン）が用いられる。

【０００５】加熱ヒータ４３を加熱するとルツボ４１中
の蒸着材料４９が加熱され、加熱された蒸着材料４９を
分子線の蒸気の形で分子線セルから直進させる。このた
め、基板（図示せず）上にエピタキシャル層を形成する
ときは、膜を構成する結晶構成元素を角分子線セルの供
給源（蒸着材料）とすることによって、膜の構成元素比
（組成比）を任意に選定することもできる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した分子
線セル等の、従来の蒸着装置の蒸着源には、次のような
問題点があった。

【０００７】物性の優れた膜を形成するためには、分子
線セルからの分子線の蒸発量を精度良くコントロール
（制御）する必要がある。上述した従来の分子線セルの
場合、セルからの分子線の蒸発量は、加熱された蒸着材
料の温度に依存するので、蒸発量の制御は、蒸着材料の
温度を制御することにより行っていた。

【０００８】しかし、上述の蒸発量に変化を持たせたい
場合、次のような問題が生じる。例えば蒸発量を急峻に
増加させるなどの変化をさせたくても、１本の分子線セ
ルを用いるのみでは、必要な蒸発量を得ることができる
温度に安定するまでに時間を要するため、不可能であっ
た（図５の（Ａ）参照）。このため、例えば次のような
方法をとっていた。あらかじめ、同じ蒸着材料を入れた
分子線セルを２本用意しておき、それぞれの分子線セル
の温度を、必要とする蒸発量が得られる別々の温度に保
持しておく。例えば、それぞれの分子線セル１、２の温
度Ｔ１、Ｔ２をＴ１＜Ｔ２とした場合について説明す
る。まず最初にセル１のシャッタを開け、ある一定の蒸
発量を得る。次に、セル１のシャッタを閉め、それと同
時にセル２のシャッタを開けると、セル１よりも大きい
一定の蒸発量が一瞬にして得られる（図５の（Ｂ）参
照）。すなわち、温度の安定に時間を要することなく、
蒸着材料の蒸発量を変化させたい場合には、複数本の分
子線セルを用意する必要があった。これは、プロセスの
簡略化と、装置の小型化等に支障を来すことになる。ま
た、蒸発量を徐々に増やす等の変化をさせたい場合も、
蒸着材料の温度制御が容易ではないために難しいという
問題があった。

【０００９】したがって、１本のセルのみを用いても、
時間を要せずに、しかも容易に蒸着材料の蒸発量を精度
良くコントロールすることが可能な、蒸着装置の蒸着源
が望まれていた。

【００１０】

【課題を解決するための手段】このため、この発明の蒸
着装置の蒸着源によれば、蒸着材料を入れるルツボと、
このルツボの開口部の開閉を行うシャッタとを少なくと
も具えた蒸着装置の蒸着源において、ルツボの開口部の
遮蔽領域を自在に変化させる遮蔽手段を設けたことを特
徴とする。

【００１１】このように、ルツボの開口部の遮蔽領域を
自在に変化させる遮蔽手段を設けたことにより、蒸着材
料のルツボ外への蒸発量を、蒸着材料の温度に依存する
のではなく、ルツボの開口部の露出領域（露出面積）に
依存することになる。すなわち、セルの温度（すなわち
蒸着材料の温度）は常に一定温度に保っておいて、開口
部を遮蔽する領域を変化させるのみで、容易に蒸発量の
制御を行うことができる。

【００１２】ここでいう蒸着装置の蒸着源とは、蒸着材
料を入れるルツボと、このルツボの開口部の開閉を行う
シャッタとを少なくとも具えた種々の蒸着源を指す。例
えば、分子線セル、電子ビーム蒸着源等が挙げられる。

【００１３】上記の遮蔽手段としては、例えば次のよう
なものが考えられる。 １）シャッタと、このシャッタを回転駆動しかつシャッ
タの回転角度調節機能を有する回転駆動機構。

【００１４】シャッタ自体の本来の機能は、ルツボを開
けるか閉めるかの単純なものであり、蒸発量の制御を行
うものではない。そこで、シャッタの開閉角の微調整を
可能にして、ルツボの開口部の遮蔽領域を自在に変化さ
せられるようにする。このため、例えば回転駆動機構を
用いるのが良い。回転駆動機構の例として、ステッピン
グモータ（パルスモータともいう。）、ロータリーエン
コーダ内蔵型サーボモータが挙げられる。ロータリーエ
ンコーダは、角度検出センサの一種である。

【００１５】２）開口部とシャッタとの間に設けた第１
遮蔽板と、この第１遮蔽板を回転駆動しかつ第１遮蔽板
の回転角度調節機能を有する回転駆動機構。

【００１６】この場合、シャッタと上記手段とは独立に
働き、シャッタは本来の、ルツボの開口部の開閉の目的
にのみ用いられる。この第１遮蔽板の回転角度の制御に
も、上述したような回転駆動機構を用いるのが良い。

【００１７】上記のように、ルツボの開口部の遮蔽領域
を制御する手段を設けると、ルツボの開口面積を自在に
変化させることができ、ここから分子線の形で蒸発する
蒸着材料の蒸発量の制御を、時間を要せずにただ１本の
セルで容易に行うことができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図を用いて、この発明の第
１、第２および第３の実施の形態につき説明をする。各
図は、発明が理解できる程度に、各構成成分の大きさ、
形状、および位置関係等を概略的に示しているにすぎ
ず、したがって図示例に限定されることはない。また、
各図において、同一の構成成分には同じ符号を付して示
してある。なお、各実施の形態は、いずれも蒸着源とし
て分子線セルに適用した場合の例を示す。

【００１９】＜第１の実施の形態＞図１は、この発明の
蒸着源の第１の実施の形態を示す概略的な構成図であ
り、ここで用いた分子線セル１０の構成を、セルの外壁
を一部取り除いて内部が見えるようにして示してある。

【００２０】この発明の蒸着装置の蒸着源によれば、蒸
着材料を入れるルツボと、このルツボの開口部の開閉を
行うシャッタとを少なくとも具えた蒸着装置の蒸着源に
おいて、ルツボの開口部の遮蔽領域を自在に変化させる
遮蔽手段（以下、単に遮蔽手段ともいう。）を設けてい
る。

【００２１】ここでは、蒸着源を分子線セル１０とし、
シャッタが上記遮蔽手段を兼ねる場合について説明す
る。

【００２２】この分子線セル１０の基本的な構成は、す
でに説明済みの分子線セル４０と同様である。円筒状の
ルツボ１１とその外周壁面の全体を覆うように設けられ
たコイル状の加熱ヒータ１３と、熱電対１５、シャッタ
１７が具えられている。１９は蒸着材料を示す。ルツボ
１１の上部には開口部１１ａがあり、蒸着材料１９をこ
こから分子線として取り出せるようになっている。シャ
ッタ１７は、ルツボ１１の開口部１１ａを開閉できる仕
組みになっている。このシャッタ１７は、回転角度調節
機能を有する回転駆動機構２１によって駆動するように
してある。この回転駆動機構２１は、シャッタ１７の開
口部１１ａに対する開閉角を自在に変化させることがで
きる。すなわち、これは開口部１１ａの遮蔽領域を自在
に変化させることになる。したがって、ここでは、シャ
ッタ１７と回転駆動機構２１とで、遮蔽手段２０を構成
している。このため、セル１０の温度すなわち蒸着材料
１９の温度は常に一定に保っておいて、遮蔽手段２０
（シャッタ１７および回転駆動機構２１）による開口部
１１ａの遮蔽領域の自在な変化により、ルツボから取り
出す蒸着材料１９の蒸発量の制御を容易に行うことがで
きる。

【００２３】このシャッタ１７の駆動源となる、回転角
度調節機能を有する回転駆動機構として、ロータリーエ
ンコーダ内蔵形サーボモータ、ステッピングモータ等が
挙げられる。これら二つを用いた場合の遮蔽手段２０の
動作について簡単に説明する。

【００２４】１．ロータリーエンコーダ内蔵形サーボモ
ータを用いた場合 ロータリーエンコーダは、回転角度を検出するセンサ
（角度センサ）の一種であり、発光素子と、受光素子
と、これらに挟まれるように位置する回転板および固定
板とから構成される。回転板および固定板は、複数のス
リットを具えている。回転板にスリットが１００個あれ
ば、３６０／１００＝３．６（^。 ）ごとにパルスが発生
する。固定板のスリットを通ったパルスと出力との時間
関係から、回転の向きが検出できる仕組みになってい
る。

【００２５】ロータリーエンコーダ内蔵形サーボモータ
（以下、単にモータともいう。）は、例えば次のように
動作する。まず、回転角度を指示する指令パルスが偏差
カウンタに加えられると、例えば、デジタル−アナログ
変換回路、増幅回路等を経て、モータが回転する。モー
タ（回転駆動機構）２１の回転軸に取りつけたロータリ
ーエンコーダがシャッタ１７の回転角度を検出し、回転
角度検出パルスを出力する。このパルスは増幅され、フ
ィードバックパルスとして偏差カウンタに加えられる。
偏差カウンタで、フィードバックパルスと指令パルスと
を比較し、その差が０（ゼロ）になるまでモータ駆動回
転が動作してモータ２１を回転させ、希望の回転角度
（ここではシャッタ１７の開口部１１ａに対する開閉
角）が得られる。ここで、偏差カウンタとは、上述した
ように回転角を指示する指令パルスとロータリーエンコ
ーダからのフィードバックパルスとを比較し、その差の
成分を駆動回路に出力する比較回路のことである。指令
パルスが引き続き入力されていれば動作が連続し、偏差
カウンタの積算されたパルスが０になるまで、モータは
回転を続けて停止する。その場合、次の条件が成り立つ
ことが知られている。

【００２６】入力指令パルス数＝ロータリーエンコーダ
のスリット数×回転角 例えば、分子線として取り出す蒸着材料の蒸発量を急峻
に変化させたい場合、次のような利用法が考えられる。
まず、モータの回転角度を４５°に設定して、シャッタ
１７の開閉角が４５°となるようにし、その位置で蒸着
材料を蒸発させる。その後、例えばシャッタ１７の開閉
角が９０°となるような位置にモータを回転させて、そ
の位置で蒸着材料を蒸発させると、蒸発量が急峻に増加
する。また、蒸発量を徐々に変化させたい場合も、シャ
ッタ１７の開閉角が徐々に増加（あるいは低減）するよ
うなモータの回転角度を段階的に設定することにより可
能である。

【００２７】このように、ロータリーエンコーダ内蔵形
サーボモータを用いることによりシャッタ１７の開閉角
の制御を行うことができるため、これらは遮蔽手段２０
として開口部１１ａの遮蔽領域すなわち開口部１１ａの
開口面積（露出面積）を自在に変化させることができ、
蒸着材料の蒸発量の制御をただ１本のセルで容易に行う
ことを可能とする。

【００２８】２．ステッピングモータを用いた場合 ステッピングモータは、複数の凸極を有する回転子と、
回転子を取り囲むように位置する、多層の巻き線を巻い
た固定子とから構成されている。固定子と回転子とは、
ピッチが少しずれている。ある固定子巻き線に電流を流
すと、その固定子近傍の回転子の凸極が磁極（固定子巻
き線）に引きつけられて一定角度だけ回転する（このと
きの角度をステップ角という。）。このため、例えば各
固定子に時計回りに順番に電流を流すと、その度に回転
子の凸極が磁極に引きつけられて、回転子は反時計回り
に回転する（ＣＣＷ；counter-clolkwise ）。電流を流
す手段としては、電池およびスイッチを用いるか、ある
いはパルスを加える。また、電流を固定子に流す順序を
反時計回りにした場合は、回転子は時計回りに回転する
（ＣＷ；clockwise ）。ステップ角をＳ（°／パル
ス）、入力パルス数をｎとすれば、出力軸の回転角θ
は、次式で示される。

【００２９】θ＝Ｓ×ｎ（°） ステッピングモータは、モータの回転の向きや速度等を
コントロールするコントロール装置、コントロール装置
からの信号で各巻き線に順序よく配分するパルスを発生
させるパルス発生装置、パルスを増幅して固定子巻き線
に電流を流す駆動回路等、適当な要素を組み合わせた回
路構成とすれば良い。

【００３０】このように、ステッピングモータを用いる
ことにより、ロータリーエンコーダ内蔵形サーボモータ
と同様に、シャッタ１７の開閉角の制御を行うことがで
きるため、これらシャッタ１７および回転駆動機構２１
は遮断手段２０として、開口部１１ａの開口面積（露出
面積）すなわち開口部１１ａの遮蔽領域を自在に変化さ
せることができる。このため、蒸着材料の蒸発量の制御
をただ１本のセルで容易に行うことを可能とする。

【００３１】＜第２の実施の形態＞次に、蒸着源の第２
の実施の形態につき説明をする。第１の実施の形態と同
様の部分は簡単に説明をする。

【００３２】図２は、この発明の蒸着源の第２の実施の
形態を示す概略的な構成図であり、ここで用いた分子線
セル１０ａの構成を、セルの外壁を一部取り除いて内部
が見えるようにして示してある。

【００３３】第２の実施の形態の分子線セル１０ａは、
基本的な構成は第１の実施の形態の分子線セル１０と同
様であり、ルツボ１１、加熱ヒータ１３、熱電対１５、
シャッタ１７が具えられている。１９は蒸着材料を示
す。ルツボ１１の上部には開口部１１ａがあり、蒸着材
料１９をここから分子線として取り出せるようになって
いる。ここでは、シャッタ１７は、ルツボ１１の開口部
１１ａを開閉する目的のみに用いるために、通常のモー
タ（ここでは、回転調節機能を有さないモータ（図示省
略））を用いて駆動する。

【００３４】ここでは、開口部１１ａとシャッタ１７と
の間に、シャッタ１７と同じような形状の第１遮蔽板２
３を設け、この第１遮蔽板２３の駆動を、回転角度調節
機能を有する回転駆動機構２１ａで行う。すなわち、こ
こでは、第１遮蔽板２３と回転駆動機構２１ａとで、ル
ツボ１１の開口部１１ａの遮蔽領域を自在に変化させる
遮蔽手段２０ａを構成しているのが特色である。この場
合、回転駆動機構２１ａとして、例えば第１の実施の形
態で説明済みの、ロータリーエンコーダ内蔵形サーボモ
ータや、ステッピングモータ等を適用することができ
る。第１の実施の形態では、シャッタ１７が第１遮蔽板
２３の役割を兼ねていたが、この場合は、シャッタ１７
と第１遮蔽板２３とは、独立に働くことになる。

【００３５】このように、遮蔽手段２０ａ（第１遮蔽板
２３および回転駆動機構２１ａ）を用いることにより、
開口部１１ａの開口面積（露出面積）すなわちルツボ１
１の開口部１１ａの遮蔽領域を自在に変化させることが
できる。このため、蒸着材料の蒸発量の制御をただ１本
のセルで容易に行うことができる。

【００３６】その他の部分は第１の実施の形態と同様で
あるため、詳細な説明を省略する。

【００３７】＜第３の実施の形態＞次に、蒸着源の第３
の実施の形態につき説明する。第１の実施の形態と同様
の部分は省略して説明する。

【００３８】図３は、この発明の蒸着源の第３の実施の
形態を示す概略的な構成図であり、ここで用いた分子線
セル１０ｂの構成を、セルの外壁を一部取り除いて内部
が見えるようにして示してある。

【００３９】第３の実施の形態の分子線セル１０ｂは、
基本的な構成は第１、および第２の実施の形態の分子線
セルと同様であり、ルツボ１１、加熱ヒータ１３、熱電
対１５、シャッタ１７が具えられている。１９は蒸着材
料を示す。ルツボ１１の上部には開口部１１ａがあり、
蒸着材料１９をここから分子線として取り出せるように
なっている。ここでも、シャッタ１７は、ルツボ１１の
開口部１１ａを開閉する目的のみに用いるために、通常
のモータ（ここでは、回転角度調節機能を有さないモー
タ（図示省略））を用いて駆動する。

【００４０】ここでは、開口部１１ａとシャッタ１７と
の間に、径の異なる複数のオリフィス（微小な穴）２７
を具えた第２遮蔽板２５を設け、この第２遮蔽板２５の
駆動を、回転角度調節機能を有する回転駆動機構２１ｂ
で行う。すなわち、ここでは、第２遮蔽板２５と回転駆
動機構２１ｂとで、ルツボ１１の開口部１１ａの遮蔽領
域を自在に変化させる遮蔽手段２０ｂを構成しているの
が特色である。この場合も、回転駆動機構２１ｂとし
て、例えば第１の実施の形態で説明済みの、ロータリー
エンコーダ内蔵形サーボモータや、ステッピングモータ
等を適用することができる。

【００４１】回転駆動機構２１ｂにより第２遮蔽板２５
の回転角度を制御して、任意のオリフィス２７が開口部
１１ａの上部に位置するようにし、その選定したオリフ
ィス２７から分子線を取り出すようにする。オリフィス
２７の径はさまざまであるから、選定するオリフィス２
７を変えることにより、蒸発量の制御を行うことができ
る。第２遮蔽板２５のオリフィス２７の並べ方は、徐々
に径を大きくしていくような規則性のあるものでも、不
規則でも、目的に応じて適当なものとすることができ
る。

【００４２】このように、遮蔽手段２０ｂ（第２遮蔽板
２５および回転駆動機構２１ｂ）を用いることにより、
開口部１１ａの開口面積（露出面積）すなわち開口部１
１ａの遮蔽領域を自在に変化させることができる。この
ため、蒸着材料の蒸発量の制御をただ１本のセルで容易
に行うことができる。

【００４３】その他の部分は第１の実施の形態と同様で
あるため、詳細な説明を省略する。

【００４４】この発明は、例示の形態にのみ限定される
ものではないことは明らかである。例えば遮蔽手段は、
回転駆動するシャッタや遮蔽板に限らず、左右にスライ
ドする方式の遮蔽板等にも適用可能である。

【００４５】また、回転駆動機構の例として、ロータリ
ーエンコーダ内蔵形サーボモータやステッピングモータ
を挙げたが、回転角度調節機能を有するものであればこ
れらに限らず、目的に応じて種々の回転駆動機構を適用
することができる。

【００４６】また、実施の形態ではいずれも蒸着装置の
蒸着源として分子線セルに適用した例を示したが、その
他の蒸着源、例えば電子ビーム蒸着源等にも適用可能で
ある。

【００４７】また、ここではルツボの上部から底部ま
で、全体を覆うように加熱ヒータを配設してあるセルを
示してあるが、ルツボの局部を加熱するような構造、例
えばルツボの上部側を加熱する、いわゆるトップヒート
型のセル等にも適用することができる。

【００４８】

【発明の効果】上述した説明からも明らかなように、こ
の発明の蒸着装置の蒸着源によれば、蒸着材料を入れる
ルツボと、このルツボの開口部の開閉を行うシャッタと
を少なくとも具えた蒸着装置の蒸着源において、ルツボ
の開口部の遮蔽領域を自在に変化させる遮蔽手段を設け
てある。

【００４９】このように、ルツボの開口部の遮蔽領域を
自在に変化させる手段を設けたことにより、蒸着材料の
ルツボ外への蒸発量を、蒸着材料の温度に依存するので
はなく、ルツボの開口部の露出領域（露出面積）に依存
する。このため、所望の蒸発量を得るためにセルの温度
（すなわち蒸着材料の温度）を変化させる必要がなく、
温度は一定にしておいて、開口部を遮蔽する領域を変化
させるのみで、ただ一つのセル（蒸着源）を用いて、容
易に蒸発量の制御を行うことができる。

【００５０】このため、プロセスの簡略化、装置の小型
化等に支障を来すことがない。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施の形態の蒸着源（分子線セル）の説
明に供する概略図である。

【図２】第２の実施の形態の蒸着源（分子線セル）の説
明に供する概略図である。

【図３】第３の実施の形態の蒸着源（分子線セル）の説
明に供する概略図である。

【図４】従来の蒸着源（分子線セル）の説明に供する概
略図である。

【図５】（Ａ）は従来の蒸着源（分子線セル）を１本用
いた場合の、蒸着材料の蒸発量の時間変化を示すグラフ
であり、（Ｂ）は、蒸着源を２本用いて蒸発量を急峻に
変化させた場合の、蒸発量の時間変化を示すグラフであ
る。

【符号の説明】

１０、１０ａ、１０ｂ：蒸着源（分子線セル） １１：ルツボ １１ａ：開口部 １３：加熱ヒータ １５：熱電対 １７：シャッタ １９：蒸着材料 ２０、２０ａ、２０ｂ：遮蔽手段 ２１、２１ａ、２１ｂ：回転駆動機構 ２３：第１遮蔽板 ２５：第２遮蔽板 ２７：オリフィス

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 蒸着材料を入れるルツボと、該ルツボの
   開口部の開閉を行うシャッタとを少なくとも具えた蒸着
   装置の蒸着源において、 前記ルツボの開口部の遮蔽領域を自在に変化させる遮蔽
   手段を設けたことを特徴とする蒸着装置の蒸着源。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の蒸着装置の蒸着源にお
   いて、 前記遮蔽手段は、前記シャッタと、該シャッタを回転駆
   動しかつ該シャッタの回転角度調節機能を有する回転駆
   動機構とで構成したことを特徴とする蒸着装置の蒸着
   源。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の蒸着装置の蒸着源にお
   いて、 前記遮蔽手段は、前記開口部と前記シャッタとの間に設
   けた第１遮蔽板と、該第１遮蔽板を回転駆動しかつ該第
   １遮蔽板の回転角度調節機能を有する回転駆動機構とで
   構成したことを特徴とする蒸着装置の蒸着源。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の蒸着装置の蒸着源にお
   いて、 前記遮蔽手段は、 前記開口部と前記シャッタとの間に設けた、回転駆動す
   る第２遮蔽板であって径の異なる複数のオリフィスを具
   えた第２遮蔽板と、 該第２遮蔽板を回転駆動しかつ該第２遮蔽板の回転角度
   調節機能を有する回転駆動機構とで構成したことを特徴
   とする蒸着装置の蒸着源。
5. 【請求項５】 請求項２、３、４のいずれか一つに記載
   の蒸着装置の蒸着源において、 前記回転駆動機構を、ロータリーエンコーダ内蔵型サー
   ボモータとしたことを特徴とする蒸着装置の蒸着源。
6. 【請求項６】 請求項２、３、４のいずれか一つに記載
   の蒸着装置の蒸着源において、 前記回転駆動機構を、ステッピングモータとしたことを
   特徴とする蒸着装置の蒸着源。
7. 【請求項７】 請求項１、２、３、４、５、および６の
   いずれか一つに記載の蒸着装置の蒸着源において、 前記蒸着源を、分子線セルとしたことを特徴とする蒸着
   装置の蒸着源。
8. 【請求項８】 請求項１、２、３、４、５、および６の
   いずれか一つに記載の蒸着装置の蒸着源において、 前記蒸着源を、電子ビーム蒸着源としたことを特徴とす
   る蒸着装置の蒸着源。